JPH0877932A - ガス放電パネルの保護膜及びその形成方法 - Google Patents
ガス放電パネルの保護膜及びその形成方法Info
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- JPH0877932A JPH0877932A JP6209992A JP20999294A JPH0877932A JP H0877932 A JPH0877932 A JP H0877932A JP 6209992 A JP6209992 A JP 6209992A JP 20999294 A JP20999294 A JP 20999294A JP H0877932 A JPH0877932 A JP H0877932A
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Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 駆動電圧が低く、かつ、発光効率の大きな交
流型ガス放電パネルを提供すること。 【構成】 この発明のAC−PDPでは、誘電体層用の
保護膜25が1つの膜から形成される場合は、膜全体が
複合酸化物膜であり、2層以上の膜から形成される場合
は誘電体層とは反対側の最上層(表面層)が複合酸化物
膜である。このAC−PDPを駆動させたとき、放電維
持電圧を低くすることができる。さらに、このパネルの
輝度の寿命と放電開始電圧の寿命を長くすることが出来
る。
流型ガス放電パネルを提供すること。 【構成】 この発明のAC−PDPでは、誘電体層用の
保護膜25が1つの膜から形成される場合は、膜全体が
複合酸化物膜であり、2層以上の膜から形成される場合
は誘電体層とは反対側の最上層(表面層)が複合酸化物
膜である。このAC−PDPを駆動させたとき、放電維
持電圧を低くすることができる。さらに、このパネルの
輝度の寿命と放電開始電圧の寿命を長くすることが出来
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、交流型ガス放電パネ
ルの保護膜およびその形成方法に関する。
ルの保護膜およびその形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】交流型ガス放電パネル(以下、AC−P
DPあるいはパネルと称する場合がある。)では、表示
用電極上に電荷(壁電荷ともいう。)蓄積用誘電体層お
よび保護膜を順次に設ける。そして、一対になっている
表示用電極の間で、電荷蓄積用誘電体層を介して電荷を
やり取りし、これにより放電ガスのプラズマ放電を生じ
させる。このプラズマ放電により発生する紫外線を用い
て、蛍光体を発光させ、表示を行う。保護膜は、プラズ
マ放電形成時に電荷蓄積用誘電体層が損傷するのを防止
する。一般には、イオン衝撃による2次電子放出比が大
きく、かつ、放電開始電圧を低減できるだけでなく、イ
オン衝撃にも強く寿命の点でも問題がないMgOが、保
護膜として用いられている。
DPあるいはパネルと称する場合がある。)では、表示
用電極上に電荷(壁電荷ともいう。)蓄積用誘電体層お
よび保護膜を順次に設ける。そして、一対になっている
表示用電極の間で、電荷蓄積用誘電体層を介して電荷を
やり取りし、これにより放電ガスのプラズマ放電を生じ
させる。このプラズマ放電により発生する紫外線を用い
て、蛍光体を発光させ、表示を行う。保護膜は、プラズ
マ放電形成時に電荷蓄積用誘電体層が損傷するのを防止
する。一般には、イオン衝撃による2次電子放出比が大
きく、かつ、放電開始電圧を低減できるだけでなく、イ
オン衝撃にも強く寿命の点でも問題がないMgOが、保
護膜として用いられている。
【0003】現在、AC−PDPの保護膜に用いられる
MgO膜は、低維持電圧および駆動電圧の安定性を得や
すい真空蒸着法によって形成されている。しかし、パネ
ル製造の低コスト化およびパネルの大型化を容易にする
ため、スクリーン印刷法(例えば、文献:テレビジョン
学会技術報告 IDY94−14 p1〜6)を用い
て、MgO膜を形成することが試みられている。
MgO膜は、低維持電圧および駆動電圧の安定性を得や
すい真空蒸着法によって形成されている。しかし、パネ
ル製造の低コスト化およびパネルの大型化を容易にする
ため、スクリーン印刷法(例えば、文献:テレビジョン
