JPH103657A

JPH103657A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH103657A
Application number: JP15360696A
Authority: JP
Inventors: Hironori Hara; 裕紀原; Naoki Inoue; 直樹井上; Nobuo Kurataka; 伸雄倉高
Original assignee: Kubota Corp
Current assignee: Kubota Corp
Priority date: 1996-06-14
Filing date: 1996-06-14
Publication date: 1998-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】ヘッドの浮上高(グライド高さ)を低くしつ
つ、ヘッドと磁気記録媒体との吸着を有効に防止でき、
且つ読出し／書込み時の電磁変換上のエラーの少ない磁
気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】非磁性のサブストレート12上にＮｉＰ層
13が形成された基板11のＮｉＰ層13のＣＳＳゾーン2及
びデータゾーン3となる領域に、機械的なテクスチャリ
ングを円周方向に施して微細な凹凸31を形成した後、機
械的テクスチャの施されたＮｉＰ層13のＣＳＳゾーン2
となる領域に、パルスレーザー光を照射することを特徴
としており、ＣＳＳゾーン2となる領域に、機械的テク
スチャの凹凸面よりも低い凹部23と、該凹部の外周に連
続し前記凹凸面よりも高く盛り上がった淵縁部22を有す
る椀状部21を多数個形成できるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクド
ライブ装置等の磁気ディスク装置に使用される磁気記録
媒体の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスクドライブ装置等の磁気デ
ィスク装置に用いられる磁気記録媒体(1)は、一般に図
３に示す如く、Ａｌ合金からなる非磁性のサブストレー
ト(12)上に非晶質のＮｉＰ層(13)が形成された基板(11)
に、Ｃｒ下地層(14)、Ｃｏ合金の磁性層(15)、カーボン
等の保護膜(16)を順次積層成膜して形成される。

【０００３】磁気記録媒体は高記録密度化の要請によ
り、磁気記録媒体とヘッドとの距離を小さくし、ヘッド
浮上高を低くする必要がある。ヘッド浮上高を低くする
には、磁気記録媒体の表面は滑らかであることが望まし
いが、表面を滑らかにすると、磁気記録媒体とヘッドと
の接触面積が大きくなって、磁気記録媒体とヘッドとの
間の摩擦が増大したり、ヘッドが磁気記録媒体に吸着す
ることがあり、ＣＳＳ(コンタクト・スタート・ストッ
プ)性能が低下するという問題がある。

【０００４】そこで、磁気記録媒体に意図的に凹凸を形
成して、ヘッドと磁気記録媒体との接触面積を小さくす
ることが行なわれている。この方法として、テクスチャ
と呼ばれる微細な凹凸をＮｉＰ層の表面に機械的に形成
するものがある。機械的テクスチャリングは、回転する
基板に対し、表面に砥粒が混合された樹脂(バインダー)
が薄く塗布されたテープを、背面からローラを押し当て
つつ走行させて実施される。ＮｉＰ層に機械的テクスチ
ャリングを施した後、順に下地層、磁性層、保護膜を形
成すると、ＮｉＰ層に形成されたテクスチャとほぼ同様
の凹凸が各層に出現する。

【０００５】機械的テクスチャリングによる凹凸は、磁
気記録媒体とヘッドとの吸着を防止するためには、ある
程度の粗さにする必要がある。しかしながら、テクスチ
ャの粗さを大きくすると、図１０に示す如く、異常に高
い突起(33)が形成されることがある。異常突起(33)は、
磁気記録媒体の読出し／書込み時に電磁変換上のエラー
の発生原因となったり、磁気記録媒体とヘッドとの接触
または衝突を引き起こす。ヘッドとの接触等を防止する
には、ヘッド浮上高を高く設定せざるを得ず、これによ
り磁気記録媒体の記録密度が低下する問題がある。

【０００６】ヘッドの低浮上化を図るために、レーザー
光を利用してテクスチャを施す方法(以下「レーザーテ
クスチャリング」という)がある。レーザーテクスチャ
リングは、基板のＮｉＰ層の表面にレーザー光を照射
し、ＮｉＰ層の表面を溶融して凹みを形成するものであ
り、レーザー光をＮｉＰ層の表面に照射すると、図８に
示すように、ＮｉＰ層の表面よりも低く凹んだ凹部(23)
と、該凹部の外周に連続しＮｉＰ層の表面よりも高く盛
り上がった淵縁部(22)を有する椀状部(21)が形成され
る。レーザーテクスチャリングによって形成される椀状
部(21)の淵縁部(22)の高さは、任意に調節することがで
きるため、ヘッドの低浮上化を達成し、ヘッドと磁気記
録媒体との吸着防止に有効である。しかしながら、レー
ザーによるテクスチャは、保磁力等に劣る問題があっ
た。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ヘッドの浮
上高(グライド高さ)を低くしつつ、ヘッドと磁気記録媒
体との吸着を有効に防止でき、且つ読出し／書込み時の
電磁変換上のエラーの少ない磁気記録媒体の製造方法を
提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板のＮｉＰ
層に微細な機械的テクスチャリングを施すことにより読
出し／書込み時に電磁変換上のエラーの低減とヘッドの
低浮上化の目的を達成し、ＣＳＳゾーンとなる領域には
更にレーザーテクスチャリングを施すことにより、ヘッ
ドと磁気記録媒体との吸着防止の目的を達成するように
したものである。

【０００９】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁
性のサブストレート(12)上にＮｉＰ層(13)が形成された
基板(11)のＮｉＰ層(13)のＣＳＳゾーン(2)及びデータ
ゾーン(3)となる領域に、機械的なテクスチャリングを
円周方向に施して微細な凹凸(31)を形成した後、機械的
テクスチャの施されたＮｉＰ層(13)のＣＳＳゾーン(2)
となる領域に、パルスレーザー光を照射することを特徴
としており、ＣＳＳゾーン(2)となる領域に、機械的テ
クスチャの凹凸面よりも低い凹部(23)と、該凹部の外周
に連続し前記凹凸面よりも高く盛り上がった淵縁部(22)
を有する椀状部(21)を多数個形成できるようにしてい
る。

【００１０】本発明の方法により製造された磁気記録媒
体は、図７に示される如く、データゾーン(3)には機械
的テクスチャのみが施され、ＣＳＳゾーン(2)は、機械
的テクスチャの上からレーザーテクスチャが施されてい
る。機械的テクスチャは、基板のＮｉＰ層(13)に、ＣＳ
Ｓゾーン(2)となる領域を含む表面全体に円周方向に形
成される。円周方向にテクスチャを形成すると、その上
に形成されるＣｏ合金磁性層の結晶軸が円周方向に揃え
られ、円周方向の磁気異方性が高められて保磁力が向上
する。なお、機械的テクスチャは、ヘッドの低浮上化
と、電磁変換特性上のエラーを少なくするために、磁気
異方性向上効果が得られる範囲内で、できるだけ微細に
する必要があり、具体的には、粗さ(中心線平均粗さ)Ｒ
ａが０.５ｎｍ〜３ｎｍとなるように形成することが好
ましい。

【００１１】基板のＣＳＳゾーン(2)となる部分へのレ
ーザーテクスチャリングは、回転する基板(11)に対し、
基板(11)の直径方向にレーザーヘッド(61)を移動させな
がら、パルスレーザー光を照射することにより行なわれ
る。このレーザーテクスチャリングによって形成される
テクスチャは、図１に示す如く、レーザー光の照射され
た部分がＮｉＰ層(13)の機械的テクスチャ面よりも低く
凹んだ凹部(23)と、該凹部(23)の外周を囲む環状の淵縁
部(22)からなる椀状部(21)を有している。淵縁部(22)
は、ＮｉＰ層(13)の機械的テクスチャ面よりも高く盛り
上がり、該淵縁部(22)の内側は、凹部(23)に連続してい
る。この淵縁部(22)は、ＣＳＳ性能の向上に特に重要で
あり、その高さは、パルスレーザー光の照射条件により
所望寸法に調節される。ＣＳＳ性能の向上のため、淵縁
部(22)の高さは、ＮｉＰ層(13)の機械的テクスチャ面の
凹凸(31)の平均高さとなる基準面(32)から、３ｎｍ〜３
０ｎｍとなるよう調節することが好ましい。

【００１２】基板のＮｉＰ層(13)の機械的テクスチャ及
びレーザーテクスチャの夫々の表面に対し、公知の要領
にて、下地層(14)、磁性層(15)及び保護膜(16)が順次積
層成膜されると、各層にＮｉＰ層(13)のテクスチャと同
様の形状を有する凹凸が出現した磁気記録媒体が作製さ
れる。

【００１３】

【作用】機械的テクスチャリングは、ＣＳＳゾーン(2)
とデータゾーン(3)の両方のゾーンに施し、レーザーテ
クスチャリングは、機械的テクスチャの上からＣＳＳゾ
ーン(2)にのみ施すようにしたので、ＣＳＳゾーン(2)と
データゾーン(3)との間に段差のない磁気記録媒体を作
製することができ、ヘッドの低浮上化に寄与する。これ
に対して、機械的テクスチャリングをデータゾーン(3)
にのみ施すと、データゾーン(3)がＣＳＳゾーン(2)より
も低く、もしくは高くなり、ＣＳＳゾーン(2)とデータ
ゾーン(3)との間に段差を生じる不都合がある。

【００１４】

【発明の実施の形態】図７は、本発明の方法で製造する
磁気記録媒体(1)の斜視図を示している。磁気記録媒体
(1)の中央には、ハードディスクドライブ装置等の駆動
系に接続するための貫通孔(19)が開設されている。磁気
記録媒体(1)には、後述するテクスチャリングを施すこ
とにより、内周部にヘッドと磁気記録媒体との吸着を防
止するＣＳＳゾーン(2)と、その外側にデータの書込み
／読出しを行なうデータゾーン(3)が形成される。

【００１５】図３は、本発明の方法で製造する磁気記録
媒体(1)の部分断面図を示している。本発明の方法で製
造する記録媒体(1)は、非磁性のサブストレート(12)に
ＮｉＰ層(13)を形成した基板(11)上に、下地層(14)、磁
性層(15)及び保護膜(16)を、この順序で積層成膜して形
成される。図３では、ＮｉＰ層(13)、下地層(14)、磁性
層(15)及び保護膜(16)がサブストレート(12)に関して対
称に成膜されており、両面で書込み／読出しを行なえる
構成としているが、各層を片面にのみ成膜して、片面の
みで書込み／読出しを行なう構成とすることもできる。

【００１６】基板(11)は、Ａｌ合金、ガラス等の非磁性
材料にて構成されたサブストレート(12)上に、ＮｉＰ層
(13)を、ＤＣスパッタリング法、メッキ法又は真空蒸着
法等の公知の方法によって形成したものである。サブス
トレートは一般的に、１.２７mm以下の厚さであり、Ｎ
ｉＰ層は３〜１５μm程度の厚さに形成される。

【００１７】機械的テクスチャリング得られた基板(11)のＮｉＰ層(13)に機械的テクスチャリ
ングを施す。機械的テクスチャは、磁気記録媒体(1)の
ＣＳＳゾーン(2)及びデータゾーン(3)となる部分(図２
及び図７参照)に実施する。ＮｉＰ層(13)には、図９に
示すような微細な凹凸(31)が円周方向に形成されるよう
に機械的テクスチャリングを施す。機械的テクスチャリ
ングによる凹凸(31)は、粗さＲａが０.５ｎｍ〜３ｎｍ
となるように施すことが望ましく、１ｎｍ〜２.５ｎｍ
となるように施すことがより望ましい。凹凸を細かくし
過ぎると、磁気異方性の効果を十分に得ることができ
ず、また凹凸をこれよりも粗くすると、磁気記録媒体の
書込み／読出しの際に、電磁変換上のエラーが発生した
り、異常突起が形成されてヘッドと磁気記録媒体とが衝
突するためである。

