JPH08153324A - 磁気記録媒体及び基板 - Google Patents
磁気記録媒体及び基板Info
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- JPH08153324A JPH08153324A JP29507294A JP29507294A JPH08153324A JP H08153324 A JPH08153324 A JP H08153324A JP 29507294 A JP29507294 A JP 29507294A JP 29507294 A JP29507294 A JP 29507294A JP H08153324 A JPH08153324 A JP H08153324A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 非磁性基板上に、少なくとも、非磁性体から
なる下地層及び磁性層を有する磁気記録媒体であって、
データ記録領域の非磁性基板表面又は下地層表面には同
心円状の機械的研磨による加工痕が形成されており、Ｃ
ＳＳ（コンタクトアンドストップ）領域の非磁性基板表
面又は下地層表面にはエネルギー線照射による突起が形
成されていることを特徴とする磁気記録媒体及びその基
板。 【効果】 従来トレードオフの関係にあったＣＳＳ特性
と記録再生特性を共に向上することができ、且つエラー
も低減できる。
なる下地層及び磁性層を有する磁気記録媒体であって、
データ記録領域の非磁性基板表面又は下地層表面には同
心円状の機械的研磨による加工痕が形成されており、Ｃ
ＳＳ（コンタクトアンドストップ）領域の非磁性基板表
面又は下地層表面にはエネルギー線照射による突起が形
成されていることを特徴とする磁気記録媒体及びその基
板。 【効果】 従来トレードオフの関係にあったＣＳＳ特性
と記録再生特性を共に向上することができ、且つエラー
も低減できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及び基板
に関し、詳しくは磁気ディスク装置に使用されるハード
ディスク等の磁気記録媒体及びそのための基板に関する
ものである。特に、良好なＣＳＳ（コンタクトスタート
アンドストップ）特性と高記録密度化及びエラー低減を
同時に可能にする薄膜型の磁気記録媒体及びその基板に
関する。
に関し、詳しくは磁気ディスク装置に使用されるハード
ディスク等の磁気記録媒体及びそのための基板に関する
ものである。特に、良好なＣＳＳ（コンタクトスタート
アンドストップ）特性と高記録密度化及びエラー低減を
同時に可能にする薄膜型の磁気記録媒体及びその基板に
関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、ハードディスクは、その使用に際
し高速で回転して磁気ヘッドを浮上させており、ハード
ディスクへの情報の書き込み／読み出し等はこの磁気ヘ
ッドを介して行っている。ハードディスクは、磁気特性
の向上のために、ディスクの基板面上あるいは基板面上
に設けられたＮｉＰメッキ等の非磁性体からなる下地層
上に、磁気ディスクの円周方向にほぼ同心円状に機械的
研磨を行って加工痕を形成する加工が行われている。通
常、該加工痕は、ＣＳＳ特性の点からは完全に同心円状
よりは加工痕同士がクロスしたパターンの方が好まし
く、一方記録再生特性の点からは同心円に近い方がよ
い。
し高速で回転して磁気ヘッドを浮上させており、ハード
ディスクへの情報の書き込み／読み出し等はこの磁気ヘ
ッドを介して行っている。ハードディスクは、磁気特性
の向上のために、ディスクの基板面上あるいは基板面上
に設けられたＮｉＰメッキ等の非磁性体からなる下地層
上に、磁気ディスクの円周方向にほぼ同心円状に機械的
研磨を行って加工痕を形成する加工が行われている。通
常、該加工痕は、ＣＳＳ特性の点からは完全に同心円状
よりは加工痕同士がクロスしたパターンの方が好まし
く、一方記録再生特性の点からは同心円に近い方がよ
い。
【０００３】このことを実験結果をもとに以下に説明す
る。図３及び図４は、加工痕のクロス角度と磁気ディス
クの磁気特性の関係を示す図である。ここで、クロス角
度とは、加工痕のなす角のうちディスクの周方向におい
