JPH08127582A - メチン化合物 - Google Patents
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- JPH08127582A JPH08127582A JP26517894A JP26517894A JPH08127582A JP H08127582 A JPH08127582 A JP H08127582A JP 26517894 A JP26517894 A JP 26517894A JP 26517894 A JP26517894 A JP 26517894A JP H08127582 A JPH08127582 A JP H08127582A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
- C09B23/02—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups
- C09B23/04—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups one >CH- group, e.g. cyanines, isocyanines, pseudocyanines
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】メチン鎖を伸長することなく、所望の波長域に
強い光吸収感度を有するシアニン色素を提供する。 【構成】下記式で示されるメチン化合物。(Vは置換さ
れてもよい芳香族基を、R1 及びR2 は炭素数1から4
の置換されてもよいアルキル基を、Zは置換されてもよ
いベンゼン環またはナフタレン環を形成するのに必要な
原子群を、Xは対イオンを、nは分子全体の電荷の均衡
を保つために必要な数を表す。) 【化1】
強い光吸収感度を有するシアニン色素を提供する。 【構成】下記式で示されるメチン化合物。(Vは置換さ
れてもよい芳香族基を、R1 及びR2 は炭素数1から4
の置換されてもよいアルキル基を、Zは置換されてもよ
いベンゼン環またはナフタレン環を形成するのに必要な
原子群を、Xは対イオンを、nは分子全体の電荷の均衡
を保つために必要な数を表す。) 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は写真用増感色素、フィル
ター染料、光学記録材料用色素等に用いられる新規なメ
チン化合物に関する。
ター染料、光学記録材料用色素等に用いられる新規なメ
チン化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、キノリンとベンゾチアゾールをそ
れぞれ母核とするモノメチンシアニン化合物としては、
エフ・エム・ハーマー著「ヘテロサイクリック・コンパ
ウンズ−シアニン・ダイズ・アンド・リレイテッド・コ
ンパウンズ」(ジョン・ウイリー・アンド・サンズ社−
ニューヨーク、ロンドン、1964年刊)第二章に記載
されているようなものが知られている。これらの化合物
は500nm付近に極大吸収波長を有し写真用増感色素、フ
ィルター染料、光学記録材料用色素などとして有用であ
る。この光吸収効率を増加させることによって光吸収感
度の向上、及び使用量の削減が達成されると考えられ
る。光吸収効率を増加させる手段としてはメチン鎖数を
増加させることでシアニン化合物の吸光係数を増加させ
る方法が知られている。しかしながら、メチン鎖数を増
加させることによっては、吸収極大波長の大幅な長波長
化が伴い、550nm以下に吸収極大波長を有するものを得
ることは困難であった。
れぞれ母核とするモノメチンシアニン化合物としては、
エフ・エム・ハーマー著「ヘテロサイクリック・コンパ
ウンズ−シアニン・ダイズ・アンド・リレイテッド・コ
ンパウンズ」(ジョン・ウイリー・アンド・サンズ社−
ニューヨーク、ロンドン、1964年刊)第二章に記載
されているようなものが知られている。これらの化合物
は500nm付近に極大吸収波長を有し写真用増感色素、フ
ィルター染料、光学記録材料用色素などとして有用であ
る。この光吸収効率を増加させることによって光吸収感
度の向上、及び使用量の削減が達成されると考えられ
る。光吸収効率を増加させる手段としてはメチン鎖数を
増加させることでシアニン化合物の吸光係数を増加させ
る方法が知られている。しかしながら、メチン鎖数を増
加させることによっては、吸収極大波長の大幅な長波長
化が伴い、550nm以下に吸収極大波長を有するものを得
ることは困難であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、メチ
ン鎖を伸長することなく、所望の波長域に強い光吸収感
度を有するシアニン色素として有用な化合物を提供する
ことである。
ン鎖を伸長することなく、所望の波長域に強い光吸収感
度を有するシアニン色素として有用な化合物を提供する
ことである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題は下記の手段に