【００１８】機械的テクスチャを施す装置として、図４
に示す如き研磨装置(5)を使用することができる。該装
置は、バフテープ(51)を回転する基板(11)に押し付けな
がら走行させ、ＮｉＰ層(13)を研磨するものである。基
板(11)は、モータ(図示せず)の回転軸を貫通孔(19)に嵌
めて、周方向に回転可能となるように固定される。バフ
テープ(51)は、磁気記録媒体(1)のデータゾーン(3)とＣ
ＳＳゾーン(2)となる部分の半径分にほぼ対応する寸法
のものが使用され、ノズルからスラリーがバフテープ(5
1)へ供給される。該バフテープ(51)は、基板(11)を挟む
よう対向して配備され、スプリング(図示せず)に連繋さ
れたローラ(52)によってＮｉＰ層(13)に押し当てられな
がら走行する。図中の矢印で示すように、バフテープの
走行方向は、基板の回転方向と対向する向きとなってい
る。バフテープ(51)と基板(11)は線接触であり、機械的
テクスチャを施している間、接触部分には、ノズル(54)
からスラリー(53)が供給される。

【００１９】上記研磨装置において、次の条件で機械的
テクスチャを行なうことにより、記録媒体の粗さを上述
の範囲に制御することができる。・バフテープの種類電気植毛バフテープ・バフテープの走行速度１〜１０cm／ｍｉｎ・基板の回転速度１００〜８００ｒｐｍ・バフテープの押付力０．５〜３.０ｋｇｆ・スラリーの種類ダイヤモンドスラリー・研磨時間１０〜６０ｓｅｃ

【００２０】レーザーテクスチャリング機械的テクスチャリングが施された基板(11)の半径方向
内側領域にレーザーテクスチャリングを施し、図１及び
図２に示す如く、ＮｉＰ層(13)に、ＮｉＰ層の表面より
も低く凹んだ凹部(23)と、該凹部の外周からＮｉＰ層の
表面よりも高く盛り上がった淵縁部(22)を有する椀状部
(21)を形成する。レーザーテクスチャリングの施された
部分が、磁気記録媒体のＣＳＳゾーン(2)(図７参照)と
なる。

【００２１】レーザーテクスチャリングの原理を図５を
参照しながら説明する。レーザー光(25)がＮｉＰ層(13)
に照射される（図５(a)）と、レーザー光(25)の一部は
ＮｉＰ層(13)に吸収され（図５(b)）、表面の温度が上
昇する。この温度上昇により、ＮｉＰ層(13)表面が溶融
し（図５(c)）、蒸発したＮｉＰによる蒸発反跳力によ
って溶融部分(26)が変形する（図５(d)）。変形した溶
融部分は、レーザー光照射の停止により、冷却されてそ
のままの形状が残り、椀状部(21)となるのである（図５
(e)）。

【００２２】レーザー光をＮｉＰ層(13)に垂直な方向か
ら照射した場合、図１に示す如く、淵縁部(22)が環状に
盛り上がった椀状部(21)を形成することができる。淵縁
部(22)の基準面(32)からの高さＨは、ＣＳＳ性能を向上
させるために最も重要な値であって、３ｎｍ〜３０ｎｍ
とすることが望ましく、８ｎｍ〜２０ｎｍとすることが
より望ましい。淵縁部(22)の最高部の直径Ｒは１μｍ〜
３０μｍとすることが望ましい。上記の如く淵縁部(22)
を形成した場合、凹部(23)の深さＤは、基準面(32)から
２０ｎｍ〜１５０ｎｍ低くなる。また、椀状部(21)は、
ＣＳＳ性能を向上させるために、５μｍ〜１００μｍの
間隔(椀状部間の中心間隔)となるように形成することが
望ましく、２０μｍ〜５０μｍの間隔で形成することが
より望ましい。また、椀状部(21)は、１mm²当り１００
〜４００００個形成されることが望ましく、４００〜２
５００個形成されることがより望ましい。