て各加工痕がなす角度のことをいう（図６参照）。図３
及び図４から明らかなように、クロス角度が小さくなる
ほど保磁力（Ｈｃ）及びＨｃ異方比（周方向Ｈｃと半径
方向Ｈｃとの比）ともに上昇している。一般にＨｃ、Ｈ
ｃ異方比が高いほど記録再生特性は良くなることから、
クロス角は小さいほど記録再生特性が良好であることが
わかる。
る。図３及び図４は、加工痕のクロス角度と磁気ディス
クの磁気特性の関係を示す図である。ここで、クロス角
度とは、加工痕のなす角のうちディスクの周方向におい
て各加工痕がなす角度のことをいう（図６参照）。図３
及び図４から明らかなように、クロス角度が小さくなる
ほど保磁力（Ｈｃ）及びＨｃ異方比（周方向Ｈｃと半径
方向Ｈｃとの比）ともに上昇している。一般にＨｃ、Ｈ
ｃ異方比が高いほど記録再生特性は良くなることから、
クロス角は小さいほど記録再生特性が良好であることが
わかる。
【０００４】図５は、加工痕を同心円状に形成した場合
とクロスさせて形成した場合のＣＳＳ特性を示すグラフ
である。クロスしたパターンの方がＣＳＳ回数が増加し
ても摩擦係数の上昇が少なく良好なＣＳＳ特性を示して
いることがわかる。通常、クロスしたパターンの場合、
記録再生特性とＣＳＳ特性の兼ね合いからクロス角度は
３０度程度に設定されている。
とクロスさせて形成した場合のＣＳＳ特性を示すグラフ
である。クロスしたパターンの方がＣＳＳ回数が増加し
ても摩擦係数の上昇が少なく良好なＣＳＳ特性を示して
いることがわかる。通常、クロスしたパターンの場合、
記録再生特性とＣＳＳ特性の兼ね合いからクロス角度は
３０度程度に設定されている。
【０００５】図７は、従来の機械的研磨により形成した
ゾーンテキスチャー媒体のＣＳＳ領域とデータ記録領域
の段差を示す図である。図７からわかるように、従来の
機械的加工痕によるゾーンテキスチャー媒体はＣＳＳ領
域とデータ記録領域との境界に段差が生じるためそこで
エラーが増加するという問題があった。
ゾーンテキスチャー媒体のＣＳＳ領域とデータ記録領域
の段差を示す図である。図７からわかるように、従来の
機械的加工痕によるゾーンテキスチャー媒体はＣＳＳ領
域とデータ記録領域との境界に段差が生じるためそこで
エラーが増加するという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように、記録再生
特性を損なうことなく、良好なＣＳＳ特性を持ち、エラ
ーの少ない高記録密度の磁気記録媒体が望まれている。
特性を損なうことなく、良好なＣＳＳ特性を持ち、エラ
ーの少ない高記録密度の磁気記録媒体が望まれている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、こうした高密
度記録用の磁気記録媒体に対してなされたものであっ
て、本発明の第１の要旨は、非磁性基板上に、少なくと
も、非磁性体からなる下地層及び磁性層を有する磁気記
録媒体であって、データ記録領域の非磁性基板表面又は
下地層表面には同心円状の機械的研磨による加工痕が形
成されており、ＣＳＳ（コンタクトアンドストップ）領
域の非磁性基板表面又は下地層表面にはエネルギー線照
射による突起が形成されていることを特徴とする磁気記
録媒体、に存する。
度記録用の磁気記録媒体に対してなされたものであっ
て、本発明の第１の要旨は、非磁性基板上に、少なくと
も、非磁性体からなる下地層及び磁性層を有する磁気記
録媒体であって、データ記録領域の非磁性基板表面又は
下地層表面には同心円状の機械的研磨による加工痕が形
成されており、ＣＳＳ（コンタクトアンドストップ）領
域の非磁性基板表面又は下地層表面にはエネルギー線照
射による突起が形成されていることを特徴とする磁気記
録媒体、に存する。
【０００８】また、本発明の第２の要旨は、非磁性基板
上に、少なくとも、非磁性体からなる下地層及び磁性層
を有する磁気記録媒体用基板であって、データ記録領域
の非磁性基板表面又は下地層表面には同心円状の機械的
研磨による加工痕が形成されており、ＣＳＳ領域の非磁
性基板表面又は下地層表面にはエネルギー線照射による
突起が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用
基板、に存する。
上に、少なくとも、非磁性体からなる下地層及び磁性層
を有する磁気記録媒体用基板であって、データ記録領域
の非磁性基板表面又は下地層表面には同心円状の機械的
研磨による加工痕が形成されており、ＣＳＳ領域の非磁
性基板表面又は下地層表面にはエネルギー線照射による
突起が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用
基板、に存する。
【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、非磁性基板としては、通常、アルミニウム合金
基板が用いられるが、銅、チタン等の金属基板、ガラス
基板、セラミック基板又は樹脂基板等を用いることもで
きる。非磁性体からなる下地層は、好ましくはＮｉＰ合
金層であり、通常、無電解メッキ法又はスパッタ法によ
り形成される。また、その厚みは、エネルギー線照射に
よる発熱と熱伝導による放熱の関係から重要であり、好
ましくは５０〜２０、０００ｎｍ、特に好ましくは１０
０〜１５，０００ｎｍである。
おいて、非磁性基板としては、通常、アルミニウム合金
基板が用いられるが、銅、チタン等の金属基板、ガラス
基板、セラミック基板又は樹脂基板等を用いることもで
きる。非磁性体からなる下地層は、好ましくはＮｉＰ合
金層であり、通常、無電解メッキ法又はスパッタ法によ
り形成される。また、その厚みは、エネルギー線照射に
よる発熱と熱伝導による放熱の関係から重要であり、好
ましくは５０〜２０、０００ｎｍ、特に好ましくは１０
０〜１５，０００ｎｍである。
【００１０】下地層の上には、通常、Ｃｒ層又はＣｕ層
等の中間層を磁性層との間に設けることが好ましく、そ
の膜厚は、通常、２０〜２００ｎｍ、好ましくは５０〜
１００ｎｍである。下地層上又は中間層上に設ける磁性
層は、通常、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ−Ｐｔ系合金等の強磁性合
金薄膜が、無電解メッキ、電気メッキ、スパッタ、蒸着
等の方法によって形成され、その膜厚は、通常、３０〜
７０ｎｍ程度である。
等の中間層を磁性層との間に設けることが好ましく、そ
の膜厚は、通常、２０〜２００ｎｍ、好ましくは５０〜
１００ｎｍである。下地層上又は中間層上に設ける磁性
層は、通常、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ−Ｐｔ系合金等の強磁性合
金薄膜が、無電解メッキ、電気メッキ、スパッタ、蒸着
等の方法によって形成され、その膜厚は、通常、３０〜
７０ｎｍ程度である。
【００１１】通常、磁性層上には保護層が設けられる
が、保護層としては蒸着、スパッタ、プラズマＣＶＤ、
イオンプレーティング、湿式法等の方法により、炭素
膜、水素化カーボン膜、ＴｉＣ、ＳｉＣ等の炭化物膜、
ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜等、ＳｉＯ、ＡｌＯ、ＺｒＯ
等の酸化物膜等が成膜される。これらのうち特に好まし
くは、炭素膜、水素化カーボン膜である。又、保護層上
には、通常、潤滑剤層が設けられる。
が、保護層としては蒸着、スパッタ、プラズマＣＶＤ、
イオンプレーティング、湿式法等の方法により、炭素
膜、水素化カーボン膜、ＴｉＣ、ＳｉＣ等の炭化物膜、
ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜等、ＳｉＯ、ＡｌＯ、ＺｒＯ
等の酸化物膜等が成膜される。これらのうち特に好まし
くは、炭素膜、水素化カーボン膜である。又、保護層上
には、通常、潤滑剤層が設けられる。
【００１２】本発明の磁気記録媒体を製造するための好
ましい方法としては、非磁性基板上にＮｉＰ等の非磁性
体からなる下地層を設けた磁気記録媒体用基板に、同心
円状の機械的研磨を施すことにより機械的加工痕を形成
した後、基板を回転させながら、その表面に円周方向に
沿って出力を精度良く制御したエネルギー線、例えばパ
ルスレーザ等を照射して表面に突起を形成する方法等が
挙げられる。より好ましくは、機械的研磨を基板又は下
地層の全面に施した後、ＣＳＳ領域に突起を設けること
が好ましい。機械的研磨は、通常、基板を回転させなが
ら基板表面に研磨テープを押し当てて行う等の公知の方
法が採用される。
