JPH08129980A - Ｘ線管用陽極 - Google Patents
Ｘ線管用陽極Info
- Publication number
- JPH08129980A JPH08129980A JP6265757A JP26575794A JPH08129980A JP H08129980 A JPH08129980 A JP H08129980A JP 6265757 A JP6265757 A JP 6265757A JP 26575794 A JP26575794 A JP 26575794A JP H08129980 A JPH08129980 A JP H08129980A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anode
- ray tube
- target
- substrate
- concave portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/36—Solid anodes; Solid auxiliary anodes for maintaining a discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温使用も可能で耐久性の高いＸ線管用陽極
を提供する。 【構成】 陽極基体１の端面に３０〜９０度の皿取り角
度を有した凹部２を形成し、この端面の凹部に陽極ター
ゲット材料３をＣＶＤ法によって被膜してなるＸ線管用
陽極である。この陽極の製法は、端面の凹部２を除いた
円筒外周部に銅箔でマスキングをした後、前記凹部に陽
極ターゲット材料３をＣＶＤ法によって被膜し、マスキ
ングを除去した後端面を機械加工して前記陽極基体の陽
極ターゲット材料のみを残し他の被膜を除去して製作す
る。
を提供する。 【構成】 陽極基体１の端面に３０〜９０度の皿取り角
度を有した凹部２を形成し、この端面の凹部に陽極ター
ゲット材料３をＣＶＤ法によって被膜してなるＸ線管用
陽極である。この陽極の製法は、端面の凹部２を除いた
円筒外周部に銅箔でマスキングをした後、前記凹部に陽
極ターゲット材料３をＣＶＤ法によって被膜し、マスキ
ングを除去した後端面を機械加工して前記陽極基体の陽
極ターゲット材料のみを残し他の被膜を除去して製作す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は，固定形の陽極型Ｘ線
管に関するものである。
管に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】固定形の陽極型Ｘ線管（以下固定陽極型
Ｘ線管いう）は、小型にもかかわらず大きな熱容量が得
られる。一般にＸ線管は，例えばＸ線診断として医療用
に利用されているが、外科用の手術などの場合には小型
で軽量な固定陽極型といわれるＸ線管が用いられる。Ｘ
線を得る際にターゲットに供給される電気エネルギーは
１％がＸ線エネルギーに変換されるにすぎず、残りの９
９％は不所望の熱に変わり、これがターゲットに著しい
温度上昇をもたらしている。一般に固定陽極型Ｘ線管に
おける放熱は、第３図および第４図に示すように陽極基
体に熱伝導性の良好な銅製の柱状陽極基体１１と、この
陽極基体１１の一端傾斜面に埋設された円板状陽極ター
ゲット１２からなっている。
Ｘ線管いう）は、小型にもかかわらず大きな熱容量が得
られる。一般にＸ線管は，例えばＸ線診断として医療用
に利用されているが、外科用の手術などの場合には小型
で軽量な固定陽極型といわれるＸ線管が用いられる。Ｘ
線を得る際にターゲットに供給される電気エネルギーは
１％がＸ線エネルギーに変換されるにすぎず、残りの９
９％は不所望の熱に変わり、これがターゲットに著しい
温度上昇をもたらしている。一般に固定陽極型Ｘ線管に
おける放熱は、第３図および第４図に示すように陽極基
体に熱伝導性の良好な銅製の柱状陽極基体１１と、この
陽極基体１１の一端傾斜面に埋設された円板状陽極ター
ゲット１２からなっている。
【０００３】このような陽極基体を製造する方法として
は、従来から２つの方法が実用化されている。即ち、
「キャスティング法」と「ろう接法」である。先ず「キ
ャスティング法」は、第３図に示すようにＭｏ又はＷか
らなる陽極ターゲット１２に対して、銅の陽極基体１１
を溶融させ気密封止するものである。
は、従来から２つの方法が実用化されている。即ち、
「キャスティング法」と「ろう接法」である。先ず「キ
ャスティング法」は、第３図に示すようにＭｏ又はＷか
らなる陽極ターゲット１２に対して、銅の陽極基体１１
を溶融させ気密封止するものである。
【０００４】他方、「ろう接法」は第４図に示すよう
に、予め陽極基体１５の傾斜面に陽極ターゲット１２が
入る凹部１３を形成し、この凹部１３の底面側に適当な
ろう材１４をシート状又は置きろう等を介在させる方法
で、このろう接により陽極ターゲット１２を接合するも
のである。
に、予め陽極基体１５の傾斜面に陽極ターゲット１２が
入る凹部１３を形成し、この凹部１３の底面側に適当な
ろう材１４をシート状又は置きろう等を介在させる方法
で、このろう接により陽極ターゲット１２を接合するも
のである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら，これら
いずれの方法もつぎの欠点を有している。まず，「キャ