学会技術報告 IDY94−14 p1〜6)を用い
て、MgO膜を形成することが試みられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
保護膜を用いたAC−PDPは、CRTに比べて発光効
率が低い。また、発光効率を高くすると、駆動電圧も高
くなり、発光効率だけを高めることは出来なかった。
保護膜を用いたAC−PDPは、CRTに比べて発光効
率が低い。また、発光効率を高くすると、駆動電圧も高
くなり、発光効率だけを高めることは出来なかった。
【0005】従って、駆動電圧(以下、放電維持電圧と
称する場合がある。)が低く、かつ、発光効率の大きな
AC−PDPを形成することができる保護膜の出現が望
まれていた。
称する場合がある。)が低く、かつ、発光効率の大きな
AC−PDPを形成することができる保護膜の出現が望
まれていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】このため、この発明のA
C−PDPによれば、電荷蓄積用誘電体層と誘電体層用
の保護膜とを具えているAC−PDPにおいて、保護膜
の少なくとも誘電体層とは反対側の表面側を複合酸化物
膜とすること、つまり、保護膜が1つの膜から形成され
る場合は、膜全体が複合酸化物膜であり、2層以上の膜
から形成される場合は誘電体層とは反対側の最上層(表
面層)を複合酸化物膜とすることを特徴とする。
C−PDPによれば、電荷蓄積用誘電体層と誘電体層用
の保護膜とを具えているAC−PDPにおいて、保護膜
の少なくとも誘電体層とは反対側の表面側を複合酸化物
膜とすること、つまり、保護膜が1つの膜から形成され
る場合は、膜全体が複合酸化物膜であり、2層以上の膜
から形成される場合は誘電体層とは反対側の最上層(表
面層)を複合酸化物膜とすることを特徴とする。
【0007】この発明の好適実施例では、複合酸化物膜
を希土類元素を含む複合酸化物膜とするのが良く、好ま
しくは、Ax B1-x C2 O4 (A、Bは2A族元素、C
は希土類元素、0≦x≦1)の構造式で表されるスピネ
ル構造を有する複合酸化物膜とするのが良い。
を希土類元素を含む複合酸化物膜とするのが良く、好ま
しくは、Ax B1-x C2 O4 (A、Bは2A族元素、C
は希土類元素、0≦x≦1)の構造式で表されるスピネ
ル構造を有する複合酸化物膜とするのが良い。
【0008】さらに、この発明の好適実施例では、保護
膜を3つの層で形成した場合には、最下層をMgO粒子
とMgOバインダーとからなるペースト層を焼成して形
成された焼結体層とし、中間層をMgO粒子とBa0.6
Mg0.4 Gd2 O4 バインダーとからなるペースト層を
焼成して形成された焼結体層とし、最上層をSr0.6M
g0.4 Gd2 O4 の構造式で表される複合酸化物膜とす
るのが良い。なお、ここで、MgOバインダーおよびB
a0.6 Mg0.4 Gd2 O4 バインダーとは、それぞれ、
焼成してMgOとなる成分であるMgとOとを含むバイ
ンダー、焼成してBa0.6 Mg0.4 Gd2 O4 となる成
分であるBa、Mg、GdおよびOを含むバインダーの
ことを意味している。
膜を3つの層で形成した場合には、最下層をMgO粒子
とMgOバインダーとからなるペースト層を焼成して形
成された焼結体層とし、中間層をMgO粒子とBa0.6
Mg0.4 Gd2 O4 バインダーとからなるペースト層を
焼成して形成された焼結体層とし、最上層をSr0.6M
g0.4 Gd2 O4 の構造式で表される複合酸化物膜とす
るのが良い。なお、ここで、MgOバインダーおよびB
a0.6 Mg0.4 Gd2 O4 バインダーとは、それぞれ、
焼成してMgOとなる成分であるMgとOとを含むバイ
ンダー、焼成してBa0.6 Mg0.4 Gd2 O4 となる成
分であるBa、Mg、GdおよびOを含むバインダーの
ことを意味している。
【0009】さらに、この発明の好適実施例では、誘電
体層は、放電空間を挟んで相対向する2つの基板のう
ち、少なくとも一方の基板上に設けられた表示用電極上
に少なくとも設けるのが良い。
体層は、放電空間を挟んで相対向する2つの基板のう
ち、少なくとも一方の基板上に設けられた表示用電極上
に少なくとも設けるのが良い。
【0010】さらに、この発明の好適実施例では、複合
