JPH081470A - ディスク回転支持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ディスク１の裏面側には、スピンドル収容部
６及びディスク当接面７が形成されたディスク姿勢規制
ガイド５を少なくともスピンドル３の軸方向に対して、
好ましくはスピンドル３の径方向に対しても進退自在に
設け、ディスク１の表面側には、ディスク１から近接離
間した状態で上記ディスク当接面７に略直交する方向か
らエア９が吹付けられるエア吹付けガイド８を進退自在
に設ける。 【効果】 ディスクの姿勢規制用ガイドによるディスク
面の損傷及びディスクの面振れを有効に抑え、好ましく
は更に、加工中の汚れによるディスクの姿勢規制誤差及
びディスク面内の傷の発生を少なく抑え、しかも、ディ
スクの姿勢規制用ガイドの姿勢調整作業をも簡略化でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、磁気ディスク、光デ
ィスク等のディスク状坦体に各種加工を施す際に用いら
れるディスク回転支持装置に係り、特に、ディスクの片
面（表面若しくは裏面）あるいは両面全域に対して各種
加工を施すことが可能なディスク回転支持装置の改良に
関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、磁気ディスクや光ディスク等の
ディスクの製造プロセスにおいては、例えばディスクを
研磨したり、目荒し（テクスチャ加工）したり、あるい
は、ディスクに潤滑剤を塗布したりする加工工程があ
る。このようなディスクの加工工程では、例えば図１０
に示すように、スピンドル２０３先端部に径方向に拡開
自在なチャック２０４を設け、このチャック２０４でデ
ィスク２０１の中央に開設された円形係止孔２０２内縁
を係止保持し、ディスク２０１を回転支持する装置が用
いられる。

【０００３】このとき、上記チャック２０４がディスク
２０１の円形係止孔２０２内縁を挟持するタイプであれ
ば、ディスク２０１の保持姿勢はスピンドル２０３の軸
方向に直交した正規姿勢に保持されるが、チャック２０
４の挟持部がディスク２０１の円形係止孔２０２内縁周
囲の表裏面を覆うことになるため、必然的に、ディスク
２０１の円形係止孔２０２内縁周囲の表裏面を加工対象
処理面とすることができず、ディスク２０１の片面ある
いは両面全域を加工対象処理面とすることが実質的に不
可能である。

【０００４】このため、ディスク２０１の片面あるいは
両面全域を加工対象処理面とする場合には、チャック２
０４でディスク２０１の円形係止孔２０２内縁のみを係
止保持する方式が採用されるが、このタイプにあって
は、ディスク２０１の保持姿勢を規制するための挟持部
がないため、チャック２０４でディスク２０１を保持す
る際にディスク２０１の保持姿勢が傾き易いという根本
的な技術的課題が生ずる。

【０００５】ところで、上記ディスク２０１の保持姿勢
が傾き易いという技術的課題を解決する手段としては、
例えば図１０に示すように、ディスク２０１の裏面側に
は、上記スピンドル２０３が遊嵌配置される円筒状のリ
アガイド２０５を例えばエアシリンダ２０６にて進退自
在に設けると共に、このリアガイド２０５にはスピンド
ル２０３の軸方向に直交するディスク当接面２０７を形
成する一方、上記ディスク２０１の表面側には、フロン
トガイド２０８を例えばエアシリンダ２１０にて進退自
在に設けると共に、このフロントガイド２０８のディス
ク２０１との対向面にはディスク当接面２０９を設け、
上記リアガイド２０５のディスク当接面２０７とフロン
トガイド２０８のディスク当接面２０９との間でディス
ク２０１を挟持し、この状態で、上記チャック２０４で
ディスク２０１の円形係止孔２０２内縁を係止保持する
ようにしたものが提供されている。

