JPH08143533A - ハロチオフェノール類の製造方法 - Google Patents
ハロチオフェノール類の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 12
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- -1 halophenyl halogenated methyl sulfide Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 6
- VZXOZSQDJJNBRC-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzenethiol Chemical compound SC1=CC=C(Cl)C=C1 VZXOZSQDJJNBRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N thioanisole Chemical compound CSC1=CC=CC=C1 HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- FTBCOQFMQSTCQQ-UHFFFAOYSA-N 4-bromobenzenethiol Chemical compound SC1=CC=C(Br)C=C1 FTBCOQFMQSTCQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FGBVJFREPSJSNG-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorobenzenethiol Chemical compound SC1=CC=C(Cl)C=C1Cl FGBVJFREPSJSNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 3
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract description 3
- 239000008204 material by function Substances 0.000 abstract description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 5
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- PWOBDMNCYMQTCE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzenethiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1Cl PWOBDMNCYMQTCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOLVGFCNAIAJNR-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-methylbenzenethiol Chemical compound CC1=CC=C(S)C(Cl)=C1 NOLVGFCNAIAJNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGCLPWUBYGOUMV-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC(Cl)=CC=C1S KGCLPWUBYGOUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L copper(ii) bromide Chemical compound [Cu+2].[Br-].[Br-] QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIXXRXGPBFMPFD-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-[(4-chlorophenyl)disulfanyl]benzene Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1SSC1=CC=C(Cl)C=C1 ZIXXRXGPBFMPFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNAYUKHUMFQDAT-UHFFFAOYSA-N 2,4-dibromobenzenethiol Chemical compound SC1=CC=C(Br)C=C1Br CNAYUKHUMFQDAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOOARYARZPXNAL-UHFFFAOYSA-N 2-(Methylthio)phenol Chemical compound CSC1=CC=CC=C1O SOOARYARZPXNAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGIRMPARLVGMPX-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-chlorobenzenethiol Chemical compound NC1=CC(Cl)=CC=C1S NGIRMPARLVGMPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHEVJFMRUJDOHH-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-methoxybenzenethiol Chemical compound COC1=CC=C(S)C(Cl)=C1 MHEVJFMRUJDOHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNURPFVONZPVLA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1Cl MNURPFVONZPVLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMVZDSQHLDGKGV-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzenesulfonyl chloride Chemical compound ClC1=CC=CC=C1S(Cl)(=O)=O KMVZDSQHLDGKGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXOFPUCWZCAFJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanethioic s-acid Chemical compound SC(=O)CC1=CC=CC=C1 IXOFPUCWZCAFJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXTMRIJDNUCPBD-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-4-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=C(S)C(Br)=C1 RXTMRIJDNUCPBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZQDBNWKBKWCFJ-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-chlorobenzenethiol Chemical compound SC1=CC=C(Br)C=C1Cl VZQDBNWKBKWCFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021590 Copper(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021575 Iron(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NJVOZLGKTAPUTQ-UHFFFAOYSA-M fentin chloride Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Sn](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 NJVOZLGKTAPUTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940032296 ferric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229940046149 ferrous bromide Drugs 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- GYCHYNMREWYSKH-UHFFFAOYSA-L iron(ii) bromide Chemical compound [Fe+2].[Br-].[Br-] GYCHYNMREWYSKH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- VHILIAIEEYLJNA-UHFFFAOYSA-N methyl p-tolyl sulfide Chemical compound CSC1=CC=C(C)C=C1 VHILIAIEEYLJNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRWJEUDFKNYSBX-UHFFFAOYSA-N sodium;hypobromite Chemical compound [Na+].Br[O-] CRWJEUDFKNYSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- NBNBICNWNFQDDD-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dibromide Chemical compound BrS(Br)(=O)=O NBNBICNWNFQDDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- FEONEKOZSGPOFN-UHFFFAOYSA-K tribromoiron Chemical compound Br[Fe](Br)Br FEONEKOZSGPOFN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 チオアニソール類をハロゲン化して、一般式
(1)で表わされるハロフェニルハロゲン化メチルスル
フィドとなし、引き続き加水分解して一般式(2)で表