ましい方法としては、非磁性基板上にＮｉＰ等の非磁性
体からなる下地層を設けた磁気記録媒体用基板に、同心
円状の機械的研磨を施すことにより機械的加工痕を形成
した後、基板を回転させながら、その表面に円周方向に
沿って出力を精度良く制御したエネルギー線、例えばパ
ルスレーザ等を照射して表面に突起を形成する方法等が
挙げられる。より好ましくは、機械的研磨を基板又は下
地層の全面に施した後、ＣＳＳ領域に突起を設けること
が好ましい。機械的研磨は、通常、基板を回転させなが
ら基板表面に研磨テープを押し当てて行う等の公知の方
法が採用される。
【００１３】ＣＳＳ領域にパルスレーザ等を照射するこ
とにより突起を形成する方法は、従来の機械的研磨によ
る方法と異なり、ＣＳＳ領域の基板素材を削りとること
が無いため、データ記録領域の半径方向に測定した粗さ
曲線の中心線とＣＳＳ領域の半径方向に測定した粗さ曲
線の中心線（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２の規定によ
る）の差を小さくでき、データ記録領域とＣＳＳ領域と
の境界に於けるエラーが低減される。
とにより突起を形成する方法は、従来の機械的研磨によ
る方法と異なり、ＣＳＳ領域の基板素材を削りとること
が無いため、データ記録領域の半径方向に測定した粗さ
曲線の中心線とＣＳＳ領域の半径方向に測定した粗さ曲
線の中心線（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２の規定によ
る）の差を小さくでき、データ記録領域とＣＳＳ領域と
の境界に於けるエラーが低減される。
【００１４】突起高さは、例えばパルスレーザの強度と
その平均照射時間、基板の線速度等を調節することによ
って自由に制御することができ、突起の密度は、１周当
たりの突起の個数、パルスレーザの半径方向の照射間
隔、及び上記の突起の高さを制御する条件を調節するこ
とにより自由に制御することができる。通常、パルスレ
ーザの強度は５０〜５００ｍＷ、平均照射時間は０．０
５〜１００μｓｅｃ、スポット径は０．２〜４μｍ、基
板の線速度は０．８〜１５ｍ／ｓｅｃが好ましい。ここ
で、レーザの平均照射時間とは、１つの突起を形成させ
るためのレーザの照射時間を示す。
その平均照射時間、基板の線速度等を調節することによ
って自由に制御することができ、突起の密度は、１周当
たりの突起の個数、パルスレーザの半径方向の照射間
隔、及び上記の突起の高さを制御する条件を調節するこ
とにより自由に制御することができる。通常、パルスレ
ーザの強度は５０〜５００ｍＷ、平均照射時間は０．０
５〜１００μｓｅｃ、スポット径は０．２〜４μｍ、基
板の線速度は０．８〜１５ｍ／ｓｅｃが好ましい。ここ
で、レーザの平均照射時間とは、１つの突起を形成させ
るためのレーザの照射時間を示す。
【００１５】
【実施例】次に、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例によって限定されるものではない。 実施例１、比較例１〜６ 直径９５ｍｍのディスク状アルミニウム合金基板上に膜
厚１０〜２０μｍのＮｉＰメッキを施した後、表面粗さ
Ｒａが１ｎｍ以下になるように表面研磨を行った後、さ
らに機械的研磨により同心円状又はクロスパターンの加
工痕を形成した。その後、ＣＳＳ領域である内周部に、
強度３００ｍＷのアルゴンレーザ光線を照射時間２．５
μｓの条件で照射し、平均突起密度９２６０個／ｍ
ｍ2 、平均突起高さ３７ｎｍの突起を形成させ、磁気デ
ィスク用基板を得た。ただし、比較例６は、まずＮｉＰ
メッキを施したディスク状基板全面に同心円状のテキス
チャーパターンを形成した後、さらにＣＳＳ領域にクロ
ス角３０度のテキスチャーパターンを形成した。
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例によって限定されるものではない。 実施例１、比較例１〜６ 直径９５ｍｍのディスク状アルミニウム合金基板上に膜
厚１０〜２０μｍのＮｉＰメッキを施した後、表面粗さ
Ｒａが１ｎｍ以下になるように表面研磨を行った後、さ
らに機械的研磨により同心円状又はクロスパターンの加
工痕を形成した。その後、ＣＳＳ領域である内周部に、
強度３００ｍＷのアルゴンレーザ光線を照射時間２．５
