JPH0812280B2 - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPH0812280B2 JPH0812280B2 JP61046969A JP4696986A JPH0812280B2 JP H0812280 B2 JPH0812280 B2 JP H0812280B2 JP 61046969 A JP61046969 A JP 61046969A JP 4696986 A JP4696986 A JP 4696986A JP H0812280 B2 JPH0812280 B2 JP H0812280B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- electron beam
- coil
- tube
- beam irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 36
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 8
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は電子線照射装置に関する。
(従来の技術) 周知のように電子線照射装置においては、加速管によ
って加速された電子線は、走査管によって走査されなが
ら被照射物に照射されるようになっている。通常走査管
による走査は電磁装置によって行われるのが普通で、具
体的には走査管の基部に走査コイルが設置されてあり、
これに三角波形の電流を励磁電流として供給し、これに
よって発生する磁界により電子線を一定の範囲内で往復
動させるようにして走査する。走査された電子線は走査
管の端部に設けられてある走査窓の箔を通って外部に放
射される。
って加速された電子線は、走査管によって走査されなが
ら被照射物に照射されるようになっている。通常走査管
による走査は電磁装置によって行われるのが普通で、具
体的には走査管の基部に走査コイルが設置されてあり、
これに三角波形の電流を励磁電流として供給し、これに
よって発生する磁界により電子線を一定の範囲内で往復
動させるようにして走査する。走査された電子線は走査
管の端部に設けられてある走査窓の箔を通って外部に放
射される。
ところでこの種走査管における走査コイル用のコアの
形状によっては、電子線照射領域の走査方向の端部に近
付くほど、第4図に示す照射領域Aのように走査幅が狭
くなって電子線ビームが絞られ、その端部において電子
線密度が高くなることがある。このように電子線密度が
照射窓の箔の端部において高くなると、その箔の部分が
他の部分よりも熱が集中して痛みやすくなり、寿命が短
くなってしまう。
形状によっては、電子線照射領域の走査方向の端部に近
付くほど、第4図に示す照射領域Aのように走査幅が狭
くなって電子線ビームが絞られ、その端部において電子
線密度が高くなることがある。このように電子線密度が
照射窓の箔の端部において高くなると、その箔の部分が
他の部分よりも熱が集中して痛みやすくなり、寿命が短
くなってしまう。
(発明が解決しようとする問題点) この発明は電磁的に電子線を走査する電子線照射装置
において、その走査領域の端部に対応する照射窓の箔の
端部に熱が集中するを防止するようにし、これによって
その箔の寿命の低下を回避することを目的とする。
において、その走査領域の端部に対応する照射窓の箔の
端部に熱が集中するを防止するようにし、これによって
その箔の寿命の低下を回避することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) この発明は走査コイルによる電子線の走査端部に、そ
の走査方向に対して直交する方向に電子線を振らすため
の磁束を発生するコイルを設置したことを特徴とする。
の走査方向に対して直交する方向に電子線を振らすため
の磁束を発生するコイルを設置したことを特徴とする。
(作用) 走査コイルによって電子線を走査するとき、その走査
周波数よりも低い周波数で、電子線を走査領域の端部に
おいて振らすようにすると、その端部において電子線ビ
ームは走査方向に対して直交する方向に幅が広がる。こ
の広かりにより端部での電子線ビームの絞りが回避され
る。その結果走査領域の端部での電子線の高密度化が回
避されることになる。
周波数よりも低い周波数で、電子線を走査領域の端部に
おいて振らすようにすると、その端部において電子線ビ
ームは走査方向に対して直交する方向に幅が広がる。こ
の広かりにより端部での電子線ビームの絞りが回避され
る。その結果走査領域の端部での電子線の高密度化が回
避されることになる。
(実施例) この発明を第1図以降の各図によって説明する。1は
電子線照射装置本体で、加速管2、走査管3などによっ
て構成されてあり、4は走査管3の基部3Aの外側に配置
された走査コイル、5は照射窓で、これは箔によって閉