わされるハロチオフェノール類を製造する。 【化1】 (式中、X、YはそれぞれClまたはBrを、Rは水素
原子、水酸基、アミノ基、C1〜C4のアルキル基また
はアルコキシル基を、m、nはそれぞれ1〜3の整数を
表わす。) 【効果】 工業的に安価にかつ容易にハロチオフェノー
ル類が得られる。
(1)で表わされるハロフェニルハロゲン化メチルスル
フィドとなし、引き続き加水分解して一般式(2)で表
わされるハロチオフェノール類を製造する。 【化1】 (式中、X、YはそれぞれClまたはBrを、Rは水素
原子、水酸基、アミノ基、C1〜C4のアルキル基また
はアルコキシル基を、m、nはそれぞれ1〜3の整数を
表わす。) 【効果】 工業的に安価にかつ容易にハロチオフェノー
ル類が得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロチオフェノール類
の新規な製造方法に関する。ハロチオフェノール類は、
医薬、農薬、機能性材料などの原料として有用な化合物
である。
の新規な製造方法に関する。ハロチオフェノール類は、
医薬、農薬、機能性材料などの原料として有用な化合物
である。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来、ハ
ロチオフェノール類の製造方法に関しては、幾つかの方
法が知られている。
ロチオフェノール類の製造方法に関しては、幾つかの方
法が知られている。
【0003】例えば、チオフェノールを塩素化し、その
後、亜鉛等で還元する方法(US3331205)、フ
ェニルチオ酢酸を塩素化後、酸化、還元する方法(US
3296308)、クロロベンゼンスルホニルクロリド
を亜鉛等で還元する方法(US3326981)、クロ
ロベンゼンスルホン酸をリンで還元する方法(DE19
39469)、ジクロロベンゼンを高温下で硫化水素と
反応させる方法(Zh.Org.Khim.11(5)
1132(1975))等が知られている。
後、亜鉛等で還元する方法(US3331205)、フ
ェニルチオ酢酸を塩素化後、酸化、還元する方法(US
3296308)、クロロベンゼンスルホニルクロリド
を亜鉛等で還元する方法(US3326981)、クロ
ロベンゼンスルホン酸をリンで還元する方法(DE19
39469)、ジクロロベンゼンを高温下で硫化水素と
反応させる方法(Zh.Org.Khim.11(5)
1132(1975))等が知られている。
【0004】しかしながら、これらの方法は、塩素化後
に還元等が必要なこと、反応条件が厳しいこと、収率、
生産効率が悪いこと等より、いずれも工業的に製造する
には適した方法とは言い難い。
に還元等が必要なこと、反応条件が厳しいこと、収率、
生産効率が悪いこと等より、いずれも工業的に製造する
には適した方法とは言い難い。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記欠点
を排除して、工業的に安価にかつ容易にハロチオフェノ
ール類を製造する方法を提供すべく鋭意検討した。
を排除して、工業的に安価にかつ容易にハロチオフェノ
ール類を製造する方法を提供すべく鋭意検討した。
【0006】その結果、工業的に安価に供給されている
チオアニソール類を原料として用いる方法を見出すに至
った。すなわち、請求項1の発明は、下記のように、チ
オアニソール類をハロゲン化して、一般式(1)で表わ
されるハロフェニルハロゲン化メチルスルフィドとな
し、引き続き加水分解することを特徴とする一般式
(2)で表わされるハロチオフェノール類の製造方法で
ある。
チオアニソール類を原料として用いる方法を見出すに至
った。すなわち、請求項1の発明は、下記のように、チ
オアニソール類をハロゲン化して、一般式(1)で表わ
されるハロフェニルハロゲン化メチルスルフィドとな
し、引き続き加水分解することを特徴とする一般式
(2)で表わされるハロチオフェノール類の製造方法で
ある。
【化3】 (式中、X、YはそれぞれClまたはBrを、Rは水素
原子、水酸基、アミノ基、C1〜C4のアルキル基また
はアルコキシル基を、m、nはそれぞれ1〜3の整数を
表わす。)
原子、水酸基、アミノ基、C1〜C4のアルキル基また
はアルコキシル基を、m、nはそれぞれ1〜3の整数を
表わす。)
【0007】本発明によるハロチオフェノール類の製造
方法の特徴は、工業的に安価なチオアニソール類を原料
として用い、これをハロゲン化して、一般式(1)で表
わされるハロフェニルハロゲン化メチルスルフィドとな
し、引き続き加水分解することにより、一般式(2)で
表わされるハロチオフェノール類を容易にかつ収率よく
製造することができる点にある。
方法の特徴は、工業的に安価なチオアニソール類を原料
として用い、これをハロゲン化して、一般式(1)で表
わされるハロフェニルハロゲン化メチルスルフィドとな
し、引き続き加水分解することにより、一般式(2)で
表わされるハロチオフェノール類を容易にかつ収率よく
製造することができる点にある。
【0008】さらに、上記工程において、加水分解後に
酸化工程を加えることにより、一般式(3)で表わされ
るハロジフェニルジスルフィド類を製造することも可能
である(請求項13の発明)。
酸化工程を加えることにより、一般式(3)で表わされ
るハロジフェニルジスルフィド類を製造することも可能
である(請求項13の発明)。
【化4】 (式中、YはClまたはBrを、Rは水素原子、水酸
基、アミノ基、C1〜C4のアルキル基またはアルコキ
シル基を、nは1〜3の整数を表わす。)
基、アミノ基、C1〜C4のアルキル基またはアルコキ
シル基を、nは1〜3の整数を表わす。)