μｓの条件で照射し、平均突起密度９２６０個／ｍ
ｍ2 、平均突起高さ３７ｎｍの突起を形成させ、磁気デ
ィスク用基板を得た。ただし、比較例６は、まずＮｉＰ
メッキを施したディスク状基板全面に同心円状のテキス
チャーパターンを形成した後、さらにＣＳＳ領域にクロ
ス角３０度のテキスチャーパターンを形成した。
【００１６】図１は、実施例と同様の方法により得られ
た磁気ディスク用基板の表面形状を、レーザ干渉による
表面形状測定装置（米国ザイゴ社製「ＺＹＧＯ」）で観
察した結果を表す図である。図２は、図１に示した突起
の断面図である。本発明の突起は図１及び図２に示すよ
うな形状を示し、その頂部は半球状であり、平坦ではな
く適度な曲率を有している。
た磁気ディスク用基板の表面形状を、レーザ干渉による
表面形状測定装置（米国ザイゴ社製「ＺＹＧＯ」）で観
察した結果を表す図である。図２は、図１に示した突起
の断面図である。本発明の突起は図１及び図２に示すよ
うな形状を示し、その頂部は半球状であり、平坦ではな
く適度な曲率を有している。
【００１７】次いで、スパッタ法により、上記磁気ディ
スク用基板上に、順次、Ｃｒ中間層（膜厚１００ｎ
ｍ）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金磁性膜（膜厚５０ｎｍ）及
びカーボン保護膜を（膜厚２０ｎｍ）を形成し、その
後、浸漬法によりフッ素系液体潤滑剤（モンテエジソン
社製「ＤＯＬ−２０００」）を２ｎｍの膜厚に塗布し
て、磁気ディスクを製造した。
スク用基板上に、順次、Ｃｒ中間層（膜厚１００ｎ
ｍ）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金磁性膜（膜厚５０ｎｍ）及
びカーボン保護膜を（膜厚２０ｎｍ）を形成し、その
後、浸漬法によりフッ素系液体潤滑剤（モンテエジソン
社製「ＤＯＬ−２０００」）を２ｎｍの膜厚に塗布し
て、磁気ディスクを製造した。
【００１８】表−１に実施例１及び比較例１〜６で製造
した磁気ディスクについて、突起の有無、テキスチャー
パターン、中心線（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２の規
定による）の差を示す。
した磁気ディスクについて、突起の有無、テキスチャー
パターン、中心線（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９８２の規
定による）の差を示す。
【００１９】
【表１】 表−１ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 突起の有無 テキスチャーパターン 中心線の差 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ 有り 同心円 ４ｎｍ 比較例１ 無し 同心円 ０ｎｍ 比較例２ 無し クロス（３０度） ０ｎｍ 比較例３ 有り クロス（３０度） ４ｎｍ 比較例４ 無し クロス（６０度） ０ｎｍ 比較例５ 無し クロス（９０度） ０ｎｍ 比較例６ 無し 同心円，クロス（３０度） １００ｎｍ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【００２０】表−２に、これらのディスクのＣＳＳテス
ト前の静止摩擦係数（初期スティクション）、ＣＳＳ２
万回後の摩擦力、周方向Ｈｃ、及びＨｃ異方比（周方向
Ｈｃと半径方向Ｈｃとの比）、エラー個数を示した。Ｃ
ＳＳテストはヘッド浮上量２μインチ、ロードグラム６
ｇｆの薄膜ヘッド（スライダ材質Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ）を
用いた。また、ヘッドの浮上安定高さは、データ記録領
域とＣＳＳ領域間のシーク時のヘッドの浮上安定性をグ
ライドテスターを用いて評価した。ＣＳＳ領域の安定浮
上高さはすべて１．５μインチであった。
ト前の静止摩擦係数（初期スティクション）、ＣＳＳ２
万回後の摩擦力、周方向Ｈｃ、及びＨｃ異方比（周方向
Ｈｃと半径方向Ｈｃとの比）、エラー個数を示した。Ｃ
ＳＳテストはヘッド浮上量２μインチ、ロードグラム６
ｇｆの薄膜ヘッド（スライダ材質Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ）を