【００２３】上記動作は、図６に示すようなレーザー照
射装置(6)を用いて行なうことができる。レーザーヘッ
ド(61)は、バナデート等のパルスレーザー光を照射する
ことができるものであり、例えばスペクトラ・フィジッ
クス社製のT20-V70-106Qを挙げることができる。レーザ
ーヘッド(61)は、基板(11)の直径方向に水平移動可能で
あり、該ヘッド(61)が基板(11)に対して垂直にパルスレ
ーザー光(25)を照射できるように駆動部(62)に取り付け
られている。レーザーヘッド(61)から照射されるパルス
レーザー光のパルス間隔は、椀状部(21)の間隔、後述す
る基板(11)の周方向回転速度等の諸条件に基づいて調節
すればよい。基板(11)は、照射されるレーザー光(25)に
対して垂直な面内で周方向回転可能となるように、貫通
孔(19)がモータ(63)の回転軸(64)に嵌められる。レーザ
ーヘッド(61)、駆動部(62)、モータ(63)は夫々制御部(6
5)に接続されている。該制御器は、レーザーヘッドから
照射されるパルスレーザー光の間隔、レーザーヘッドの
移動量、基板の回転速度の制御をすることができる。

【００２４】レーザーヘッド(61)は、ＣＳＳゾーンの内
周となる位置に配置される。次に、モータ(63)が駆動し
て、基板(11)が回転する。なお、図６中の矢印は、夫々
レーザーヘッド(61)の移動方向、基板(11)の回転方向を
示している。レーザーヘッド(61)からの所定間隔毎にパ
ルスレーザー光(25)が照射され、ＮｉＰ層(13)の表面に
椀状部(21)が、周方向に順に形成される。レーザーヘッ
ド(61)は、駆動部(62)により基板(11)の外周方向に移動
し、その間、レーザー光(25)の照射及び基板(11)の回転
が続けられる。レーザーヘッド(61)がＣＳＳゾーンの外
周部に達すると、レーザー光の照射及びレーザーヘッド
の移動を停止し、基板の回転を止める。これにより、Ｃ
ＳＳゾーンに対応する部分にレーザーテクスチャが施さ
れる。なお、レーザーヘッド(61)の移動は、外周から内
周に向けて移動させることもできる。また、レーザーヘ
ッド(61)を周方向に回転させてもよい。

【００２５】上記レーザー照射装置において、次の条件
にてレーザーテクスチャリングを行なうと、ＣＳＳゾー
ンに形成される椀状部の形状を上述の範囲に制御するこ
とができる。・レーザー光の強さ０.５〜５μＪ／パルス・椀状部１個当りのレーザー光の照射時間５〜１５０ｎｓｅｃ・パルスレーザー光のパルス間隔０.０１〜１ｍｓｅｃ・レーザーヘッドの移動速度０.０５〜１ｍ／ｓｅｃ・基板の回転速度１００〜２０００ｒｐｍなお、バナデート以外に、ＹＡＧ、ＹＦＬ等のレーザー
光によってレーザーテクスチャリングをすることもでき
る。

【００２６】基板に機械的テクスチャリング及びレーザ
ーテクスチャリングを施した後、ＤＣスパッタリング
法、メッキ法又は真空蒸着法等の公知の方法によって、
Ｃｒ下地層、Ｃｏ合金磁性層及びカーボン保護膜を形成
することにより、磁気記録媒体を得ることができる。下
地層、磁性層及び保護膜の表面には、ＮｉＰ層と同様の
形状の凹凸が出現する。つまり、磁気記録媒体のデータ
ゾーンには、機械的テクスチャリングによる円周方向の
微細な凹凸が出現し、ＣＳＳゾーンには、機械的テクス
チャリングによる円周方向の微細な凹凸と、レーザーテ
クスチャリングによって形成された淵縁部と凹部を有す
る椀状部が多数個形成される。磁気記録媒体のデータゾ
ーンに出現する凹凸により磁気異方性を高めることがで
きる。またＣＳＳゾーンに出現する椀状部、特に淵縁部
は、ヘッドと磁気記録媒体との吸着を防止するのに有効
であり、磁気記録媒体表面からの高さを低く押えること
により、ヘッドの低浮上化を図ることができる。

【００２７】

【実施例】本発明方法による磁気記録媒体(本発明媒体)
と、比較のための磁気記録媒体(比較媒体１〜３)を夫々
以下の条件で作製し、グライド性能、ＣＳＳ性能及びミ
ッシングパルス個数を測定して比較を行なった。なお、
本発明媒体と比較媒体の作製条件は、テクスチャリング
以外は同じである。

【００２８】基板サブストレート：Ａｌ基板、厚さ０.８mm、直径３.５イ
ンチＮｉＰ層：厚さ１１μm(無電解メッキ法により形
成)テクスチャリング基板のＮｉＰ層に、表１に示すテクスチャリングを施し
た。なお、ＣＳＳゾーンとなる領域へのテクスチャリン
グは、基板の内周の内径３４mm、幅３mmの部分に実施し
た。

【表１】

【００２９】表１中のテクスチャの形成は、以下の条件
で行なった。・レーザーテクスチャレーザー光の種類：バナデートレーザー光の強さ：１μＪ／パルスレーザー光のパルス間隔：７０ｋＨｚ１mm²当りの椀状部の個数：１１００個・機械的テクスチャ(微細) スラリー：ダイヤモンドスラリー(平均粒径０.５μｍ) ・機械的テクスチャ(粗) スラリー：ダイヤモンドスラリー(平均粒径１.５μｍ)

【００３０】上記各処理を施した媒体に、下地層、磁性
層、保護膜及び潤滑膜を形成した。下地層：成分Ｃｒ、厚さ４０ｎｍ(スパッタリング法に
より形成) 磁性層：成分ＣｏＣｒＴａ、厚さ４０ｎｍ(スパッタリ
ング法により形成) 保護膜：カーボン、厚さ１５ｎｍ(スパッタリング法に
より形成) 潤滑膜：成分パーフルオロポリエーテル、平均厚さ２ｎ
ｍとなるように成膜

【００３１】得られた本発明媒体と比較媒体の表面状態
を測定し、以下の試験を行なった。・表面状態の測定レーザーテクスチャを施した部分については、基準面か
らの淵縁部の高さを測定(表２中「高さ」)。機械的テク
スチャ及びスーパーポリッシュを施した部分について
は、中心線平均粗さＲａを、測定長さ２.５mm、カット
オフ値０.２５mm、スタイラス(触針)径０.５μｍＲの条
件で測定(表２中「Ｒａ」)。・グライド性能試験ヘッドと磁気記録媒体が接触せずに飛行できる最低浮上
高を比較。ヘッドと磁気記録媒体が接触し始めたときの
高さを測定。・ＣＳＳ性能試験ハードディスク装置にて、電源のオン／オフを３万回行
ない、ヘッドと磁気記録媒体を繰り返し摺動させた(Ｃ
ＳＳ)後の摩擦力を測定。・ミッシングパルスエラー個数測定試験磁化方向を１インチ当り９００００回変えて書込み動作
を行なった後、スレショルド７０％としてパルスの読み
出しを行ない、ディスク１枚当りの読出し不能のパルス
の個数を測定。この値により、記録密度等の磁気記録媒
体全体としての評価を行なうことができる。

【００３２】夫々結果を表２に示す。

【表２】

【００３３】表２より、ＣＳＳゾーンにレーザーテクス
チャリングを施した記録媒体(本発明媒体及び比較媒体
３)は、レーザーテクスチャリングを施さない記録媒体
(比較媒体１及び２)に比べて、グライド高さは約２５％
低く、ＣＳＳ３万回後の摩擦力も約２１％低くできたこ
とが判る。また、微細な機械的テクスチャリングを施し
た磁気記録媒体(本発明媒体及び比較媒体１)は、ミッシ
ングパルスエラー個数が少なく、データゾーンにおける
電磁変換の際の読み出しエラーの発生回数も減少してい
ることが判る。本発明媒体と比較媒体１には、データゾ
ーンに同様の機械的テクスチャリングを施しているが、
本発明媒体は、比較媒体１に比べてエラー個数が減少し
ている。この原因として、本発明媒体のＣＳＳゾーンに
はレーザーテクスチャリングが施され、グライド高さを
低くできたこと、また、比較媒体１は、データゾーンと
ＣＳＳゾーンとの境界部分(トランジッションゾーン)で
のエラーが発生しやすく、その部分でのエラーが含まれ
ているのに対し、本発明媒体は、トランジッションゾー
ンでのエラー発生を抑えることができたことが挙げられ
る。比較媒体３については、データゾーンにスーパーポ
リッシュを施しているため、局所的に磁気異方性のばら
つきが生じ、エラーが発生している。

【００３４】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体の作製方法によれ
ば、データゾーンとなる基板のＮｉＰ層部分及びＣＳＳ
ゾーンとなるＮｉＰ層部分に微細な機械的テクスチャリ
ングを施し、ＣＳＳゾーンとなるＮｉＰ層部分には、機
械的テクスチャの上から、レーザーテクスチャリングを
施しているため、グライド高さが低く、ヘッドと磁気記
録媒体との摩擦が小さく、且つ読出し／書込み時の電磁
変換上のエラーが少ない磁気記録媒体を得ることができ
る。これにより磁気記録媒体の高品質、高性能化等の効
果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】機械的テクスチャの上からレーザーテクスチャ
が施された基板の部分拡大図である。

【図２】基板の一部を拡大した斜視図である。

【図３】磁気記録媒体の拡大断面図である。

【図４】研磨装置の斜視図である。

【図５】レーザーテクスチャの原理を示す図である。

【図６】レーザー照射装置の斜視図である。

【図７】磁気記録媒体の斜視図である。

【図８】従来のレーザーテクスチャによる椀状部を示す
斜視図である。

【図９】粗さの十分に細かい機械的テクスチャの凹凸を
示す図である。

【図１０】ある程度の粗さをもった機械的テクスチャの
凹凸を示す図である。

【符号の説明】

(１) 磁気記録媒体 (11) 記録媒体 (13) ＮｉＰ層 (21) 椀状部 (22) 淵縁部 (23) 凹部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】データゾーン(3)の内側にＣＳＳゾーン
(2)が形成された磁気記録媒体の製造方法において、非
磁性のサブストレート(12)上にＮｉＰ層(13)を成膜した
基板(11)を形成した後、ＮｉＰ層(13)表面のデータゾー
ン(3)及びＣＳＳゾーン(2)となる領域に円周方向の機械
的テクスチャを施して微細な凹凸（31）を形成し、機械
的テクスチャの施されたＮｉＰ層(13)表面のＣＳＳゾー
ン(2)となる領域にパルスレーザー光を照射して、機械
的テクスチャの凹凸面よりも低い凹部（23）と、該凹部
の外周に連続し前記凹凸面よりも高く盛り上がった淵縁
部（22）を有する椀状部(21)を多数個形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】パルスレーザー光は、周方向に回転する
基板(11)に対して、直径方向に移動するレーザーヘッド
(61)から照射されることを特徴とする請求項２に記載の
方法。