【0009】以下、本願発明を順次、具体的に説明す
る。
る。
【0010】チオアニソール類をハロゲン化して、一般
式(1)で表わされるハロフェニルハロゲン化メチルス
ルフィドとする際のハロゲン化剤としては、目的とする
化合物により異なるが、塩素、塩化スルフリル、臭素、
臭化スルフリル等を使用することができる。また、目的
に応じ、始めに臭素を用い、引き続き塩素を用いるな
ど、幾つかのハロゲン化剤を併用することが可能であ
る。
式(1)で表わされるハロフェニルハロゲン化メチルス
ルフィドとする際のハロゲン化剤としては、目的とする
化合物により異なるが、塩素、塩化スルフリル、臭素、
臭化スルフリル等を使用することができる。また、目的
に応じ、始めに臭素を用い、引き続き塩素を用いるな
ど、幾つかのハロゲン化剤を併用することが可能であ
る。
【0011】ハロゲン化剤の使用量は、目的とする化合
物により異なる。すなわち、一般式(1)で表わされる
ハロフェニルハロゲン化メチルスルフィドにおいて、
X、YがClまたはBrであり、nが1、2または3の
場合がある。また、一般式(1)のmが1、2または3
の場合がある。この際、次工程の加水分解反応を円滑に
進行させるためには、mが2または3が推奨される。し
たがって、全ハロゲン化剤の使用量は、目的とする化合
物に応じ、チオアニソール類に対して3〜7倍モルの範
囲から選択される。
物により異なる。すなわち、一般式(1)で表わされる
ハロフェニルハロゲン化メチルスルフィドにおいて、
X、YがClまたはBrであり、nが1、2または3の
場合がある。また、一般式(1)のmが1、2または3
の場合がある。この際、次工程の加水分解反応を円滑に
進行させるためには、mが2または3が推奨される。し
たがって、全ハロゲン化剤の使用量は、目的とする化合
物に応じ、チオアニソール類に対して3〜7倍モルの範
囲から選択される。
【0012】ハロゲン化に際しては、触媒を用いると反
応が円滑に進行する場合が多い。触媒としては、塩化第
1鉄、塩化第2鉄、臭化第1鉄、臭化第2鉄、塩化第1
銅、塩化第2銅、臭化第1銅、臭化第2銅、塩化亜鉛、
塩化アルミニウム、塩化ニッケル、塩化リチウム、塩化
スズ、塩化アンチモン、ジエチルアルミニウムクロライ
ド、ジブチルスズジクロライド、トリフェニルスズクロ
ライド等のルイス酸、鉄、銅、亜鉛等の金属類等を使用
することができるが、中でも鉄、塩化鉄、塩化アルミニ
ウムを用いると、好結果が得られる。触媒の使用量は、
特に限定されるものではないが、通常、チオアニソール
類に対して約0.05〜約5重量%である。
応が円滑に進行する場合が多い。触媒としては、塩化第
1鉄、塩化第2鉄、臭化第1鉄、臭化第2鉄、塩化第1
銅、塩化第2銅、臭化第1銅、臭化第2銅、塩化亜鉛、
塩化アルミニウム、塩化ニッケル、塩化リチウム、塩化
スズ、塩化アンチモン、ジエチルアルミニウムクロライ
ド、ジブチルスズジクロライド、トリフェニルスズクロ
ライド等のルイス酸、鉄、銅、亜鉛等の金属類等を使用
することができるが、中でも鉄、塩化鉄、塩化アルミニ
ウムを用いると、好結果が得られる。触媒の使用量は、
特に限定されるものではないが、通常、チオアニソール
類に対して約0.05〜約5重量%である。
【0013】ハロゲン化の反応温度は、通常、約−20
〜約80℃、好ましくは約−5〜約30℃の範囲であ
る。反応温度が低すぎると反応速度が遅く、逆に高すぎ
ると副反応が起こり収率低下の原因となる。
〜約80℃、好ましくは約−5〜約30℃の範囲であ
る。反応温度が低すぎると反応速度が遅く、逆に高すぎ
ると副反応が起こり収率低下の原因となる。
【0014】溶媒は、特に限定されるものではなく、無
溶媒反応も可能であるが、例えば、ヘキサン、シクロヘ
キサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジクロロエタン、ジ
クロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等の芳香族炭化
水素類を挙げることができる。溶媒を用いる場合、その
使用量は、特に限定されるものではないが、通常、チオ
アニソール類に対して0.1〜10倍重量である。
溶媒反応も可能であるが、例えば、ヘキサン、シクロヘ
キサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジクロロエタン、ジ
クロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等の芳香族炭化
水素類を挙げることができる。溶媒を用いる場合、その
使用量は、特に限定されるものではないが、通常、チオ
アニソール類に対して0.1〜10倍重量である。
【0015】このようにして得られた一般式(1)で表
わされるハロフェニルハロゲン化メチルスルフィドは、
単離することも可能であるが、単離せずに反応液のまま
加水分解工程に用いることが可能である。
わされるハロフェニルハロゲン化メチルスルフィドは、
単離することも可能であるが、単離せずに反応液のまま
加水分解工程に用いることが可能である。
【0016】加水分解は、単に水を加え、加熱すること
により、容易に進行し、目的とする一般式(2)で表わ
されるハロチオフェノール類に導くことができる。この
際、アルコール、特に低級アルコールを添加すると、加
水分解反応が円滑に進行する。低級アルコールとして
は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−
プロパノール、イソブタノール、n−ブタノール、se
c−ブタノール等を挙げることができる。中でも、メタ
ノールが経済性の点より好ましい。アルコールの使用量
は、特に限定されるものではないが、通常、チオアニソ
ールに対して0.5〜10倍重量である。
により、容易に進行し、目的とする一般式(2)で表わ
されるハロチオフェノール類に導くことができる。この
際、アルコール、特に低級アルコールを添加すると、加
水分解反応が円滑に進行する。低級アルコールとして
は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−
プロパノール、イソブタノール、n−ブタノール、se
c−ブタノール等を挙げることができる。中でも、メタ
ノールが経済性の点より好ましい。アルコールの使用量
は、特に限定されるものではないが、通常、チオアニソ
ールに対して0.5〜10倍重量である。
【0017】反応温度は、通常、約20〜100℃、好
ましくは約50〜90℃の範囲である。反応温度が低す
ぎると反応速度が遅く、逆に高すぎると副反応が起こり
収率低下の原因となる。反応時間は、通常、約1〜10
時間の範囲である。
ましくは約50〜90℃の範囲である。反応温度が低す
ぎると反応速度が遅く、逆に高すぎると副反応が起こり
収率低下の原因となる。反応時間は、通常、約1〜10
時間の範囲である。
【0018】このようにして生成したハロチオフェノー
ル類は、常法の蒸留、晶析により単離することができ
る。
ル類は、常法の蒸留、晶析により単離することができ
る。
【0019】本発明で得られるハロチオフェノール類と
しては、4−クロロチオフェノール、2−クロロチオフ
ェノール、2,4−ジクロロチオフェノール、2,4,
6−トリクロロチオフェノール、4−ブロモチオフェノ
ール、2,4−ジブロモチオフェノール、4−ブロモ−
2−クロロチオフェノール、2−クロロ−4−メチルチ
オフェノール、2−ブロモ−4−ヒドロキシチオフェノ
ール、2−クロロ−4−メトキシチオフェノール、4−
クロロ−2−ヒドロキシチオフェノール、2−アミノ−
4−クロロチオフェノール等を挙げることができる。
しては、4−クロロチオフェノール、2−クロロチオフ
ェノール、2,4−ジクロロチオフェノール、2,4,
6−トリクロロチオフェノール、4−ブロモチオフェノ
ール、2,4−ジブロモチオフェノール、4−ブロモ−
2−クロロチオフェノール、2−クロロ−4−メチルチ
オフェノール、2−ブロモ−4−ヒドロキシチオフェノ
ール、2−クロロ−4−メトキシチオフェノール、4−
クロロ−2−ヒドロキシチオフェノール、2−アミノ−
4−クロロチオフェノール等を挙げることができる。
【0020】また、一般式(3)で表わされるハロジフ
ェニルジスルフィド類を目的物として得る場合、上述し
た加水分解後に酸化工程を加えることにより、容易に目
的を達する。すなわち、加水分解後に酸化剤を加えれば
よい。
ェニルジスルフィド類を目的物として得る場合、上述し
た加水分解後に酸化工程を加えることにより、容易に目
的を達する。すなわち、加水分解後に酸化剤を加えれば
よい。
【0021】酸化剤は、特に特殊なものは必要ではな
く、通常知られているものが使用できる。酸化法として
は、例えば、酸素酸化、空気酸化、塩素、臭素等による
ハロゲン酸化、過酸化水素、過酢酸等の過酸化物による
酸化、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸ナトリウム等
の次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩による酸化等を挙げる
ことができる。
く、通常知られているものが使用できる。酸化法として
は、例えば、酸素酸化、空気酸化、塩素、臭素等による
ハロゲン酸化、過酸化水素、過酢酸等の過酸化物による
酸化、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸ナトリウム等
の次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩による酸化等を挙げる
ことができる。
【0022】反応温度は、通常、約0〜100℃、好ま
しくは約10〜80℃の範囲である。反応温度が低すぎ
ると反応速度が遅く、逆に高すぎると副反応が起こり収
率低下の原因となる。反応時間は、通常、約0.5〜1
0時間の範囲である。
しくは約10〜80℃の範囲である。反応温度が低すぎ
ると反応速度が遅く、逆に高すぎると副反応が起こり収
率低下の原因となる。反応時間は、通常、約0.5〜1
0時間の範囲である。
【0023】このようにして生成したハロジフェニルジ
スルフィド類は、晶析等により単離することができる。
スルフィド類は、晶析等により単離することができる。
【0024】本発明で得られるハロジフェニルジスルフ
ィド類としては、上述したハロチオフェノール類を酸化
したジスルフィド類等を挙げることができる。
ィド類としては、上述したハロチオフェノール類を酸化
したジスルフィド類等を挙げることができる。
【0025】
【実施例】以下に、実施例により本願発明をさらに詳し
く説明するが、本願発明は、これら実施例に何等限定さ
れるものではない。
く説明するが、本願発明は、これら実施例に何等限定さ
れるものではない。
【0026】実施例1 撹拌機、温度計、冷却管およびガス導入管を備えた1リ
ットル四つ口フラスコに、チオアニソール124g
(1.00モル)、モノクロロベンゼン250gおよび
塩化第2鉄1.2gを仕込み、5℃で4時間かけて塩素
233g(3.28モル)を吹き込んだ。その後、水2
0gおよびメタノール64gを加え、70℃で5時間加
熱し、加水分解を終了した。反応終了後、水50gを加
え、モノクロロベンゼン層を分離した。モノクロロベン