【０００６】このタイプによれば、上記リアガイド２０
５とフロントガイド２０８との間にディスク２０１が挟
持されると、ディスク２０１の姿勢がスピンドル２０３
の軸方向に直交する正規のものに調整されるため、上記
チャック２０４でディスク２０１の円形係止孔２０２内
縁を係止保持する際にディスク２０１の保持姿勢が傾く
懸念は有効に回避される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のディスク回転支持装置にあっては、リアガイ
ド２０５とフロントガイド２０８との間にディスク２０
１が接触挟持されるため、ディスク２０１の表裏面が傷
付き易いという根本的な技術的課題が残存してしまうば
かりか、フロントガイド２０８のディスク当接面２０９
によるディスク２０１の押し付け力にばらつきがあるた
め、リアガイド２０５とフロントガイド２０８とによる
ディスク２０１の保持姿勢精度には限度があり、ディス
ク２０１回転支持時においてディスク２０１の面振れを
より小さく抑えるには未だ改善の余地があった。

【０００８】更に、従来のディスク回転支持装置にあっ
ては、上記リアガイド２０５は円筒状形状を有するもの
で、その孔２１１にスピンドル２０３を遊嵌配置したも
のであるため、リアガイド２０５をスピンドル２０３の
軸方向に沿って後退させることはできても、スピンドル
２０３からリアガイド２０５を完全に分離することがで
きない。このため、例えば磁気ディスクのディスク基板
に対してテクスチャ加工を施すような場合には、ディス
ク基板面に例えばスラリ研磨剤付の目荒し用テープをコ
ンタクトロールで押圧すると共に、前記コンタクトロー
ルをディスク基板の径方向に沿って揺動させることにな
るが、テクスチャ加工中においてスラリ等の汚れがリア
ガイドに付着し易く、ディスク２０１の姿勢規制に支障
をきたすと共にディスク２０１面内に傷を発生させると
いう技術的課題が生ずるほか、ディスク２０１の保持姿
勢を良好に保つ上で予めリアガイド２０５の姿勢調整を
行なう必要があるが、スピンドル２０３との位置関係を
配慮しながらリアガイド２０５の姿勢調整を行なわなけ
ればならず、その分、リアガイド２０５の姿勢調整作業
が面倒になるという技術的課題がある。

【０００９】この発明は、以上の技術的課題を解決する
ためになされたものであって、ディスクの姿勢規制用ガ
イドによるディスク面の損傷及びディスクの面振れを有
効に抑え、好ましくは更に、加工中の汚れによるディス
クの姿勢規制誤差及びディスク面内の傷の発生を少なく
抑え、しかも、ディスクの姿勢規制用ガイドの姿勢調整
作業をも簡略化することが可能なディスク回転支持装置
を提供するものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】すなわち、この発明は、
図１に示すように、スピンドル３先端部に径方向に拡開
自在なチャック４を設け、このチャック４でディスク１
の中央に開設された係止孔２内縁を係止保持するディス
ク回転支持装置において、上記ディスク１の裏面側に
は、上記スピンドル３を遊嵌配置するスピンドル収容部
６が形成され且つスピンドル３の軸方向に直交するディ
スク当接面７が形成されたディスク姿勢規制ガイド５を
少なくともスピンドル３の軸方向に対して進退自在に設
ける一方、上記ディスク姿勢規制ガイド５に対向するデ
ィスク１の表面側には、ディスク１から近接離間した状
態で上記ディスク当接面７に略直交する方向からエア９
が吹付けられるエア吹付けガイド８を進退自在に設けた
ことを特徴とする。

【００１１】このような技術的手段において、本願発明
は、磁気ディスクや光ディスク等のディスク１を回転支
持し、ディスク１の片面あるいは両面全域に所定の加工
（研磨加工、テクスチャ加工、潤滑剤塗布等）を施すも
のを対象とする。

【００１２】また、ディスク姿勢規制ガイド５は、通常
それ自体が進退移動手段にて進退移動するものである
が、例えばスピンドル３が進退移動手段にて進退移動
し、ディスク姿勢規制ガイド５がスピンドル３に対して
相対的に進退移動する態様をも含むものである。

【００１３】また、ディスク姿勢規制ガイド５のディス
ク当接面７についてはガイド本体にそのまま形成しても
よいが、ディスク当接面との接触によるディスク面の損
傷を有効に回避するという観点からすれば、ディスク当
接面をゴムライニングする等ディスクに対する接触衝撃
力を緩衝するように設計することが好ましい。