スティング法」では、銅材からなる陽極基体１１を高周
波加熱法あるいはバーナー法等により融点以上に温度上
昇させるため、高エネルギーを必要とし、コストアップ
の原因となっている。また、銅材を溶融するルツボ等が
必要でありしかもこれらの耐久性が悪く、陽極基体製作
の経費アップの要因となっている。しかし最大の問題点
は、この手法による陽極基体１１と陽極ターゲット１２
との密着性の低下とその不安定さによる熱伝導性の低下
である。これは銅で構成されている陽極基体１１と高融
点金属（たとえばタングステン等）で構成されている陽
極ターゲット１２の金属同士のなじみ性の問題、すなわ
ち銅−タングステンはもともと濡れ性が悪く互いに合金
層を作らない金属の組合せよよるためである。したがっ
て、このような状況で作製されたＸ線管では少し過大な
負荷が加わればターゲット表面の割れや溶融、極端な場
合にはターゲットの剥がれといった問題となって現れ
る。
いずれの方法もつぎの欠点を有している。まず，「キャ
スティング法」では、銅材からなる陽極基体１１を高周
波加熱法あるいはバーナー法等により融点以上に温度上
昇させるため、高エネルギーを必要とし、コストアップ
の原因となっている。また、銅材を溶融するルツボ等が
必要でありしかもこれらの耐久性が悪く、陽極基体製作
の経費アップの要因となっている。しかし最大の問題点
は、この手法による陽極基体１１と陽極ターゲット１２
との密着性の低下とその不安定さによる熱伝導性の低下
である。これは銅で構成されている陽極基体１１と高融
点金属（たとえばタングステン等）で構成されている陽
極ターゲット１２の金属同士のなじみ性の問題、すなわ
ち銅−タングステンはもともと濡れ性が悪く互いに合金
層を作らない金属の組合せよよるためである。したがっ
て、このような状況で作製されたＸ線管では少し過大な
負荷が加わればターゲット表面の割れや溶融、極端な場
合にはターゲットの剥がれといった問題となって現れ
る。
【０００６】次に「ろう接法」では、ろう接時の気泡発
生が主因となり、繰り返し負荷による熱応力のためター
ゲットの剥がれ、あるいは熱伝導性の低下によるターゲ
ット表面の割れや溶融が発生する。また、本質的にろう
材の融点で最高使用温度が限定されるため、陽極ターゲ
ット１２と陽極基体１５との直接接合に比べて使用限界
温度を低くしなければならない。また、陽極ターゲット
１２と陽極基体１５との隙間の発生が、不純物混入や耐
電圧低下の原因ともなっている。この発明はこのような
問題点を解決するＸ線管用陽極を提供せんとするもので
ある。
生が主因となり、繰り返し負荷による熱応力のためター
ゲットの剥がれ、あるいは熱伝導性の低下によるターゲ
ット表面の割れや溶融が発生する。また、本質的にろう
材の融点で最高使用温度が限定されるため、陽極ターゲ
ット１２と陽極基体１５との直接接合に比べて使用限界
温度を低くしなければならない。また、陽極ターゲット
１２と陽極基体１５との隙間の発生が、不純物混入や耐
電圧低下の原因ともなっている。この発明はこのような
問題点を解決するＸ線管用陽極を提供せんとするもので
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明が提供するＸ線
管用陽極は、熱伝導性の良好な銅からなる陽極基体に対
して，従来から適用されているキャスティング法やろう
接法に変えて，陽極基体に対する陽極ターゲットの接合
を高融点金属の化学的蒸着法すなわちＣＶＤ法により行
わせたものである。また具体的には化学的蒸着法による
固着を良好ならしめるため、陽極基体と陽極ターゲット
との接合部の形状をターゲット面に対して３０〜９０度
の皿取り角度を有した凹部として形成したものである。
管用陽極は、熱伝導性の良好な銅からなる陽極基体に対
して，従来から適用されているキャスティング法やろう
接法に変えて，陽極基体に対する陽極ターゲットの接合
を高融点金属の化学的蒸着法すなわちＣＶＤ法により行
わせたものである。また具体的には化学的蒸着法による
固着を良好ならしめるため、陽極基体と陽極ターゲット
との接合部の形状をターゲット面に対して３０〜９０度
の皿取り角度を有した凹部として形成したものである。
【０００８】さらにこのＸ線管用陽極は、陽極基体の端
面に凹部を形成し、この陽極基体に対して端面を除く外
周面に銅箔を巻き付けた後、陽極ターゲット材料を化学
的蒸着法によって被膜し、その後陽極基体の端面を凹部
陽極ターゲット材料を残して被膜を研磨除去するように
して製作する。
面に凹部を形成し、この陽極基体に対して端面を除く外
周面に銅箔を巻き付けた後、陽極ターゲット材料を化学
的蒸着法によって被膜し、その後陽極基体の端面を凹部
陽極ターゲット材料を残して被膜を研磨除去するように
して製作する。
【０００９】
【作用】本発明の場合、化学的蒸着法すなわちＣＶＤ法
により、銅からなる基体と高融点金属Ｘ線放射層との密
着力が高まり、すなわち、着き回りの良い方法で高融点
金属Ｘ線放射層を設けることになり，タ−ゲットが必要
とする条件である苛酷な熱負荷に対しても安定でしかも
機械的密着強度が高くなり、熱放射性の良好なターゲッ
トが得られる。
により、銅からなる基体と高融点金属Ｘ線放射層との密
着力が高まり、すなわち、着き回りの良い方法で高融点
金属Ｘ線放射層を設けることになり，タ−ゲットが必要
とする条件である苛酷な熱負荷に対しても安定でしかも
