JPH08131838A - 排気ガス浄化用触媒 - Google Patents
排気ガス浄化用触媒Info
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- JPH08131838A JPH08131838A JP6276825A JP27682594A JPH08131838A JP H08131838 A JPH08131838 A JP H08131838A JP 6276825 A JP6276825 A JP 6276825A JP 27682594 A JP27682594 A JP 27682594A JP H08131838 A JPH08131838 A JP H08131838A
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- catalyst
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れたＮＯ浄化能を有する排気ガス浄化用触
媒を提供する。 【構成】 触媒は、Ｐｔを担持したゼオライトと、平均
結晶子径ＤがＤ＜５００ÅであるＣｅＯ2 とを有する。
Ｐｔ担持ゼオライトの配合重量をＡとし、またＣｅＯ2
の配合重量をＢとしたとき、Ｐｔ担持ゼオライトの重量
比率Ａ1 ＝｛Ａ／（Ａ＋Ｂ）｝×１００は１９重量％＜
Ａ1 ＜１００重量％に設定される。Ｐｔ担持ゼオライト
におけるＰｔの重量比率ａ1 は３．５重量％＜ａ1 ＜１
１重量％に設定される。
媒を提供する。 【構成】 触媒は、Ｐｔを担持したゼオライトと、平均
結晶子径ＤがＤ＜５００ÅであるＣｅＯ2 とを有する。
Ｐｔ担持ゼオライトの配合重量をＡとし、またＣｅＯ2
の配合重量をＢとしたとき、Ｐｔ担持ゼオライトの重量
比率Ａ1 ＝｛Ａ／（Ａ＋Ｂ）｝×１００は１９重量％＜
Ａ1 ＜１００重量％に設定される。Ｐｔ担持ゼオライト
におけるＰｔの重量比率ａ1 は３．５重量％＜ａ1 ＜１
１重量％に設定される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は排気ガス浄化用触媒に関
する。
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種触媒としては、ゼオライト
に、触媒用金属であるＰｔをイオン交換法により担持さ
せたものが知られている（特開平３−２３２５３３号公
報参照）。
に、触媒用金属であるＰｔをイオン交換法により担持さ
せたものが知られている（特開平３−２３２５３３号公
報参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の触
媒はＮＯｘ（窒素酸化物）浄化能が未だに低く、この点
改良が望まれていた。
媒はＮＯｘ（窒素酸化物）浄化能が未だに低く、この点
改良が望まれていた。
【０００４】本発明は前記に鑑み、ＮＯｘ吸着能を持た
せることによって、ＮＯｘ浄化能を向上させた前記排気
ガス浄化用触媒を提供することを目的とする。
せることによって、ＮＯｘ浄化能を向上させた前記排気
ガス浄化用触媒を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る排気ガス浄
化用触媒は、Ｐｔを担持したゼオライトと、平均結晶子
径ＤがＤ＜５００ÅであるＣｅＯ2 とを有し、そのＰｔ
担持ゼオライトの配合重量をＡとし、またＣｅＯ2 の配
合重量をＢとしたとき、Ｐｔ担持ゼオライトの重量比率
Ａ1 ＝｛Ａ／（Ａ＋Ｂ）｝×１００を１９重量％＜Ａ1
＜１００重量％に設定し、前記Ｐｔ担持ゼオライトにお
けるＰｔの重量比率ａ1 を３．５重量％＜ａ1 ＜１１重
量％に設定したことを特徴とする。
化用触媒は、Ｐｔを担持したゼオライトと、平均結晶子
径ＤがＤ＜５００ÅであるＣｅＯ2 とを有し、そのＰｔ
担持ゼオライトの配合重量をＡとし、またＣｅＯ2 の配
合重量をＢとしたとき、Ｐｔ担持ゼオライトの重量比率
Ａ1 ＝｛Ａ／（Ａ＋Ｂ）｝×１００を１９重量％＜Ａ1
＜１００重量％に設定し、前記Ｐｔ担持ゼオライトにお
けるＰｔの重量比率ａ1 を３．５重量％＜ａ1 ＜１１重
量％に設定したことを特徴とする。
【０００６】
【作用】Ｐｔは、触媒用金属であって排気ガスに対し酸
化能および還元能を発揮する。
化能および還元能を発揮する。
【０００７】Ｐｔの酸化能はＨＣ（炭化水素）＋Ｏ2 →
Ｈ2 Ｏ＋Ｏ2 およびＣＯ＋Ｏ2 →ＣＯ2 といった酸化反
応に寄与する。
Ｈ2 Ｏ＋Ｏ2 およびＣＯ＋Ｏ2 →ＣＯ2 といった酸化反
応に寄与する。
【０００８】Ｐｔの還元能は、理論空燃比においてはＮ
Ｏｘを吸着してＮＯｘ→Ｎ2 といった還元反応に寄与
し、一方、酸素過剰雰囲気においてはＮＯｘ＋Ｏ2 →Ｎ
Ｏ2 といった酸化反応と、ＮＯ2 ＋ＨＣ＋Ｏ2 →Ｎ2 ＋
ＣＯ2 ＋Ｈ2 Ｏといった還元反応に寄与する。
Ｏｘを吸着してＮＯｘ→Ｎ2 といった還元反応に寄与
し、一方、酸素過剰雰囲気においてはＮＯｘ＋Ｏ2 →Ｎ
Ｏ2 といった酸化反応と、ＮＯ2 ＋ＨＣ＋Ｏ2 →Ｎ2 ＋
ＣＯ2 ＋Ｈ2 Ｏといった還元反応に寄与する。
【０００９】ゼオライトは排気ガス中のＨＣを吸着して
濃縮し、そのＨＣをＰｔに供給する機能を有する。これ
により酸素過剰雰囲気におけるＮＯｘ浄化率を高めるこ
とが可能である。
濃縮し、そのＨＣをＰｔに供給する機能を有する。これ
により酸素過剰雰囲気におけるＮＯｘ浄化率を高めるこ
とが可能である。
【００１０】前記平均結晶子径Ｄを持つＣｅＯ2 は酸素
過剰雰囲気においてＮＯｘ吸着能を発揮するので、Ｐｔ
近傍のＮＯｘ濃度が高められる。これによっても酸素過
剰雰囲気におけるＮＯｘ浄化率を向上させることが可能
である。
過剰雰囲気においてＮＯｘ吸着能を発揮するので、Ｐｔ
近傍のＮＯｘ濃度が高められる。これによっても酸素過
剰雰囲気におけるＮＯｘ浄化率を向上させることが可能
である。
【００１１】ただし、Ｐｔ担持ゼオライトの重量比率Ａ
1 がＡ1 ≦１９重量％ではＰｔ担持ゼオライトのＨＣ吸
着能が減退するためＮＯｘ浄化率が低下し、一方、Ａ1
＝１００％ではＣｅＯ2 によるＮＯｘ吸着能が得られな
いのでＮＯｘ浄化率が低下する。
1 がＡ1 ≦１９重量％ではＰｔ担持ゼオライトのＨＣ吸
着能が減退するためＮＯｘ浄化率が低下し、一方、Ａ1
＝１００％ではＣｅＯ2 によるＮＯｘ吸着能が得られな
いのでＮＯｘ浄化率が低下する。
【００１２】またＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤがＤ≧５０
０Åでは酸素過剰雰囲気におけるＮＯｘ吸着能が減退す
る。
０Åでは酸素過剰雰囲気におけるＮＯｘ吸着能が減退す
る。
【００１３】さらにＰｔの重量比率ａ1 がａ1 ＜３．５
重量％ではＰｔの担持量が少ないためＮＯｘ浄化率が低
下し、一方、ａ1 ＞１１重量％に設定してもＮＯｘ浄化
率は殆ど変わらなくなる。
重量％ではＰｔの担持量が少ないためＮＯｘ浄化率が低
下し、一方、ａ1 ＞１１重量％に設定してもＮＯｘ浄化
率は殆ど変わらなくなる。
【００１４】
【実施例】排気ガス浄化用触媒は、触媒用金属であるＰ
ｔを担持したゼオライトと、平均結晶子径ＤがＤ＜５０
０ÅであるＣｅＯ2 とを有する。そのＰｔ担持ゼオライ
トの配合重量をＡとし、またＣｅＯ2 の配合重量をＢと
したとき、Ｐｔ担持ゼオライトの重量比率Ａ1 ＝｛Ａ／
（Ａ＋Ｂ）｝×１００は１９重量％＜Ａ1 ＜１００重量
％に設定される。またＰｔ担持ゼオライトにおいて、Ｐ
ｔの配合重量をａとし、また前記ゼオライトの配合重量
をｂとしたとき、Ｐｔの重量比率ａ1 ＝｛ａ／（ａ＋
ｂ）｝×１００は３．５重量％≦ａ1 ≦１１重量％に設
定される。
ｔを担持したゼオライトと、平均結晶子径ＤがＤ＜５０
０ÅであるＣｅＯ2 とを有する。そのＰｔ担持ゼオライ
トの配合重量をＡとし、またＣｅＯ2 の配合重量をＢと
したとき、Ｐｔ担持ゼオライトの重量比率Ａ1 ＝｛Ａ／
（Ａ＋Ｂ）｝×１００は１９重量％＜Ａ1 ＜１００重量
％に設定される。またＰｔ担持ゼオライトにおいて、Ｐ
ｔの配合重量をａとし、また前記ゼオライトの配合重量
をｂとしたとき、Ｐｔの重量比率ａ1 ＝｛ａ／（ａ＋
ｂ）｝×１００は３．５重量％≦ａ1 ≦１１重量％に設
定される。
【００１５】Ｐｔ担持ゼオライトは、ゼオライトにＰｔ
を、イオン交換法、真空メッキ法（ＰＶＤ）、含浸法等
により担持させることによって製造される。
を、イオン交換法、真空メッキ法（ＰＶＤ）、含浸法等
により担持させることによって製造される。
【００１６】この場合、イオン交換法を採用すると、Ｐ
ｔをゼオライトに高分散状態で担持させることができ、
これにより含浸法を採用した場合よりもＮＯｘ浄化率、
実施例ではＮＯ浄化率を向上させることが可能である。
ｔをゼオライトに高分散状態で担持させることができ、
これにより含浸法を採用した場合よりもＮＯｘ浄化率、
実施例ではＮＯ浄化率を向上させることが可能である。
【００１７】また真空メッキ法を採用すると、Ｐｔがゼ
オライト表面に担持されるので、Ｐｔと排気ガスとの接
触が良好となり、これによりイオン交換法を採用した場
合よりもＮＯ浄化率を向上させることができる。
オライト表面に担持されるので、Ｐｔと排気ガスとの接
触が良好となり、これによりイオン交換法を採用した場
合よりもＮＯ浄化率を向上させることができる。
【００１８】ゼオライトとしては、比較的良好な耐熱性
を持つＭＦＩ型ゼオライト、例えばＺＳＭ−５ゼオライ
トが用いられる。このＺＳＭ−５ゼオライトは未改質の
ものでもよいが、エンジン運転中の高温排気ガスに対す
る耐熱性を考慮すると、未改質のものに脱Ａｌ処理を施
して得られる改質ＺＳＭ−５ゼオライトが望ましい。
を持つＭＦＩ型ゼオライト、例えばＺＳＭ−５ゼオライ
トが用いられる。このＺＳＭ−５ゼオライトは未改質の
ものでもよいが、エンジン運転中の高温排気ガスに対す
る耐熱性を考慮すると、未改質のものに脱Ａｌ処理を施
して得られる改質ＺＳＭ−５ゼオライトが望ましい。
【００１９】未改質ＺＳＭ−５ゼオライトに対する脱Ａ
ｌ処理としては、酸処理、スチーム処理または沸騰水処
理の少なくとも一つの処理が適用される。
ｌ処理としては、酸処理、スチーム処理または沸騰水処
理の少なくとも一つの処理が適用される。
【００２０】酸処理としては、０．５〜５ＮのＨＣｌ溶
液を７０〜９０℃に昇温し、そのＨＣｌ溶液中に未改質
ＺＳＭ−５ゼオライトを投入して１〜２０時間攪拌す
る、といった方法が採用される。
液を７０〜９０℃に昇温し、そのＨＣｌ溶液中に未改質
ＺＳＭ−５ゼオライトを投入して１〜２０時間攪拌す
る、といった方法が採用される。
【００２１】また沸騰水処理としては、未改質ＺＳＭ−
５ゼオライトに含水処理を施し、その含水状態の未改質
ＺＳＭ−５ゼオライト周りの雰囲気温度を５５０〜６０
０℃まで昇温し、その高温雰囲気下に未改質ＺＳＭ−５
ゼオライトを４時間程度保持する、といった方法が採用
される。
５ゼオライトに含水処理を施し、その含水状態の未改質
ＺＳＭ−５ゼオライト周りの雰囲気温度を５５０〜６０
０℃まで昇温し、その高温雰囲気下に未改質ＺＳＭ−５
ゼオライトを４時間程度保持する、といった方法が採用
される。
【００２２】さらにスチーム処理としては、未改質ＺＳ
Ｍ−５ゼオライトを、１０％程度の水分を含む７５０〜
９００℃の雰囲気下に１０〜２０時間保持する、といっ
た方法が採用される。
Ｍ−５ゼオライトを、１０％程度の水分を含む７５０〜
９００℃の雰囲気下に１０〜２０時間保持する、といっ
た方法が採用される。
【００２３】これら酸処理、沸騰水処理およびスチーム
処理は、単独または２以上組合わせて適用され、また必
要に応じて繰返される。これにより改質ＺＳＭ−５ゼオ
ライトが得られ、そのＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比は２
５〜８００である。
処理は、単独または２以上組合わせて適用され、また必
要に応じて繰返される。これにより改質ＺＳＭ−５ゼオ
ライトが得られ、そのＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比は２
５〜８００である。
【００２４】このような改質ＺＳＭ−５ゼオライトは脱
Ａｌ処理により結晶性の向上が図られ、また熱分解生成
物の核の発生が抑制されているので、その耐熱温度は１
０００℃程度に高められる。
Ａｌ処理により結晶性の向上が図られ、また熱分解生成
物の核の発生が抑制されているので、その耐熱温度は１
０００℃程度に高められる。
【００２５】触媒用金属であるＰｔは、排気ガスに対し
て酸化能および還元能を発揮する。
て酸化能および還元能を発揮する。
【００２６】Ｐｔの酸化能はＨＣ（炭化水素）＋Ｏ2 →
Ｈ2 Ｏ＋Ｏ2 およびＣＯ＋Ｏ2 →ＣＯ2 といった酸化反
応に寄与する。
Ｈ2 Ｏ＋Ｏ2 およびＣＯ＋Ｏ2 →ＣＯ2 といった酸化反
応に寄与する。
【００２７】Ｐｔの還元能は、理論空燃比においてはＮ
Ｏを吸着してＮＯ→Ｎ2 といった還元反応に寄与し、一
方、酸素過剰雰囲気においてはＮＯ＋Ｏ2 →ＮＯ2 とい
った酸化反応と、ＮＯ2 ＋ＨＣ＋Ｏ2 →Ｎ2 ＋ＣＯ2 ＋
Ｈ2 Ｏといった還元反応に寄与する。
Ｏを吸着してＮＯ→Ｎ2 といった還元反応に寄与し、一
方、酸素過剰雰囲気においてはＮＯ＋Ｏ2 →ＮＯ2 とい
った酸化反応と、ＮＯ2 ＋ＨＣ＋Ｏ2 →Ｎ2 ＋ＣＯ2 ＋
Ｈ2 Ｏといった還元反応に寄与する。
【００２８】改質ＺＳＭ−５ゼオライトは脱Ａｌ処理に
よってその疏水性が高められ、また未改質ＺＳＭ−５ゼ
オライトが持つ基本骨格構造を備えている上でＡｌ離脱
による比表面積の拡張が図られていることから、その特
性である吸着能が増進される。このような改質ＺＳＭ−
５ゼオライトは、水分存在下においても排気ガス中のＨ
Ｃに対して良好な吸着能を発揮して濃縮し、そのＨＣを
Ｐｔに供給する機能を発揮する。これにより酸素過剰雰
囲気におけるＮＯ浄化率を高めることが可能である。
よってその疏水性が高められ、また未改質ＺＳＭ−５ゼ
オライトが持つ基本骨格構造を備えている上でＡｌ離脱
による比表面積の拡張が図られていることから、その特
性である吸着能が増進される。このような改質ＺＳＭ−
５ゼオライトは、水分存在下においても排気ガス中のＨ
Ｃに対して良好な吸着能を発揮して濃縮し、そのＨＣを
Ｐｔに供給する機能を発揮する。これにより酸素過剰雰
囲気におけるＮＯ浄化率を高めることが可能である。
【００２９】ＣｅＯ2 は、図１に示すように複数の結晶
子が集合した多結晶粒子であり、その平均結晶子径Ｄは
Ｄ＜５００Å、好ましくはＤ≦３２０Åである。
子が集合した多結晶粒子であり、その平均結晶子径Ｄは
Ｄ＜５００Å、好ましくはＤ≦３２０Åである。
【００３０】ＣｅＯ2 の製造に当っては、炭酸塩、シュ
ウ酸塩、硝酸塩等の種々の塩を、酸素存在下において加
熱する。希土類元素を含まない純粋なＣｅＯ2 を得る場
合には、加熱後のＣｅＯ2 を硝酸にて洗浄する。
ウ酸塩、硝酸塩等の種々の塩を、酸素存在下において加
熱する。希土類元素を含まない純粋なＣｅＯ2 を得る場
合には、加熱後のＣｅＯ2 を硝酸にて洗浄する。
【００３１】平均結晶子径Ｄの制御は、前記製造過程に
おける加熱温度を調節することによって行われる。例え
ば平均結晶子径ＤがＤ＝７８ÅのＣｅＯ2 を得る場合に
は、硝酸塩を約２５０℃で５時間加熱する。また製造後
のＣｅＯ2 に熱処理を施すことによっても、その平均結
晶子径Ｄを制御することができ、例えば、Ｄ＝７８Åの
ＣｅＯ2 に７００℃、３０時間の熱処理を施すと、Ｄ＝
２０５ÅのＣｅＯ2 が得られる。
おける加熱温度を調節することによって行われる。例え
ば平均結晶子径ＤがＤ＝７８ÅのＣｅＯ2 を得る場合に
は、硝酸塩を約２５０℃で５時間加熱する。また製造後
のＣｅＯ2 に熱処理を施すことによっても、その平均結
晶子径Ｄを制御することができ、例えば、Ｄ＝７８Åの
ＣｅＯ2 に７００℃、３０時間の熱処理を施すと、Ｄ＝
２０５ÅのＣｅＯ2 が得られる。
【００３２】結晶子径Ｄ(hkl) の算出にはシュラー式、
即ち、Ｄ(hkl) ＝０．９λ／（β1/2 ・cos θ）を用い
た。ここで、ｈｋｌはミラー指数、λは特性Ｘ線の波長
（Å）、β1/2 は（ｈｋｌ）面の半価幅（ラジアン）、
θはＸ線反射角度である。したがって、ＣｅＯ2 では、
Ｘ線回折図より（１１１）面の半価幅β1/2 を測定する
ことによって各結晶子のＤ(111) を算出し、それらから
平均結晶子径Ｄを求めた。
即ち、Ｄ(hkl) ＝０．９λ／（β1/2 ・cos θ）を用い
た。ここで、ｈｋｌはミラー指数、λは特性Ｘ線の波長
（Å）、β1/2 は（ｈｋｌ）面の半価幅（ラジアン）、
θはＸ線反射角度である。したがって、ＣｅＯ2 では、
Ｘ線回折図より（１１１）面の半価幅β1/2 を測定する
ことによって各結晶子のＤ(111) を算出し、それらから
平均結晶子径Ｄを求めた。
【００３３】ＣｅＯ2 は酸素過剰雰囲気においてＮＯ吸
着能を発揮するので、Ｐｔ近傍のＮＯ濃度が高められ
る。これによっても酸素過剰雰囲気におけるＮＯ浄化率
を向上させることが可能である。
着能を発揮するので、Ｐｔ近傍のＮＯ濃度が高められ
る。これによっても酸素過剰雰囲気におけるＮＯ浄化率
を向上させることが可能である。
【００３４】以下、具体例について説明する。
【００３５】先ず、次のような方法で改質ＺＳＭ−５ゼ
オライトを製造した。 （ａ） ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比＝３０の未改質Ｚ
ＳＭ−５ゼオライトを９０℃の５Ｎ ＨＣｌ溶液中に投
入し、次いで２０時間攪拌を行ってスラリー状物を得
た。 （ｂ） スラリー状物から固形分を濾別し、その固形分
を純水にて、洗浄水のｐＨがｐＨ≧４になるまで洗浄し
た。 （ｃ） 固形分に、大気中、１３０℃、５時間の条件で
乾燥処理を施し、次いで乾燥後の固形分に、大気中、４
００℃、１２時間の焼成処理を施して塊状の改質ＺＳＭ
−５ゼオライトを得た。 （ｄ） 塊状改質ＺＳＭ−５ゼオライトに粉砕処理を施
して粉末状改質ＺＳＭ−５ゼオライトを得た。この改質
ＺＳＭ−５ゼオライトのＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比は
３９であり、したがって脱Ａｌが発生していることが判
る。また改質ＺＳＭ−５ゼオライトの耐熱温度は１００
０℃であった。 〔実施例Ｉ〕 Ａ．触媒の製造 （ａ） ジニトロジアンミン白金２５ｇを２５％アンモ
ニア水１０００mlに加熱下で溶解して白金溶液（Ｐｔ濃
度１．５％）を得た。 （ｂ） 白金溶液に改質ＺＳＭ−５ゼオライト１００ｇ
を加え、９０℃にて１２時間攪拌し、このイオン交換法
によって改質ＺＳＭ−５ゼオライトにＰｔを担持させ
た。 （ｃ） 冷却後、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトを
濾別し、次いで純水により洗浄した。 （ｄ） Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトに、大気
中、１２０℃、３時間の条件で乾燥処理を施し、次いで
乾燥後のＰｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトに、大気
中、４００℃、１２時間の焼成処理を施した。このＰｔ
担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトにおけるＰｔの重量比率
ａ1 はａ1 ＝８．７重量％であった。 （ｅ） Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライト３０ｇ、平
均結晶子径Ｄ＝７８ÅのＣｅＯ2 ６０ｇ、２０％シリカ
ゾル５０ｇおよび純水１８０ｇと、アルミナボールとを
ポットに投入して、１２時間の湿式粉砕を行ってスラリ
ー状触媒を調製した。この場合、触媒の組成は、Ｐｔ担
持改質ＺＳＭ−５ゼオライト３０重量％、ＣｅＯ2 ６０
重量％、ＳｉＯ2 １０重量％である。したがって、Ｐｔ
担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重量比率Ａ1 はＡ1 ≒
３３重量％であり、一方ＣｅＯ2 の重量比率Ｂ1 ＝｛Ｂ
／（Ａ＋Ｂ）｝×１００はＢ1 ≒６７重量％である。
オライトを製造した。 （ａ） ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比＝３０の未改質Ｚ
ＳＭ−５ゼオライトを９０℃の５Ｎ ＨＣｌ溶液中に投
入し、次いで２０時間攪拌を行ってスラリー状物を得
た。 （ｂ） スラリー状物から固形分を濾別し、その固形分
を純水にて、洗浄水のｐＨがｐＨ≧４になるまで洗浄し
た。 （ｃ） 固形分に、大気中、１３０℃、５時間の条件で
乾燥処理を施し、次いで乾燥後の固形分に、大気中、４
００℃、１２時間の焼成処理を施して塊状の改質ＺＳＭ
−５ゼオライトを得た。 （ｄ） 塊状改質ＺＳＭ−５ゼオライトに粉砕処理を施
して粉末状改質ＺＳＭ−５ゼオライトを得た。この改質
ＺＳＭ−５ゼオライトのＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比は
３９であり、したがって脱Ａｌが発生していることが判
る。また改質ＺＳＭ−５ゼオライトの耐熱温度は１００
０℃であった。 〔実施例Ｉ〕 Ａ．触媒の製造 （ａ） ジニトロジアンミン白金２５ｇを２５％アンモ
ニア水１０００mlに加熱下で溶解して白金溶液（Ｐｔ濃
度１．５％）を得た。 （ｂ） 白金溶液に改質ＺＳＭ−５ゼオライト１００ｇ
を加え、９０℃にて１２時間攪拌し、このイオン交換法
によって改質ＺＳＭ−５ゼオライトにＰｔを担持させ
た。 （ｃ） 冷却後、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトを
濾別し、次いで純水により洗浄した。 （ｄ） Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトに、大気
中、１２０℃、３時間の条件で乾燥処理を施し、次いで
乾燥後のＰｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトに、大気
中、４００℃、１２時間の焼成処理を施した。このＰｔ
担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトにおけるＰｔの重量比率
ａ1 はａ1 ＝８．７重量％であった。 （ｅ） Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライト３０ｇ、平
均結晶子径Ｄ＝７８ÅのＣｅＯ2 ６０ｇ、２０％シリカ
ゾル５０ｇおよび純水１８０ｇと、アルミナボールとを
ポットに投入して、１２時間の湿式粉砕を行ってスラリ
ー状触媒を調製した。この場合、触媒の組成は、Ｐｔ担
持改質ＺＳＭ−５ゼオライト３０重量％、ＣｅＯ2 ６０
重量％、ＳｉＯ2 １０重量％である。したがって、Ｐｔ
担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重量比率Ａ1 はＡ1 ≒
３３重量％であり、一方ＣｅＯ2 の重量比率Ｂ1 ＝｛Ｂ
／（Ａ＋Ｂ）｝×１００はＢ1 ≒６７重量％である。
【００３６】このスラリー状触媒に直径２５．５mm、長
さ６０mm、４００セル／in2 ．、６ミルのコージエライ
ト製ハニカム支持体を浸漬し、次いでそのハニカム支持
体をスラリー状触媒より取出して過剰分をエア噴射によ
り除去し、その後ハニカム支持体を１５０℃の加熱下に
１時間保持してスラリー状触媒を乾燥し、さらにハニカ
ム支持体に、大気中、４００℃、１２時間の条件で焼成
処理を施して、触媒をハニカム支持体に保持させた。こ
の場合、ハニカム支持体における触媒の保持量は１５０
ｇ／リットルであった。この触媒を実施例１とする。
さ６０mm、４００セル／in2 ．、６ミルのコージエライ
ト製ハニカム支持体を浸漬し、次いでそのハニカム支持
体をスラリー状触媒より取出して過剰分をエア噴射によ
り除去し、その後ハニカム支持体を１５０℃の加熱下に
１時間保持してスラリー状触媒を乾燥し、さらにハニカ
ム支持体に、大気中、４００℃、１２時間の条件で焼成
処理を施して、触媒をハニカム支持体に保持させた。こ
の場合、ハニカム支持体における触媒の保持量は１５０
ｇ／リットルであった。この触媒を実施例１とする。
【００３７】比較のため、次のような方法で比較例１の
触媒を製造した。 （ａ） 市販の活性アルミナ（γ−アルミナ）９８．５
ｇをヘキサクロロ白金酸溶液２１．４ｇ（Ｐｔ濃度７．
０％）に投入して十分に混合し、次いで固形分を濾別
し、その後固形分に１２０℃、１時間の条件で乾燥処理
を施し、さらに固形分に、大気中、６００℃、１時間の
条件で焼成処理を施してＰｔの重量比率が１．５重量％
の触媒を得た。 （ｂ） 触媒９０ｇ、２０％シリカゾル５０ｇおよびエ
タノール１８０ｇと、アルミナボールとをポットに投入
して、１２時間の湿式粉砕を行ってスラリー状触媒を調
製した。
触媒を製造した。 （ａ） 市販の活性アルミナ（γ−アルミナ）９８．５
ｇをヘキサクロロ白金酸溶液２１．４ｇ（Ｐｔ濃度７．
０％）に投入して十分に混合し、次いで固形分を濾別
し、その後固形分に１２０℃、１時間の条件で乾燥処理
を施し、さらに固形分に、大気中、６００℃、１時間の
条件で焼成処理を施してＰｔの重量比率が１．５重量％
の触媒を得た。 （ｂ） 触媒９０ｇ、２０％シリカゾル５０ｇおよびエ