塞されてある。走査コイル4には通常三角波の励磁電流
が供給され、これによつて発生する磁束によって、電子
線は発生した磁束に対して直交する矢印P方向に走査さ
れる。これらの構成は通常のこの種装置と特に相違する
ところはない。
電子線照射装置本体で、加速管2、走査管3などによっ
て構成されてあり、4は走査管3の基部3Aの外側に配置
された走査コイル、5は照射窓で、これは箔によって閉
塞されてある。走査コイル4には通常三角波の励磁電流
が供給され、これによつて発生する磁束によって、電子
線は発生した磁束に対して直交する矢印P方向に走査さ
れる。これらの構成は通常のこの種装置と特に相違する
ところはない。
この発明にしたがい、走査コイル4による走査方向の
端部において、電子線を前記走査方向に対して直交する
方向に振らすための磁束を発生する、対のコイル6を使
用する。このコイル6は第2図に示すように走査コイル
4の左右に位置するように基部3Aの外側に設置する。
端部において、電子線を前記走査方向に対して直交する
方向に振らすための磁束を発生する、対のコイル6を使
用する。このコイル6は第2図に示すように走査コイル
4の左右に位置するように基部3Aの外側に設置する。
たとえばコイル6は走査コイル4の励磁電流の周波数
よりも低い周波数の電流によって励磁される。たとえば
走査コイル4の励磁電流の周波数が200Hz程度であると
き、コイル6の励磁電流の周波数を商用周波数(50また
は60Hz)程度とする。そして両コイル6は互いに逆相の
正弦波電流によって励磁されるようにしてある。
よりも低い周波数の電流によって励磁される。たとえば
走査コイル4の励磁電流の周波数が200Hz程度であると
き、コイル6の励磁電流の周波数を商用周波数(50また
は60Hz)程度とする。そして両コイル6は互いに逆相の
正弦波電流によって励磁されるようにしてある。
以上の構成において、走査コイル4によって発生する
磁束により、第2図において左右方向に走査されている
とき、その走査端部においてコイル6によって発生する
磁束により、電子線はその走査方向に対して直交する方
向に振られるようになる。
磁束により、第2図において左右方向に走査されている
とき、その走査端部においてコイル6によって発生する
磁束により、電子線はその走査方向に対して直交する方
向に振られるようになる。
すなわち、コイル6がなんら励磁されていないとき
は、第2図において直線aに示す方向に走査されるが、
その走査周波数よりもたとえば低い周波数でコイル6が
励磁されたとすると、直線aに対してその中央で交差す
る直線b,cに示す方向に走査されるようになる。
は、第2図において直線aに示す方向に走査されるが、
その走査周波数よりもたとえば低い周波数でコイル6が
励磁されたとすると、直線aに対してその中央で交差す
る直線b,cに示す方向に走査されるようになる。
これによって走査領域の端部において、電子ビームは
走査コイル4によって直線a方向に走査されながら、そ
の走査方向と直交する方向に沿って振られるようにな
る。このように電子ビームが振られると、走査領域の端
部での電子線の絞りが少なくなり、その結果走査領域A
の幅は第3図のように全域にわたってほぼ均等となる。
走査コイル4によって直線a方向に走査されながら、そ
の走査方向と直交する方向に沿って振られるようにな
る。このように電子ビームが振られると、走査領域の端
部での電子線の絞りが少なくなり、その結果走査領域A
の幅は第3図のように全域にわたってほぼ均等となる。
以上の結果走査領域の端部での電子線の集中が回避さ
れ、その端部での電子線の密度が高くなるようなことは
なく、したがって走査領域の端部に相当する部分の照射
窓箔の損傷は確実に防止されるようになる。
れ、その端部での電子線の密度が高くなるようなことは
なく、したがって走査領域の端部に相当する部分の照射
窓箔の損傷は確実に防止されるようになる。
(発明の効果) 以上詳述したようにこの発明によれば、走査コイルに
よる走査とは別にその走査方向に対して直交する方向に
電子ビームを振らせるための磁束を発生させるようにし
たので、電子線の走査領域の端部に相当する照射窓箔の
損傷を確実に防止することができるといった効果を奏す
る。
よる走査とは別にその走査方向に対して直交する方向に
電子ビームを振らせるための磁束を発生させるようにし
たので、電子線の走査領域の端部に相当する照射窓箔の
損傷を確実に防止することができるといった効果を奏す
る。
第1図はこの発明の実施例を示す正面図、第2図は要部
の拡大断面図、第3図はこの発明による電子線による走
査領域の平面図、第4図は従来の電子線による走査領域
の平面図である。 1……電子線照射装置本体、3……走査管、4……走査
コイル、5……照射窓、6……コイル、
の拡大断面図、第3図はこの発明による電子線による走
査領域の平面図、第4図は従来の電子線による走査領域
