JPH08164338A - 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 - Google Patents
内燃機関の排気ガス浄化用触媒Info
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- JPH08164338A JPH08164338A JP6307831A JP30783194A JPH08164338A JP H08164338 A JPH08164338 A JP H08164338A JP 6307831 A JP6307831 A JP 6307831A JP 30783194 A JP30783194 A JP 30783194A JP H08164338 A JPH08164338 A JP H08164338A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】内燃機関の冷間時における未浄化ＨＣの排出を
防止するとともに、その後の排気ガス中のＨＣ及びＮＯ
ｘを効率良く分解することができる触媒を提供する。 【構成】担体１の上の無機結晶性モレキュラーシーブよ
りなる各ＨＣ吸着剤粒子１の表面に、Ｐｄを触媒金属と
する第１触媒層２、希土類酸化物層３及びＰｔ，Ｒｈを
触媒金属とする第２触媒層４が順に形成されている。
防止するとともに、その後の排気ガス中のＨＣ及びＮＯ
ｘを効率良く分解することができる触媒を提供する。 【構成】担体１の上の無機結晶性モレキュラーシーブよ
りなる各ＨＣ吸着剤粒子１の表面に、Ｐｄを触媒金属と
する第１触媒層２、希土類酸化物層３及びＰｔ，Ｒｈを
触媒金属とする第２触媒層４が順に形成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は内燃機関の排気ガス浄化
用触媒に関する。
用触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術】内燃機関の排気ガス中のＨＣ（炭化水
素）、ＣＯ（一酸化炭素）及びＮＯｘ（窒素酸化物）を
浄化する触媒として、モノリス担体の上にゼオライトを
主成分とする第１触媒層を設け、該第１触媒層の上に酸
化還元能を備えた貴金属触媒をを主成分とする第２触媒
層を設けてなるものが知られている（特開平２−５６２
４７号公報参照）。上記第１触媒層には必要に応じてＰ
ｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の貴金属やＣｅＯ2 （セリア）、Ｌａ
2 Ｏ3 （ランタナ）等の希土類酸化物が担持され、上記
第２触媒層はアルミナコート層にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の
貴金属が担持され、必要に応じて上記希土類酸化物や酸
化ジルコニウム等が担持される。
素）、ＣＯ（一酸化炭素）及びＮＯｘ（窒素酸化物）を
浄化する触媒として、モノリス担体の上にゼオライトを
主成分とする第１触媒層を設け、該第１触媒層の上に酸
化還元能を備えた貴金属触媒をを主成分とする第２触媒
層を設けてなるものが知られている（特開平２−５６２
４７号公報参照）。上記第１触媒層には必要に応じてＰ
ｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の貴金属やＣｅＯ2 （セリア）、Ｌａ
2 Ｏ3 （ランタナ）等の希土類酸化物が担持され、上記
第２触媒層はアルミナコート層にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の
貴金属が担持され、必要に応じて上記希土類酸化物や酸
化ジルコニウム等が担持される。
【０００３】上記排気ガス浄化用触媒は、内燃機関の冷
間時で且つ空燃比がリッチの状態にあるときに排気ガス
中のＨＣを上記第１触媒層のゼオライトによって吸着
し、暖機によって排気ガス温度及び触媒温度が上昇した
ときに、上記第１触媒層から脱離するＨＣ、排気ガス中
のＨＣ及びＣＯの酸化とＮＯｘの還元とを上記第２触媒
層によって行なうものである。
間時で且つ空燃比がリッチの状態にあるときに排気ガス
中のＨＣを上記第１触媒層のゼオライトによって吸着
し、暖機によって排気ガス温度及び触媒温度が上昇した
ときに、上記第１触媒層から脱離するＨＣ、排気ガス中
のＨＣ及びＣＯの酸化とＮＯｘの還元とを上記第２触媒
層によって行なうものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記Ｐ
ｔ、Ｐｄ及びＲｈの触媒金属としての機能に関し、Ｐｔ
及びＰｄは酸化能が高いが、それに比べてＲｈは酸化能
が低いこと、従って、Ｐｔ及びＰｄはＨＣの浄化に有効
であること、また、ＰｔとＲｈとを組み合わせた場合に