タノール１８０ｇと、アルミナボールとをポットに投入
して、１２時間の湿式粉砕を行ってスラリー状触媒を調
製した。
【００３８】このスラリー状触媒と前記同様のコージエ
ライト製ハニカム支持体とを用い、前記同様の方法で触
媒をハニカム支持体に保持させた。この場合、ハニカム
支持体における触媒の保持量は前記と同じであり、この
触媒を比較例１とする。 Ｂ．排気ガス想定浄化テスト 理論空燃比Ａ／Ｆ＝１４．６および酸素過剰雰囲気での
空燃比Ａ／Ｆ＝２４．３に対応する排気ガスを想定して
表１に示す組成を備えた二種のテスト用第１，第２ガス
を調製した。
ライト製ハニカム支持体とを用い、前記同様の方法で触
媒をハニカム支持体に保持させた。この場合、ハニカム
支持体における触媒の保持量は前記と同じであり、この
触媒を比較例１とする。 Ｂ．排気ガス想定浄化テスト 理論空燃比Ａ／Ｆ＝１４．６および酸素過剰雰囲気での
空燃比Ａ／Ｆ＝２４．３に対応する排気ガスを想定して
表１に示す組成を備えた二種のテスト用第１，第２ガス
を調製した。
【００３９】
【表１】 浄化テストは、先ず、実施例１の触媒を固定床流通式反
応装置に設置し、次いでその装置内にテスト用第１ガス
を空間速度Ｓ．Ｖ．＝５×１０4 ｈ-1で流通させると共
にテスト用第１ガスの温度を常温より２０℃／min で上
昇させ、所定のガス温度にてＨＣ，ＣＯおよひＮＯの浄
化率を測定した。またテスト用第２ガスを用いて前記と
同様の方法でＨＣ等の浄化率を測定した。さらに同様の
浄化テストを比較例１の触媒についても行った。
応装置に設置し、次いでその装置内にテスト用第１ガス
を空間速度Ｓ．Ｖ．＝５×１０4 ｈ-1で流通させると共
にテスト用第１ガスの温度を常温より２０℃／min で上
昇させ、所定のガス温度にてＨＣ，ＣＯおよひＮＯの浄
化率を測定した。またテスト用第２ガスを用いて前記と
同様の方法でＨＣ等の浄化率を測定した。さらに同様の
浄化テストを比較例１の触媒についても行った。
【００４０】表２はテスト用第１，第２ガスの空燃比Ａ
／Ｆ、測定ガス温度および測定結果を示す。
／Ｆ、測定ガス温度および測定結果を示す。
【００４１】
【表２】 表２から明らかなように、実施例１の触媒はＨＣ等の浄
化率が高く、特に空燃比Ａ／Ｆ＝２４．３といった酸素
過剰雰囲気におけるＮＯ浄化率は比較例１の触媒の約
４．５倍である。これは、両触媒の構成上の相違に起因
する。 〔実施例II〕実施例Ｉにおける実施例１の触媒と同様の
方法で各種触媒を製造した。この場合、Ｐｔ担持改質Ｚ
ＳＭ−５ゼオライトとＣｅＯ2 との合計配合重量は実施
例Ｉにおける実施例１の触媒と同様に９０ｇに設定さ
れ、またハニカム支持体における各触媒の保持量は１５
０ｇ／リットルであった。
化率が高く、特に空燃比Ａ／Ｆ＝２４．３といった酸素
過剰雰囲気におけるＮＯ浄化率は比較例１の触媒の約
４．５倍である。これは、両触媒の構成上の相違に起因
する。 〔実施例II〕実施例Ｉにおける実施例１の触媒と同様の
方法で各種触媒を製造した。この場合、Ｐｔ担持改質Ｚ
ＳＭ−５ゼオライトとＣｅＯ2 との合計配合重量は実施
例Ｉにおける実施例１の触媒と同様に９０ｇに設定さ
れ、またハニカム支持体における各触媒の保持量は１５
０ｇ／リットルであった。
【００４２】表３は、実施例１〜３の触媒と比較例１〜
５の触媒における組成を示し、表４はそれら触媒におけ
る各種重量比率Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平均結晶
子径Ｄ、最大ＮＯ浄化率およびその浄化率が得られると
きのガス温度を示す。
５の触媒における組成を示し、表４はそれら触媒におけ
る各種重量比率Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平均結晶
子径Ｄ、最大ＮＯ浄化率およびその浄化率が得られると
きのガス温度を示す。
【００４３】表３，４においてＰｔ／改ＺＳＭ−５はＰ
ｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトを意味し、これは以下
の表において同じである。これら触媒においては、主と
して、Ｐｔの重量比率ａ1 が変化している。実施例２の
触媒は、実施例Ｉにおける実施例１の触媒に該当する。
なお、比較例３〜５の触媒において、実施例Ｉ、（ｅ）
工程ではＰｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの配合重量
は４５ｇ、２０％シリカゾルのそれは２５ｇ、純水のそ
れは１２０ｇであり、またハニカム支持体における触媒
の保持量は１４８ｇであった。
ｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトを意味し、これは以下
の表において同じである。これら触媒においては、主と
して、Ｐｔの重量比率ａ1 が変化している。実施例２の
触媒は、実施例Ｉにおける実施例１の触媒に該当する。
なお、比較例３〜５の触媒において、実施例Ｉ、（ｅ）
工程ではＰｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの配合重量
は４５ｇ、２０％シリカゾルのそれは２５ｇ、純水のそ
れは１２０ｇであり、またハニカム支持体における触媒
の保持量は１４８ｇであった。
【００４４】浄化テストは、実施例Ｉにおけるテスト用
第２ガス（Ａ／Ｆ＝２４．３）を用いて、実施例Ｉと同
様の方法で行われた。これは後述する他の触媒について
も同じである。
第２ガス（Ａ／Ｆ＝２４．３）を用いて、実施例Ｉと同
様の方法で行われた。これは後述する他の触媒について
も同じである。
【００４５】
【表３】
【００４６】
【表４】 表５は実施例４〜８の触媒と比較例６の触媒における組
成を示し、表６はそれら触媒における各種重量比率
Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平均結晶子径Ｄ、最大Ｎ
Ｏ浄化率およびその浄化率が得られるときのガス温度を
示す。これら触媒においては、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５
ゼオライトの重量比率Ａ1 およびＣｅＯ2 の重量比率Ｂ
1 が変化している。
成を示し、表６はそれら触媒における各種重量比率
Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平均結晶子径Ｄ、最大Ｎ
Ｏ浄化率およびその浄化率が得られるときのガス温度を
示す。これら触媒においては、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５
ゼオライトの重量比率Ａ1 およびＣｅＯ2 の重量比率Ｂ
1 が変化している。
【００４７】
【表５】
【００４８】
【表６】 表７は実施例９〜１１の触媒と比較例７，８の触媒にお
ける組成を示し、表８はそれら触媒における各種重量比
率Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平均結晶子径Ｄ、最大
ＮＯ浄化率およびその浄化率が得られるときのガス温度
を示す。これら触媒においては、ＣｅＯ2 の平均結晶子
径Ｄが変化している。
ける組成を示し、表８はそれら触媒における各種重量比
率Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平均結晶子径Ｄ、最大
ＮＯ浄化率およびその浄化率が得られるときのガス温度
を示す。これら触媒においては、ＣｅＯ2 の平均結晶子
径Ｄが変化している。
【００４９】
【表７】
【００５０】
【表８】 表９は実施例１２，１３の触媒と比較例９〜１１の触媒
における組成を示し、表１０はそれら触媒における各種
重量比率Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平均結晶子径
Ｄ、最大ＮＯ浄化率およびその浄化率が得られるときの
ガス温度を示す。表９，１０において、Ｐｔ／未ＺＳＭ
−５はＰｔ担持未改質ＺＳＭ−５（ＳｉＯ 2 ／Ａｌ2 Ｏ
3 モル比＝３０）を意味する。これら触媒においては、
主としてＰｔの重量比率ａ1 が変化している。
における組成を示し、表１０はそれら触媒における各種
重量比率Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平均結晶子径
Ｄ、最大ＮＯ浄化率およびその浄化率が得られるときの
ガス温度を示す。表９，１０において、Ｐｔ／未ＺＳＭ
−５はＰｔ担持未改質ＺＳＭ−５（ＳｉＯ 2 ／Ａｌ2 Ｏ
3 モル比＝３０）を意味する。これら触媒においては、
主としてＰｔの重量比率ａ1 が変化している。
【００５１】
【表９】
【００５２】
【表１０】 図２は、表４，６に基づいて、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５
ゼオライトの重量比率Ａ1 と最大ＮＯ浄化率との関係を
グラフ化したものである。図中、点４〜８は実施例４〜
８にそれぞれ対応し、また点（５），（６）は比較例
５，６にそれぞれ対応する。
ゼオライトの重量比率Ａ1 と最大ＮＯ浄化率との関係を
グラフ化したものである。図中、点４〜８は実施例４〜
８にそれぞれ対応し、また点（５），（６）は比較例
５，６にそれぞれ対応する。
【００５３】図２および表４，６から明らかなように、
比較例５，６の触媒における最大ＮＯ浄化率の最高値は
比較例５の触媒における３８％であり、したがって実施
例４〜８の触媒のように、Ｐｔの重量比率ａ1 が３．５
重量％＜ａ1 ＜１１重量％、またＣｅＯ2 の平均結晶子
径ＤがＤ＜５００Åにおいて、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５
ゼオライトの重量比率Ａ1 を１９重量％＜Ａ1 ＜１００
重量％に設定することによって最大ＮＯ浄化率ｒを酸素
過剰雰囲気においてｒ＞３８％に向上させることができ
る。図２より、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重
量比率Ａ1 を２９重量％≦Ａ1 ≦８２重量％に設定する
と、最大ＮＯ浄化率ｒをｒ≧５０％といったように一層
向上させることが可能である。
比較例５，６の触媒における最大ＮＯ浄化率の最高値は
比較例５の触媒における３８％であり、したがって実施
例４〜８の触媒のように、Ｐｔの重量比率ａ1 が３．５
重量％＜ａ1 ＜１１重量％、またＣｅＯ2 の平均結晶子
径ＤがＤ＜５００Åにおいて、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５
ゼオライトの重量比率Ａ1 を１９重量％＜Ａ1 ＜１００
重量％に設定することによって最大ＮＯ浄化率ｒを酸素
過剰雰囲気においてｒ＞３８％に向上させることができ
る。図２より、Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重
量比率Ａ1 を２９重量％≦Ａ1 ≦８２重量％に設定する
と、最大ＮＯ浄化率ｒをｒ≧５０％といったように一層
向上させることが可能である。
【００５４】図３は表４，１０に基づき、Ｐｔ担持改
質、未改質ＺＳＭ−５ゼオライトにおけるＰｔの重量比
率ａ1 と最大ＮＯ浄化率との関係をグラフ化したもので
ある。図中、点１〜３，１２，１３は実施例１〜３，１
２，１３にそれぞれ対応し、また点（１）〜（５），
（９）〜（１１）は比較例１〜５，９〜１１にそれぞれ
対応する。
質、未改質ＺＳＭ−５ゼオライトにおけるＰｔの重量比
率ａ1 と最大ＮＯ浄化率との関係をグラフ化したもので
ある。図中、点１〜３，１２，１３は実施例１〜３，１
２，１３にそれぞれ対応し、また点（１）〜（５），
（９）〜（１１）は比較例１〜５，９〜１１にそれぞれ
対応する。
【００５５】図３およ表４，１０から明らかなように比
較例１〜５，９〜１１の触媒における最大ＮＯ浄化率の
最高値は比較例５の触媒における３８％であり、したが
って実施例１〜３，１２，１３の触媒のように、Ｐｔ担
持改質、未改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重量比率Ａ1 が
１９重量％＜Ａ1 ＜１００重量％、またＣｅＯ2 の平均
結晶子径ＤがＤ＜５００Åにおいて、Ｐｔの重量比率ａ
1 を３．５重量％＜ａ 1 ＜１１重量％に設定することに
よって最大ＮＯ浄化率ｒを、酸素過剰雰囲気において、
ｒ＞３８％に向上させることができる。図３より、Ｐｔ
の重量比率ａ1をａ1 ≧６．２重量％に設定すると最大
ＮＯ浄化率ｒをｒ≧５０％に向上させることが可能であ
る。
較例１〜５，９〜１１の触媒における最大ＮＯ浄化率の