【００１４】更に、上記ディスク姿勢規制ガイド５のス
ピンドル収容部６については、少なくともスピンドル３
と干渉しない孔構造であればよいが、例えばスピンドル
３の径寸法より大きな幅寸法の開口を具備させ、スピン
ドル収容部６の開口を通じてスピンドル３の径方向に対
してもディスク姿勢規制ガイド５を進退自在に設け、ス
ピンドル３から離間した部位までディスク姿勢規制ガイ
ド５を退避させ、ディスク加工処理時におけるスラリ等
の汚れがディスク姿勢規制ガイド５に付着する事態を回
避することが好ましい。

【００１５】また、エア吹付けガイド８については、デ
ィスク１の周方向に均一にエア圧が作用するようにエア
９を吹付けるようにすればよく、ディスク１のサイズと
無関係にエア吹付けエリアやエア圧を一定に調整しても
差し支えないが、ディスク１の姿勢調整精度を高めると
いう観点からすれば、ディスク１のサイズに応じてエア
吹付けエリアやエア圧の最適化を図るようにすることが
好ましい。

【００１６】また、エア吹付けガイド８は通常それ自体
が進退移動手段にて進退移動するものであるが、例えば
スピンドル３が進退移動手段にて進退移動し、エア吹付
けガイド８がスピンドル３に対して相対的に進退移動す
る態様をも含むものである。

【００１７】

【作用】上述したような技術的手段によれば、図示外の
ディスク搬送装置がディスク１をスピンドル３のチャッ
ク４部位へセットする。このとき、上記ディスク姿勢規
制ガイド５は、例えば進退移動機構によりスピンドル３
と干渉せずに進出し、そのディスク当接面７が所定のデ
ィスク姿勢規制面に設定されており、このディスク当接
面７に上記ディスク１の裏側が当接する。一方、上記エ
ア吹付けガイド８は、例えば進退移動機構により進出
し、ディスク１の表側面に対向して近接離間配置され
る。そして、上記エア吹付けガイド８は上記ディスク当
接面７に略直交する方向からディスク１の表側面にエア
９を吹付けるため、そのエア圧によって、上記ディスク
１はディスク姿勢規制ガイド５側へ押し付けられ、ディ
スク１の裏面側がディスク姿勢規制ガイド５のディスク
当接面７に密接配置され、ディスク１は正規姿勢（ディ
スク当接面７に沿った規制面）に規制される。この状態
において、上記スピンドル３の先端のチャック４でディ
スク１の係止孔２内縁を係止保持すれば、ディスク１は
正規姿勢に保持された状態でスピンドル３に固定され
る。このようにディスク１が上記スピンドル３に固定さ
れると、上記ディスク姿勢規制ガイド５及びエア吹付け
ガイド８はディスク１から離間した退避位置に退避した
後に、ディスク１に対して所定の加工が為される。

【００１８】また、上記ディスク姿勢規制ガイド５のス
ピンドル収容部６がスピンドル３の径寸法より大きな幅
寸法の開口を有し、スピンドル収容部６の開口を通じて
スピンドル３の径方向に対してもディスク姿勢規制ガイ
ド５が進退自在に設けられていれば、ディスク１加工処
理時において、ディスク姿勢規制ガイド５はスピンドル
３から離間した部位まで退避することが可能になり、デ
ィスク１加工処理時におけるスラリ等の汚れがディスク
姿勢規制ガイド５に影響することは少ない。

【００１９】

【実施例】以下、添付図面に示す実施例に基づいてこの
発明を詳細に説明する。図２はこの発明が適用された磁
気ディスクのテクスチャ加工設備の一実施例を示す。同
図において、符号２０は磁気ディスク基板、２１はテク
スチャ加工対象となる多数の磁気ディスク基板２０を収
容する収容ボックス、２２は収容ボックス２１内の磁気
ディスク基板２０をローディングし、ディスク保持テー
ブル２３のディスクセットステージａにて磁気ディスク
基板２０をアンローディングしてディスク保持テーブル
２３に磁気ディスク基板２０をセットするディスクガイ
ドユニットである。