はＨＣの酸化と共にＮＯｘの分解が比較的効率良く進
む、という知見を得ていた。
ｔ、Ｐｄ及びＲｈの触媒金属としての機能に関し、Ｐｔ
及びＰｄは酸化能が高いが、それに比べてＲｈは酸化能
が低いこと、従って、Ｐｔ及びＰｄはＨＣの浄化に有効
であること、また、ＰｔとＲｈとを組み合わせた場合に
はＨＣの酸化と共にＮＯｘの分解が比較的効率良く進
む、という知見を得ていた。
【０００５】しかし、上記従来技術において、上記第１
触媒層の触媒金属又は第２触媒層の触媒金属として上記
Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈの三者を併用した場合には、Ｐｔと
Ｒｈとを併用した場合に比べてＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄
化率が共に低下するという問題がある。これはＰｔ，Ｒ
ｈとＰｄとが互いの触媒機能を阻害するように干渉し合
うためと考えられる。これに対して、例えばＰｄを第１
触媒層に、ＰｔやＲｈを第２触媒層にそれぞれ担持させ
ることにより、ＰｄをＰｔやＲｈから離すことが考えら
れるが、第１触媒層と第２触媒層との界面においてＰｄ
とＰｔ，Ｒｈとが接触し、必ずしも好結果が得られな
い。
触媒層の触媒金属又は第２触媒層の触媒金属として上記
Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈの三者を併用した場合には、Ｐｔと
Ｒｈとを併用した場合に比べてＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄
化率が共に低下するという問題がある。これはＰｔ，Ｒ
ｈとＰｄとが互いの触媒機能を阻害するように干渉し合
うためと考えられる。これに対して、例えばＰｄを第１
触媒層に、ＰｔやＲｈを第２触媒層にそれぞれ担持させ
ることにより、ＰｄをＰｔやＲｈから離すことが考えら
れるが、第１触媒層と第２触媒層との界面においてＰｄ
とＰｔ，Ｒｈとが接触し、必ずしも好結果が得られな
い。
【０００６】そこで、本発明は、上記Ｐｄをその本来の
触媒機能が発揮されるように上記ＰｔやＲｈと組み合わ
せ、内燃機関の冷間時及び暖機後のＨＣ浄化率を高める
とともに、ＮＯｘ浄化率を高めようとするものである。
触媒機能が発揮されるように上記ＰｔやＲｈと組み合わ
せ、内燃機関の冷間時及び暖機後のＨＣ浄化率を高める
とともに、ＮＯｘ浄化率を高めようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその作用】本発明者
は、上記課題に対して種々の実験及び検討を加えた結
果、Ｐｄを触媒金属とする第１触媒層と、Ｐｔ又はＲｈ
を触媒金属とする第２触媒層との間に希土類酸化物の層
を介在させたときに、これらの触媒金属及びＨＣ吸着剤
の各々がその本来の有する機能を有効に発揮し、所期の
目的を達成することができること、特に上記第１触媒
層、希土類酸化物層及び第２触媒層をＨＣ吸着剤粒子の
各々の表面に形成した場合に好結果が得られることを見
出だし、本発明を完成するに至ったものである。以下、
各請求項に係る発明を具体的に説明する。
は、上記課題に対して種々の実験及び検討を加えた結
果、Ｐｄを触媒金属とする第１触媒層と、Ｐｔ又はＲｈ
を触媒金属とする第２触媒層との間に希土類酸化物の層
を介在させたときに、これらの触媒金属及びＨＣ吸着剤
の各々がその本来の有する機能を有効に発揮し、所期の
目的を達成することができること、特に上記第１触媒
層、希土類酸化物層及び第２触媒層をＨＣ吸着剤粒子の
各々の表面に形成した場合に好結果が得られることを見
出だし、本発明を完成するに至ったものである。以下、
各請求項に係る発明を具体的に説明する。
【０００８】＜請求項１に係る発明＞この発明は、担体
の上に、排気ガス中の炭化水素を吸着する粉末状の無機
結晶性モレキュラーシーブよりなるＨＣ吸着剤が担持さ
れていて、上記ＨＣ吸着剤粒子の各々の表面にＰｄを触
媒金属とする第１触媒層が形成され、上記第１触媒層の
上に、希土類酸化物を主成分とする希土類酸化物層が形
成され、上記希土類酸化物層の上に、Ｐｔ及びＲｈのう
ちの少なくとも一方を触媒金属とする第２触媒層が形成
されていることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用
触媒である。
の上に、排気ガス中の炭化水素を吸着する粉末状の無機
結晶性モレキュラーシーブよりなるＨＣ吸着剤が担持さ
れていて、上記ＨＣ吸着剤粒子の各々の表面にＰｄを触
媒金属とする第１触媒層が形成され、上記第１触媒層の
上に、希土類酸化物を主成分とする希土類酸化物層が形
成され、上記希土類酸化物層の上に、Ｐｔ及びＲｈのう
