JPH081191B2 - 真空ポンプ - Google Patents
真空ポンプInfo
- Publication number
- JPH081191B2 JPH081191B2 JP62099825A JP9982587A JPH081191B2 JP H081191 B2 JPH081191 B2 JP H081191B2 JP 62099825 A JP62099825 A JP 62099825A JP 9982587 A JP9982587 A JP 9982587A JP H081191 B2 JPH081191 B2 JP H081191B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust port
- vacuum pump
- gas
- housing
- gas supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、吸込側にアルミのエッチング等化学反応を
行う反応炉を接続する真空ポンプに係り、特に半導体製
造装置に使用されたときに、反応生成物が付着するのを
防止するのに好適な真空ポンプに関する。
行う反応炉を接続する真空ポンプに係り、特に半導体製
造装置に使用されたときに、反応生成物が付着するのを
防止するのに好適な真空ポンプに関する。
近年、半導体，新素材などの製造工程で、真空雰囲気
が要求されてきている。これを実現するために、真空ポ
ンプが用いられている。この真空ポンプは一般的に羽根
車を重ねたロータを回転させて、気体を吸い込み、遠心
力により加圧して大気側に吐出する構造である。この種
の真空ポンプとしては、例えば1986年12月15日発行の日
経メカニカルの第38頁および第39頁に記載されている。
が要求されてきている。これを実現するために、真空ポ
ンプが用いられている。この真空ポンプは一般的に羽根
車を重ねたロータを回転させて、気体を吸い込み、遠心
力により加圧して大気側に吐出する構造である。この種
の真空ポンプとしては、例えば1986年12月15日発行の日
経メカニカルの第38頁および第39頁に記載されている。
〔発明が解決しようとする課題〕 上述した真空ポンプによれば、排気口付近の温度が急
に低下する部分に、反応生成物が付着し、排気口を閉塞
するという問題があった。
に低下する部分に、反応生成物が付着し、排気口を閉塞
するという問題があった。
本発明の目的は反応生成物のポンプへの付着を防止で
きる真空ポンプを提供することにある。
きる真空ポンプを提供することにある。
上記目的は、吸気口と排気口を有するハウジングと、
そのハウジング内に固定されたステータと、ハウジング
内に回転自在に支承されたロータとを備え、前記排気口
から吸込まれた気体を前記排気口から大気圧雰囲気に排
気する真空ポンプにおいて、前記ステータの最終段に、
排気口に連通する気体供給路を設ける、ことによって達
成される。
そのハウジング内に固定されたステータと、ハウジング
内に回転自在に支承されたロータとを備え、前記排気口
から吸込まれた気体を前記排気口から大気圧雰囲気に排
気する真空ポンプにおいて、前記ステータの最終段に、
排気口に連通する気体供給路を設ける、ことによって達
成される。
反応炉における反応生成物は、温度が60〜80℃以上で
は気体又は液体であるが、約60℃以下になると固体にな
ってしまう。前記排気口付近の温度が低いと、反応生成
物が排気口付近に付着し、最悪の場合配管が完全につま
る場合もある。そこでステータ部の気体供給路から気体
を注入し、圧縮される気体の量を増加し、排気気体が持
つ熱量を増やす。それによって、排気口を通過する気体
の熱量が増えるために、排気口付近の温度が約60℃まで
上がり、反応炉での反応生成物が排気口に付着すること
を防止できる。
は気体又は液体であるが、約60℃以下になると固体にな
ってしまう。前記排気口付近の温度が低いと、反応生成
物が排気口付近に付着し、最悪の場合配管が完全につま
る場合もある。そこでステータ部の気体供給路から気体
を注入し、圧縮される気体の量を増加し、排気気体が持
つ熱量を増やす。それによって、排気口を通過する気体
の熱量が増えるために、排気口付近の温度が約60℃まで
上がり、反応炉での反応生成物が排気口に付着すること
を防止できる。
以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第１図は本発明の真空ポンプの一実施例を示すもの
で、この図において、この真空ポンプは吸気口1Aおよび
排気口1Bを有するハウジング１と、このハウジング１内
に軸受２を介して回転自在に支持された回転軸３と、吸
気口1A側から排気口1B側に至る間のハウジング１内に順
次配設された遠心圧縮ポンプ段４および円周流圧縮ポン