よって達成された。 (1)一般式(I)で示されるメチン化合物。
よって達成された。 (1)一般式(I)で示されるメチン化合物。
【0005】
【化2】
【0006】一般式(I)中、Vは置換されてもよい芳
香族基を表す。R1 及びR2 はそれぞれ独立に炭素数1
から4の置換されてもよいアルキル基を表す。Zは置換
されてもよいベンゼン環またはナフタレン環を形成する
のに必要な原子群を表す。Xは対イオン、nは分子全体
の電荷の均衡を保つために必要な数を表す。
香族基を表す。R1 及びR2 はそれぞれ独立に炭素数1
から4の置換されてもよいアルキル基を表す。Zは置換
されてもよいベンゼン環またはナフタレン環を形成する
のに必要な原子群を表す。Xは対イオン、nは分子全体
の電荷の均衡を保つために必要な数を表す。
【0007】(2)一般式(I)のVが置換されてもよ
いアリール基を表し、R1 及びR2 がそれぞれ独立にス
ルホ基で置換されてもよい炭素数1から4のアルキル基
を表す上記(1)に記載のメチン化合物。
いアリール基を表し、R1 及びR2 がそれぞれ独立にス
ルホ基で置換されてもよい炭素数1から4のアルキル基
を表す上記(1)に記載のメチン化合物。
【0008】好ましくは、一般式(I)のVが置換され
てもよいフェニル基を表す上記(2)に記載のメチン化
合物である。
てもよいフェニル基を表す上記(2)に記載のメチン化
合物である。
【0009】以下、この化合物(I)を具体的に説明す
る。一般式(I)中、Vは置換されてもよい芳香族基を
表す。置換されてもよい芳香族基とは、置換されてもよ
いアリール基(芳香族炭化水素環)または置換されても
よい芳香族複素環を言う。好ましくは、炭素数6〜10
の置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル、ナ
フチル、p−メトキシフェニル、p−メチルフェニ
ル)、2ーピリジル基、2ーチエニル基、2ーフラニル
基、バルビツール酸基、ベンゾチアゾール核、ベンゾオ
キサゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンゾテルラゾ
ール核、キノリン核、ベンゾイミダゾール核、チアゾリ
ン核、インドリン核、オキサジアゾール核、チアゾール
核またはイミダゾール核であり、より好ましくは炭素数
6〜10の置換されてもよいアリール基であり、特に好
ましくは置換されてもよいフェニル基であり、最も好ま
しくは無置換のフェニル基である。
る。一般式(I)中、Vは置換されてもよい芳香族基を
表す。置換されてもよい芳香族基とは、置換されてもよ
いアリール基(芳香族炭化水素環)または置換されても
よい芳香族複素環を言う。好ましくは、炭素数6〜10
の置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル、ナ
フチル、p−メトキシフェニル、p−メチルフェニ
ル)、2ーピリジル基、2ーチエニル基、2ーフラニル
基、バルビツール酸基、ベンゾチアゾール核、ベンゾオ
キサゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンゾテルラゾ
ール核、キノリン核、ベンゾイミダゾール核、チアゾリ
ン核、インドリン核、オキサジアゾール核、チアゾール
核またはイミダゾール核であり、より好ましくは炭素数
6〜10の置換されてもよいアリール基であり、特に好
ましくは置換されてもよいフェニル基であり、最も好ま
しくは無置換のフェニル基である。
【0010】R1 、R2 として好ましくは、炭素数1〜
4の無置換アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブ
チル)、またはアルキル部分の炭素数が1から4の置換
アルキル基{置換基として例えば、カルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、
臭素である。)、ヒドロキシ基、炭素数2〜8のアルコ
キシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、フェノキシカルボニル、ベンジルオキシ
カルボニル)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメ
トキシ、エトキシ、ベンジルオキシ、フェネチルオキ
シ)、炭素数2〜8のアシルオキシ基(例えばアセチル
オキシ、プロピオニルオキシ)、炭素数2〜8のアシル
基(例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル、メシ
ル)、炭素数1〜8のカルバモイル基(例えばカルバモ
イル、N,N−ジメチルカルバモイル、モルホリノカル
ボニル、ピペリジノカルボニル)、炭素数0〜8のスル
ファモイル基(例えばスルファモイル、N,N−ジメチ
ルスルファモイル、モルホリノスルホニル、ピペリジノ
スルホニル)が挙げられる。好ましくは炭素数1〜4の
無置換アルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロ
ピル)、炭素数1〜8のカルボキシアルキル基(例えば
2−カルボキシエチル、カルボキシメチル)、炭素数1
〜8のスルホアルキル基(例えば、2−スルホエチル、
3−スルホプロピル、4−スルホブチル、3−スルホブ
チル)であり、最も好ましくは炭素数1〜4のスルホア
ルキル基である。
4の無置換アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブ
チル)、またはアルキル部分の炭素数が1から4の置換
アルキル基{置換基として例えば、カルボキシ基、スル
ホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、
臭素である。)、ヒドロキシ基、炭素数2〜8のアルコ
キシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、フェノキシカルボニル、ベンジルオキシ
カルボニル)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメ
トキシ、エトキシ、ベンジルオキシ、フェネチルオキ
シ)、炭素数2〜8のアシルオキシ基(例えばアセチル
オキシ、プロピオニルオキシ)、炭素数2〜8のアシル
基(例えばアセチル、プロピオニル、ベンゾイル、メシ
ル)、炭素数1〜8のカルバモイル基(例えばカルバモ
イル、N,N−ジメチルカルバモイル、モルホリノカル
ボニル、ピペリジノカルボニル)、炭素数0〜8のスル
ファモイル基(例えばスルファモイル、N,N−ジメチ
ルスルファモイル、モルホリノスルホニル、ピペリジノ
スルホニル)が挙げられる。好ましくは炭素数1〜4の
無置換アルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロ
ピル)、炭素数1〜8のカルボキシアルキル基(例えば
2−カルボキシエチル、カルボキシメチル)、炭素数1
〜8のスルホアルキル基(例えば、2−スルホエチル、
3−スルホプロピル、4−スルホブチル、3−スルホブ
チル)であり、最も好ましくは炭素数1〜4のスルホア
ルキル基である。
【0011】Zは置換されてもよいベンゼン環またはナ
フタレン環を形成するのに必要な原子群を表す。置換基
としてはハロゲン原子(例えば塩素原子、フッ素原子、
臭素原子)、炭素数1〜6の無置換のアルキル基(例え
ばメチル、エチル)、炭素数1〜10の置換アルキル基
(例えばベンジル、α−ナフチルメチル、2−フェニル
エチル、トリフルオロメチル)、炭素数2〜10のアシ
ル基(例えばアセチル、ベンゾイル、メシル)、炭素数
2〜10のアシルオキシ基(例えばアセトキシ)、炭素
数2〜10のアルコキシカルボニル基(例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカル
ボニル)、炭素数1〜10の置換もしくは無置換のカル
バモイル基(例えばカルバモイル、N,N−ジメチルカ
ルバモイル、モルホリノカルボニル、ピペリジノカルボ
ニル)、炭素数0〜10の置換もしくは無置換のスルフ
ァモイル基(例えばスルファモイル、N,N−ジメチル
スルファモイル、モルホリノスルホニル、ピペリジノス
ルホニル)、カルボキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、
アミノ基、炭素数2〜8のアシルアミノ基(例えばアセ
チルアミノ)、炭素数1〜10のアルコキシ基(例えば
メトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)、炭素数6〜1
0のアリール基(例えばフェニル、トリル)、炭素数1
〜10の複素環基(例えば2−ピリジル、2−チアゾリ
ル)、炭素数1〜10のアルキルチオ基(例えばメチル
チオ、エチルチオ)などが好ましく、より好ましくは炭
素数6〜10のアリール基であり、最も好ましくは無置
換フェニル基である。
フタレン環を形成するのに必要な原子群を表す。置換基
としてはハロゲン原子(例えば塩素原子、フッ素原子、
臭素原子)、炭素数1〜6の無置換のアルキル基(例え
ばメチル、エチル)、炭素数1〜10の置換アルキル基
(例えばベンジル、α−ナフチルメチル、2−フェニル
エチル、トリフルオロメチル)、炭素数2〜10のアシ
ル基(例えばアセチル、ベンゾイル、メシル)、炭素数
2〜10のアシルオキシ基(例えばアセトキシ)、炭素
数2〜10のアルコキシカルボニル基(例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカル
ボニル)、炭素数1〜10の置換もしくは無置換のカル
バモイル基(例えばカルバモイル、N,N−ジメチルカ
ルバモイル、モルホリノカルボニル、ピペリジノカルボ
ニル)、炭素数0〜10の置換もしくは無置換のスルフ
ァモイル基(例えばスルファモイル、N,N−ジメチル
スルファモイル、モルホリノスルホニル、ピペリジノス
ルホニル)、カルボキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、
アミノ基、炭素数2〜8のアシルアミノ基(例えばアセ