【００２０】この実施例において、上記ディスク保持テ
ーブル２３は９０度角度間隔の４つのインデックス位置
を間欠移動させるものであり、夫々のインデックス位置
には磁気ディスク基板２０の回転支持装置（図示せず）
が設けられている。また、上記ディスク保持テーブル２
３の上記ディスクセットステージａに隣接するインデッ
クス位置は第一テクスチャ加工ステージｂ、第二テクス
チャ加工ステージｄであり、夫々のテクスチャ加工ステ
ージｂ，ｄにはテクスチャ加工装置３０が設置されてい
る。更に、上記ディスクセットステージａから１８０度
変位したインデックス位置は洗浄ステージｃであり、図
示外の洗浄装置が設置されている。

【００２１】この実施例において、磁気ディスク基板２
０の回転支持装置４０を図３に示す。同図において、符
号４１は磁気ディスク基板２０を回転支持するスピンド
ルであり、このスピンドル４１は、例えば図３及び図４
に示すように、先端部近傍の周囲にフランジ状のチャッ
ク４３が形成され且つ軸方向に沿って一部にスリット４
４が形成された円筒状の外側軸部材４２と、この外側軸
部材４２の内側に進退自在に設けられて後退時に上記外
側軸部材４２の先端側にあるチャック４３を外側へ拡開
させる内側軸部材４５とで構成されており、磁気ディス
ク基板２０の中央に開設された円形状のチャック孔２５
内縁に拡開されたチャック４３を係止保持させることに
より、磁気ディスク基板２０を固定するようになってい
る。

【００２２】特に、この実施例では、上記ディスクセッ
トステージａに対応した箇所にのみ、磁気ディスク基板
２０の姿勢を規制する姿勢ガイド５１，６１がディスク
保持テーブル２３の回転とは無関係に前記回転支持装置
４０に対し付設されている。符号５１は磁気ディスク基
板２０の裏面側に設けられる磁気ディスク基板２０の姿
勢規制用のリアガイドである。このリアガイド５１は、
図５に示すように、例えばアルミニウム製の縦断面略逆
Ｕ字形状に形成されたもので、その内側空間部５２をス
ピンドル４１の収容部として機能させ、内側空間部５２
の下側開口５３の幅寸法ｓ1をスピンドル４１の一般部
外径ｓよりも大きく形成したものである。更に、上記磁
気ディスク基板２０の裏面側に対向するリアガイド５１
面はスピンドル４１の軸方向に直交する面として形成さ
れ、当該リアガイド５１面にはゴムライニング５４が施
されている。更にまた、上記リアガイド５１は、逆Ｌ字
状の支持ブラケット５５を介して第一の進退駆動用のＸ
方向（スピンドル４１の径方向に相当）エアシリンダ５
６及び第二の進退駆動用のＹ方向（スピンドル４１の軸
方向に相当）エアシリンダ５７に連結されており、Ｘ方
向エアシリンダ５６及びＹ方向エアシリンダ５７を共に
進出させることにより位置規制セット位置に設定され、
一方、Ｘ方向エアシリンダ５６及びＹ方向エアシリンダ
５７を共に後退させることによりスピンドル４１から離
間した退避位置に設定されるようになっている。

【００２３】また、符号６１は磁気ディスク基板２０の
表面側に設けられて上記リアガイド５１に対向配置され
るフロントガイドである。このフロントガイド６１は、
例えば図６に示すように、ガイド本体６６の表面にエア
供給源６２に連通接続されるエア溜め凹部６３を形成
し、このエア溜め凹部６３を塞ぐようにノズル板６７を
取り付け、このノズル板６７にはエア溜め凹部６３に連
通接続され且つ磁気ディスク基板２０表面のチャック孔
２５周囲にエア６４が均一に吹付けられる多数のノズル
部６５を開設してなるエア吹付けユニットにて構成され
る。更に、上記フロントガイド６１は例えば上記リアガ
イド５１と連結されており、リアガイド５１が位置規制
セット位置に設定された時点で磁気ディスク基板２０の
表面に近接離間した位置規制セット位置に設定され、Ｘ
方向エアシリンダ５６及びＹ方向エアシリンダ５７によ
りリアガイド５１と共にスピンドル４１から離間した退
避位置に設定されるようになっている。