プ段５とを備えている。各ポンプ段はステータとロータ
とで構成されている。回転軸３はこれに取付けられたモ
ータ６の回転子により駆動される。前述したハウジング
１には潤滑油を排気口側へ侵入させないようにシール流
体供給路７が設けられている。このシール流体供給路７
は管路８によりボンベ等のシール流体供給源９に連通し
ている。前述したハウジング１のポンプ最終段部分には
流体供給路10が設けられている。この流体供給路10は弁
11を備える管路12を介して管路８に接続している。前述
した流体供給路10の開口端は第２図および第３図に示す
ようにポンプ最終段の空間を通して排気口1Bに通じてい
る。前述したシール流体としては、窒素ガスが用いられ
る。
で、この図において、この真空ポンプは吸気口1Aおよび
排気口1Bを有するハウジング１と、このハウジング１内
に軸受２を介して回転自在に支持された回転軸３と、吸
気口1A側から排気口1B側に至る間のハウジング１内に順
次配設された遠心圧縮ポンプ段４および円周流圧縮ポン
プ段５とを備えている。各ポンプ段はステータとロータ
とで構成されている。回転軸３はこれに取付けられたモ
ータ６の回転子により駆動される。前述したハウジング
１には潤滑油を排気口側へ侵入させないようにシール流
体供給路７が設けられている。このシール流体供給路７
は管路８によりボンベ等のシール流体供給源９に連通し
ている。前述したハウジング１のポンプ最終段部分には
流体供給路10が設けられている。この流体供給路10は弁
11を備える管路12を介して管路８に接続している。前述
した流体供給路10の開口端は第２図および第３図に示す
ようにポンプ最終段の空間を通して排気口1Bに通じてい
る。前述したシール流体としては、窒素ガスが用いられ
る。
次に上述した本発明の真空ポンプの一実施例の動作を
説明する。
説明する。
気体は吸気口1Aより吸込まれ排気口1Bから吐出される
間に圧縮される。一方、シール流体供給源９からのシー
ル流体は管路8,シール流体供給路７を通してハウジング
１と回転軸３とにより形成される空間内に流入し、軸受
２への潤滑油が排気口側へ侵入しないようにシール機能
を発揮している。さらに、シール流体供給源９からのシ
ール流体の一部は弁11,管路12,流体供給路10を経てパー
ジガスとしてポンプの最終段に流れ込む。流れ込んだパ
ージガスは第２図，第３図に示すように圧縮最終段で断
熱圧縮されることにより温度が上昇するとともに排気口
1Bの入口付近で、ステータから熱をうばい、約80℃ぐら
いの高温になる。通常吸気口1Aよりポンプ内に流入する
気体の数は数百atm・cc/minと少ないため、排気口1Bの
入口付近で約80℃の気体の温度が排気口1Bを流れる間に
冷やされ約40℃まで低下する。そこで、流体供給路10か
ら10000atm・cc/min程窒素ガスを流し込むことにり、排
気気体の持つ熱量が増加し、排気口1Bでの気体の急激な
温度低下を防ぐことができる。その結果、反応生成物が
排気口1Bに付着するのを防止できる。
間に圧縮される。一方、シール流体供給源９からのシー
ル流体は管路8,シール流体供給路７を通してハウジング
１と回転軸３とにより形成される空間内に流入し、軸受
２への潤滑油が排気口側へ侵入しないようにシール機能
を発揮している。さらに、シール流体供給源９からのシ
ール流体の一部は弁11,管路12,流体供給路10を経てパー
ジガスとしてポンプの最終段に流れ込む。流れ込んだパ
ージガスは第２図，第３図に示すように圧縮最終段で断
熱圧縮されることにより温度が上昇するとともに排気口
1Bの入口付近で、ステータから熱をうばい、約80℃ぐら
いの高温になる。通常吸気口1Aよりポンプ内に流入する
気体の数は数百atm・cc/minと少ないため、排気口1Bの
入口付近で約80℃の気体の温度が排気口1Bを流れる間に
冷やされ約40℃まで低下する。そこで、流体供給路10か
ら10000atm・cc/min程窒素ガスを流し込むことにり、排
気気体の持つ熱量が増加し、排気口1Bでの気体の急激な
温度低下を防ぐことができる。その結果、反応生成物が
排気口1Bに付着するのを防止できる。
反応炉での種々の化学反応に対応できるよう、流量調
整弁11でバイパスラインからの窒素の流入量を調節する
こともできる。
整弁11でバイパスラインからの窒素の流入量を調節する
こともできる。
なお、上述の実施例は反応生成物の付着を防止するた
めのガスとして、シール用流体の一部を用いたが、これ
らを別個に供給することも可能である。
めのガスとして、シール用流体の一部を用いたが、これ
らを別個に供給することも可能である。
本発明によれば、真空ポンプの排気口付近での気体の
急激な温度低下を防止できるため、熱源システムを新た
