JPH08122271A - 液晶用カラーフィルター検査方法及び装置 - Google Patents
液晶用カラーフィルター検査方法及び装置Info
- Publication number
- JPH08122271A JPH08122271A JP25508394A JP25508394A JPH08122271A JP H08122271 A JPH08122271 A JP H08122271A JP 25508394 A JP25508394 A JP 25508394A JP 25508394 A JP25508394 A JP 25508394A JP H08122271 A JPH08122271 A JP H08122271A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- color filter
- projection
- liquid crystal
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 16
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶用カラーフィルターの突起を検査する方
法及び装置に関し、突起からの反射光を鮮明にし、正確
に計測できる。 【構成】 キセノンフラッシュランプ１０３はメインコ
ントローラ１０１、光源コントローラ１０２に制御さ
れ、紫外又は赤外光を含む光をオーバーコート膜を施し
たカラーフィルター１０５で照射する。ブラックマトリ
ックス１１１上に異物１１０があり、そのためカラーフ
ィルター１０５表面上に突起１０９が生じ、照射した光
はカラーフィルター１０５表面上ですべて反射して散乱
光となり、突起１０９からの散乱光をフィルター１０６
を通す。フィルター１０６は紫外又は赤外光のみを透過
し、光検出器１０７で検出し、画像処理装置１０８で処
理して突起の位置及び高さを算出する。ブラックマトリ
ックス１１１からの反射光がないので正確な突起の判別
ができる。
法及び装置に関し、突起からの反射光を鮮明にし、正確
に計測できる。 【構成】 キセノンフラッシュランプ１０３はメインコ
ントローラ１０１、光源コントローラ１０２に制御さ
れ、紫外又は赤外光を含む光をオーバーコート膜を施し
たカラーフィルター１０５で照射する。ブラックマトリ
ックス１１１上に異物１１０があり、そのためカラーフ
ィルター１０５表面上に突起１０９が生じ、照射した光
はカラーフィルター１０５表面上ですべて反射して散乱
光となり、突起１０９からの散乱光をフィルター１０６
を通す。フィルター１０６は紫外又は赤外光のみを透過
し、光検出器１０７で検出し、画像処理装置１０８で処
理して突起の位置及び高さを算出する。ブラックマトリ
ックス１１１からの反射光がないので正確な突起の判別
ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶用カラーフィルター
の突起位置や突起の絶対値を正確に計測するカラーフィ
ルターの検査方法及び装置に関する。
の突起位置や突起の絶対値を正確に計測するカラーフィ
ルターの検査方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶用カラーフィルター表面の顔粒の塊
や、フィルター表面へのダストの付着、及び印刷法に特
有の印刷突起は、オーバーコートを施した後にも表面に
突起を発生させるため、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化
物）等の透明電極がもり上る。このもり上りが、セルギ
ャップより大きな場合は、対向基盤電極と短絡し、欠陥
や色欠け、色ムラの原因となる。
や、フィルター表面へのダストの付着、及び印刷法に特
有の印刷突起は、オーバーコートを施した後にも表面に
突起を発生させるため、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化
物）等の透明電極がもり上る。このもり上りが、セルギ
ャップより大きな場合は、対向基盤電極と短絡し、欠陥
や色欠け、色ムラの原因となる。
【０００３】図２は従来の液晶用カラーフィルターの検
査装置の構成図である。図において、光源２０１より出
射した可視領域の光をアパーチャ２０２で絞り、レンズ
２０３でこの光をコリメートし、平行光にする。カラー
フィルター１０５上に照射したこの平行光は、その表面
で反射する。カラーフィルター１０５の表面に突起が存
在する場合には、入射した光の正反射光の反射角とは異
なる角度で反射するため、反射光を観測する角度を入射
する光の方向からズラしてレンズ２０３で集光し、光検
出器１０７に入力して検出し、この検出信号をメインコ
ントローラ１０１で制御した画像処理装置１０８で画像
処理することにより、突起の位置や高さを計測できる。
査装置の構成図である。図において、光源２０１より出
射した可視領域の光をアパーチャ２０２で絞り、レンズ
２０３でこの光をコリメートし、平行光にする。カラー
フィルター１０５上に照射したこの平行光は、その表面
で反射する。カラーフィルター１０５の表面に突起が存
在する場合には、入射した光の正反射光の反射角とは異
なる角度で反射するため、反射光を観測する角度を入射
する光の方向からズラしてレンズ２０３で集光し、光検
出器１０７に入力して検出し、この検出信号をメインコ
ントローラ１０１で制御した画像処理装置１０８で画像
処理することにより、突起の位置や高さを計測できる。
【０００４】このような従来法では、前述のようにカラ
ーフィルター１０５の表面からの散乱光を検出して表面
の突起の位置や突起の高さの絶対値を計測していた。
又、この光の散乱の検出の際には、カラーフィルター１
０５はオーバーコートを施した後のものを対象としてお
り、突起によるオーバーコート表面の曲面のうねりに起
因する反射光を検出するものである。従って、計測のた
めの光学系はカラーフィルター１０５の表面の正反射光
を避け、図示のように入射する光から角度をズラして光
を検出している。そのため、光反射強度の強い位置を求
めてこの位置を突起位置とし、反射光の強度から突起高
さが決定されている。又、従来法では、光源としてＨｅ
−Ｎｅレーザ、ハロゲンランプ、半導体レーザ等が使用
されている。
ーフィルター１０５の表面からの散乱光を検出して表面
の突起の位置や突起の高さの絶対値を計測していた。
又、この光の散乱の検出の際には、カラーフィルター１
０５はオーバーコートを施した後のものを対象としてお
り、突起によるオーバーコート表面の曲面のうねりに起
因する反射光を検出するものである。従って、計測のた
めの光学系はカラーフィルター１０５の表面の正反射光
を避け、図示のように入射する光から角度をズラして光
を検出している。そのため、光反射強度の強い位置を求
めてこの位置を突起位置とし、反射光の強度から突起高
さが決定されている。又、従来法では、光源としてＨｅ
−Ｎｅレーザ、ハロゲンランプ、半導体レーザ等が使用
されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のカラーフィルタ
ー表面からの散乱光による検査方式では、次のような問
題がある。 （１） 従来法で使用する全ての光源は可視域にあるた
め、フィルター表面のオーバーコート膜を透過してしま
い、カラーフィルター端部やその下のブラックマトリッ
クス（Ｂ．Ｍ．）から反射した散乱光が発生する。従っ
て、この散乱光とオーバーコート表面の突起部に起因す
る散乱光との区分が困難となり、正確な突起の判別がで
きない。 （２） 表面の突起以外の他の散乱光と必要とする突起
による散乱光とを区分するための処理が必要となり、検
査時間を増加させることになる。 （３） 従来の方法では突起の高さを絶対値で求めてお
り、この際絶対値は反射した散乱光の強度から決定して
いる。このため、前述のように散乱光自体は他の散乱光
を含んでいることもあり、正確な突起の絶対寸法の計測
が困難である。
ー表面からの散乱光による検査方式では、次のような問
題がある。 （１） 従来法で使用する全ての光源は可視域にあるた
め、フィルター表面のオーバーコート膜を透過してしま
い、カラーフィルター端部やその下のブラックマトリッ
クス（Ｂ．Ｍ．）から反射した散乱光が発生する。従っ
て、この散乱光とオーバーコート表面の突起部に起因す
る散乱光との区分が困難となり、正確な突起の判別がで
きない。 （２） 表面の突起以外の他の散乱光と必要とする突起
による散乱光とを区分するための処理が必要となり、検
査時間を増加させることになる。 （３） 従来の方法では突起の高さを絶対値で求めてお
り、この際絶対値は反射した散乱光の強度から決定して
いる。このため、前述のように散乱光自体は他の散乱光
を含んでいることもあり、正確な突起の絶対寸法の計測
が困難である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】液晶用カラーフィルター
のオーバーコート膜はエポキシ系、アクリル系、シリコ
ン系からなり、可視域で透明であるため、可視領域の光
源から出射した光は透過し、カラーフィルター端部やそ
の下のブラックマトリックスからの散乱光を除くことは
できない。そこで、本発明はこのような課題を解決する
ため、使用する光源としては紫外あるいは赤外領域でオ
ーバーコート膜の光の吸収係数が大きい領域の波長を含
む光を発生させ、オーバーコート膜を透過しないように
し、オーバーコート膜表面からの反射による散乱光のみ
を検出し、その検出した光からオーバーコート膜表面の
突起の位置及び高さを画像処理のアルゴリズムで算出す
る検査方法とする。又、この方法を実施するために、紫
外又は赤外光を発する光源、これら光を透過するフィル
ター、光検出器及び画像処理装置からなる検査装置も提
供する。
のオーバーコート膜はエポキシ系、アクリル系、シリコ
ン系からなり、可視域で透明であるため、可視領域の光
源から出射した光は透過し、カラーフィルター端部やそ
の下のブラックマトリックスからの散乱光を除くことは
できない。そこで、本発明はこのような課題を解決する
ため、使用する光源としては紫外あるいは赤外領域でオ
ーバーコート膜の光の吸収係数が大きい領域の波長を含
む光を発生させ、オーバーコート膜を透過しないように
し、オーバーコート膜表面からの反射による散乱光のみ
を検出し、その検出した光からオーバーコート膜表面の
突起の位置及び高さを画像処理のアルゴリズムで算出す
る検査方法とする。又、この方法を実施するために、紫
外又は赤外光を発する光源、これら光を透過するフィル
ター、光検出器及び画像処理装置からなる検査装置も提
供する。
【０００７】即ち、本発明は（１）方法の発明として、
液晶用カラーフィルター表面のオーバーコート膜に対し
て光を照射し、同オーバーコート膜から反射する散乱光
を検出し、その検出した光から画像処理アルゴリズムに
より同オーバーコート膜表面の突起位置と突起高さの絶
対値を検出する液晶用カラーフィルター検査方法におい
て、前記光に少くとも不透明な紫外あるいは赤外のいず
れかを含む光を使用して、前記突起からの散乱光を検出
することにより、前記カラーフィルター端部やその基部
のブラックマトリックスからの光散乱を低減することを
特徴とする液晶用カラーフィルター検査方法を提供す
る。
液晶用カラーフィルター表面のオーバーコート膜に対し
て光を照射し、同オーバーコート膜から反射する散乱光
を検出し、その検出した光から画像処理アルゴリズムに
より同オーバーコート膜表面の突起位置と突起高さの絶
対値を検出する液晶用カラーフィルター検査方法におい
て、前記光に少くとも不透明な紫外あるいは赤外のいず
れかを含む光を使用して、前記突起からの散乱光を検出
することにより、前記カラーフィルター端部やその基部
のブラックマトリックスからの光散乱を低減することを
特徴とする液晶用カラーフィルター検査方法を提供す
る。
【０００８】更に、（２）装置の発明として、液晶用カ
ラーフィルター表面のオーバーコート膜に対して少くと
も不透明な紫外又は赤外のいずれかを含む光源と、同光
源からの光の前記オーバーコート表面上からの散乱光を
受け、紫外光又は赤外光を透過するフィルターと、同フ
ィルターを透過した光を受光する光検出器と、同光検出
器からの出力を受け、前記オーバーコート表面上からの
散乱光の出力信号のうち強度の強い位置を求めて前記突
起の位置を求め、その光強度から前記突起の高さを算出
する画像処理装置とを具備してなることを特徴とする液
晶用カラーフィルター検査装置を提供する。
ラーフィルター表面のオーバーコート膜に対して少くと
も不透明な紫外又は赤外のいずれかを含む光源と、同光
源からの光の前記オーバーコート表面上からの散乱光を
受け、紫外光又は赤外光を透過するフィルターと、同フ
ィルターを透過した光を受光する光検出器と、同光検出
器からの出力を受け、前記オーバーコート表面上からの
散乱光の出力信号のうち強度の強い位置を求めて前記突
起の位置を求め、その光強度から前記突起の高さを算出
する画像処理装置とを具備してなることを特徴とする液
晶用カラーフィルター検査装置を提供する。
【０００９】
【作用】本発明はこのような手段により、その（１）の
発明においては、液晶用カラーフィルター上のオーバー
コート膜にこの膜を透過しにくい紫外あるいは赤外領域
の波長の光を照射するので、この光はほぼオーバーコー
ト膜表面で反射し、散乱光となる。この散乱光から画像
処理のアルゴリズムを用いてオーバーコート膜表面上の
異物、等による突起に関し、光の強い位置から突起の位
置を、又、強度の大きさから突起の高さを、それぞれ算
出するのでオーバーコート膜を透過したフィルター端部
やブラックマトリックス上での反射による散乱光の影響
が低減でき、正確な突起の判別ができるものである。
発明においては、液晶用カラーフィルター上のオーバー
コート膜にこの膜を透過しにくい紫外あるいは赤外領域
の波長の光を照射するので、この光はほぼオーバーコー
ト膜表面で反射し、散乱光となる。この散乱光から画像
処理のアルゴリズムを用いてオーバーコート膜表面上の
異物、等による突起に関し、光の強い位置から突起の位
置を、又、強度の大きさから突起の高さを、それぞれ算
出するのでオーバーコート膜を透過したフィルター端部
やブラックマトリックス上での反射による散乱光の影響
が低減でき、正確な突起の判別ができるものである。
【００１０】更に、この検査方法を実施する装置として
紫外又は赤外領域の波長を含む光を発する光源と、これ
らの光のみを透過するフィルターを設け、光検出器で検
出したこれら光を画像処理装置において処理する構成と
したので、この装置により、前述と同様の作用、効果を
奏することができる。
紫外又は赤外領域の波長を含む光を発する光源と、これ
らの光のみを透過するフィルターを設け、光検出器で検
出したこれら光を画像処理装置において処理する構成と
したので、この装置により、前述と同様の作用、効果を
奏することができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて具体
的に説明する。図１は本発明の一実施例に係る液晶用カ
ラーフィルター検査装置の構成図である。図において、
１０１はメインコントローラ、１０２は光源コントロー
ラ、１０３はキセノンフラッシュランプ、１０４は酸素
吸収領域の波長をカットするフィルター、１０５はオー
バーコート済みのカラーフィルター、１０６は紫外線あ
るいは赤外線のみを透過するフィルター、１０７は光検
出器、１０８は画像処理装置である。１０９はカラーフ
ィルター表面の突起でブラックマトリックス１１１上の
異物１１０により生じている。
的に説明する。図１は本発明の一実施例に係る液晶用カ
ラーフィルター検査装置の構成図である。図において、
１０１はメインコントローラ、１０２は光源コントロー
ラ、１０３はキセノンフラッシュランプ、１０４は酸素
吸収領域の波長をカットするフィルター、１０５はオー
バーコート済みのカラーフィルター、１０６は紫外線あ
るいは赤外線のみを透過するフィルター、１０７は光検
出器、１０８は画像処理装置である。１０９はカラーフ
ィルター表面の突起でブラックマトリックス１１１上の
異物１１０により生じている。
【００１２】このような構成において、メインコントロ
ーラ１０１から適切なタイミングで光源コントローラ１
０２にパルス信号を出力することにより、キセノンフラ
ッシュランプ１０３を制御してパルス点燈させる。ラン
プ１０３内部でコリメートされた光は、平行光線とな
り、酸素吸収領域の波長をカットするフィルター１０４
を透過してオーバーコート済みのカラーフィルター１０
５に入射する。
ーラ１０１から適切なタイミングで光源コントローラ１
０２にパルス信号を出力することにより、キセノンフラ
ッシュランプ１０３を制御してパルス点燈させる。ラン
プ１０３内部でコリメートされた光は、平行光線とな
り、酸素吸収領域の波長をカットするフィルター１０４
を透過してオーバーコート済みのカラーフィルター１０
５に入射する。
【００１３】このフィルター１０４に入射した光は酸素
吸収領域の波長がカットされるので、ここを通過した光
は検査装置内部の酸素をオゾンに変換しないことにな
り、オゾンにより装置内部の劣化の進行を抑えることが
できる。
吸収領域の波長がカットされるので、ここを通過した光
は検査装置内部の酸素をオゾンに変換しないことにな
り、オゾンにより装置内部の劣化の進行を抑えることが
できる。
【００１４】カラーフィルター１０５のオーバーコート
膜はエポキシ系、アクリル系、シリコン系からなり、可
視領域で透明であるため可視領域の光を透過し、カラー
フィルター１０５の端部やブラックマトリックス１１１
の表面で反射し、散乱光が発生する。そこで、本発明で
は使用する光源としてはキセノンフラッシュランプ１０
３を使用し、紫外あるいは赤外領域でオーバーコート膜
の光の吸収係数が大きい領域の波長を含む光を発生させ
る。
膜はエポキシ系、アクリル系、シリコン系からなり、可
視領域で透明であるため可視領域の光を透過し、カラー
フィルター１０５の端部やブラックマトリックス１１１
の表面で反射し、散乱光が発生する。そこで、本発明で
は使用する光源としてはキセノンフラッシュランプ１０
３を使用し、紫外あるいは赤外領域でオーバーコート膜
の光の吸収係数が大きい領域の波長を含む光を発生させ