チルアミノ)、炭素数1〜10のアルコキシ基(例えば
メトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ)、炭素数6〜1
0のアリール基(例えばフェニル、トリル)、炭素数1
〜10の複素環基(例えば2−ピリジル、2−チアゾリ
ル)、炭素数1〜10のアルキルチオ基(例えばメチル
チオ、エチルチオ)などが好ましく、より好ましくは炭
素数6〜10のアリール基であり、最も好ましくは無置
換フェニル基である。
【0012】(X)nは、化合物のイオン電荷を中性に
するために必要であるとき、陽イオンまたは陰イオンの
存在または不存在を示すために式の中に含められてい
る。典型的な陽イオンは無機または有機のアンモニウム
イオンおよびアルカリ金属イオンであり、一方陰イオン
は具体的に無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれ
であってもよく、例えばハロゲン陰イオン(例えば弗素
イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン)、置
換アリールスルホン酸イオン(例えばp−トルエンスル
ホン酸イオン、p−クロルベンゼンスルホン酸イオ
ン)、アリールジスルホン酸イオン(例えば1,3−ベ
ンゼンジスルホン酸イオン、1,5−ナフタレンジスル
ホン酸イオン、2,6−ナフタレンジスルホン酸イオ
ン)、アルキル硫酸イオン(例えばメチル硫酸イオ
ン)、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオ
ン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、
酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンが挙
げられる。好ましくは、アンモニウムイオン、ヨウ素イ
オン、p−トルエンスルホン酸イオンである。
するために必要であるとき、陽イオンまたは陰イオンの
存在または不存在を示すために式の中に含められてい
る。典型的な陽イオンは無機または有機のアンモニウム
イオンおよびアルカリ金属イオンであり、一方陰イオン
は具体的に無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれ
であってもよく、例えばハロゲン陰イオン(例えば弗素
イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン)、置
換アリールスルホン酸イオン(例えばp−トルエンスル
ホン酸イオン、p−クロルベンゼンスルホン酸イオ
ン)、アリールジスルホン酸イオン(例えば1,3−ベ
ンゼンジスルホン酸イオン、1,5−ナフタレンジスル
ホン酸イオン、2,6−ナフタレンジスルホン酸イオ
ン)、アルキル硫酸イオン(例えばメチル硫酸イオ
ン)、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオ
ン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、
酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンが挙
げられる。好ましくは、アンモニウムイオン、ヨウ素イ
オン、p−トルエンスルホン酸イオンである。
【0013】本発明に含まれる化合物をCで表すと、C
は一般的に以下のスキームで示される方法によって合成
される。
は一般的に以下のスキームで示される方法によって合成
される。
【0014】A + B → C このスキームにおいてAは一般式(IV)で示される化合物
を表し、Bは一般式(V) で示される化合物を表す。 一般式(IV)
を表し、Bは一般式(V) で示される化合物を表す。 一般式(IV)
【0015】
【化3】
【0016】一般式(IV)中、V、R1 、X、nは一般式
(I)におけるそれぞれと同義である。 一般式(V)
(I)におけるそれぞれと同義である。 一般式(V)
【0017】
【化4】
【0018】一般式(V) 中、Z、R2 X、nは一般式
(I)におけるそれぞれと同義である。
(I)におけるそれぞれと同義である。
【0019】反応条件について詳しく説明する。一般に
この反応は無溶媒もしくは溶媒中で行われ、溶媒として
好ましくは水素供与性の溶媒であり、より好ましくは炭
素数1〜4のアルコール(例えば、メタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール)、炭素数1〜8のアミ
ド(例えば、ジメチルスルホンアミド)、炭素数2〜8
のスルホキシド(例えば、ジメチルスルホキシド)、炭
素数2〜4のニトリル(例えば、アセトニトリル)であ
り、最も好ましくはエタノールまたはアセトニトリルで
ある。反応の促進には塩基が用いられるが、塩基として
は有機塩基(例えば、トリエチルアミンなどの三級アミ
ン類、ピリジンなどの芳香族複素環アミン、テトラメチ
ルグアニジン)から選ぶことができ、特にトリエチルア