酸化物膜をスクリーン印刷法によりこの複合酸化物の成
分を含むペースト層を誘電体層上に設け、このペースト
層を焼成して形成するのが良い。
酸化物膜をスクリーン印刷法によりこの複合酸化物の成
分を含むペースト層を誘電体層上に設け、このペースト
層を焼成して形成するのが良い。
【0011】
【作用】上述したこの発明のAC−PDPによれば、誘
電体層用の保護膜が1つの膜から形成される場合は、膜
全体が複合酸化物膜であり、2層以上の膜から形成され
る場合は誘電体層とは反対側の最上層(表面層)が複合
酸化物膜である。
電体層用の保護膜が1つの膜から形成される場合は、膜
全体が複合酸化物膜であり、2層以上の膜から形成され
る場合は誘電体層とは反対側の最上層(表面層)が複合
酸化物膜である。
【0012】従って、このAC−PDPを駆動させたと
き、放電維持電圧を低くすることができる。さらに、こ
のパネルの輝度および放電開始電圧の寿命を長くするこ
とが出来る。
き、放電維持電圧を低くすることができる。さらに、こ
のパネルの輝度および放電開始電圧の寿命を長くするこ
とが出来る。
【0013】
【実施例】以下 、図面を参照して、この発明の実施例
を説明する。これら図面において、各構成成分は、この
発明が理解できる程度に各構成成分の形状、大きさ、お
よび配置関係を概略的に示してあるにすぎない。以下の
説明において、発明の理解を容易にするため、この発明
の実施例に用いたAC−PDPの構造につき簡単に説明
し、その後で、この発明の保護膜について説明する。
を説明する。これら図面において、各構成成分は、この
発明が理解できる程度に各構成成分の形状、大きさ、お
よび配置関係を概略的に示してあるにすぎない。以下の
説明において、発明の理解を容易にするため、この発明
の実施例に用いたAC−PDPの構造につき簡単に説明
し、その後で、この発明の保護膜について説明する。
【0014】図1は、この発明の実施例に用いたAC−
PDPの斜視図である。実施例に用いたパネルの基本構
造は面放電型のAC−PDP11である。パネル11
は、2枚の対向する基板、例えばガラス板(前面板13
と背面板15)にすべての構成物を集約して加工し、前
面板13と背面板15を離間させて重ね合わせて形成し
ている。前面板13と背面板15のそれぞれの構成につ
いては以下に示す。また、このパネル11内の放電空間
17には、HeとXeの混合ガス(例えば、Heが95
Vol%、Xeが5Vol%)が500Torr封入さ
れている。このパネル11の駆動は、20kHzで行っ
た。
PDPの斜視図である。実施例に用いたパネルの基本構
造は面放電型のAC−PDP11である。パネル11
は、2枚の対向する基板、例えばガラス板(前面板13
と背面板15)にすべての構成物を集約して加工し、前
面板13と背面板15を離間させて重ね合わせて形成し
ている。前面板13と背面板15のそれぞれの構成につ
いては以下に示す。また、このパネル11内の放電空間
17には、HeとXeの混合ガス(例えば、Heが95
Vol%、Xeが5Vol%)が500Torr封入さ
れている。このパネル11の駆動は、20kHzで行っ
た。
【0015】このパネル11の前面板13の表面の放電
空間17側に、壁(図示せず)と蛍光体層(例えば、緑
色蛍光体層)19が形成されている。この実施例では、
壁として黒色ガラス、緑色蛍光体としてZnSiO4 :
Mn(ジンクシリケートマンガン、P1−G1(商品
名)、化成オプトニクス社製)が用いられている。
空間17側に、壁(図示せず)と蛍光体層(例えば、緑
色蛍光体層)19が形成されている。この実施例では、
壁として黒色ガラス、緑色蛍光体としてZnSiO4 :
Mn(ジンクシリケートマンガン、P1−G1(商品
名)、化成オプトニクス社製)が用いられている。
【0016】また、このパネル11の背面板15の表面
の放電空間側に、2つの表示電極21が平行な対となり
形成されている。そして、この表示電極21を覆うよう
に壁電荷蓄積用の誘電体層23が形成されている。さら
に、この誘電体層23を覆うように誘電体層用の保護膜
25が形成されている。この実施例では、電極材料とし
て金(商品番号A−3725、エンゲルハルド社製)、
誘電体として透明ガラス(商品番号G3−0496、奥
野製薬工業社製)が用いられている。
の放電空間側に、2つの表示電極21が平行な対となり
形成されている。そして、この表示電極21を覆うよう
に壁電荷蓄積用の誘電体層23が形成されている。さら
に、この誘電体層23を覆うように誘電体層用の保護膜
25が形成されている。この実施例では、電極材料とし
て金(商品番号A−3725、エンゲルハルド社製)、
誘電体として透明ガラス(商品番号G3−0496、奥
野製薬工業社製)が用いられている。
【0017】図2は、保護膜25と誘電体層23の一部
分を拡大して示す略線図である。この実施例では、2つ
の層で形成される膜を保護膜25として用いた場合のパ
ネル11(以下、第1パネルと称する場合がある。)
と、第1パネルに用いられる膜の上に、さらに複合酸化
物膜を作製することにより、3つの層からなる膜を保護
膜25として用いた場合のパネル11(以下、第2パネ
ルと称する場合がある。)について、パネル11の駆動
実験を行い、その放電特性および寿命特性について比較
し、複合酸化物膜の効果について検討した。これ以後、
保護膜25が複数の膜で形成されている場合、誘電体層
側から順番に、第1保護膜25a、第2保護膜25b、
第3保護膜25c・・・と称する場合がある。以下に、
第1〜第3保護膜25a〜25cの形成方法についてそ
れぞれ示した後、それぞれのパネルの放電特性と寿命特
性について説明する。
分を拡大して示す略線図である。この実施例では、2つ
の層で形成される膜を保護膜25として用いた場合のパ
ネル11(以下、第1パネルと称する場合がある。)
と、第1パネルに用いられる膜の上に、さらに複合酸化
物膜を作製することにより、3つの層からなる膜を保護
膜25として用いた場合のパネル11(以下、第2パネ
ルと称する場合がある。)について、パネル11の駆動
実験を行い、その放電特性および寿命特性について比較
し、複合酸化物膜の効果について検討した。これ以後、
保護膜25が複数の膜で形成されている場合、誘電体層
側から順番に、第1保護膜25a、第2保護膜25b、
第3保護膜25c・・・と称する場合がある。以下に、
第1〜第3保護膜25a〜25cの形成方法についてそ
れぞれ示した後、それぞれのパネルの放電特性と寿命特
性について説明する。
【0018】この発明では、第1保護膜25aとしてM
gOの焼結体層を用いている。この保護膜25aは、M
gO粒子とMgOバインダーとからなるペースト層を焼
成して得るが、具体的には、次のようにして形成する。
先ず、出発材料として、MgO微粉末を30wt%、加
水分解性を抑制されたマグネシウムジエトキシド溶液
(Mgとして6wt%含まれている。)を25wt%、
エチルセルロース樹脂を5wt%、ブチルカルビトール
溶媒を40wt%で含むペーストを作製する。次に、こ
のペーストを誘電体層23の表面上に、スクリーン印刷
法により印刷して形成した膜、すなはちペースト層を乾
燥(150℃、15分)した後、このペースト層を焼成
(580℃、12.5分)する。このようにして形成し
た第1保護膜25aの厚さを、一例として約4μmとす
る。
gOの焼結体層を用いている。この保護膜25aは、M
gO粒子とMgOバインダーとからなるペースト層を焼
成して得るが、具体的には、次のようにして形成する。
先ず、出発材料として、MgO微粉末を30wt%、加
水分解性を抑制されたマグネシウムジエトキシド溶液
(Mgとして6wt%含まれている。)を25wt%、
エチルセルロース樹脂を5wt%、ブチルカルビトール
溶媒を40wt%で含むペーストを作製する。次に、こ
のペーストを誘電体層23の表面上に、スクリーン印刷
法により印刷して形成した膜、すなはちペースト層を乾
燥(150℃、15分)した後、このペースト層を焼成
(580℃、12.5分)する。このようにして形成し
た第1保護膜25aの厚さを、一例として約4μmとす
る。
【0019】第2保護膜25bは、MgOとBa0.6 M
g0.4 Gd2 O4 との焼結体層としている。この保護膜
25bは、MgO粒子とBa0.6 Mg0.4 Gd2 O4 バ
インダーとからなるペースト層を焼成して得るが、具体
的には次のようにして形成する。先ず、出発材料とし
て、MgO微粉末を50wt%、バリウムイソプロポキ
シド、ストロンチウムイソプロポキシド及びガドリニウ
ム−n−ブトキシドをイソプロピルアルコール溶媒に溶
解してできる溶液(この溶液中では、バリウムとストロ
ンチウムとガドリニウムの元素のモル比が0.6:0.