【００２４】次に、この実施例に係るディスクセットス
テージａにおける回転支持装置４０の作動を図７に基づ
いて説明する。今、図２に仮想線で示すように、ディス
クガイドユニット２２がディスク保持テーブル２３のデ
ィスクセットステージａに磁気ディスク基板２０を搬送
し、図７に示すスピンドル４１のチャック４２部分に配
置する。このとき、上記リアガイド５１及びフロントガ
イド６１は、上記Ｘ方向エアシリンダ５６及びＹ方向エ
アシリンダ５７を進出させることにより位置規制セット
位置（図７中実線で示す）に設定される。

【００２５】この後、上記エア供給源６２から所定圧の
エア６４がフロントガイド６１へ供給され、フロントガ
イド６１のノズル部６５を通じて磁気ディスク基板２０
表面のチャック孔２５周囲を均一に押圧する。すると、
上記フロントガイド６１からのエア圧によって上記磁気
ディスク基板２０がリアガイド５１側へ押し付けられ、
磁気ディスク基板２０の裏面側がリアガイド５１のゴム
ライニング５４されたディスク当接面に密接配置され、
磁気ディスク基板２０は正規姿勢（ディスク当接面に沿
った規制面）に規制される。

【００２６】このとき、上記フロントガイド６１は磁気
ディスク基板２０と非接触であり、上記フロントガイド
５１から磁気ディスク基板２０に吹付けられるエア６４
は一定低圧である一方、上記リアガイド５１の磁気ディ
スク基板２０との接触部はゴムライニング５４で被覆さ
れているため、磁気ディスク基板２０のフロントガイド
６１及びリアガイド５１に対向する部位が傷つくことは
ない。

【００２７】この状態において、上記スピンドル４１の
先端のチャック４２が磁気ディスク基板２０のチャック
孔２５内縁を係止保持し、磁気ディスク基板２０は正規
姿勢に保持された状態でスピンドル４１に固定される。
このように磁気ディスク基板２０が上記スピンドル４１
に固定されると、上記Ｘ方向エアシリンダ５６及びＹ方
向エアシリンダ５７がリアガイド５１及びフロントガイ
ド６１を磁気ディスク基板２０から離間した退避位置に
退避させ、しかる後、図２に示すように、ディスク保持
テーブル２３が９０度だけ回転し、加工対象である磁気
ディスク基板２０をテクスチャ加工ステージｂへ搬送す
る。

【００２８】そして、テクスチャ加工ステージｂに搬入
された磁気ディスク基板２０はテクスチャ加工装置３０
にてテクスチャ加工が施される。この実施例におけるテ
クスチャ加工装置３０の詳細を図９に示す。同図におい
て、テクスチャ加工装置３０はテクスチャヘッド１３１
を有し、このテクスチャヘッド１３１は、第一のガイド
レール１３２に沿って加工位置と待機位置との間で進退
移動するテープリールユニット１３３と、このテープリ
ールユニット１３３とは別個独立に分離され、第二のガ
イドレール１３４に沿って加工位置と待機位置との間で
進退移動するコンタクトロールユニット１３５とを備え
ている。

【００２９】この実施例に係るテープリールユニット１
３３は、例えばスラリ研磨剤付きテープ等の目荒し用テ
ープ１３６を繰り出す繰り出しテープリール１３７と、
目荒し用テープ１３６を巻き取る巻き取りテープリール
１３８とをユニットベース１３９上に二組設置したもの
である。尚、この実施例においては、加工条件に応じ
て、繰り出しテープリール１３７及び巻き取りテープリ
ール１３８の位置関係、回転方向を逆にすることにより
目荒し用テープ１３６の送り方向を逆転させることも可
能である。

【００３０】一方、この実施例に係るコンタクトロール
ユニット１３５は、ディスク保持テーブル２３のスピン
ドル４１に保持された磁気ディスク基板２０の表面及び
裏面を押圧する一対のコンタクトロール１４１，１４２
をユニットベース１４０に設け、夫々のコンタクトロー
ル１４１，１４２に対してテープリールユニット１３３
からの目荒し用テープ１３６を適宜掛け回し、更に、例
えば駆動モータ及び偏心カム機構からなるオシレーショ
ン機構１６０にて磁気ディスク基板２０の径方向に沿っ
て揺動するようになっている。