ちの少なくとも一方を触媒金属とする第２触媒層が形成
されていることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用
触媒である。
【０００９】当該発明においては、内燃機関の冷間時に
は排気ガス中のＨＣがＨＣ吸着剤に吸着されて、未浄化
ＨＣの排出が防止される。暖機によって排気ガス温度及
び触媒温度が上昇してくると、各ＨＣ吸着剤に吸着され
ていたＨＣの脱離が始まるが、この各ＨＣ吸着剤粒子の
表面にはＰｄを触媒金属とする第１触媒層が形成されて
いるから、当該脱離ＨＣはＰｄに接触し易く、このた
め、Ｐｄが当該ＨＣを酸化分解する触媒機能を効率良く
発揮する。また、第２触媒層においても、上記脱離する
ＨＣがＰｔ又はＲｈによって分解されるが、このＰｔや
Ｒｈは排気ガス中のＮＯｘの浄化に有効な触媒金属であ
り、上記脱離・分解するＨＣを還元剤としてＮＯｘを還
元分解する触媒機能を発揮する。また、内燃機関から新
たに排出されるＨＣやＣＯも第１触媒層及び第２触媒層
の触媒金属によって酸化分解され、このような酸化反応
に伴ってＮＯｘの還元分解反応が進行する。
は排気ガス中のＨＣがＨＣ吸着剤に吸着されて、未浄化
ＨＣの排出が防止される。暖機によって排気ガス温度及
び触媒温度が上昇してくると、各ＨＣ吸着剤に吸着され
ていたＨＣの脱離が始まるが、この各ＨＣ吸着剤粒子の
表面にはＰｄを触媒金属とする第１触媒層が形成されて
いるから、当該脱離ＨＣはＰｄに接触し易く、このた
め、Ｐｄが当該ＨＣを酸化分解する触媒機能を効率良く
発揮する。また、第２触媒層においても、上記脱離する
ＨＣがＰｔ又はＲｈによって分解されるが、このＰｔや
Ｒｈは排気ガス中のＮＯｘの浄化に有効な触媒金属であ
り、上記脱離・分解するＨＣを還元剤としてＮＯｘを還
元分解する触媒機能を発揮する。また、内燃機関から新
たに排出されるＨＣやＣＯも第１触媒層及び第２触媒層
の触媒金属によって酸化分解され、このような酸化反応
に伴ってＮＯｘの還元分解反応が進行する。
【００１０】一方、上記第１触媒層と第２触媒層との間
に介在する希土類酸化物は、上記ＰｔやＲｈとＰｄとが
干渉し合うことを妨げるバリアの機能を果たし、これら
の触媒金属間の相互作用による触媒機能の低下が防止さ
れる。一方、このようなバリアが排気ガス中のＨＣの拡
散をも妨げるものであるならば、第１触媒層がＨＣの吸
着・分解に有効に利用されないことになるが、当該発明
のバリアは希土類酸化物であり、この希土類酸化物はＨ
Ｃの拡散を若干妨げるとしてもその程度は低く、第１触
媒層のＨＣ吸着剤による排気ガス中のＨＣの吸着の支障
にはならない。かえって、この希土類酸化物はＯ2 スト
レージ効果を有するから、第１触媒層及び第２触媒層に
おけるＨＣの酸化に有効に寄与することになる。
に介在する希土類酸化物は、上記ＰｔやＲｈとＰｄとが
干渉し合うことを妨げるバリアの機能を果たし、これら
の触媒金属間の相互作用による触媒機能の低下が防止さ
れる。一方、このようなバリアが排気ガス中のＨＣの拡
散をも妨げるものであるならば、第１触媒層がＨＣの吸
着・分解に有効に利用されないことになるが、当該発明
のバリアは希土類酸化物であり、この希土類酸化物はＨ
Ｃの拡散を若干妨げるとしてもその程度は低く、第１触
媒層のＨＣ吸着剤による排気ガス中のＨＣの吸着の支障
にはならない。かえって、この希土類酸化物はＯ2 スト
レージ効果を有するから、第１触媒層及び第２触媒層に
おけるＨＣの酸化に有効に寄与することになる。
【００１１】しかして、当該発明の場合は、ＨＣ吸着剤
粒子の各々の表面に上記第１触媒層、希土類酸化物層及
び第２触媒層が形成されているから、個々のＨＣ吸着剤
粒子の上でＨＣの酸化分解とＮＯｘの還元分解を生じ各
々の浄化率が高くなる。
粒子の各々の表面に上記第１触媒層、希土類酸化物層及
び第２触媒層が形成されているから、個々のＨＣ吸着剤
粒子の上でＨＣの酸化分解とＮＯｘの還元分解を生じ各
々の浄化率が高くなる。
【００１２】ここに、上記担体としては、モノリス担体
であっても、ペレット状の担体であってもよい。また、
上記ＨＣ吸着剤としての無機結晶性モレキュラーシーブ
としては、結晶の骨格（結晶格子）を形成する金属とし
てＡｌを用いたアルミノシリケート（Ｙゼオライト、モ
ルデナイト、ＺＳＭ５、ベータゼオライトなど各種のゼ
オライト）、Ａｌに代えて或いはＡｌと共にＧａ、Ｃ
ｅ、Ｍｎ、Ｔｂなど他の金属を用いた他の結晶質多孔の
金属含有シリケート、さらには、ほとんどシリカだけか
らなるものや、Ｓｉを含まないものなど種々のものを採
用することができる。
であっても、ペレット状の担体であってもよい。また、
上記ＨＣ吸着剤としての無機結晶性モレキュラーシーブ
としては、結晶の骨格（結晶格子）を形成する金属とし
てＡｌを用いたアルミノシリケート（Ｙゼオライト、モ