4:2になるように混合している。)を12.5wt
%、エチルセルロース樹脂を5wt%、ブチルカルビト
ール溶媒を32.5wt%で含むペーストを作製する。
次に、このペーストを第1保護膜25aの表面上に、ス
クリーン印刷法により印刷して形成した膜(ペースト層
ともいう。)を乾燥(150℃、15分)した後、この
ペースト層を焼成(580℃、12.5分)する。この
ようにして形成した第2保護膜25bの厚さは、一例と
して約10μmである。
g0.4 Gd2 O4 との焼結体層としている。この保護膜
25bは、MgO粒子とBa0.6 Mg0.4 Gd2 O4 バ
インダーとからなるペースト層を焼成して得るが、具体
的には次のようにして形成する。先ず、出発材料とし
て、MgO微粉末を50wt%、バリウムイソプロポキ
シド、ストロンチウムイソプロポキシド及びガドリニウ
ム−n−ブトキシドをイソプロピルアルコール溶媒に溶
解してできる溶液(この溶液中では、バリウムとストロ
ンチウムとガドリニウムの元素のモル比が0.6:0.
4:2になるように混合している。)を12.5wt
%、エチルセルロース樹脂を5wt%、ブチルカルビト
ール溶媒を32.5wt%で含むペーストを作製する。
次に、このペーストを第1保護膜25aの表面上に、ス
クリーン印刷法により印刷して形成した膜(ペースト層
ともいう。)を乾燥(150℃、15分)した後、この
ペースト層を焼成(580℃、12.5分)する。この
ようにして形成した第2保護膜25bの厚さは、一例と
して約10μmである。
【0020】第3保護膜25cとして、Sr0.6 Mg
0.4 Gd2 O4 の構造式で表される複合酸化物膜を用い
ており、この複合酸化物の成分を含むペースト層を焼成
して得るが、具体的には、次のようにして形成する。出
発材料として、ストロンチウムジエトキシエトキサイド
(Sr(OC2 H4 OEt)2 )、マグネシウムジエト
キシエトキサイド(Mg(OC2 H4 OEt)2 )及び
ガドリニウム−トリエトキシエトキサイド(Gd(OC
2 H4 OEt)3 )をブチルカルビトール溶媒に溶解し
てペースト(このペースト中には、ストロンチウムとマ
グネシウムとガドリニウムの元素のモル比が0.6:
0.4:2になるように混合している。)を作製する。
次に、このペーストを第2保護膜25bの表面上に、ス
クリーン印刷法により印刷して形成した膜(ペースト層
ともいう。)を乾燥(150℃、15分)した後、この
ペースト層を焼成(580℃、12.5分)する。複合
酸化物膜をスクリーン印刷法により形成すると、パネル
製造の低コスト化およびパネルの大型化を容易にするこ
とができる。このようにして形成した第3保護膜25c
の厚さは、一例として0.2μmである。
0.4 Gd2 O4 の構造式で表される複合酸化物膜を用い
ており、この複合酸化物の成分を含むペースト層を焼成
して得るが、具体的には、次のようにして形成する。出
発材料として、ストロンチウムジエトキシエトキサイド
(Sr(OC2 H4 OEt)2 )、マグネシウムジエト
キシエトキサイド(Mg(OC2 H4 OEt)2 )及び
ガドリニウム−トリエトキシエトキサイド(Gd(OC
2 H4 OEt)3 )をブチルカルビトール溶媒に溶解し
てペースト(このペースト中には、ストロンチウムとマ
グネシウムとガドリニウムの元素のモル比が0.6:
0.4:2になるように混合している。)を作製する。
次に、このペーストを第2保護膜25bの表面上に、ス
クリーン印刷法により印刷して形成した膜(ペースト層
ともいう。)を乾燥(150℃、15分)した後、この
ペースト層を焼成(580℃、12.5分)する。複合
酸化物膜をスクリーン印刷法により形成すると、パネル
製造の低コスト化およびパネルの大型化を容易にするこ
とができる。このようにして形成した第3保護膜25c
の厚さは、一例として0.2μmである。
【0021】表1は、パネル11の放電特性の測定結果
である。表2は、相対輝度の駆動時間による変化を示し
ている。相対輝度は、駆動時間が20時間のときを1.
0とした場合の相対値で示している。表3は、放電開始
電圧の駆動時間による変化を示している。表1〜表3
中、第1パネルをパネルNo.1とし、第2パネルをパ
ネルNo.2で表している。表2、表3中において、空
欄のときは、未測定である。図3は、表2の測定結果
を、縦軸に相対輝度をとり、横軸に駆動時間をとって示
す駆動時間と相対輝度の関係を示す曲線図である。図4
は、表3の測定結果を、縦軸に放電開始電圧をとり、横
軸に駆動時間をとって示す駆動時間と発光開始電圧の関
係を示す曲線図である。
である。表2は、相対輝度の駆動時間による変化を示し
ている。相対輝度は、駆動時間が20時間のときを1.
0とした場合の相対値で示している。表3は、放電開始
電圧の駆動時間による変化を示している。表1〜表3
中、第1パネルをパネルNo.1とし、第2パネルをパ
ネルNo.2で表している。表2、表3中において、空
欄のときは、未測定である。図3は、表2の測定結果
を、縦軸に相対輝度をとり、横軸に駆動時間をとって示
す駆動時間と相対輝度の関係を示す曲線図である。図4
は、表3の測定結果を、縦軸に放電開始電圧をとり、横
軸に駆動時間をとって示す駆動時間と発光開始電圧の関
係を示す曲線図である。
【0022】
【表1】
【0023】表1の測定結果からも理解出来るように、
第1パネルと第2パネルの放電特性について検討したと
ころ、第3保護膜として複合酸化物膜を用いると、放電
維持電圧Vs は、35V低下する。さらに、第3保護膜
として複合酸化物膜を用いると、放電電流は減少し、発
光効率はわずかに上昇している。
第1パネルと第2パネルの放電特性について検討したと
ころ、第3保護膜として複合酸化物膜を用いると、放電
維持電圧Vs は、35V低下する。さらに、第3保護膜
として複合酸化物膜を用いると、放電電流は減少し、発
光効率はわずかに上昇している。
【0024】
【表2】
【0025】また、表2および図3からも理解出来るよ
うに、駆動時間が、例えば1000時間の場合を比較す
ると、第3保護膜として複合酸化物膜を用いていない第
1パネルの輝度は、駆動初期に比べて約27%減少して
いる。一方、第3保護膜として複合酸化物膜を用いてい
る第1パネルの輝度は、駆動時間が、例えば1000時
間の場合において、約10%減少しているだけである。
うに、駆動時間が、例えば1000時間の場合を比較す
ると、第3保護膜として複合酸化物膜を用いていない第
1パネルの輝度は、駆動初期に比べて約27%減少して
いる。一方、第3保護膜として複合酸化物膜を用いてい
る第1パネルの輝度は、駆動時間が、例えば1000時
間の場合において、約10%減少しているだけである。
【0026】
【表3】
【0027】また、表3および図4からも理解できるよ
うに、駆動時間が、例えば1000時間の場合、第3保
護膜として複合酸化物膜を用いていない第1パネルの発
光開始電圧は267Vであり、駆動初期に比べて約50
V減少している。一方、第3保護膜として複合酸化物膜
を用いている第1パネルの発光開始電圧は、駆動時間
が、例えば1000時間の場合において、ほとんど変化
せず、安定した駆動が得られる。
うに、駆動時間が、例えば1000時間の場合、第3保
護膜として複合酸化物膜を用いていない第1パネルの発
光開始電圧は267Vであり、駆動初期に比べて約50
V減少している。一方、第3保護膜として複合酸化物膜
を用いている第1パネルの発光開始電圧は、駆動時間
が、例えば1000時間の場合において、ほとんど変化
せず、安定した駆動が得られる。
【0028】このように、第3保護膜として、複合酸化
物膜を用いると、放電維持電圧VSを低くすることがで
きる。また、輝度や放電開始電圧の寿命を長くすること
ができる。
物膜を用いると、放電維持電圧VSを低くすることがで
きる。また、輝度や放電開始電圧の寿命を長くすること
ができる。
【0029】また、希土類元素を含む複合酸化物は仕事
関数が小さい。従って、希土類元素を含む複合酸化物を
用いて保護膜を形成すると、放電維持電圧VS をより低
くすることができる。さらに、Ax B1-x C2 O4
(A、Bは2A族元素、Cは希土類元素、0≦x≦1)
の構造式で表されるスピネル構造を有する複合酸化物の
中には、結晶化温度が低いものがある。従って、結晶化
温度が低いスピネル構造を有する複合酸化物を用いて保
護膜を形成すると、結晶性の良い保護膜とすることがで
きる。
関数が小さい。従って、希土類元素を含む複合酸化物を
用いて保護膜を形成すると、放電維持電圧VS をより低
くすることができる。さらに、Ax B1-x C2 O4
(A、Bは2A族元素、Cは希土類元素、0≦x≦1)
の構造式で表されるスピネル構造を有する複合酸化物の