最高値は比較例５の触媒における３８％であり、したが
って実施例１〜３，１２，１３の触媒のように、Ｐｔ担
持改質、未改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重量比率Ａ1 が
１９重量％＜Ａ1 ＜１００重量％、またＣｅＯ2 の平均
結晶子径ＤがＤ＜５００Åにおいて、Ｐｔの重量比率ａ
1 を３．５重量％＜ａ 1 ＜１１重量％に設定することに
よって最大ＮＯ浄化率ｒを、酸素過剰雰囲気において、
ｒ＞３８％に向上させることができる。図３より、Ｐｔ
の重量比率ａ1をａ1 ≧６．２重量％に設定すると最大
ＮＯ浄化率ｒをｒ≧５０％に向上させることが可能であ
る。
【００５６】図４は表４，８に基づき、ＣｅＯ2 の平均
結晶子径Ｄと最大ＮＯ浄化率との関係をグラフ化したも
のである。図中、点２，９〜１１は実施例２，９〜１１
にそれぞれ対応し、また点（７），（８）は比較例７，
８にそれぞれ対応する。
結晶子径Ｄと最大ＮＯ浄化率との関係をグラフ化したも
のである。図中、点２，９〜１１は実施例２，９〜１１
にそれぞれ対応し、また点（７），（８）は比較例７，
８にそれぞれ対応する。
【００５７】図４および表４，８から明らかなように比
較例７，８の触媒における最大ＮＯ浄化率の最高値は３
８％であり、したがって実施例２，９〜１１の触媒のよ
うにＰｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重量比率Ａ1
が１９重量％＜Ａ1 ＜１００重量％、またＰｔの重量比
率ａ1 が３．５重量％＜ａ1 ＜１１重量％において、Ｃ
ｅＯ2 の平均結晶子径ＤをＤ＜５００Åに設定すること
によって最大ＮＯ浄化率ｒを、酸素環状雰囲気におい
て、ｒ＞３８％に向上させることができる。図４より、
ＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤをＤ≦３２０Åに設定すると
最大ＮＯ浄化率ｒをｒ≧５０％に向上させることが可能
である。 〔実施例III 〕表１１は、実施例１〜３の触媒と比較例
１，２の触媒における触媒用金属または触媒用金属酸化
物の種類およびそれらの改質ＺＳＭ−５ゼオライトへの
担持法を示す。
較例７，８の触媒における最大ＮＯ浄化率の最高値は３
８％であり、したがって実施例２，９〜１１の触媒のよ
うにＰｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重量比率Ａ1
が１９重量％＜Ａ1 ＜１００重量％、またＰｔの重量比
率ａ1 が３．５重量％＜ａ1 ＜１１重量％において、Ｃ
ｅＯ2 の平均結晶子径ＤをＤ＜５００Åに設定すること
によって最大ＮＯ浄化率ｒを、酸素環状雰囲気におい
て、ｒ＞３８％に向上させることができる。図４より、
ＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤをＤ≦３２０Åに設定すると
最大ＮＯ浄化率ｒをｒ≧５０％に向上させることが可能
である。 〔実施例III 〕表１１は、実施例１〜３の触媒と比較例
１，２の触媒における触媒用金属または触媒用金属酸化
物の種類およびそれらの改質ＺＳＭ−５ゼオライトへの
担持法を示す。
【００５８】
【表１１】 表１１において、「混合」はＣｅＯ2 を添加した状態で
行われた。
行われた。
【００５９】実施例３の触媒において、真空メッキ法
（ＰＶＤ）としてはスパッタリングが適用され、そのス
パッタリングは次のような手順で行われた。 （ａ） 改質ＺＳＭ−５ゼオライトに、大気中、５００
℃、２時間の条件で乾燥処理を施した。 （ｂ） １５０℃に加熱された試料台に改質ＺＳＭ−５
ゼオライトを載せ、チャンバ内を１０-3Torrに減圧し
た。 （ｃ） イオン電流１０ｍＡ、スパッタ時間１０〜１５
分間の条件でＰｔのスパッタリングを行った。 （ｄ） チャンバ内を常圧に戻した後改質ＺＳＭ−５ゼ
オライトをかきまぜた。 （ｅ） 前記（ｂ）〜（ｄ）の操作を５回繰返した。
（ＰＶＤ）としてはスパッタリングが適用され、そのス
パッタリングは次のような手順で行われた。 （ａ） 改質ＺＳＭ−５ゼオライトに、大気中、５００
℃、２時間の条件で乾燥処理を施した。 （ｂ） １５０℃に加熱された試料台に改質ＺＳＭ−５
ゼオライトを載せ、チャンバ内を１０-3Torrに減圧し
た。 （ｃ） イオン電流１０ｍＡ、スパッタ時間１０〜１５
分間の条件でＰｔのスパッタリングを行った。 （ｄ） チャンバ内を常圧に戻した後改質ＺＳＭ−５ゼ
オライトをかきまぜた。 （ｅ） 前記（ｂ）〜（ｄ）の操作を５回繰返した。
【００６０】各触媒は実施例Ｉと同様の方法でハニカム
支持体に保持されており、ハニカム支持体における各触
媒の保持量は１４８ｇ／リットルであった。
支持体に保持されており、ハニカム支持体における各触
媒の保持量は１４８ｇ／リットルであった。
【００６１】表１２は、実施例１〜３の触媒と比較例
１，２の触媒における組成を示し、表１３はそれら触媒
における各種重量比率Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平
均結晶子径Ｄ、最大ＮＯ浄化率およびその浄化率が得ら
れるときのガス温度を示す。
１，２の触媒における組成を示し、表１３はそれら触媒
における各種重量比率Ａ1 ，Ｂ1 ，ａ1 ，ＣｅＯ2 の平
均結晶子径Ｄ、最大ＮＯ浄化率およびその浄化率が得ら
れるときのガス温度を示す。
【００６２】
【表１２】
【００６３】
【表１３】 表１３から明らかなように、実施例１〜３の触媒のごと
く触媒用金属としてＰｔを用いると、ＰｄまたはＰｄＯ
を用いた比較例１，２の触媒に比べて最大ＮＯ浄化率が
向上する。これにより、触媒用金属としてＰｔを用いる
ことの有効性が判明した。
く触媒用金属としてＰｔを用いると、ＰｄまたはＰｄＯ
を用いた比較例１，２の触媒に比べて最大ＮＯ浄化率が
向上する。これにより、触媒用金属としてＰｔを用いる
ことの有効性が判明した。
【００６４】また実施例１，２の触媒を比べると、含浸
法によるＰｔ担持方式を採用しても、或は混合によるＰ
ｔ担持方式を採用してもＮＯ浄化特性等に殆ど差異は生
じないことが判る。
法によるＰｔ担持方式を採用しても、或は混合によるＰ
ｔ担持方式を採用してもＮＯ浄化特性等に殆ど差異は生
じないことが判る。
【００６５】さらに実施例１の触媒と表４のイオン交換