ゼン層を水洗し、硫酸マグネシウムで脱水した後、モノ
クロロベンゼンを留去して粗クロロチオフェノールを得
た。得られた粗クロロチオフェノールを蒸留により精製
分離し、4−クロロチオフェノール109gと2−クロ
ロチオフェノール21gを得た。収率は、チオアニソー
ルに対し、それぞれ75.4%、14.5%であった。
ットル四つ口フラスコに、チオアニソール124g
(1.00モル)、モノクロロベンゼン250gおよび
塩化第2鉄1.2gを仕込み、5℃で4時間かけて塩素
233g(3.28モル)を吹き込んだ。その後、水2
0gおよびメタノール64gを加え、70℃で5時間加
熱し、加水分解を終了した。反応終了後、水50gを加
え、モノクロロベンゼン層を分離した。モノクロロベン
ゼン層を水洗し、硫酸マグネシウムで脱水した後、モノ
クロロベンゼンを留去して粗クロロチオフェノールを得
た。得られた粗クロロチオフェノールを蒸留により精製
分離し、4−クロロチオフェノール109gと2−クロ
ロチオフェノール21gを得た。収率は、チオアニソー
ルに対し、それぞれ75.4%、14.5%であった。
【0027】実施例2 撹拌機、温度計、冷却管およびガス導入管を備えた1リ
ットル四つ口フラスコに、チオアニソール124g
(1.00モル)、モノクロロベンゼン250gおよび
塩化第2鉄1.2gを仕込み、5℃で4時間かけて塩素
233g(3.28モル)を吹き込んだ。その後、水2
0gおよびメタノール64gを加え、70℃で5時間加
熱し、加水分解を終了した。反応終了後、水50gを加
え、モノクロロベンゼン層を分離した。次に、モノクロ
ロベンゼン層に20%水酸化ナトリウム水溶液を加え、
水層に生成物を抽出した後、水層を分離した。さらに、
水層に濃塩酸を加え、析出した結晶を濾過、洗浄、乾燥
し、4−クロロチオフェノール105gを得た。収率
は、チオアニソールに対し、72.7%であった。
ットル四つ口フラスコに、チオアニソール124g
(1.00モル)、モノクロロベンゼン250gおよび
塩化第2鉄1.2gを仕込み、5℃で4時間かけて塩素
233g(3.28モル)を吹き込んだ。その後、水2
0gおよびメタノール64gを加え、70℃で5時間加
熱し、加水分解を終了した。反応終了後、水50gを加
え、モノクロロベンゼン層を分離した。次に、モノクロ
ロベンゼン層に20%水酸化ナトリウム水溶液を加え、
水層に生成物を抽出した後、水層を分離した。さらに、
水層に濃塩酸を加え、析出した結晶を濾過、洗浄、乾燥
し、4−クロロチオフェノール105gを得た。収率
は、チオアニソールに対し、72.7%であった。
【0028】実施例3 出発原料を4−メチルチオアニソール138g(1.0
0モル)に変更する以外は、実施例2と同様の操作を行
ない、2−クロロ−4−メチルチオフェノール147g
を得た。収率は、チオアニソールに対し、92.7%で
あった。
0モル)に変更する以外は、実施例2と同様の操作を行
ない、2−クロロ−4−メチルチオフェノール147g
を得た。収率は、チオアニソールに対し、92.7%で
あった。
【0029】実施例4 出発原料を2−ヒドロキシチオアニソール140g
(1.00モル)に変更する以外は、実施例2と同様の
操作を行ない、4−クロロ−2−ヒドロキシチオフェノ
ール151gを得た。収率は、チオアニソールに対し、
94.1%であった。
(1.00モル)に変更する以外は、実施例2と同様の
操作を行ない、4−クロロ−2−ヒドロキシチオフェノ
ール151gを得た。収率は、チオアニソールに対し、
94.1%であった。
【0030】実施例5 45℃で6時間かけて塩素342g(4.82モル)を
吹き込む以外は、実施例2と同様の操作を行ない、2,
4−ジクロロチオフェノール158gを得た。収率は、
チオアニソールに対し、88.3%であった。
吹き込む以外は、実施例2と同様の操作を行ない、2,
4−ジクロロチオフェノール158gを得た。収率は、
チオアニソールに対し、88.3%であった。
【0031】実施例6 撹拌機、温度計、冷却管および滴下ロートを備えた1リ
ットル四つ口フラスコに、チオアニソール124g
(1.00モル)、モノクロロベンゼン250gおよび
塩化第2鉄1.2gを仕込み、0℃で2時間かけて臭素
168g(1.05モル)を滴下した。さらに、同温度
で4時間かけて塩素157g(2.21モル)を吹き込
んだ。その後、実施例2と同様の操作を行ない、4−ブ
ロモチオフェノール173gを得た。収率は、チオアニ
ソールに対し、91.5%であった。
ットル四つ口フラスコに、チオアニソール124g
(1.00モル)、モノクロロベンゼン250gおよび
塩化第2鉄1.2gを仕込み、0℃で2時間かけて臭素
168g(1.05モル)を滴下した。さらに、同温度
で4時間かけて塩素157g(2.21モル)を吹き込
んだ。その後、実施例2と同様の操作を行ない、4−ブ
ロモチオフェノール173gを得た。収率は、チオアニ
ソールに対し、91.5%であった。
【0032】実施例7 撹拌機、温度計、冷却管およびガス導入管を備えた1リ
ットル四つ口フラスコに、チオアニソール124g
(1.00モル)、モノクロロベンゼン250gおよび
塩化第2鉄1.2gを仕込み、5℃で4時間かけて塩素
233g(3.28モル)を吹き込んだ。その後、水2
0gおよびメタノール64gを加え、70℃で5時間加
熱し、加水分解を終了した。次に、40℃で20%過酸
化水素水170gを加え、同温度で3時間撹拌した。反
応終了後、モノクロロベンゼン層を分離し、モノクロロ
ベンゼンを留去した。その後、メタノールから再結晶す
ることにより、4,4′−ジクロロジフェニルジスルフ