の平面図である。 1……電子線照射装置本体、3……走査管、4……走査
コイル、5……照射窓、6……コイル、
Claims (1)
- 【請求項1】走査管内の電子線を往復して走査する走査
コイルを、前記走査管に設けてなる電子線照射装置にお
いて、前記走査コイルによる走査領域の幅がその全域に
わたってほぼ均一となるように、前記走査コイルによる
電子線の走査方向に沿う中央で交差する方向に前記電子
線を振らすための磁束を発生するコイルを、前記走査管
に設けてなる電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61046969A JPH0812280B2 (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61046969A JPH0812280B2 (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 電子線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62203100A JPS62203100A (ja) | 1987-09-07 |
| JPH0812280B2 true JPH0812280B2 (ja) | 1996-02-07 |
Family
ID=12762088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61046969A Expired - Lifetime JPH0812280B2 (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0812280B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01162200A (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-26 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線照射装置の走査方式 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5738880B2 (ja) * | 1973-11-29 | 1982-08-18 |
-
1986
- 1986-03-03 JP JP61046969A patent/JPH0812280B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62203100A (ja) | 1987-09-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3420977A (en) | Electron beam apparatus | |
| JPH1126198A (ja) | 電磁石及び加速器、並びに磁場発生装置 | |
| US3193717A (en) | Beam scanning method and apparatus | |
| JP6460038B2 (ja) | 磁気偏向システム、イオン注入システム、イオンビームを走査する方法 | |
| KR920010722A (ko) | 주사 속도 변조장치 | |
| JP2000204470A5 (ja) | ||
| JPH0796377A (ja) | 電子ビーム溶接法及び装置 | |
| US2993120A (en) | Electron irradiation | |
| JPS59215643A (ja) | テレビジヨン表示方式 | |
| JPS62203100A (ja) | 電子線照射装置 | |
| JPS6256623B2 (ja) | ||
| JPH08304732A (ja) | スリット光照射光学系 | |
| JPS61255785A (ja) | レ−ザ溶接方法 | |
| JPH11256317A (ja) | 電子ビーム偏向装置 | |
| JPH0574186B2 (ja) | ||
| JP2000057960A (ja) | 負イオン源 | |
| JP4155097B2 (ja) | 電子線照射装置の偏向方法 | |
| JPS62229643A (ja) | 電子線発生装置 | |
| JPH0620283Y2 (ja) | 電子線照射装置 | |
| JPS63190235A (ja) | X線管装置 | |
| JPH0864398A (ja) | 周期磁場発生装置 | |
| JPH0541169A (ja) | ビーム直進形マイクロ波管装置 | |
| JPH0538049Y2 (ja) | ||
| JPH0520000U (ja) | 電子線照射装置 | |
| JP2001043998A (ja) | 電磁石、及びそれを用いた円形加速器と円形加速器システム |