法によるＰｔ担持方式を採用した実施例２の触媒を比べ
ると、ＮＯ浄化特性は後者の方が優れていることが明ら
かである。
法によるＰｔ担持方式を採用した実施例２の触媒を比べ
ると、ＮＯ浄化特性は後者の方が優れていることが明ら
かである。
【００６６】さらに実施例３の触媒と、表４の実施例２
の触媒を比べると、前者の方がＰｔ担持量が少ないにも
拘らず、後者よりもＮＯ浄化特性が優れていることが判
る。
の触媒を比べると、前者の方がＰｔ担持量が少ないにも
拘らず、後者よりもＮＯ浄化特性が優れていることが判
る。
【００６７】
【発明の効果】本発明によれば、前記のように構成する
ことによって、理論空燃比状態においても、また酸素過
剰雰囲気においても優れたＮＯｘ浄化特性を発揮する排
気ガス浄化用触媒を提供することができる。
ことによって、理論空燃比状態においても、また酸素過
剰雰囲気においても優れたＮＯｘ浄化特性を発揮する排
気ガス浄化用触媒を提供することができる。
【図１】ＣｅＯ2 の説明図である。
【図２】Ｐｔ担持改質ＺＳＭ−５ゼオライトの重量比率
Ａ1 と最大ＮＯ浄化率との関係を示すグラフである。
Ａ1 と最大ＮＯ浄化率との関係を示すグラフである。
【図３】Ｐｔ担持改質、未改質ＺＳＭ−５ゼオライトに
おけるＰｔの重量比率ａ1 と最大ＮＯ浄化率との関係を
示すグラフである。
おけるＰｔの重量比率ａ1 と最大ＮＯ浄化率との関係を
示すグラフである。
【図４】ＣｅＯ2 の平均結晶子径Ｄと最大ＮＯ浄化率と
の関係を示すグラフである。
の関係を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中西 義幸 埼玉県和光市中央１丁目４番１号 株式会 社本田技術研究所内 (72)発明者 福田 薫 埼玉県和光市中央１丁目４番１号 株式会 社本田技術研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 Ｐｔを担持したゼオライトと、平均結晶
子径ＤがＤ＜５００ÅであるＣｅＯ2 とを有し、そのＰ
ｔ担持ゼオライトの配合重量をＡとし、またＣｅＯ2 の
配合重量をＢとしたとき、Ｐｔ担持ゼオライトの重量比
率Ａ1 ＝｛Ａ／（Ａ＋Ｂ）｝×１００を１９重量％＜Ａ
1 ＜１００重量％に設定し、前記Ｐｔ担持ゼオライトに
おけるＰｔの重量比率ａ1 を３．５重量％＜ａ1 ＜１１
重量％に設定したことを特徴とする排気ガス浄化用触
媒。 - 【請求項２】 Ｐｔは前記ゼオライトにイオン交換法に
より担持されている、請求項１記載の排気ガス浄化用触
媒。 - 【請求項３】 Ｐｔは前記ゼオライトに真空メッキ法に
より担持されている、請求項１記載の排気ガス浄化用触
媒。 - 【請求項４】 前記ＣｅＯ2 は平均結晶子径ＤがＤ≦３
２０Åである、請求項１，２または３記載の排気ガス浄
化用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6276825A JPH08131838A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 排気ガス浄化用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6276825A JPH08131838A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 排気ガス浄化用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08131838A true JPH08131838A (ja) | 1996-05-28 |
Family
ID=17574932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6276825A Pending JPH08131838A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 排気ガス浄化用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08131838A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0922485A3 (en) * | 1997-12-12 | 2000-02-09 | Mazda Motor Corporation | Combustion engine exhaust purifying catalyst |
| US6355590B1 (en) | 1998-01-21 | 2002-03-12 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Catalyst for purification of exhaust gas |
| WO2002020155A1 (en) * | 2000-09-08 | 2002-03-14 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Absorption/reduction type catalyst for nox removal |
| EP1249266A1 (en) | 1996-04-19 | 2002-10-16 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust gas emission control catalyst |
| EP1310290A1 (en) * | 2001-11-07 | 2003-05-14 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Purification catalyst for exhaust gas |
| CN104475152B (zh) * | 2014-10-09 | 2017-12-22 | 南开大学 | 用于氮氧化物氢气选择催化还原的催化剂及其应用 |
-
1994
- 1994-11-10 JP JP6276825A patent/JPH08131838A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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