用いた。また、ヘッドの浮上安定高さは、データ記録領
域とＣＳＳ領域間のシーク時のヘッドの浮上安定性をグ
ライドテスターを用いて評価した。ＣＳＳ領域の安定浮
上高さはすべて１．５μインチであった。
【００２１】エラー個数の測定条件は以下の通りであ
る。磁気ディスクの回転数３６００ｒｐｍ、記録周波数
１０ＭＨｚ、記録トラック幅６μｍとし、ヘッドは薄膜
ヘッドを用い、ヘッドギャップ０．３μｍ、ヘッド浮上
量０．０７μｍとした。ミッシングビットのスライスレ
ベルを６５％とし、それ以下のビットをエラーとしてカ
ウントした。
る。磁気ディスクの回転数３６００ｒｐｍ、記録周波数
１０ＭＨｚ、記録トラック幅６μｍとし、ヘッドは薄膜
ヘッドを用い、ヘッドギャップ０．３μｍ、ヘッド浮上
量０．０７μｍとした。ミッシングビットのスライスレ
ベルを６５％とし、それ以下のビットをエラーとしてカ
ウントした。
【００２２】 表−２ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 初期スティクシ ＣＳＳ２万回 周方向 Ｈｃ エラー ョン（摩擦係数） 後の摩擦力 Ｈｃ 異方比 個数 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ 0.18 10gf 1500Oe 2.0 5 比較例１ 0.30 20gf 1500Oe 2.0 − 比較例２ 0.20 12gf 1350Oe 1.8 − 比較例３ 0.18 10gf 1350Oe 1.8 − 比較例４ 0.20 12gf 1250Oe 1.6 − 比較例５ 0.20 12gf 1100Oe 1.3 − 比較例６ − − 1500Oe 2.0 100以上 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、ＣＳＳ領域において
は、下地層の表面上に突起の高さとその先端の形状、突
起の存在領域及び密度が制御された表面形状を形成する
ため、磁気ヘッド下面と磁気記録媒体の表面との接触面
積が少なく、ＣＳＳ時の摩擦が極端に小さくなり、ま
た、ヘッドの媒体表面へのスティッキングも全く発生し
なくなる。
は、下地層の表面上に突起の高さとその先端の形状、突
起の存在領域及び密度が制御された表面形状を形成する
ため、磁気ヘッド下面と磁気記録媒体の表面との接触面
積が少なく、ＣＳＳ時の摩擦が極端に小さくなり、ま
た、ヘッドの媒体表面へのスティッキングも全く発生し
なくなる。
【００２４】一方、データ記録領域には記録特性に有利
な同心円状の機械的研磨が施されているため、記録特性
も良好である。また、ＣＳＳ領域とデータ記録領域の段
差が小さいためエラーも低減される。このように本発明
によれば、従来トレードオフの関係にあったＣＳＳ特性
と記録再生特性を両立することができエラーも低減でき
るため、工業的な意義は極めて大きい。
な同心円状の機械的研磨が施されているため、記録特性
も良好である。また、ＣＳＳ領域とデータ記録領域の段
差が小さいためエラーも低減される。このように本発明
によれば、従来トレードオフの関係にあったＣＳＳ特性
と記録再生特性を両立することができエラーも低減でき
るため、工業的な意義は極めて大きい。
【図１】表面形状装置により観察した本発明の磁気ディ
スク用基板表面の突起の形状を示す図である。
スク用基板表面の突起の形状を示す図である。
【図２】図１の突起の断面図である。
【図３】クロス角度と保磁力（Ｈｃ）の関係を示す図で
ある。
ある。
【図４】クロス角度とＨｃ異方性の関係を示す図であ
る。
る。
【図５】テキスチャーパターンとＣＳＳ特性の関係を示
す図である。
す図である。
【図６】クロス角の定義を示す図である。
【図７】従来法によるゾーンテキスチャー媒体のＣＳＳ
領域とデータ記録領域の段差を示す図である。
領域とデータ記録領域の段差を示す図である。
フロントページの続き (72)発明者 栗山 俊彦 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 (72)発明者 芳山 龍一 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 非磁性基板上に、少なくとも、非磁性体