中には、結晶化温度が低いものがある。従って、結晶化
温度が低いスピネル構造を有する複合酸化物を用いて保
護膜を形成すると、結晶性の良い保護膜とすることがで
きる。
【0030】さらに、第1保護膜として、MgO粒子と
MgOバインダーとから形成される焼結体層を用い、第
2保護膜として、MgO粒子とBa0.6 Mg0.4 Gd2
O4バインダーとから形成される焼結体層を用い、第3
保護膜として、Sr0.6 Mg0.4 Gd2 O4 の構造式で
表される複合酸化物膜を用いると、駆動電圧が低く、発
光効率の大きなAC−PDPを得ることができる。
MgOバインダーとから形成される焼結体層を用い、第
2保護膜として、MgO粒子とBa0.6 Mg0.4 Gd2
O4バインダーとから形成される焼結体層を用い、第3
保護膜として、Sr0.6 Mg0.4 Gd2 O4 の構造式で
表される複合酸化物膜を用いると、駆動電圧が低く、発
光効率の大きなAC−PDPを得ることができる。
【0031】この発明は、上述した実施例に限定される
ものではないことは明らかである。例えば、上述の実施
例では、面放電型のAC−PDPを用いているが、対向
電極型のAC−PDPを用いてもよい。また、複合酸化
物膜を第3保護膜として用いているが、複合酸化物膜
を、単独の保護膜として用いてもよいし、複数の膜で形
成される保護膜の最上層として用いてもよい。また、複
合酸化物膜をスクリーン印刷法で形成しているが、スプ
レー塗布法、ミスト成膜法、CVD法を用いて形成する
こともできる。また、複合酸化物膜をSr0.6 Mg0.4
Gd2 O4 膜としているが、Sr0.6 Mg0.4 Dy2 O
4 膜、Sr0.6 Mg0.4 Sm2 O4 膜を用いてもよい。
ものではないことは明らかである。例えば、上述の実施
例では、面放電型のAC−PDPを用いているが、対向
電極型のAC−PDPを用いてもよい。また、複合酸化
物膜を第3保護膜として用いているが、複合酸化物膜
を、単独の保護膜として用いてもよいし、複数の膜で形
成される保護膜の最上層として用いてもよい。また、複
合酸化物膜をスクリーン印刷法で形成しているが、スプ
レー塗布法、ミスト成膜法、CVD法を用いて形成する
こともできる。また、複合酸化物膜をSr0.6 Mg0.4
Gd2 O4 膜としているが、Sr0.6 Mg0.4 Dy2 O
4 膜、Sr0.6 Mg0.4 Sm2 O4 膜を用いてもよい。
【0032】
【発明の効果】上述した説明から明らかなように、この
発明のAC−PDPによれば、誘電体層用の保護膜が1
つの膜から形成される場合は、膜全体が複合酸化物膜で
あり、2層以上の膜から形成される場合は、誘電体層と
は反対側の最上層(表面層)が複合酸化物膜である。
発明のAC−PDPによれば、誘電体層用の保護膜が1
つの膜から形成される場合は、膜全体が複合酸化物膜で
あり、2層以上の膜から形成される場合は、誘電体層と
は反対側の最上層(表面層)が複合酸化物膜である。
【0033】従って、このAC−PDPを駆動させたと
き、放電維持電圧を低くすることができる。さらに、こ
のパネルの輝度の寿命と放電開始電圧の寿命を長くする
ことが出来る。
き、放電維持電圧を低くすることができる。さらに、こ
のパネルの輝度の寿命と放電開始電圧の寿命を長くする
ことが出来る。
【0034】さらに、第1保護膜として、MgO粒子と
MgOバインダーとを一緒に焼成して形成される焼結体
層を用い、第2保護膜として、MgO粒子とBa0.6 M
g0.4 Gd2 O4 バインダーとを一緒に焼成して形成さ
れる焼結体層を用い、第3保護膜として、Sr0.6 Mg
0.4 Gd2 O4 の構造式で表される複合酸化物膜を用い
ると、駆動電圧が低く、発光効率の大きなAC−PDP
を得ることができる。
MgOバインダーとを一緒に焼成して形成される焼結体
層を用い、第2保護膜として、MgO粒子とBa0.6 M
g0.4 Gd2 O4 バインダーとを一緒に焼成して形成さ
れる焼結体層を用い、第3保護膜として、Sr0.6 Mg
0.4 Gd2 O4 の構造式で表される複合酸化物膜を用い
ると、駆動電圧が低く、発光効率の大きなAC−PDP
を得ることができる。
【図1】実施例を説明するための交流型ガス放電パネル
の斜視図である。
の斜視図である。
【図2】保護膜と誘電体層との一部分を拡大して示す概
略図である。
略図である。
【図3】駆動時間と輝度の関係を示す曲線図である。
【図4】駆動時間と発光開始電圧の関係を示す曲線図で
ある。
ある。