ィド105gを得た。収率は、チオアニソールに対し、
73.2%であった。
ットル四つ口フラスコに、チオアニソール124g
(1.00モル)、モノクロロベンゼン250gおよび
塩化第2鉄1.2gを仕込み、5℃で4時間かけて塩素
233g(3.28モル)を吹き込んだ。その後、水2
0gおよびメタノール64gを加え、70℃で5時間加
熱し、加水分解を終了した。次に、40℃で20%過酸
化水素水170gを加え、同温度で3時間撹拌した。反
応終了後、モノクロロベンゼン層を分離し、モノクロロ
ベンゼンを留去した。その後、メタノールから再結晶す
ることにより、4,4′−ジクロロジフェニルジスルフ
ィド105gを得た。収率は、チオアニソールに対し、
73.2%であった。
【0033】
【発明の効果】本発明の方法は、医薬、農薬の中間体等
として有用なハロチオフェノール類およびハロジフェニ
ルジスルフィド類の新規な製造方法を提供するものであ
る。本発明の方法を採用すると、工業的に安価なチオア
ニソール類を、ハロゲン化、加水分解、酸化することに
より、簡単なプロセスで、高収率で目的物が得られる。
したがって、経済的、工業的価値が極めて大きい。
として有用なハロチオフェノール類およびハロジフェニ
ルジスルフィド類の新規な製造方法を提供するものであ
る。本発明の方法を採用すると、工業的に安価なチオア
ニソール類を、ハロゲン化、加水分解、酸化することに
より、簡単なプロセスで、高収率で目的物が得られる。
したがって、経済的、工業的価値が極めて大きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 323/34 7419−4H 323/37 7419−4H // C07B 61/00 300 (72)発明者 山下 和良 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の1 住 友精化株式会社第1研究所内
Claims (13)
- 【請求項1】 チオアニソール類をハロゲン化して、一
般式(1)で表わされるハロフェニルハロゲン化メチル
スルフィドとなし、引き続き加水分解することを特徴と
する一般式(2)で表わされるハロチオフェノール類の
製造方法。 【化1】 (式中、X、YはそれぞれClまたはBrを、Rは水素
原子、水酸基、アミノ基、C1〜C4のアルキル基また
はアルコキシル基を、m、nはそれぞれ1〜3の整数を
表わす。) - 【請求項2】 触媒の存在下にハロゲン化することを特
徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 触媒がルイス酸である請求項2に記載の
方法。 - 【請求項4】 ルイス酸が塩化鉄または塩化アルミニウ
ムである請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 低級アルコールの存在下に加水分解する
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の
方法。 - 【請求項6】 低級アルコールがメタノールである請求
項5に記載の方法。 - 【請求項7】 ハロゲン化に塩素を用いる請求項1〜6
のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項8】 一般式(1)のmが2または3である請
求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項9】 一般式(1)のnが1または2である請
求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項10】 ハロチオフェノール類が4−クロロチ
オフェノールである請求項1〜9のいずれか1項に記載
の方法。 - 【請求項11】 ハロチオフェノール類が2,4−ジク
ロロチオフェノールである請求項1〜9のいずれか1項
に記載の方法。 - 【請求項12】 ハロチオフェノール類が4−ブロモチ
オフェノールである請求項1〜6のいずれか1項に記載
の方法。 - 【請求項13】 チオアニソール類をハロゲン化して、
一般式(1)で表わされるハロフェニルハロゲン化メチ
ルスルフィドとなし、引き続き加水分解し、さらに酸化
することを特徴とする一般式(3)で表わされるハロジ
フェニルジスルフィド類の製造方法。 【化2】 (式中、X、YはそれぞれClまたはBrを、Rは水素
原子、水酸基、アミノ基、C1〜C4のアルキル基また
はアルコキシル基を、m、nはそれぞれ1〜3の整数を
表わす。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6289764A JPH08143533A (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | ハロチオフェノール類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6289764A JPH08143533A (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | ハロチオフェノール類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08143533A true JPH08143533A (ja) | 1996-06-04 |
Family