機械的密着強度が高くなり、熱放射性の良好なターゲッ
トが得られる。
【００１０】
【実施例】この発明のＸ線管用陽極基体を第１図の断面
図に示す。柱状の陽極基体 1の一端が傾斜面1aに形成さ
れ、この傾斜面1aには円錐台状の凹部 2が形成されてい
る。この凹部 2には、ＣＶＤ（化学気相蒸着法）により
高融点金属の陽極ターゲット 3が形成されている。
図に示す。柱状の陽極基体 1の一端が傾斜面1aに形成さ
れ、この傾斜面1aには円錐台状の凹部 2が形成されてい
る。この凹部 2には、ＣＶＤ（化学気相蒸着法）により
高融点金属の陽極ターゲット 3が形成されている。
【００１１】この発明の一実施例について以下に詳述す
る。第１図に示した凹部２が形成された陽極基体１に後
述するとおりのＣＶＤによってタングステン３を生成さ
せる。生成温度は５００〜７００度の任意の温度に設定
し、ＷＦ6 をＨ2 によって還元することによって銅製の
陽極基体の上にタングステンを生成させる。ガス条件と
しては，たとえばＷＦ6 ＝２００ＣＣＭ、Ｈ2 ＝１００
０ＣＣＭ、全圧０．５〜７６０ｔｏｒｒの任意とした。
このようなタングステン成膜後、機械加工等によってＸ
線管用陽極を製作する。
る。第１図に示した凹部２が形成された陽極基体１に後
述するとおりのＣＶＤによってタングステン３を生成さ
せる。生成温度は５００〜７００度の任意の温度に設定
し、ＷＦ6 をＨ2 によって還元することによって銅製の
陽極基体の上にタングステンを生成させる。ガス条件と
しては，たとえばＷＦ6 ＝２００ＣＣＭ、Ｈ2 ＝１００
０ＣＣＭ、全圧０．５〜７６０ｔｏｒｒの任意とした。
このようなタングステン成膜後、機械加工等によってＸ
線管用陽極を製作する。
【００１２】第２図に上記の方法で得られた、タングス
テン−銅の陽極ターゲットの接合界面の電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）写真と元素分析（ＥＰＭＡ線分析）の結果を示
す。このように本手法では極めて良好に接合されている
ことがわかる。このように接合または界面には他の不純
物が元素は認められず、熱伝導性を低下させたり、長期
信頼性を低下させるようなことはない。
テン−銅の陽極ターゲットの接合界面の電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）写真と元素分析（ＥＰＭＡ線分析）の結果を示
す。このように本手法では極めて良好に接合されている
ことがわかる。このように接合または界面には他の不純
物が元素は認められず、熱伝導性を低下させたり、長期
信頼性を低下させるようなことはない。
【００１３】この発明の有効性を確認するために，本手
法のＣＶＤによる方法と他方は従来法のキャスティング
法とし，得られたターゲットを実際にＸ線管に封じ込め
て試験をした。
法のＣＶＤによる方法と他方は従来法のキャスティング
法とし，得られたターゲットを実際にＸ線管に封じ込め
て試験をした。
【００１４】試験条件としては，透視（長時間入力）を
行う時を想定した条件で熱負荷に対するターゲット面の
荒れ具合を比較した。試験結果は，従来法より約２０％
の長時間最大入力が向上することを確認した。以上によ
って透視時の許容入力を大きくすることができ、Ｘ線画
質を向上することができる。また、６６０Ｗ，２０秒の
大線量透視や同様に高出力が必要な簡易ＤＳＡのような
術式にも対応できるようになった。これは現在の同等機
種のＸ線管では最大のものである。次に、Ｘ線撮影（短
時間最大定格）についても比較したが両者の差は認めら
れなかった。
行う時を想定した条件で熱負荷に対するターゲット面の
荒れ具合を比較した。試験結果は，従来法より約２０％
の長時間最大入力が向上することを確認した。以上によ
って透視時の許容入力を大きくすることができ、Ｘ線画
質を向上することができる。また、６６０Ｗ，２０秒の
大線量透視や同様に高出力が必要な簡易ＤＳＡのような
術式にも対応できるようになった。これは現在の同等機
種のＸ線管では最大のものである。次に、Ｘ線撮影（短
時間最大定格）についても比較したが両者の差は認めら
れなかった。
【００１５】つぎにこの発明のＸ線管用陽極の製造方法
であるが、その特徴は基体の端面部分以外にタングステ
ンが被膜されないよう、円筒部外周面を銅箔でマスキン
グを行いＣＶＤを行う点にある。そしてＣＶＤ後は銅箔
を剥ぎ取ることにより容易に不要部分に膜を付けするこ
となく必要部分のみの被膜が実現する。
であるが、その特徴は基体の端面部分以外にタングステ
ンが被膜されないよう、円筒部外周面を銅箔でマスキン
グを行いＣＶＤを行う点にある。そしてＣＶＤ後は銅箔
を剥ぎ取ることにより容易に不要部分に膜を付けするこ
となく必要部分のみの被膜が実現する。
【００１６】この発明のようにマスクに銅箔を用いる
と，タングステン膜を形成した後膜が生成したマスクを
剥ぐ作業は容易である。ＣＶＤは３００〜８００℃で行
われるため，マスクと銅基材は密着してしまっている。
しかし，ＣＶＤ後の冷却の工程でマスクにタングステン
膜が蒸着するため，基材との間に熱膨張係数差が生じ，
銅箔のマスクを剥がす方向に力が働く。そのため，ＣＶ
Ｄ後の銅箔は容易に剥がれる。ただ、銅箔の厚さがあま
りに薄いとと銅箔マスクとの密着の力が強く容易に剥が
れない。また厚い銅箔では加工性，シール性が悪くな
る。 以下、この発明のＸ線管用陽極基体の具体的な製
造方法を説明する。
と，タングステン膜を形成した後膜が生成したマスクを
剥ぐ作業は容易である。ＣＶＤは３００〜８００℃で行
われるため，マスクと銅基材は密着してしまっている。
しかし，ＣＶＤ後の冷却の工程でマスクにタングステン
膜が蒸着するため，基材との間に熱膨張係数差が生じ，
銅箔のマスクを剥がす方向に力が働く。そのため，ＣＶ
Ｄ後の銅箔は容易に剥がれる。ただ、銅箔の厚さがあま
りに薄いとと銅箔マスクとの密着の力が強く容易に剥が
れない。また厚い銅箔では加工性，シール性が悪くな
る。 以下、この発明のＸ線管用陽極基体の具体的な製
造方法を説明する。
【００１７】まず、銅製の基体１の端面に陽極ターゲッ
トのタングステンを形成する凹部２を形成する。つぎに
銅製の基体１の円筒部外周にマスク用銅箔を巻き付け
る。マスク用銅箔の加工法はその生産量によって異なる
が，少量の場合は，刃物で容易に加工できるし，多量の
場合は，型を用いたプレス成形で加工すれば良い。マス
ク用銅箔は、その上を銅線で縛り、銅箔が外れたり移動
しないようにする。勿論、繰り返し使用する治具を利用
することも可能であるが、膜が付着するため寿命に限度
がある。そのため銅線のような安価な使い捨ての材料が
有利である。以上の準備が完了すると、ＣＶＤ装置の反
応管にマスキングした基体１をセットし、タングステン
膜をＣＶＤ法により生成する。条件は例えば４００〜８
００℃でＷＦ6 ＝１００〜３００ＣＣＭ，Ｈ2 ＝３００
〜１０００ＣＣＭである。そしてＣＶＤ後取り出せる温
度に冷却した後、反応管より取り出してマスク５を剥が
すと端面部分のみにタングステン膜３ＳがＣＶＤ法によ
り生成される。これを機械加工により一定の形状に仕上
げてＸ線管用陽極を作成するのである。
トのタングステンを形成する凹部２を形成する。つぎに
銅製の基体１の円筒部外周にマスク用銅箔を巻き付け
る。マスク用銅箔の加工法はその生産量によって異なる
が，少量の場合は，刃物で容易に加工できるし，多量の
場合は，型を用いたプレス成形で加工すれば良い。マス
ク用銅箔は、その上を銅線で縛り、銅箔が外れたり移動
しないようにする。勿論、繰り返し使用する治具を利用
することも可能であるが、膜が付着するため寿命に限度
がある。そのため銅線のような安価な使い捨ての材料が
有利である。以上の準備が完了すると、ＣＶＤ装置の反
応管にマスキングした基体１をセットし、タングステン
膜をＣＶＤ法により生成する。条件は例えば４００〜８
００℃でＷＦ6 ＝１００〜３００ＣＣＭ，Ｈ2 ＝３００
〜１０００ＣＣＭである。そしてＣＶＤ後取り出せる温
度に冷却した後、反応管より取り出してマスク５を剥が
すと端面部分のみにタングステン膜３ＳがＣＶＤ法によ
り生成される。これを機械加工により一定の形状に仕上
げてＸ線管用陽極を作成するのである。
【００１８】この発明は、Ｘ線管用陽極とその製造方法
に特徴があるが、その内容をまとめるとつぎのとおりで
ある。
に特徴があるが、その内容をまとめるとつぎのとおりで
ある。
【００１９】付記１ 陽極基体の端面に３０〜９０度の皿取り角度を有する凹
部が形成され、この凹部に陽極ターゲット材料が化学的
蒸着法によって直接固着したことを特徴とするＸ線管用
陽極。
部が形成され、この凹部に陽極ターゲット材料が化学的
蒸着法によって直接固着したことを特徴とするＸ線管用
陽極。
【００２０】付記２ 陽極基体の端面に凹部を形成し、この端面を除いた円筒
外周部にマスキングをした後陽極ターゲット材料を化学
的蒸着法によって直接固着させるようにしたことを特徴
とするＸ線管用陽極の製造方法。
外周部にマスキングをした後陽極ターゲット材料を化学
的蒸着法によって直接固着させるようにしたことを特徴
とするＸ線管用陽極の製造方法。
【００２１】付記３ 陽極基体の端面に凹部を形成し、この端面を除いた円筒
外周部に銅薄でマスキングをした後、前記凹部に陽極タ
ーゲット材料をＣＶＤ法によって被膜し、マスキングを
除去した後端面を機械加工して前記陽極基体の陽極ター
ゲット材料のみを残し他の被膜を除去することを特徴と
するＸ線管用陽極の製造方法。
外周部に銅薄でマスキングをした後、前記凹部に陽極タ
ーゲット材料をＣＶＤ法によって被膜し、マスキングを
除去した後端面を機械加工して前記陽極基体の陽極ター
ゲット材料のみを残し他の被膜を除去することを特徴と
するＸ線管用陽極の製造方法。
【００２２】付記４ 陽極基体の端面に３０〜９０度の皿取り角度を有した凹
部を形成し、この端面を除いた円筒外周部に銅薄でマス
キングをした後、前記凹部に陽極ターゲット材料をＣＶ
Ｄ法によって被膜し、マスキングを除去した後端面を機
械加工して前記陽極基体の陽極ターゲット材料のみを残
し他の被膜を除去することを特徴とするＸ線管用陽極の
製造方法。
部を形成し、この端面を除いた円筒外周部に銅薄でマス
キングをした後、前記凹部に陽極ターゲット材料をＣＶ
Ｄ法によって被膜し、マスキングを除去した後端面を機
械加工して前記陽極基体の陽極ターゲット材料のみを残
し他の被膜を除去することを特徴とするＸ線管用陽極の
製造方法。
【００２３】
【発明の効果】本発明に基づく固定陽極（ターゲット）
を装着したＸ線管は医療の分野で診察やＸ線断層撮影に
使用することができる。その中でも特に、小型で軽量な
固定陽極Ｘ線管として外科用手術等に有効に使用でき
る。このように高温使用に対しても耐久性の高いＸ線管
用陽極を提供する。また、特に３０〜９０度の皿取り角
度を有した凹部に陽極ターゲット材料をＣＶＤ法によっ
て被膜するものであり、苛酷な熱負荷や生産工程のガラ
ス封着用コバール材のろう接時（８００〜８５０度Ｃの
加熱）においても陽極基体の銅と陽極ターゲットの高融
点金属の熱膨脹係数差によって発生する熱応力による割
れ等のない信頼性の高いＸ線発生層をもつＸ線管を提供
することができる。
を装着したＸ線管は医療の分野で診察やＸ線断層撮影に
使用することができる。その中でも特に、小型で軽量な
固定陽極Ｘ線管として外科用手術等に有効に使用でき
る。このように高温使用に対しても耐久性の高いＸ線管
用陽極を提供する。また、特に３０〜９０度の皿取り角
度を有した凹部に陽極ターゲット材料をＣＶＤ法によっ
て被膜するものであり、苛酷な熱負荷や生産工程のガラ
ス封着用コバール材のろう接時（８００〜８５０度Ｃの
加熱）においても陽極基体の銅と陽極ターゲットの高融
点金属の熱膨脹係数差によって発生する熱応力による割
れ等のない信頼性の高いＸ線発生層をもつＸ線管を提供
することができる。
【図１】この発明によるＸ線管用陽極の断面を示す図で
ある。
ある。
【図２】この発明によるＸ線管用陽極の特性を示す図で
ある。
ある。
【図３】従来のＸ線管用陽極の特性を示す図である。
【図４】従来のＸ線管用陽極の特性を示す図である。
１…陽極基体 ２…円錐台状の凹部 ３…陽極ターゲット
Claims (1)
- 【請求項１】陽極基体の端面に３０〜９０度の皿取り角
度を有する凹部が形成され、この凹部に陽極ターゲット
材料が化学的蒸着法によって直接固着したことを特徴と
するＸ線管用陽極。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6265757A JPH08129980A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | Ｘ線管用陽極 |
| KR1019950036279A KR100406336B1 (ko) | 1994-10-28 | 1995-10-19 | X선관용양극의제조방법 |
| US08/547,546 US5693363A (en) | 1994-10-28 | 1995-10-24 | Method for producing an anode for an X-ray tube using chemical vapor deposition |
| SG1995001623A SG44330A1 (en) | 1994-10-28 | 1995-10-24 | Anode for an x-ray tube a method of manufacturing the anode and a stationary anode x-ray tube |
| EP95117001A EP0709873B1 (en) | 1994-10-28 | 1995-10-27 | A method of manufacturing the anode of a stationary anode x-ray tube |
| CN95109594A CN1069438C (zh) | 1994-10-28 | 1995-10-27 | X射线管阳极及其制造方法与静止阳极x射线管 |
| DE69504274T DE69504274T2 (de) | 1994-10-28 | 1995-10-27 | Herstellungsverfahren der Anode einer Röntgenröhre mit fester Anode |
| US08/728,198 US5768338A (en) | 1994-10-28 | 1996-10-10 | Anode for an X-ray tube, a method of manufacturing the anode, and a stationary anode X-ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6265757A JPH08129980A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | Ｘ線管用陽極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08129980A true JPH08129980A (ja) | 1996-05-21 |
Family
ID=17421596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6265757A Pending JPH08129980A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | Ｘ線管用陽極 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5693363A (ja) |
| EP (1) | EP0709873B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08129980A (ja) |
| KR (1) | KR100406336B1 (ja) |
| CN (1) | CN1069438C (ja) |
| DE (1) | DE69504274T2 (ja) |
| SG (1) | SG44330A1 (ja) |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6802453B1 (en) * | 1997-06-04 | 2004-10-12 | Sony Corporation | External storage apparatus and control apparatus thereof, and data transmission reception apparatus |
| US6393099B1 (en) * | 1999-09-30 | 2002-05-21 | Varian Medical Systems, Inc. | Stationary anode assembly for X-ray tube |
| US6180357B1 (en) * | 1999-10-08 | 2001-01-30 | Arius Research, Inc. | Individualized patient-specific anti-cancer antibodies |
| RU2195739C2 (ru) * | 2000-02-25 | 2002-12-27 | Государственный научно-исследовательский институт Научно-производственного объединения "Луч" | Анод рентгеновской трубки |
| US6777331B2 (en) * | 2000-03-07 | 2004-08-17 | Simplus Systems Corporation | Multilayered copper structure for improving adhesion property |
| US6829329B1 (en) * | 2002-01-17 | 2004-12-07 | Varian Medical Systems Technologies, Inc. | Target for a stationary anode in an x-ray tube |
| US7180981B2 (en) | 2002-04-08 | 2007-02-20 | Nanodynamics-88, Inc. | High quantum energy efficiency X-ray tube and targets |
| US6882705B2 (en) * | 2002-09-24 | 2005-04-19 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Tungsten composite x-ray target assembly for radiation therapy |
| JP2007504634A (ja) * | 2003-05-30 | 2007-03-01 | コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ．ブイ． | Ｘ線管における強化電子後方散乱 |
| CA2521973C (en) * | 2004-09-29 | 2013-12-10 | Tir Systems Ltd. | System and method for controlling luminaires |
| JP4712727B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2011-06-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線管及びｘ線源 |
| JP4954526B2 (ja) * | 2005-10-07 | 2012-06-20 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線管 |
| US20110135956A1 (en) * | 2009-12-08 | 2011-06-09 | General Electric Company | Method of joining materials, and articles made therewith |
| KR101150778B1 (ko) | 2010-12-02 | 2012-06-14 | 주식회사 쎄크 | 공업용 ｃｔ장비의 ｘ선 튜브장치 |
| CN103337441B (zh) * | 2013-04-27 | 2016-04-27 | 中国人民解放军北京军区总医院 | 基于LaB6纳米材料场发射的X射线管及移动CT扫描仪 |
| CN103340641B (zh) * | 2013-04-27 | 2016-06-08 | 中国人民解放军北京军区总医院 | Ct扫描仪脉冲成像系统及其脉冲成像方法 |
| CN103337442B (zh) * | 2013-04-27 | 2016-06-08 | 中国人民解放军北京军区总医院 | 基于LaB6纳米材料热发射的X射线管及移动CT扫描仪 |
| CN103354200B (zh) * | 2013-04-27 | 2016-04-27 | 中国人民解放军北京军区总医院 | 基于碳纳米管的x射线管及移动ct扫描仪 |
| CN103337443B (zh) * | 2013-04-27 | 2016-05-18 | 中国人民解放军北京军区总医院 | 医学检测用x射线源及移动ct扫描仪 |
| CN103400739B (zh) * | 2013-08-06 | 2016-08-10 | 苏州爱思源光电科技有限公司 | 具有大发射面积场发射复合材料的尖锥阵列冷阴极x光管 |
| CN104470171A (zh) * | 2013-09-18 | 2015-03-25 | 清华大学 | X射线装置以及具有该x射线装置的ct设备 |
| CN103658605B (zh) * | 2013-11-26 | 2016-10-05 | 无锡日联科技有限公司 | 封闭式玻璃x射线固定无氧铜阳极靶的铸造方法及装置 |
| TWI552187B (zh) * | 2014-11-20 | 2016-10-01 | 能資國際股份有限公司 | 冷陰極ｘ射線產生器的封裝結構及其抽真空的方法 |
| FR3044683A1 (fr) | 2015-12-08 | 2017-06-09 | Acerde | Procede de traitement et receptacle de confinement d'une anode de production de rayons x |
| JP7044615B2 (ja) | 2018-04-12 | 2022-03-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線管 |
| CN110303141A (zh) * | 2019-07-10 | 2019-10-08 | 株洲未铼新材料科技有限公司 | 一种x射线管用单晶铜固定阳极靶材及其制备方法 |
| CN110788432B (zh) * | 2019-10-17 | 2022-04-15 | 杭州凯龙医疗器械有限公司 | X射线管阳极钨板钎焊方法 |
| CN113523238A (zh) * | 2020-04-13 | 2021-10-22 | 上海超群无损检测设备有限责任公司 | 一种x射线管钨靶材制造方法 |
| JP7805977B2 (ja) * | 2023-02-24 | 2026-01-26 | キヤノン株式会社 | 構造体、ｘ線発生装置および放熱部の製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1006083B (de) * | 1954-11-08 | 1957-04-11 | Siemens Reiniger Werke Ag | Antikathode fuer eine Roentgenroehre |
| CH494520A (de) * | 1968-12-16 | 1970-07-31 | Siemens Ag | Röntgengerät |
| US3887723A (en) * | 1972-03-22 | 1975-06-03 | Richard B Kaplan | Method of fabrication of composite anode for rotating-anode x-ray tubes |
| US4185365A (en) * | 1978-09-08 | 1980-01-29 | General Electric Company | Method of making stationary anode x-ray tube with brazed anode assembly |
| US4400824A (en) * | 1980-02-12 | 1983-08-23 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | X-Ray tube with single crystalline copper target member |
| US4625324A (en) * | 1983-09-19 | 1986-11-25 | Technicare Corporation | High vacuum rotating anode x-ray tube |
| US4573185A (en) * | 1984-06-27 | 1986-02-25 | General Electric Company | X-Ray tube with low off-focal spot radiation |
| JPS6297240A (ja) * | 1985-10-22 | 1987-05-06 | Toshiba Corp | Ｘ線管用陽極構体及びその製造方法 |
| JPH0731993B2 (ja) * | 1987-03-18 | 1995-04-10 | 株式会社日立製作所 | Ｘ線管用ターゲット及びそれを用いたｘ線管 |
| FR2617332B1 (fr) * | 1987-06-26 | 1995-06-23 | Thomson Cgr | Tube radiogene a faible rayonnement extra-focal |
| US4920012A (en) * | 1989-06-09 | 1990-04-24 | General Electric Company | Articles having coatings of fine-grained and/or equiaxed grain structure |
| JP3277226B2 (ja) * | 1992-07-03 | 2002-04-22 | 株式会社アライドマテリアル | Ｘ線管用回転陽極及びその製造方法 |