る。
【００１５】このように、カラーフィルター１０５に入
射した光のうち、紫外あるいは赤外領域の波長の光はほ
とんどがカラーフィルター１０５の表面で反射して内部
に透過することがなく、フィルター端部やブラックマト
リックス１１１からの散乱光は生じない。この表面で反
射した散乱光の検出は正反射を検出せず、突起による反
射を検出するため観測角が正反射角からずれるようにラ
ンプ１０３からの光の入射及び光検出器１０７の配置を
設定しておく。
射した光のうち、紫外あるいは赤外領域の波長の光はほ
とんどがカラーフィルター１０５の表面で反射して内部
に透過することがなく、フィルター端部やブラックマト
リックス１１１からの散乱光は生じない。この表面で反
射した散乱光の検出は正反射を検出せず、突起による反
射を検出するため観測角が正反射角からずれるようにラ
ンプ１０３からの光の入射及び光検出器１０７の配置を
設定しておく。
【００１６】このカラーフィルター１０５の表面からの
散乱光は紫外あるいは赤外のみを透過するフィルター１
０６を透過した後光検出器１０７に入射し検出される。
この検出した光の信号は画像処理装置１０８に入力さ
れ、画像処理をしてメインコントローラ１０１の記録媒
体に結果を記録する。この記録結果から突起位置の特定
と、散乱光強度による突起高さを算出できるものであ
る。
散乱光は紫外あるいは赤外のみを透過するフィルター１
０６を透過した後光検出器１０７に入射し検出される。
この検出した光の信号は画像処理装置１０８に入力さ
れ、画像処理をしてメインコントローラ１０１の記録媒
体に結果を記録する。この記録結果から突起位置の特定
と、散乱光強度による突起高さを算出できるものであ
る。
【００１７】このような構成の実施例によれば、光源に
キセノンフラッシュランプ１０３を使用し、カラーフィ
ルター１０５に光を照射し、散乱光の観測波長を紫外あ
るいは赤外領域の波長にすることにより、カラーフィル
ター１０５上の異物１１０による突起１０９による散乱
光のみを光検出器１０７で検出し、画像処理装置１０８
により突起１０９のみを鮮明に検出できるものである。
キセノンフラッシュランプ１０３を使用し、カラーフィ
ルター１０５に光を照射し、散乱光の観測波長を紫外あ
るいは赤外領域の波長にすることにより、カラーフィル
ター１０５上の異物１１０による突起１０９による散乱
光のみを光検出器１０７で検出し、画像処理装置１０８
により突起１０９のみを鮮明に検出できるものである。
【００１８】又、カラーフィルター１０５の端部やブラ
ックマトリックス１１１からの散乱光を検出しないので
画像処理装置１０８のアルゴリズムを単純化することが
できる。
ックマトリックス１１１からの散乱光を検出しないので
画像処理装置１０８のアルゴリズムを単純化することが
できる。
【００１９】更に光源に紫外線を含む光を使用する場合
には、フィルター１０４によりこの光のうち、酸素吸収
領域の波長をカットするのでオゾンの発生を抑えること
ができ、オゾンによる装置劣化を防ぐことができる。
には、フィルター１０４によりこの光のうち、酸素吸収
領域の波長をカットするのでオゾンの発生を抑えること
ができ、オゾンによる装置劣化を防ぐことができる。
【００２０】
【発明の効果】以上、具体的に説明したように、本発明
においては、光源に紫外あるいは赤外領域の波長を含む
光を発生させ、オーバーコート膜を透過しないように
し、オーバーコート膜表面からの反射による散乱光のみ
を検出し、この検出した光からオーバーコート膜表面の
突起の位置及び高さを画像処理のアルゴリズムで算出す
る液晶用カラーフィルター検査方法とし、更に、この方
法を実施するために、紫外又は赤外光を発する光源、こ
れらの領域の波長の光を透過するフィルター、光検出器
及び画像処理装置からなる液晶用カラーフィルター検査
装置も提供するので、次のような効果を奏するものであ
る。 （１） 異物突起による散乱光のみを鮮明に検出するこ
とができ、そのため正確に突起の位置、高さを計測する
ことができる。 （２） カラーフィルター端部やブラックマトリックス
からの散乱が無いため、画像処理のアルゴリズムを単純
化できる。 （３） 光源に紫外線を使う場合には、本発明に酸素吸
収をおさえるフィルターを付加するようにすればオゾン
発生をおさえることができ、装置劣化を防ぐ効果があ
る。
においては、光源に紫外あるいは赤外領域の波長を含む
光を発生させ、オーバーコート膜を透過しないように
し、オーバーコート膜表面からの反射による散乱光のみ
を検出し、この検出した光からオーバーコート膜表面の