ミンなどの三級アミンおよびピリジンなどの芳香族複素
環アミンが好ましい。反応温度は−20℃ないし200
℃の範囲から選ぶことができる。0℃ないし180℃の
範囲が好ましく、10℃ないし160℃の範囲がさらに
好ましい。以下に一般式(I)で表される化合物の具体
例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
この反応は無溶媒もしくは溶媒中で行われ、溶媒として
好ましくは水素供与性の溶媒であり、より好ましくは炭
素数1〜4のアルコール(例えば、メタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール)、炭素数1〜8のアミ
ド(例えば、ジメチルスルホンアミド)、炭素数2〜8
のスルホキシド(例えば、ジメチルスルホキシド)、炭
素数2〜4のニトリル(例えば、アセトニトリル)であ
り、最も好ましくはエタノールまたはアセトニトリルで
ある。反応の促進には塩基が用いられるが、塩基として
は有機塩基(例えば、トリエチルアミンなどの三級アミ
ン類、ピリジンなどの芳香族複素環アミン、テトラメチ
ルグアニジン)から選ぶことができ、特にトリエチルア
ミンなどの三級アミンおよびピリジンなどの芳香族複素
環アミンが好ましい。反応温度は−20℃ないし200
℃の範囲から選ぶことができる。0℃ないし180℃の
範囲が好ましく、10℃ないし160℃の範囲がさらに
好ましい。以下に一般式(I)で表される化合物の具体
例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【0020】
【表1】
【0021】
【表2】
【0022】
【表3】
【0023】尚、表1〜3において、Phはフェニル基
を、MeO はメトキシ基を、4,5-benzoはベンゾチアゾー
ル核において4,5 位でベンゼン環が縮環していること
を、5,6-benzo はベンゾチアゾール核において5,6 位で
ベンゼン環が縮環していることを表している。
を、MeO はメトキシ基を、4,5-benzoはベンゾチアゾー
ル核において4,5 位でベンゼン環が縮環していること
を、5,6-benzo はベンゾチアゾール核において5,6 位で
ベンゼン環が縮環していることを表している。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例をもって説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 3−(2−メチル−6−フェニルキノリニオ)プロパン
スルホナート1.6gおよび3−[2−(3−スルホプロピ
ルチオ)ベンゾチアゾリオ]プロパンスルホナート3.2g
をエチルアルコール30mlおよび水1mlに溶解し、
トリエチルアミン3.2ml を加える。反応液を1時間加熱
環流した後室温まで放冷し、酢酸エチルエステル100
mlを加えて生じた粗結晶を濾取する。これをメタノー
ルより再結晶することによって化合物(1)1.7gを得
た。 λmax(MeOH)=496nm , εmax(MeOH)=5.5x104 , m.p.>250
℃(dec.)
本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 3−(2−メチル−6−フェニルキノリニオ)プロパン
スルホナート1.6gおよび3−[2−(3−スルホプロピ
ルチオ)ベンゾチアゾリオ]プロパンスルホナート3.2g
をエチルアルコール30mlおよび水1mlに溶解し、
トリエチルアミン3.2ml を加える。反応液を1時間加熱
環流した後室温まで放冷し、酢酸エチルエステル100
mlを加えて生じた粗結晶を濾取する。これをメタノー
ルより再結晶することによって化合物(1)1.7gを得
た。 λmax(MeOH)=496nm , εmax(MeOH)=5.5x104 , m.p.>250
℃(dec.)
【0025】実施例2 4−(2−メチル−6−フェニルキノリニオ)ブタンス
ルホナ−ト1.6gおよび4−[2−(4−スルホブチルチ
オ)ベンゾチアゾリオ]ブタンスルホナート3.3gをエチ
ルアルコール32mlおよび水1mlに溶解し、トリエ
チルアミン3.2mlを加える。反応液を1時間加熱環流し
た後室温まで放冷し、酢酸エチルエステル100mlを
加えて生じた粗結晶を濾取する。これをメタノールより
再結晶することによって化合物(2)1.8gを得た。 λmax(MeOH)=496nm , εmax(MeOH)=5.5x104 , m.p.>250
℃(dec.)
ルホナ−ト1.6gおよび4−[2−(4−スルホブチルチ
オ)ベンゾチアゾリオ]ブタンスルホナート3.3gをエチ
ルアルコール32mlおよび水1mlに溶解し、トリエ
チルアミン3.2mlを加える。反応液を1時間加熱環流し
た後室温まで放冷し、酢酸エチルエステル100mlを
加えて生じた粗結晶を濾取する。これをメタノールより
再結晶することによって化合物(2)1.8gを得た。 λmax(MeOH)=496nm , εmax(MeOH)=5.5x104 , m.p.>250
℃(dec.)