からなる下地層及び磁性層を有する磁気記録媒体であっ
て、データ記録領域の非磁性基板表面又は下地層表面に
は同心円状の機械的研磨による加工痕が形成されてお
り、ＣＳＳ（コンタクトアンドストップ）領域の非磁性
基板表面又は下地層表面にはエネルギー線照射による突
起が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 データ記録領域の半径方向に測定した粗
さ曲線の中心線とＣＳＳ領域の半径方向に測定した粗さ
曲線の中心線との差が１０ｎｍ以下である請求項１に記
載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 非磁性基板上に、少なくとも、非磁性体
からなる下地層及び磁性層を有する磁気記録媒体用基板
であって、データ記録領域の非磁性基板表面又は下地層
表面には同心円状の機械的研磨による加工痕が形成され
ており、ＣＳＳ（コンタクトアンドストップ）領域の非
磁性基板表面又は下地層表面にはエネルギー線照射によ
る突起が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体
用基板。 - 【請求項４】 データ記録領域の半径方向に測定した粗
さ曲線の中心線とＣＳＳ領域の半径方向に測定した粗さ
曲線の中心線との差が１０ｎｍ以下である請求項１に記
載の磁気記録媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29507294A JPH08153324A (ja) | 1994-11-29 | 1994-11-29 | 磁気記録媒体及び基板 |
| DE19524220A DE19524220A1 (de) | 1994-07-04 | 1995-07-03 | Magnetisches Aufzeichnungsmedium, Verfahren zu dessen Herstellung, und Aufnahme- und Wiedergabeverfahren |
| KR1019950019855A KR960005459A (ko) | 1994-07-04 | 1995-07-03 | 자기기록매체, 그의 제조방법 및 기록 및 판독방법 |
| US08/937,045 US5928759A (en) | 1994-07-04 | 1997-09-24 | Magnetic recording medium, method of producing the same, and recording and reading-out method |
| US09/306,909 US6217970B1 (en) | 1994-07-04 | 1999-05-07 | Magnetic recording medium, method of producing the same, and recording and reading-out method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29507294A JPH08153324A (ja) | 1994-11-29 | 1994-11-29 | 磁気記録媒体及び基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08153324A true JPH08153324A (ja) | 1996-06-11 |
Family
ID=17815959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29507294A Pending JPH08153324A (ja) | 1994-07-04 | 1994-11-29 | 磁気記録媒体及び基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08153324A (ja) |
-
1994
- 1994-11-29 JP JP29507294A patent/JPH08153324A/ja active Pending
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