11:AC−PDP 13:前面板 15:背面板 17:放電空間 19:蛍光体層 21:表示電極 23:誘電体層 25:保護膜 25a:第1保護膜 25b:第2保護膜 25c:第3保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金原 隆雄 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内 (72)発明者 ▲高▼崎 茂 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内 (72)発明者 山中 綾 東京都港区虎ノ門1丁目7番12号 沖電気 工業株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 交流型ガス放電パネルを構成する2つの
基板の一方に、電荷蓄積用誘電体層を介在させて設けら
れた該誘電体層用の保護膜において、 前記保護膜の少なくとも前記誘電体層とは反対側の表面
側を複合酸化物膜とすることを特徴とするガス放電パネ
ルの保護膜。 - 【請求項2】 請求項1に記載の交流型ガス放電パネル
の保護膜において、前記複合酸化物膜を希土類元素を含
む複合酸化物膜とすることを特徴とするガス放電パネル
の保護膜。 - 【請求項3】 請求項1に記載の交流型ガス放電パネル
の保護膜において、前記複合酸化物膜をAx B1-x C2
O4 (A、Bは2A族元素、Cは希土類元素、0≦x≦
1)の構造式で表されるスピネル構造を有する複合酸化
物膜とすることを特徴とするガス放電パネルの保護膜。 - 【請求項4】 請求項1に記載の交流型ガス放電パネル
の保護膜において、前記保護膜を3つの層で形成した場
合には、最下層をMgOからなる焼結体層とし、中間層
をMgOとBa0.6 Mg0.4 Gd2 O4 とからなる焼結
体層とし、最上層をSr0.6 Mg0.4 Gd2 O4 の構造
式で表される複合酸化物膜とすることを特徴とするガス
放電パネルの保護膜。 - 【請求項5】 請求項1に記載の交流型ガス放電パネル
に用いる前記複合酸化物膜の形成は、前記誘電体層上
に、スクリーン印刷法によって、複合酸化物の成分を含
むペースト層を設ける工程と、該ペースト層を焼成する
工程とを含むことを特徴とするガス放電パネルの保護膜
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6209992A JPH0877932A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | ガス放電パネルの保護膜及びその形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6209992A JPH0877932A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | ガス放電パネルの保護膜及びその形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0877932A true JPH0877932A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16582070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6209992A Withdrawn JPH0877932A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | ガス放電パネルの保護膜及びその形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0877932A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007227360A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| JP2010092867A (ja) * | 1995-12-15 | 2010-04-22 | Panasonic Corp | プラズマディスプレイパネル |
-
1994
- 1994-09-02 JP JP6209992A patent/JPH0877932A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010092867A (ja) * | 1995-12-15 | 2010-04-22 | Panasonic Corp | プラズマディスプレイパネル |
| JP2007227360A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011106 |