【0026】実施例3 1−メチル−3−(2−メチル−6−フェニルキノリニ
オ)プロパンスルホナート1.6gおよび1−メチル−3−
[2−(3−スルホプロピルチオ)ベンゾチアゾリオ]
プロパンスルホナート3.3gをエチルアルコール32ml
および水1mlに溶解し、トリエチルアミン3.2mlを加
える。反応液を1時間加熱環流した後室温まで放冷し、
酢酸エチルエステル100mlを加えて生じた粗結晶を
濾取する。これをメタノールより再結晶することによっ
て化合物(3)1.8gを得た。 λmax(MeOH)=496nm , εmax(MeOH)=5.5x104 , m.p.>250
℃(dec.)
オ)プロパンスルホナート1.6gおよび1−メチル−3−
[2−(3−スルホプロピルチオ)ベンゾチアゾリオ]
プロパンスルホナート3.3gをエチルアルコール32ml
および水1mlに溶解し、トリエチルアミン3.2mlを加
える。反応液を1時間加熱環流した後室温まで放冷し、
酢酸エチルエステル100mlを加えて生じた粗結晶を
濾取する。これをメタノールより再結晶することによっ
て化合物(3)1.8gを得た。 λmax(MeOH)=496nm , εmax(MeOH)=5.5x104 , m.p.>250
℃(dec.)
【0027】実施例4 3−(2−メチル−6−フェニルキノリニオ)プロパン
スルホナート1.7gおよび4−[2−(4−スルホブチル
チオ)−5−フェニルベンゾチアゾリオ]ブタンスルホ
ナート2.6gをエチルアルコール20mlに溶解し、トリエ
チルアミン1.4mlを加える。反応液を1時間加熱環流し
た後室温まで放冷し、アセトン300mlを加えて生じた粗
結晶を濾取する。これをメタノールより再結晶すること
によって化合物(4)1.4gを得た。 λmax(MeOH)=506nm , εmax(MeOH)=5.8x104 , m.p.>250
℃(dec.)
スルホナート1.7gおよび4−[2−(4−スルホブチル
チオ)−5−フェニルベンゾチアゾリオ]ブタンスルホ
ナート2.6gをエチルアルコール20mlに溶解し、トリエ
チルアミン1.4mlを加える。反応液を1時間加熱環流し
た後室温まで放冷し、アセトン300mlを加えて生じた粗
結晶を濾取する。これをメタノールより再結晶すること
によって化合物(4)1.4gを得た。 λmax(MeOH)=506nm , εmax(MeOH)=5.8x104 , m.p.>250
℃(dec.)
【0028】実施例5 1−メチル−3−(2−メチル−6−フェニルキノリニ
オ)プロパンスルホナート1.7gおよび1−メチル−3−
[2−(4−スルホブチルチオ)−5−フェニルベンゾ
チアゾリオ]プロパンスルホナート2.6gをエチルアルコ
ール20mlに溶解し、トリエチルアミン1.4mlを加え
る。反応液を1時間加熱環流した後室温まで放冷し、ア
セトン300mlを加えて生じた粗結晶を濾取する。これを
メタノールより再結晶することによって化合物(5)1.
4gを得た。 λmax(MeOH)=506nm , εmax(MeOH)=5.8x104 , m.p.>250
℃(dec.)
オ)プロパンスルホナート1.7gおよび1−メチル−3−
[2−(4−スルホブチルチオ)−5−フェニルベンゾ
チアゾリオ]プロパンスルホナート2.6gをエチルアルコ
ール20mlに溶解し、トリエチルアミン1.4mlを加え
る。反応液を1時間加熱環流した後室温まで放冷し、ア
セトン300mlを加えて生じた粗結晶を濾取する。これを
メタノールより再結晶することによって化合物(5)1.
4gを得た。 λmax(MeOH)=506nm , εmax(MeOH)=5.8x104 , m.p.>250
℃(dec.)