突起の位置及び高さを画像処理のアルゴリズムで算出す
る液晶用カラーフィルター検査方法とし、更に、この方
法を実施するために、紫外又は赤外光を発する光源、こ
れらの領域の波長の光を透過するフィルター、光検出器
及び画像処理装置からなる液晶用カラーフィルター検査
装置も提供するので、次のような効果を奏するものであ
る。 （１） 異物突起による散乱光のみを鮮明に検出するこ
とができ、そのため正確に突起の位置、高さを計測する
ことができる。 （２） カラーフィルター端部やブラックマトリックス
からの散乱が無いため、画像処理のアルゴリズムを単純
化できる。 （３） 光源に紫外線を使う場合には、本発明に酸素吸
収をおさえるフィルターを付加するようにすればオゾン
発生をおさえることができ、装置劣化を防ぐ効果があ
る。
【図１】本発明の一実施例に係る液晶用カラーフィルタ
ー検査装置の構成図である。
ー検査装置の構成図である。
【図２】従来の液晶用カラーフィルター検査装置の構成
図である。
図である。
１０１ メインコントローラ １０２ 光源コントローラ １０３ キセノンフラッシュランプ １０４ フィルター １０５ カラーフィルター １０６ フィルター １０７ 光検出器 １０８ 画像処理装置 １０９ 突起 １１０ 異物 １１１ ブラックマトリックス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池下 匡彦 広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱 重工業株式会社広島製作所内
Claims (2)
- 【請求項１】 液晶用カラーフィルター表面のオーバー
コート膜に対して光を照射し、同オーバーコート膜から
反射する散乱光を検出し、その検出した光から画像処理
アルゴリズムにより同オーバーコート膜表面の突起位置
と突起高さの絶対値を検出する液晶用カラーフィルター
検査方法において、前記光に少くとも不透明な紫外ある
いは赤外いずれかを含む光を使用して、前記突起からの
散乱光を検出することにより、前記カラーフィルター端
部やその基部のブラックマトリックスからの光散乱を低
減することを特徴とする液晶用カラーフィルター検査方
法。 - 【請求項２】 液晶用カラーフィルター表面のオーバー
コート膜に対して少くとも不透明な紫外又は赤外のいず
れかを含む光源と、同光源からの光の前記オーバーコー
ト表面上からの散乱光を受け、紫外光又は赤外光を透過
するフィルターと、同フィルターを透過した光を受光す
る光検出器と、同光検出器からの出力を受け、前記オー
バーコート表面上からの散乱光の出力信号のうち強度の
強い位置を求めて前記突起の位置を算出し、その光強度
から前記突起の高さを算出する画像処理装置とを具備し
てなることを特徴とする液晶用カラーフィルター検査装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25508394A JPH08122271A (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | 液晶用カラーフィルター検査方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25508394A JPH08122271A (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | 液晶用カラーフィルター検査方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08122271A true JPH08122271A (ja) | 1996-05-17 |
Family
ID=17273901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25508394A Withdrawn JPH08122271A (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | 液晶用カラーフィルター検査方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08122271A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006300892A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ形成基板の異物検査方法およびカラーフィルタ形成基板の異物検査装置 |