ID=17747458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6289764A Withdrawn JPH08143533A (ja) | 1994-11-24 | 1994-11-24 | ハロチオフェノール類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08143533A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000014060A1 (en) * | 1998-09-09 | 2000-03-16 | Nippon Finechemical Co., Ltd. | Process for the preparation of aromatic sulfur compounds |
| WO2001081299A1 (en) * | 2000-04-26 | 2001-11-01 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Process for producing bishalophenyl disulfide |
| US6444853B1 (en) | 1999-08-12 | 2002-09-03 | Nippon Finechemical Co., Ltd. | Process for producing aromatic disulfides |
| EP2210884A2 (en) | 2005-03-28 | 2010-07-28 | Toyama Chemical Co., Ltd. | Process for production of 1-(3-(2-(1-benzothiophen-5-yl)-ethoxy)propionic acid and 1-(3-(2-(1-benzothiophen-5-yl)-ethoxy)propyl)azetidin-3-ol as well as salts thereof |
| JP2011213711A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-27 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ジメルカプトジアリールスルホン化合物の製造方法 |
| US9040724B2 (en) | 2010-03-18 | 2015-05-26 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
| US9365507B2 (en) | 2010-03-18 | 2016-06-14 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
-
1994
- 1994-11-24 JP JP6289764A patent/JPH08143533A/ja not_active Withdrawn
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| EP2248809A1 (en) | 2005-03-28 | 2010-11-10 | Toyama Chemical Co., Ltd. | Alkyl-3-[2-(benzo[b]thiophen-5-yl)-ethoxy]-propanoates as intermediates in the production of Azetidin-3-ol derivatives |
| US7951963B2 (en) | 2005-03-28 | 2011-05-31 | Toyama Chemical Co., Ltd. | Process for production of 1-(3-(2-(1-benzothiophen-5-yl)-ethoxy)propyl)azetidin-3-ol or salts thereof |
| EP2348022A1 (en) | 2005-03-28 | 2011-07-27 | Toyama Chemical Co., Ltd. | Process for production of 1-(3-(2-(1-benzothiophen-5-yl)ethoxy)propyl)azetidin-3-ol or salts thereof |
| US8273902B2 (en) | 2005-03-28 | 2012-09-25 | Toyama Chemical Co., Ltd. | Process for production of 1-(3-(2-(1-benzothiophen-5-yl)-ethoxy)propyl)azetidin-3-ol or salts thereof |
| US9040724B2 (en) | 2010-03-18 | 2015-05-26 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
| US9365507B2 (en) | 2010-03-18 | 2016-06-14 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Diaryl sulfone compound, and manufacturing method for same |
| JP2011213711A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-27 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ジメルカプトジアリールスルホン化合物の製造方法 |
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