【００３１】従って、このテクスチャ加工ステージｂ
（若しくはｄ）では、上記スピンドル４１が回転し、上
記磁気ディスク基板２０を所定速度で回転させ、一方、
テクスチャ加工装置３０は加工位置まで進出した後に、
オシレーション機構１６０にてコンタクトロールユニッ
ト１３５を磁気ディスク基板２０の径方向に沿って揺動
させ、コンタクトロール１４１，１４２に掛け渡された
目荒し用テープ１３６にて磁気ディスク基板２０の表面
及び裏面を目荒らしする。

【００３２】このとき、上記磁気ディスク基板２０のス
ピンドル４１に対する保持姿勢は上記姿勢ガイド（リア
ガイド５１，フロントガイド６１）にて正規姿勢に設定
されるため、磁気ディスク基板２０の面振れは１０μｍ
以下に抑えられ、図９の従来方式が１００μｍ以下程度
であったのに比べて大幅に改善されていることが理解さ
れる。このため、上記テクスチャ加工精度もより向上
し、磁気ディスク基板２０の表面及び裏面の目荒しの程
度がより均一なものに保たれる。

【００３３】また、この実施例において、上記リアガイ
ド５１はスピンドル４１と分離した状態で退避されてい
るので、テクスチャ加工処理時にスラリ等が飛散したと
しても、リアガイド５１のゴムライニング５４されたデ
ィスク当接面に付着する事態は有効に回避される。この
ため、ディスクセットステージａにてリアガイド５１の
ゴムライニングされたディスク当接面がスラリ等で汚
れ、磁気ディスク基板２０の姿勢規制精度が損なわれた
り、磁気ディスク基板２０面内に傷をつけたりする懸念
は極めて少ない。

【００３４】更に、この実施例においては、上記リアガ
イド５１はスピンドル４１と分離した状態で支持ブラケ
ット５５に取付られるので、例えばスピンドル４１が挿
入されたままの円筒状リアガイドに比べて、リアガイド
５１の取付姿勢の調整が容易になる。また、異なるサイ
ズの磁気ディスク基板２０をテクスチャ加工するような
場合、すなわち、ジョブチェンジする場合には、部品の
交換作業だけで済むため、従来方式がリアガイド、フロ
ントガイド間の間隔の調整や押圧力を調整したりしなけ
ればならないのに比べて、ジョブチェンジが容易であ
る。

【００３５】更に、この実施例においては、磁気ディス
ク基板２０のサイズが異なっても、上記フロントガイド
６１からのエア吹付け位置は一定であるが、サイズが異
なる毎に磁気ディスク基板２０のスピンドル４１に対す
る保持姿勢の最適化を図るには、例えば図８（ａ）〜
（ｃ）に示すように、フロントガイド６１のガイド本体
６６の表面に径寸法の異なるリング状のエア溜め凹部６
３ａ，６３ｂを複数形成し、一方、ガイド本体６６に取
付けられるノズル板６７には上記各エア溜め凹部６３
ａ，６３ｂに連通接続されるノズル部６５ａ，６５ｂを
夫々開設し、例えば磁気ディスク基板２０のサイズに応
じてエア供給源からのエア供給路Ａ，Ｂを切り替えバル
ブにて選択することにより、エア溜め凹部６３ａ又は６
３ｂのいずれかにエアを供給するようにし、サイズの異
なる磁気ディスク基板２０毎にエア６４の吹付け位置を
変えるようにすることが好ましい。

【００３６】

【発明の効果】以上説明してきたように、この発明によ
れば、スピンドルのチャックでディスクの係止孔内縁を
係止保持するディスク回転支持装置において、ディスク
の裏面側にディスクの裏面が当接するディスク姿勢規制
ガイドを進退自在に設ける一方、ディスクの表面側には
ディスクに対して近接配置されるエア吹付けガイドを進
退自在に設け、エア吹付けガイドからのエア圧にてディ
スクをディスク規制ガイドのディスク当接面に密着させ
た状態で、スピンドルにディスクを固定することを可能
としたので、ディスク当接面を持った従来の接触方式に
比べて、ディスクの表面側が非接触であり、しかも、デ
ィスクの押付け力が一定低圧のエア圧分だけになり、デ
ィスクの傷つきを有効に回避できるばかりか、エアによ
るディスクの係止孔周囲の押付け圧を均一にし易いこと
から、従来方式（ディスク当接面を持った場合には接触
状態等で接触圧が変化し易い）に比べて、ディスク回転
時の面振れをより小さく抑えることができる。