| US7440118B2 (en) | 2005-06-24 | 2008-10-21 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for color filter inspection |
| CN116794068A (zh) * | 2023-05-31 | 2023-09-22 | 成都瑞波科材料科技有限公司 | 用于涂布工艺的彩虹纹检测装置、方法及涂布工艺设备 |
-
1994
- 1994-10-20 JP JP25508394A patent/JPH08122271A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006300892A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ形成基板の異物検査方法およびカラーフィルタ形成基板の異物検査装置 |
| US7440118B2 (en) | 2005-06-24 | 2008-10-21 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for color filter inspection |
| CN116794068A (zh) * | 2023-05-31 | 2023-09-22 | 成都瑞波科材料科技有限公司 | 用于涂布工艺的彩虹纹检测装置、方法及涂布工艺设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Lilienfeld | Optical detection of particle contamination on surfaces: a review | |
| WO2006108137A2 (en) | Glass inspection systems and methods for using same | |
| GB2335982A (en) | Surface inspection device | |
| KR100876257B1 (ko) | 광학적 측정 방법 및 그 장치 | |
| JP3673649B2 (ja) | 透光性物質の不均一性検査方法及びその検査装置 | |
| JP2000097873A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JPH06249791A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JPH08122271A (ja) | 液晶用カラーフィルター検査方法及び装置 | |
| JP2008076113A (ja) | 表面欠陥検出方法および表面欠陥検査装置 | |
| JPH08338814A (ja) | フイルムの欠点検出装置およびフイルムの製造方法 | |
| JP3102493B2 (ja) | 異物検査方法及びその装置 | |
| JP3280401B2 (ja) | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 | |
| JPH1130590A (ja) | 異物欠陥検査装置及び半導体デバイスの製造方法 | |
| TWI485392B (zh) | Foreign body inspection device and inspection method | |
| JP2008039444A (ja) | 異物検査方法及び異物検査装置 | |
| JP5399002B2 (ja) | シート体の検査装置及び方法 | |
| JPH03115844A (ja) | 表面欠点検出方法 | |
| JPH05273137A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JPH05196579A (ja) | 異物検査装置 | |
| JPS63200043A (ja) | シ−ト状被検体の表面欠陥検出装置 | |
| JPH0431748A (ja) | 透明板状体の欠点検査方法 | |
| JPH09210848A (ja) | 透過散乱能測定方法及び装置 | |
| JPH06138045A (ja) | ガラス基板用欠陥検査装置 | |
| JP2709946B2 (ja) | 異物検査方法および異物検査装置 | |
| JP3877875B2 (ja) | Ｘ線センサーおよびｘ線検出方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020115 |