-
1994
- 1994-10-28 JP JP6265757A patent/JPH08129980A/ja active Pending
-
1995
- 1995-10-19 KR KR1019950036279A patent/KR100406336B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-24 SG SG1995001623A patent/SG44330A1/en unknown
- 1995-10-24 US US08/547,546 patent/US5693363A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-27 CN CN95109594A patent/CN1069438C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-27 EP EP95117001A patent/EP0709873B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-27 DE DE69504274T patent/DE69504274T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-10 US US08/728,198 patent/US5768338A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0709873A1 (en) | 1996-05-01 |
| US5693363A (en) | 1997-12-02 |
| KR960015636A (ko) | 1996-05-22 |
| KR100406336B1 (ko) | 2004-03-12 |
| CN1121638A (zh) | 1996-05-01 |
| CN1069438C (zh) | 2001-08-08 |
| DE69504274D1 (de) | 1998-10-01 |
| EP0709873B1 (en) | 1998-08-26 |
| DE69504274T2 (de) | 1999-04-22 |
| SG44330A1 (en) | 1997-12-19 |
| US5768338A (en) | 1998-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08129980A (ja) | Ｘ線管用陽極 | |
| JP3813654B2 (ja) | セラミックスの接合構造およびその製造方法 | |
| KR101880789B1 (ko) | 내고온성 복합체의 제조 방법 | |
| US5148463A (en) | Adherent focal track structures for X-ray target anodes having diffusion barrier film therein and method of preparation thereof | |
| JP2010111523A (ja) | 通電体を内蔵するセラミックス部材とその製造方法 | |
| JPH1012270A (ja) | ナトリウム−硫黄電池およびその製作方法 | |
| US5204891A (en) | Focal track structures for X-ray anodes and method of preparation thereof | |
| JPH11278951A (ja) | 接合体の製造方法および接合体 | |
| JP2004203706A (ja) | 異種材料接合体及びその製造方法 | |
| JP3040203B2 (ja) | 高温安定性複合体及びその製法 | |
| US4993054A (en) | Brazed X-ray tube anode assembly | |
| CN1011368B (zh) | X射线管靶 | |
| JPH0753277A (ja) | 黒鉛と金属の接合方法 | |
| JPS6258105B2 (ja) | ||
| US4700882A (en) | Composite rotary anode for X-ray tube and process for preparing the composite | |
| JP2002329470A (ja) | Ｘ線管用回転陽極及びその製造方法 | |
| CN114799460A (zh) | 一种扩散连接制备多层复合阳极基体的方法 | |
| JPS63112095A (ja) | 黒鉛と金属材料との接合材及び接合方法 | |
| JPS5925337B2 (ja) | 電子管格子電極の製造方法 | |
| JPH0987051A (ja) | セラミックスの接合体およびセラミックスの接合方法 | |
| JPS59140914A (ja) | ナツト及びその製造方法 | |
| JPH0448555B2 (ja) | ||
| JPH0771759B2 (ja) | Ｘ線ターゲット用ろう材及びｘ線管回転陽極用複合ターゲット | |
| JPS598252A (ja) | Ｘ線管用回転ターゲットの製造法 | |
| JPS5841615B2 (ja) | 固定陽極型ｘ線管 |