【００３７】また、この発明において、ディスク姿勢規
制ガイドのスピンドル収容部を工夫することにより、デ
ィスク姿勢規制ガイドをスピンドルから離間した部位ま
で退避できるようにしたので、ディスク加工処理時にお
けるスラリ等の汚れがディスク姿勢規制ガイドに付着
し、ディスクの姿勢規制精度を低減させる事態及びディ
スク面内に傷が発生する事態を有効に防止することがで
きるほか、スピンドルから分離した状態でディスク姿勢
規制ガイドの姿勢調整を行なうことが可能になり、その
分、ディスク姿勢規制ガイドの姿勢調整を容易に行なう
ことができ、また、ジョブチェンジ（加工対象ディスク
のサイズ毎の交換等）する際の押圧条件の変更を容易に
行なうことが可能になり、その分、ジョブチェンジをも
容易に行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明に係るディスクの回転支持装置の構
成を示す説明図である。

【図２】 この発明が適用された磁気ディスクのテクス
チャ加工設備の一実施例を示す説明図である。

【図３】 実施例に係る磁気ディスク基板の回転支持装
置の一実施例を示す説明図である。

【図４】 実施例に係るスピンドルのチャック部構造の
一例を示す説明図である。

【図５】 実施例に係るリアガイドの図５中Ｖ−Ｖ線断
面図である。

【図６】 （ａ）は実施例に係るフロントガイドの内部
構造、（ｂ）はそのノズル部を正面から見た説明図であ
る。

【図７】 実施例に係る磁気ディスク基板の回転支持装
置の作動状態を示す説明図である。

【図８】 （ａ）は実施例に係るフロントガイドの変形
例を示す断面図、（ｂ）は（ａ）のノズル板を示す説明
図、（ｃ）は（ａ）のガイド本体を示す説明図である。

【図９】 実施例に係るテクスチャ加工装置の一例を示
す説明図である。

【図１０】 従来の磁気ディスクの回転支持装置の一例
を示す説明図である。

【符号の説明】

１…ディスク，２…係止孔，３…スピンドル，４…チャ
ック，５…ディスク姿勢規制ガイド，６…スピンドル収
容部，７…ディスク当接面，８…エア吹付けガイド，９
…エア

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅野 幸弘 山形県米沢市中央４−１−21 コ−ピアス 米沢201 (72)発明者 千田 昌平 山形県米沢市中央４−１−21 コーピアス 米沢511

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スピンドル（３）先端部に径方向に拡開
   自在なチャック（４）を設け、このチャック（４）でデ
   ィスク（１）の中央に開設された係止孔（２）内縁を係
   止保持するディスク回転支持装置において、上記ディス
   ク（１）の裏面側には、上記スピンドル（３）を遊嵌配
   置するスピンドル収容部（６）が形成され且つスピンド
   ル（３）の軸方向に直交するディスク当接面（７）が形
   成されたディスク姿勢規制ガイド（５）を少なくともス
   ピンドル（３）の軸方向に対して進退自在に設ける一
   方、上記ディスク姿勢規制ガイド（５）に対向するディ
   スク（１）の表面側には、ディスク（１）から近接離間
   した状態で上記ディスク当接面（７）に略直交する方向
   からエア（９）が吹付けられるエア吹付けガイド（８）
   を進退自在に設けたことを特徴とするディスク回転支持
   装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のものにおいて、上記ディ
   スク姿勢規制ガイド（５）のスピンドル収容部（６）は
   スピンドル（３）の径寸法より大きな幅寸法の開口を有
   し、ディスク姿勢規制ガイド（５）はスピンドル収容部
   （６）の開口を通じてスピンドル（３）の径方向に対し
   ても進退自在に設けられていることを特徴とするディス
   ク回転支持装置。