【0029】実施例6 3−(2−メチル−6−フェニルキノリニオ)プロパン
スルホナート1.6gおよび3−[2−(3−スルホプロピ
ルチオ)−3−[1,2−d]ナフトチアゾリオ]プロ
パンスルホナート3.2gをエチルアルコール30mlおよ
び水1mlに溶解し、トリエチルアミン3.2mlを加え
る。反応液を1時間加熱環流した後室温まで放冷し、酢
酸エチルエステル100mlを加えて生じた粗結晶を濾
取する。これをメタノールより再結晶することによって
化合物(6)1.7gを得た。 λmax(MeOH)=516nm , εmax(MeOH)=5.2x104 , m.p.>250
℃(dec.)
スルホナート1.6gおよび3−[2−(3−スルホプロピ
ルチオ)−3−[1,2−d]ナフトチアゾリオ]プロ
パンスルホナート3.2gをエチルアルコール30mlおよ
び水1mlに溶解し、トリエチルアミン3.2mlを加え
る。反応液を1時間加熱環流した後室温まで放冷し、酢
酸エチルエステル100mlを加えて生じた粗結晶を濾
取する。これをメタノールより再結晶することによって
化合物(6)1.7gを得た。 λmax(MeOH)=516nm , εmax(MeOH)=5.2x104 , m.p.>250
℃(dec.)
【0030】実施例7 ゼラチンの濃度が70g/リットルとなるようにゼラチンを蒸留
水に溶解する。このゼラチン液50gを40℃に保持し、
表4記載の本発明の化合物もしくは対照化合物の0.0005
mol/リットル含有メタノール溶液を加える。こうして得られ
る混合物をI液とする。ポリエチレンテレフタレートに
よって形成された基盤上にI液5mlを円形に塗布し、基
盤上のゼラチン密度が30g/m2となるようにする。これを
25℃60%で12時間乾燥し、ゼラチン乾膜(10
0)〜(107)を得た。このゼラチン乾膜試料(10
0)〜(107)の可視光吸収スペクトルを日立製UV
−3100にて測定し、主吸収における吸収強度を横軸
(eV)に対して積分した値をSとする。
水に溶解する。このゼラチン液50gを40℃に保持し、
表4記載の本発明の化合物もしくは対照化合物の0.0005
mol/リットル含有メタノール溶液を加える。こうして得られ
る混合物をI液とする。ポリエチレンテレフタレートに
よって形成された基盤上にI液5mlを円形に塗布し、基
盤上のゼラチン密度が30g/m2となるようにする。これを
25℃60%で12時間乾燥し、ゼラチン乾膜(10
0)〜(107)を得た。このゼラチン乾膜試料(10
0)〜(107)の可視光吸収スペクトルを日立製UV
−3100にて測定し、主吸収における吸収強度を横軸
(eV)に対して積分した値をSとする。
【0031】試料(100)に関するSの値を1とした
ときの各試料のSをS’で表すと、表4のとうりとなっ
た。
ときの各試料のSをS’で表すと、表4のとうりとなっ
た。
【0032】
【表4】
【0033】
【化5】
【0034】表4から本発明の化合物は対照化合物と比
較して塗布膜吸収が増加していることが判る。
較して塗布膜吸収が増加していることが判る。
【0035】
【発明の効果】本発明によって、光吸収強度が高く写真
用増感色素、フィルター染料、光学記録材料用色素など
として有用なメチン化合物を提供することができた。
用増感色素、フィルター染料、光学記録材料用色素など
として有用なメチン化合物を提供することができた。
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(I)で示されるメチン化合物。 【化1】 一般式(I)中、Vは置換されてもよい芳香族基を表
す。R1 及びR2 はそれぞれ独立に炭素数1から4の置
換されてもよいアルキル基を表す。Zは置換されてもよ
いベンゼン環またはナフタレン環を形成するのに必要な
原子群を表す。Xは対イオン、nは分子全体の電荷の均
衡を保つために必要な数を表す。 - 【請求項2】 一般式(I)のVが置換されてもよいア
リール基を表し、R 1 及びR2 がそれぞれ独立にスルホ
基で置換されてもよい炭素数1から4のアルキル基を表
す請求項1に記載のメチン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26517894A JPH08127582A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | メチン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26517894A JPH08127582A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | メチン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08127582A true JPH08127582A (ja) | 1996-05-21 |
Family
ID=17413665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26517894A Pending JPH08127582A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | メチン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08127582A (ja) |
-
1994
- 1994-10-28 JP JP26517894A patent/JPH08127582A/ja active Pending
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