に設置せずに従来に比較して排気口付近での気体の温度
を上げることができ反応生成物の付着を防止できるの
で、コスト低減、更に故障要因を減らし、信頼性の向上
が図られる。
急激な温度低下を防止できるため、熱源システムを新た
に設置せずに従来に比較して排気口付近での気体の温度
を上げることができ反応生成物の付着を防止できるの
で、コスト低減、更に故障要因を減らし、信頼性の向上
が図られる。
第１図は本発明の真空ポンプの一実施例を示す縦断面
図、第２図は本発明の要部を拡大して示す縦断面図、第
３図は第２図のIII-III断面図である。 １……ハウジング、1A……吸気口、1B……排気口、２…
…軸受、３……回転軸、４……遠心圧縮ポンプ段、５…
…円周流圧縮ポンプ段、６……モータ、７……シール流
体供給路、８……管路、９……シール流体供給源、10…
…流体供給路、11……弁、12……管路。
図、第２図は本発明の要部を拡大して示す縦断面図、第
３図は第２図のIII-III断面図である。 １……ハウジング、1A……吸気口、1B……排気口、２…
…軸受、３……回転軸、４……遠心圧縮ポンプ段、５…
…円周流圧縮ポンプ段、６……モータ、７……シール流
体供給路、８……管路、９……シール流体供給源、10…
…流体供給路、11……弁、12……管路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西川 寿 茨城県土浦市神立町603番地 株式会社日 立製作所土浦工場内 (56)参考文献 実開 昭53−63709（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭58−67999（ＪＰ，Ｕ)
Claims (3)
- 【請求項１】吸気口と排気口を有するハウジングと、そ
のハウジング内に固定されたステータと、ハウジング内
に回転自在に支承されたロータとを備え、前記排気口か
ら吸込まれた気体を前記排気口から大気圧雰囲気に排気
する真空ポンプにおいて、前記ステータの最終段に、排
気口と連通する気体供給路を設けたことを特徴とする真
空ポンプ。 - 【請求項２】前記気体供給路の供給側は弁を介して気体
供給源に連通していることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の真空ポンプ。 - 【請求項３】前記気体供給路の供給側は弁を介してロー
タの最終段に設けた非接触シール部への気体供給路に連
通していることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の真空ポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62099825A JPH081191B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62099825A JPH081191B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 真空ポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63266189A JPS63266189A (ja) | 1988-11-02 |
| JPH081191B2 true JPH081191B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=14257599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62099825A Expired - Fee Related JPH081191B2 (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 真空ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH081191B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5363709U (ja) * | 1977-10-18 | 1978-05-29 | ||
| JPS5867999U (ja) * | 1981-10-31 | 1983-05-09 | 株式会社島津製作所 | タ−ボ分子ポンプ |
-
1987
- 1987-04-24 JP JP62099825A patent/JPH081191B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63266189A (ja) | 1988-11-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |