JPH08153470A

JPH08153470A - ガス放電パネルの保護膜およびその形成方法

Info

Publication number: JPH08153470A
Application number: JP6294340A
Authority: JP
Inventors: Ichiro Koiwa; 一郎小岩; Mitsuro Mita; 充郎見田; Katsuaki Sakamoto; 勝昭坂本; Takao Kanehara; 隆雄金原; 茂 ▲高▼崎; Shigeru Takasaki; Aya Yamanaka; 綾山中
Original assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Current assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date: 1994-11-29
Filing date: 1994-11-29
Publication date: 1996-06-11

Abstract

(57)【要約】【目的】スクリーン印刷法等の工程の簡単な形成法を
用いても、パネル駆動時の放電電圧が低く、同時に発光
効率も高いＡＣ−ＰＤＰの保護膜とその形成方法を提供
する。【構成】交流型ガス放電パネルの誘電体層用の保護膜
が、第１酸化物としての第１焼成体からなる第１保護膜
と、第２酸化物の粉末と、この粉末の粒子を結合してい
る第３酸化物とを含む第２焼成体とからなる第２保護膜
とで少なくとも構成される。またこの発明のＡＣ−ＰＤ
Ｐの保護膜を、以下に示す〜の工程でこの順に形成
する。焼成により第１焼成体を形成する第１前駆体を
含む第１ペースト層をスクリーン印刷法またはバーコー
タを用いて形成する。第１ペースト層を乾燥させてか
ら焼成して第１保護膜を形成する。酸化物の粉末と、
焼成により粉末の粒子間を結びつける第２焼成体を形成
する第２前駆体とを含む第２ペースト層をスクリーン印
刷法またはバーコータを用いて形成する。第２ペース
ト層を乾燥させてから焼成して第２保護膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、交流型ガス放電パネ
ルの保護膜およびその形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】交流型ガス放電パネル（以下、ＡＣ−Ｐ
ＤＰまたは単にパネルと称することがある。）では、通
常、対をなす表示電極上に電荷（壁電荷ともいう。）蓄
積用の誘電体層と、この誘電体層上に、放電時の損傷防
止の目的で保護膜とを設けてある。

【０００３】また、保護膜は、真空蒸着法により形成さ
れるのが一般的である。この方法を用いて形成された保
護膜中には、保護膜材料が偏りなく存在しているので、
保護膜材料の持つ本来の特性を生かすことができる。

【０００４】しかし、パネルの大型化や、パネル製造工
程の簡略化等の要求が高まってきた現在では、例えば文
献（テレビジョン学会報告、ＩＤＹ９４−１４、ｐｐ．
１−６）に開示されているような、スクリーン印刷法等
の工程が簡単な形成法を用いた保護膜の形成が検討され
てきている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ような保護膜を持つＡＣ−ＰＤＰには、以下のような問
題点があった。

【０００６】従来のＡＣ−ＰＤＰは、ＣＲＴに比べて発
光効率が低いため、発光効率を高める手段を考慮する必
要がある。この手段の一つとして、保護膜の膜厚を厚く
設ける方法が考えられる。保護膜の膜厚が厚ければ、発
光効率を高めることができるだけでなく、保護膜の劣化
の原因となるピンホールの発生をも防ぐことができ、パ
ネルの長寿命化にも効果がある。保護膜を厚くするとパ
ネル駆動時の放電電圧が高くなってしまうので、保護膜
をＭｇＯ等の、放電電圧を低く抑える性質を持つものを
用いて形成する。真空蒸着法によりこの保護膜を形成す
ると、均一性が優れているため、保護膜本来の特性を生
かすことができる。

【０００７】しかし、すでに述べてあるように、現在で
は、パネルの大型化や、パネル製造工程の簡略化等の要
求が高まってきたので、スクリーン印刷法による保護膜
の形成が検討されている。このため、保護膜の均一性に
ついて問題が生じてきた。スクリーン印刷法を用いて形
成された保護膜は、連続薄膜である蒸着膜に比して均一
性が劣る。すなわち保護膜の各領域で緻密さに偏りが生
じてしまうため、保護膜本来の特性を十分に生かすこと
ができない。したがって、発光効率の向上と放電電圧の
低下とを同時に達成することができなかった。

【０００８】よって、スクリーン印刷法等の工程が簡単
な形成法を用いても、パネル駆動時の放電電圧を低く抑
えることができ、同時に発光効率をも高めることができ
るようなＡＣ−ＰＤＰの保護膜とその形成方法の出現が
望まれていた。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このため、この発明のＡ
Ｃ−ＰＤＰの保護膜によれば、以下に示すように構成さ
れることを特徴とする。

【００１０】交流型ガス放電パネルを構成する二つの基
板の一方に、電荷蓄積用の誘電体層を介在させて設けら
れた誘電体層用の保護膜において、この保護膜は、第１
酸化物としての第１焼成体からなる第１保護膜と、第２
酸化物の粉末と、この粉末の粒子を結合している第３酸
化物とを含む第２焼成体とからなる第２保護膜とで少な
くとも構成される。

【００１１】また、上述の第１保護膜を誘電体層上に設
けてあるものとし、この第１保護膜上に第２保護膜を設
けてあるものとするのがよい。

【００１２】また、この発明の実施に当たり、上述の第
１、第２および第３酸化物を同じ組成の酸化物とするの
が好適である。

【００１３】またこの発明のＡＣ−ＰＤＰの保護膜を、
以下に示す〜の工程でこの順に形成するのが良い。

【００１４】焼成により第１焼成体を形成する第１前
駆体を含む第１ペースト層をスクリーン印刷法またはバ
ーコータを用いて形成する。

【００１５】第１ペースト層を乾燥させてから焼成し
て第１保護膜を形成する。

【００１６】酸化物の粉末と、焼成により粉末の粒子
間を結びつける第２焼成体を形成する第２前駆体とを含
む第２ペースト層をスクリーン印刷法またはバーコータ
を用いて形成する。

【００１７】第２ペースト層を乾燥させてから焼成し
て第２保護膜を形成する。

【００１８】また、この発明を実施するに当たり、第１
および第２前駆体として、同じ材料を用いるのが好適で
ある。

【００１９】

【作用】上述したこの発明のＡＣ−ＰＤＰの保護膜によ
れば、第１酸化物としての第１焼成体からなる第１保護
膜と、第２酸化物の粉末と、この粉末の粒子を結合して
いる第３酸化物とを含む第２焼成体とからなる第２保護
膜とで少なくとも構成される。このように、第２焼成体
が粉末の粒子を結合しているため、第２保護膜が緻密で
ある。また、第２保護膜のみでは放電電圧（放電開始時
の放電開始電圧と、放電を維持する放電維持電圧とがあ
る）が高くなってしまうので、第１保護膜を設けること
により、放電電圧を低く抑えながらも、高輝度と高効率
をも同時に達成することができる。

【００２０】また、第１保護膜を誘電体層上に設けてあ
るものとし、この第１保護膜上に第２保護膜を設けてあ
るものとする。このことには、次のような意味がある。
上述してあるように第２保護膜は、第２酸化物の粉末
と、この粉末の粒子を結合している第３酸化物とを含む
第２焼成体とからなっている。第３酸化物は、保護膜の
上側表面近傍に集中して存在し、下側表面に近付くにし
たがってその存在量は減少している。このため、誘電体
上に直接設ける保護膜としては、保護膜中の酸化物が膜
全体に散らばっている第１保護膜が適しているといえ
る。

【００２１】また、この発明の実施に当たり、上述の第
１、第２および第３酸化物を同じ組成の酸化物とする
と、保護膜の膜質が均質となり、より緻密になるため、
保護膜本来の特性を生かすことができる。

【００２２】またこの発明のＡＣ−ＰＤＰの保護膜を形
成するに当たり、焼成により第１焼成体を形成する第１
前駆体を含む第１ペースト層と、酸化物の粉末と、焼成
により粉末の粒子間を結びつける第２焼成体を形成する
第２前駆体とを含む第２ペースト層とを、スクリーン印
刷法またはバーコータを用いて形成するので、コストを
低く抑えられる上に大型化が容易であるため量産性も高
い。また、第１ペースト層および第２ペースト層は、二
つの層を形成した後にまとめて焼成するのではなく、各
層を形成した後にそれぞれ焼成するため、保護膜中の酸
化物の偏りがより少なくなり、安定した特性を示す保護
膜が得られる。

【００２３】

【実施例】以下、図面を参照して、この発明の実施例に
つき説明をする。各図は、発明が理解できる程度に概略
的に示してあるにすぎない。また、以下の説明において
特定の材料および条件等を用いるが、これらは好適例の
一つにすぎず、したがって、この発明では何らこれに限
定されるものではない。なお、断面を表すハッチング等
は一部分を除き省略してある。

【００２４】図１は、この発明の実施例に係る面放電型
ＡＣ−ＰＤＰの基本構造を説明するための要部斜視図で
ある。

【００２５】このパネル１０の背面基板１１上に、表示
電極１３が対をなして平行配置されている。そして、こ
の表示電極を覆うように電荷蓄積用の誘電体層１５が設
けられ、さらに誘電体層１５上全面に保護膜１７が設け
られている。この背面基板１１と、壁（図示せず）およ
び緑色蛍光体層１９を具えた前面基板２１とを、放電空
間２３を介して対向させるように重ね合わせてある。放
電空間２３には、放電ガス（例えばＨｅが９５Ｖｏｌ
％、Ｘｅが５Ｖｏｌ％の混合ガス）が５００Ｔｏｒｒ封
入してある。この実施例では、壁として黒色ガラス、緑
色蛍光体としてＺｎＳｉＯ₄ ：Ｍｎ（ジンクシリケート
マンガン、Ｐ１−Ｇ１（商品名）、化成オプトニクス社
製）、電極材料として金（Ａ−３７２５（商品名）、エ
ンゲルハルド製）、誘電体として透明ガラス（Ｇ３−０
４９６（商品名）、奥野製薬工業社製）を用いている。

【００２６】このパネル１０の駆動を１０ｋＨｚで行
い、各条件下で放電特性等について比較する実験を行っ
た。

【００２７】図２は、背面基板１１上の誘電体層１５と
その保護膜１７の一部分を拡大して示す略線図である。

【００２８】この発明によれば、上述したような構造の
パネル１０の保護膜１７において、この保護膜１７は第
１酸化物としての第１焼成体からなる第１保護膜１７ａ
と、第２酸化物の粉末と、この粉末の粒子を結合してい
る第３酸化物とを含む第２焼成体からなる第２保護膜１
７ｂとで少なくとも構成されている。この実施例では、
誘電体層１５上に直接設けられている保護膜を第１保護
膜１７ａとし、第１保護膜１７ａ上を覆うように、さら
に設けられた保護膜を第２保護膜１７ｂとした。

【００２９】また、この実施例では、第１酸化物をＭｇ
Ｏとし、第１保護膜１７ａを、第１焼成体１８ａである
ＭｇＯからなる保護膜とした。また、第２酸化物をＭｇ
Ｏとし、この第２酸化物ＭｇＯの粉末を結合している第
３酸化物をＭｇＯとした。よって、第２保護膜１７ｂ
は、ＭｇＯ粉末（以下、単に粉末と称する場合があ
る。）と、粉末の粒子を結合しているＭｇＯとを含む第
２焼成体１８ｂからなる保護膜とした。

【００３０】このように、この実施例のパネル１０にお
ける保護膜１７は、第１保護膜１７ａと第２保護膜１７
ｂとからなる２層構造の保護膜であり、誘電体層１５側
である下層側に第１保護膜１７ａが設けてあり、第１保
護膜１７ａ上に第２保護膜１７ｂが設けてある。後述す
るように、第２保護膜１７ｂ中のＭｇＯは表面近傍に局
在するために、ＭｇＯの存在領域に著しい偏りのない第
１保護膜１７ａを介することによって、保護膜１７全体
としてのＭｇＯの偏りを抑えることができ、安定した保
護膜特性を得ることができる。また、後述するように、
第２保護膜１７ｂのみではパネル駆動時の放電電圧を低
く抑えることができないので、放電電圧抑制に優れた第
１保護膜１７ａを介することによって、低電圧・低電流
・高効率を同時に達成させることができる。

【００３１】また、この発明の実施例のパネル１０の保
護膜１７において、上述したように、第１、第２および
第３酸化物をすべて同じ組成であるＭｇＯとした。これ
により保護膜１７は一層均質となり、また、緻密になる
ため、安定した保護膜特性を得ることができる。

【００３２】また、ＭｇＯには、２次電子放出比が高
く、イオン衝撃に強い等の優れた特性があるため、保護
膜として用いるには好適である。

【００３３】図３は、この発明の実施例の保護膜１７中
の酸化物（この実施例の場合はＭｇＯ）の存在領域を走
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観測した結果を模式的に表
した断面図である。図３に模式的に示しているように、
第１保護膜１７ａは、ＭｇＯ（第１酸化物）である第１
焼成体１８ａのみから成るため、ＭｇＯの存在領域に著
しい偏りは見られない。

【００３４】一方、第２保護膜１７ｂは、第２酸化物で
あるＭｇＯ粉末２５と、この粉末２５の粒子を結合して
いる第３酸化物であるＭｇＯとを含む第２焼成体１８ｂ
から成っているが、ＭｇＯの存在領域には偏りがみられ
る。第２焼成体１８ｂのうち、粉末２５の粒子を結合し
ているＭｇＯは、第２保護膜１７ｂの上側表面近傍に集
中して存在している。そして、第２保護膜の厚み方向に
沿って、第１保護膜１７ａに近づくほどそのＭｇＯ量が
少なくなっている。この、ＭｇＯが集中して存在する領
域をＡ層２７とし、また、第２焼成体１８ｂのうち、Ａ
層２７以外の領域をＢ層２９とする。なお、この模式図
ではＡ層２７とＢ層２９との境界線を明確に示してある
が、実際にはＡ層２７およびＢ層２９は、このような明
確な領域として存在するのではなく、上述したようにＭ
ｇＯの存在量は順次に変化しているので、この境界はぼ
やけている。

【００３５】次に、この発明のＡＣ−ＰＤＰにおける保
護膜１７の形成方法につき説明をする。

【００３６】この発明によれば、ＡＣ−ＰＤＰにおける
誘電体層１５用の保護膜１７を少なくとも第１および第
２保護膜１７ａおよび１７ｂの二層構造として形成する
に当たり、焼成により第１焼成体１８ｂを形成する第１
前駆体を含む第１ペースト層をスクリーン印刷法または
バーコータを用いて形成し、その後第１ペースト層を乾
燥させてから焼成して第１保護膜１７ａを形成し、さら
に酸化物の粉末と、焼成により粉末の粒子間を結びつけ
る第２焼成体１８ｂを形成する第２前駆体とを含む第２
ペースト層をスクリーン印刷法またはバーコータを用い
て形成し、その後第２ペースト層を乾燥させてから焼成
して第２保護膜を形成する。ここでいう第１前駆体は、
焼成工程を経ることにより、第１焼成体１８ａを形成す
る物質のことであり、第２前駆体は同じく、焼成工程を
経ることにより、第２焼成体１８ｂを形成する物質のこ
とである。

【００３７】このため、この実施例では、以下のように
した。まず、第１保護膜１７ａの材料となるペースト
は、第１前駆体として、マグネシウムエトキシエトキサ
イド溶液が３５．７ｗｔ％、樹脂としてエチルセルロー
スが７．１ｗｔ％、溶媒としてブチルカルビトールが５
７．２ｗｔ％でつくられる。このマグネシウムエトキシ
エトキサイド溶液は、加水分解性を抑制された、いわゆ
る安定化した状態であり、ブチルカルビトール液中に有
機ＭｇがＭｇＯに換算して約１０ｗｔ％含まれている。
このペーストをスクリーン印刷法によりパネルの誘電体
層上に印刷して第１ペースト層を形成する。その後、第
１ペースト層の乾燥を１５０℃の温度を１５分間保持し
て行い、さらに焼成を５８０℃の温度を１２．５分間保
持して行って、第１保護膜を形成する。これらの処理に
より、第１前駆体はＭｇＯからなる第１焼成体を形成す
る。このようにして形成した第１保護膜１７ａの厚さ
は、一例として約０．２μｍである。

【００３８】次に、第２保護膜１７ｂの材料となるペー
ストは、酸化物の粉末として、ＭｇＯ粉末を３０ｗｔ％
含み、さらに第２前駆体としてマグネシウムエトキシエ
トキサイド溶液を２５ｗｔ％、樹脂としてエチルセルロ
ースを５ｗｔ％、溶媒としてブチルカルビトールを４０
ｗｔ％を含む。この場合も同様にマグネシウムエトキシ
エトキサイド溶液は、加水分解性を抑制された、いわゆ
る安定化した状態である。この場合はブチルカルビトー
ル液中に有機ＭｇがＭｇＯに換算して、約１０ｗｔ％含
まれている。このペーストをスクリーン印刷法により第
１保護膜１７ａ上に印刷し、第２ペースト層を形成す
る。その後、第２ペースト層の乾燥を１５０℃の１０分
間保持で、さらに焼成を５８０℃の１２．５分間保持で
行い、第２保護膜１７ｂを形成する。これにより第２前
駆体はＭｇＯ粉末を結合する第２焼成体１８ｂを形成
し、このようにして、図３に示すように、ＭｇＯの焼成
体が上側表面に集中して存在するＡ層２７とＭｇＯの少
ないＢ層２９とを有する、第２保護膜１７ｂが形成され
る。この第２保護膜１７ｂの厚さは、一例として約４．
０μｍである。このため、第１および第２保護膜１７ａ
および１７ｂをあわせた保護膜１７全体の厚さは約４．
２μｍである。

【００３９】第１および第２ペースト層を乾燥させた後
焼成する工程において、乾燥によりペースト中の溶媒
（ブチルカルビトール）が蒸発する。このとき、特に第
２ペースト層の場合は、第２前駆体であるマグネシウム
エトキシエトキサイド溶液が、ペースト層の表面近傍に
集められる。第１ペースト層の場合は第１前駆体である
マグネシウムエトキシエトキサイド溶液は分散したまま
である。さらに焼成によりエチルセルロース樹脂と、第
１および第２前駆体が燃焼する。この結果、マグネシウ
ムエトキシエトキサイド溶液は分解して、溶液中の成分
である有機Ｍｇが成分Ｏと結びついてＭｇＯになる。こ
のうち、第１保護膜１７ａを構成する、第１前駆体に起
因した成分であるＭｇＯは、すでに説明してあるように
著しい偏りはみられない。一方、第２前駆体に起因した
成分であるＭｇＯは、第２保護膜１７ｂの上側表面近傍
のＭｇＯ粉末２５の粒子間を結びつけて固定し、その結
果、ＭｇＯ粉末からのＭｇＯと第２前駆体からのＭｇＯ
の両者のＭｇＯの焼成体としての保護膜となっている。
また、すでに説明してあるように、第２前駆体に起因し
たＭｇＯが保護膜の表面近傍に偏在してＡ層２７を形成
しており（図３）、第２保護膜１７ｂの厚み方向に観察
すると、ＭｇＯの分布にむらが生じていることになる。
このようにして、図３に示すような保護膜１７の構造に
なった。

【００４０】この実施例では、保護膜１７のうち、第１
ペースト層をまず誘電体層１５上に設けた後に乾燥させ
てから一旦焼成して第１保護膜１７ａを形成し、その後
第１保護膜１７ａ上に第２ペースト層を設け、再度乾燥
させてから焼成して第２保護膜１７ｂを形成した。この
ことには、次のような意味がある。もし、間に焼成工程
を入れず、第１および第２ペースト層を共に形成した後
にまとめて焼成をした場合、第１ペースト中に含まれる
第１前駆体も、粉末を結合する焼成体として働くことに
なり、第２前駆体と混ざり合って、保護膜１７の上側表
面近傍に局在してしまう。こうすると、第２保護膜だけ
でなく、保護膜全体で、ＭｇＯが集中して存在するＡ層
と、ＭｇＯの少ない領域であるＢ層に分かれることにな
る。一旦焼成して第１保護膜１７ａを形成してしまえば
第１前駆体は第１焼成体を形成して事実上ＭｇＯは動か
ずに固定される。このため、第２保護膜１７ｂ表面がイ
オン衝撃などを受けても、誘電体層１５がすぐに露出す
るようなことがない。また、最後にまとめて焼成をする
と、このときに第１ペースト層から発生するガス（Ｈ₂
ＯやＣＯ₂ ）などにより、第２ペースト層が影響を受
け、第２保護膜１７ｂがポーラスになる可能性がある。
したがって、第１ペースト層形成後に焼成工程を入れる
と、第２保護膜１７ｂがポーラスになるのを防ぐ効果も
ある。

【００４１】この実施例では、上述した説明からもわか
るように、第１および第２前駆体として、同じ材料であ
るマグネシウムエトキシエトキサイド溶液を用いた。こ
のようにすると、保護膜１７全体の膜質がより均質にな
り、また緻密化する。

【００４２】また、この実施例では、第１および第２前
駆体として、マグネシウムエトキシエトキサイドのブチ
ルカルビトール溶液としたが、マグネシウムエトキシエ
トキサイドの代わりに、マグネシウムエトキシエトキサ
イド、マグネシウムエトキシド、オクチル酸マグネシウ
ム、ナフテン酸マグネシウム、マグネシウムブトキシド
およびマグネシウムメトキシプロピレートの材料群から
選ばれた少なくとも一種類の材料のブチルカルビトール
溶液としても、前駆体として同様の働きを示す。

【００４３】また、この発明では、第２ペースト層中に
おける酸化物の粉末の含有量を最大でも３０ｗｔ％とす
る。それには以下のような意味がある。第２前駆体とし
て、例えば実施例のマグネシウムエトキシエトキサイド
溶液の場合、ブチルカルビトール中に含まれる有機Ｍｇ
の量は６ｗｔ％程度しかない。このため第２ペースト層
中の第２前駆体は、粉末と同程度の量を添加するのが望
ましい。また、平坦性の良い保護膜を形成するために
は、ペースト中の樹脂と溶媒（エチルセルロースおよび
ブチルカルビトール）とが、全体の５０ｗｔ％程度は含
まれるのが望ましい。以上の点を考慮して研究を重ねた
結果、良い特性を示す保護膜を得るためには、第２ペー
スト層中の酸化物の粉末の含有量は、３０ｗｔ％を超え
ないのが望ましいことがわかった。

【００４４】表１は、本実施例のパネルの放電特性を他
のパネルと比較して示したものである。なお、これらの
パネルの保護膜は、酸化物としてＭｇＯを用いたもので
ある。

【００４５】

【表１】

【００４６】表１は、実施例のパネルも含めて４種類の
パネルの放電特性を調べた結果である。パネル１は、保
護膜を、実施例でいう第１保護膜のみで構成したもので
あり、パネル２は、第２保護膜のみで構成したものであ
る。また、パネル３は、第２保護膜を２回積層して２層
構造にしたものであり、パネル１０は第１保護膜を下層
に、第２保護膜を上層に設けた実施例のパネルである。
このそれぞれのパネルについて、パネルの放電開始電圧
Ｖ_f 、放電維持電圧Ｖ_s 、パネルの輝度Ｌ、パネルの単
位セル（放電が起こる空間）あたりに流れる放電電流
Ｉ、およびパネルの発光効率ηを測定した。

【００４７】表１からも明らかなように、本実施例にお
けるパネル１０では、低電流・低電圧・高効率を達成し
ている。第１保護膜のみで形成されたパネル１では、放
電開始電圧Ｖ_f が３０８Ｖ、放電維持電圧Ｖ_s は２９０
Ｖと低く、放電電圧抑制に優れている。しかし、セルご
とに流れる放電電流Ｉが１３．２８μＡと非常に高く、
発光効率ηも４つのパネル中最低の０．６９ｌｍ／Ｗで
ある。第２保護膜のみで形成されたパネル２では、放電
電流Ｉおよび発光効率ηに着目すると、パネル１に比べ
て非常に改善されているが、放電開始電圧Ｖ_f が３７４
Ｖ、放電維持電圧Ｖ_s が３１２Ｖと高く、低電圧化を同
時に達成することができない。第２保護膜を２回積層し
て２層構造にしたパネル３では、放電電流Ｉおよび発光
効率ηはパネル２よりもさらに改善されているが、放電
開始電圧Ｖ_f および放電維持電圧Ｖ_s はパネル２と同
様、高い値を示す。本実施例であるパネル１０は、表１
によると、放電開始電圧Ｖ_f を３５２Ｖ、放電維持電圧
Ｖ_s を２７９Ｖ、また、放電電流Ｉを４．２７μＡまで
抑えた上で、発光効率ηを２．１３ｌｍ／Ｗまで向上さ
せることに成功している。本実施例のパネル１０を第１
保護膜のみで形成された保護膜を有するパネルと比較し
てみると、放電電流は１セルあたり９．０１μＡ抑制さ
れ、発光効率は３倍以上も向上している。また、放電開
始電圧Ｖ_f はパネル１よりも多少高い値を示してはいる
ものの、第２保護膜のみで形成されたパネルと比較して
みると、２２〜２９Ｖ抑制されているし、また、放電維
持電圧Ｖ_s においては、４パネル中最も低い値を示して
いる。また、輝度Ｌについては、実施例のパネル１０は
９２８ｃｄ／ｍ² であり、パネル１の９６７ｃｄ／ｍ²
よりも低い値を示しているが、輝度Ｌについては４５０
ｃｄ／ｍ² あれば十分なので、この低減値は問題になら
ない程度である。つまり、放電電圧抑制に優れた第１保
護膜を介して第２保護膜を形成することにより、スクリ
ーン印刷法等の工程が簡単な形成法を用いても、低電流
・低電圧・高輝度・高効率を同時に達成することを実現
した。

【００４８】図４の（Ａ）、（Ｂ）および図５の
（Ａ）、（Ｂ）は、表１に示されている４つのパネルの
それぞれについて駆動実験を行ったとき、印加した電圧
（単位：Ｖ）を縦軸に取り、そのときのセルごとに流れ
る放電電流（単位：μＡ）の平均を横軸に取ってこれを
グラフに表したものである。図４の（Ａ）はパネル１、
図４の（Ｂ）はパネル２の結果であり、また、図５の
（Ａ）はパネル３、図５の（Ｂ）はパネル１０の結果で
ある。これらのグラフの直線の傾きであるセルインピー
ダンスを最小二乗法により求めた結果、パネル１は１．
３ＭΩ、パネル２は３．６ＭΩ、パネル３は２．３Ｍ
Ω、そしてパネル１０は５．８ＭΩであった。このこと
から、実施例の保護膜１７を用いたパネル１０のセルイ
ンピーダンスが最も大きく、低電流化が達成されている
ことがわかる。

【００４９】この発明は、上述した実施例にのみ限定さ
れるものではない。例えば、第１、第２、および第３酸
化物はＭｇＯでなく、ＺｒＯ、ＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 等
でも良いし、それらの組み合わせでも良い。また、以下
に示すような複合酸化物でも良い。すなわち、Ａ_1-x Ｂ
_x Ｃ₂ Ｏ₄ （Ａ、Ｂがアルカリ土類元素、Ｃが希土類元
素、ｘは組成比を表し、０≦ｘ≦１の範囲の値であ
る。）の構造式で表されるスピネル構造を有する複合酸
化物、例えばＢａ_0.6 Ｓｒ_0.4 Ｇｄ₂ Ｏ₄ 等である。こ
のようなスピネル構造を有する複合酸化物は仕事関数が
小さく、放電電圧を低く抑える働きがある。この場合
も、第１、第２、および第３酸化物は同じ組成のものに
するのが望ましいが、違う組成の酸化物の組み合わせで
も良い。また、第１および第２ペースト層をこの実施例
では、スクリーン印刷法を用いて形成したが、バーコー
タにより形成しても、スクリーン印刷法と同様に、コス
トの低減や、大型化が容易になる等の効果が期待でき
る。また、実施例の保護膜１７では、第１保護膜１７ａ
および第２保護膜１７ｂからなる２層構造のものとした
が、２層以上の組み合わせによる膜でも良い。例えば、
この発明によるパネルの保護膜のうち第１保護膜をａ
膜、第２保護膜をｂ膜とすると、ａ膜−ａ膜−ｂ膜、あ
るいはａ膜−ｂ膜−ｂ膜等の順で積層されている３層構
造でも良い。

【００５０】

【発明の効果】上述した説明からも明らかなように、こ
の発明のＡＣ−ＰＤＰによれば、第１酸化物としての第
１焼成体からなる第１保護膜と、第２酸化物の粉末と、
この粉末の粒子を結合している第３酸化物とを含む第２
焼成体とからなる第２保護膜とで少なくとも構成され
る。このように、第２焼成体が粉末の粒子を結合してい
るため、第２保護膜が緻密である。また、第２保護膜の
みでは放電電圧（放電開始時の放電開始電圧と、放電を
維持する放電維持電圧とがある）が高くなってしまうの
で、第１保護膜を設けることにより、放電電圧を低く抑
えながらも、高輝度と高効率をも同時に達成することが
できる。

【００５１】またこの発明のＡＣ−ＰＤＰの保護膜を形
成するに当たり、焼成により第１焼成体を形成する第１
前駆体を含む第１ペースト層と、酸化物の粉末と、焼成
により粉末の粒子間を結びつける第２焼成体を形成する
第２前駆体とを含む第２ペースト層とを、スクリーン印
刷法またはバーコータを用いて形成するので、コストを
低く抑えられる上に大型化が容易であるため量産性も高
い。また、第１ペースト層および第２ペースト層は、各
層を形成した後にそれぞれ焼成するため、保護膜中の酸
化物の偏りがより少なくなり、安定した特性を示す保護
膜が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の、第一および第二実施例に係る面放
電型ＡＣ−ＰＤＰの概略的な斜視図である。

【図２】この発明の実施例のＡＣ−ＰＤＰの一部分を拡
大して示す略線図である。

【図３】この発明の実施例の保護膜中の酸化物の存在領
域を模式的に表した断面図である。

【図４】（Ａ）および（Ｂ）は、実施例のパネルと比較
例のパネルとの駆動実験の結果、印加電圧とセルごとに
流れる放電電流の平均との関係をグラフに表したもので
ある。

【図５】（Ａ）および（Ｂ）は、図４に続く、実施例の
パネルと比較例のパネルとの駆動実験の結果、印加電圧
とセルごとに流れる放電電流の平均との関係をグラフに
表したものである。

【符号の説明】

１０：ＡＣ−ＰＤＰ（またはパネル）１１：背面基板１３：表示電極１５：誘電体層１７：保護膜１７ａ：第１保護膜１７ｂ：第２保護膜１８ａ：第１焼成体１８ｂ：第２焼成体１９：蛍光体層２１：前面基板２３：放電空間２５：粉末２７：Ａ層２９：Ｂ層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者金原隆雄東京都港区虎ノ門１丁目７番12号沖電気工業株式会社内 (72)発明者 ▲高▼崎茂東京都港区虎ノ門１丁目７番12号沖電気工業株式会社内 (72)発明者山中綾東京都港区虎ノ門１丁目７番12号沖電気工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】交流型ガス放電パネルを構成する二つの
基板の一方に、電荷蓄積用の誘電体層を介在させて設け
られた該誘電体層用の保護膜において、前記保護膜は、第１酸化物としての第１焼成体からなる
第１保護膜と、第２酸化物の粉末と、該粉末の粒子を結合している第３
酸化物とを含む第２焼成体とからなる第２保護膜とで少
なくとも構成されることを特徴とするガス放電パネルの
保護膜。
【請求項２】請求項１に記載のガス放電パネルの保護
膜において、前記第１保護膜を前記誘電体層上に設けて
あり、該第１保護膜上に前記第２保護膜を設けてあるこ
とを特徴とするガス放電パネルの保護膜。
【請求項３】請求項１に記載のガス放電パネルの保護
膜において、前記第１、第２および第３酸化物を同じ組
成の酸化物としたことを特徴とするガス放電パネルの保
護膜。
【請求項４】請求項１に記載のガス放電パネルの保護
膜において、前記第１、第２および第３酸化物を酸化マ
グネシウム（ＭｇＯ）としたことを特徴とするガス放電
パネルの保護膜。
【請求項５】請求項１に記載のガス放電パネルの保護
膜において、前記第１、第２および第３酸化物をＡ_1-x
Ｂ_x Ｃ₂ Ｏ₄ （Ａ、Ｂがアルカリ土類元素、Ｃが希土類
元素、０≦ｘ≦１）の構造式で表されるスピネル構造を
有する複合酸化物とすることを特徴とするガス放電パネ
ルの保護膜。
【請求項６】交流型ガス放電パネルを構成する二つの
基板の一方に、電荷蓄積用の誘電体層を介在させて、該
誘電体層用の保護膜を少なくとも第１および第２保護膜
の二層構造として形成するに当たり、焼成により第１焼成体を形成する第１前駆体を含む第１
ペースト層をスクリーン印刷法またはバーコータを用い
て形成し、その後該第１ペースト層を乾燥させてから焼成して第１
保護膜を形成し、さらに酸化物の粉末と、焼成により前記粉末の粒子間を
結びつける第２焼成体を形成する第２前駆体とを含む第
２ペースト層をスクリーン印刷法またはバーコータを用
いて形成し、その後該第２ペースト層を乾燥させてから焼成して第２
保護膜を形成することを特徴とするガス放電パネルの保
護膜形成方法。
【請求項７】請求項６に記載のガス放電パネルの保護
膜形成方法において、前記第１および第２前駆体とし
て、同じ材料を用いたことを特徴とするガス放電パネル
の保護膜形成方法。
【請求項８】請求項６に記載のガス放電パネルの保護
膜形成方法において、前記第１および第２前駆体は、マグネシウムエトキシエ
トキサイド、マグネシウムエトキシド、オクチル酸マグ
ネシウム、ナフテン酸マグネシウム、マグネシウムブト
キシドおよびマグネシウムメトキシプロピレートの材料
群から選ばれた少なくとも一種類の材料のブチルカルビ
トール溶液とし、前記第２ペースト層中における前記粉末の含有量を最大
限３０ｗｔ％としたことを特徴とするガス放電パネルの
保護膜形成方法。