ルデナイト、ＺＳＭ５、ベータゼオライトなど各種のゼ
オライト）、Ａｌに代えて或いはＡｌと共にＧａ、Ｃ
ｅ、Ｍｎ、Ｔｂなど他の金属を用いた他の結晶質多孔の
金属含有シリケート、さらには、ほとんどシリカだけか
らなるものや、Ｓｉを含まないものなど種々のものを採
用することができる。
【００１３】＜請求項２に係る発明＞この発明は、上記
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記希土類酸化物がＣｅＯ2 であることを
特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒である。
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記希土類酸化物がＣｅＯ2 であることを
特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒である。
【００１４】この発明において、希土類酸化物としてＣ
ｅＯ2 を用いるのは、該ＣｅＯ2 のＯ2 ストレージ効果
が高く、ＨＣの酸化分解に有利になるためである。
ｅＯ2 を用いるのは、該ＣｅＯ2 のＯ2 ストレージ効果
が高く、ＨＣの酸化分解に有利になるためである。
【００１５】＜請求項３に係る発明＞この発明は、上記
請求項３に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記担体がモノリス担体であって、該担体
１リットル当たりの上記ＣｅＯ2 の量が１５〜１００ｇ
であることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒
である。
請求項３に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記担体がモノリス担体であって、該担体
１リットル当たりの上記ＣｅＯ2 の量が１５〜１００ｇ
であることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒
である。
【００１６】当該発明において、モノリス担体を用いる
のは排気ガスと触媒層との接触に有利になるからであ
り、また、触媒の小型・軽量化が図れ、背圧の上昇も少
ないからである。また、担体１リットル当たりのＣｅＯ
2 量を１５以上とするのは第１触媒層のＰｄと第２触媒
層のＰｔ又はＲｈとを遮断する効果を確保するためであ
り、ＣｅＯ2 量を１００ｇ以下とするのは、これよりも
その量が多くなると第２触媒層から第１触媒層へのＨＣ
の拡散に不利になるためである。
のは排気ガスと触媒層との接触に有利になるからであ
り、また、触媒の小型・軽量化が図れ、背圧の上昇も少
ないからである。また、担体１リットル当たりのＣｅＯ
2 量を１５以上とするのは第１触媒層のＰｄと第２触媒
層のＰｔ又はＲｈとを遮断する効果を確保するためであ
り、ＣｅＯ2 量を１００ｇ以下とするのは、これよりも
その量が多くなると第２触媒層から第１触媒層へのＨＣ
の拡散に不利になるためである。
【００１７】＜請求項４に係る発明＞この発明は、上記
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記ＨＣ吸着剤が結晶性アルミノシリケー
トであることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触
媒である。
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記ＨＣ吸着剤が結晶性アルミノシリケー
トであることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触
媒である。
【００１８】当該発明において、ＨＣ吸着剤として上記
アルミノシリケートを用いるのは、これが耐熱性を有し
且つそのＨＣ吸着能が高いためである。
アルミノシリケートを用いるのは、これが耐熱性を有し
且つそのＨＣ吸着能が高いためである。
【００１９】
【発明の効果】請求項１に係る発明によれば、各ＨＣ吸
着剤粒子の上にＰｄを触媒金属とする第１触媒層と、Ｐ
ｔ又はＲｈを触媒金属とする第２触媒層と、希土類酸化
物層とを形成し、且つ第１触媒層と第２触媒層との間に
希土類酸化物層を介在させたから、第２触媒層から第１
触媒層へのＨＣの拡散を許容しながら、Ｐｔ又はＲｈと
Ｐｄとが干渉し合うことを避けてＰｄの触媒機能を充分
に発揮させることができ、冷間時における未浄化ＨＣの
排出を防止しながら、該ＨＣ及びＮＯｘを効率良く浄化
することができ、しかも各ＨＣ吸着剤粒子の上でＨＣ及
びＮＯｘの分解浄化が行なわれるから、高いＨＣ浄化率
及び高いＮＯｘ浄化率が得られる。
着剤粒子の上にＰｄを触媒金属とする第１触媒層と、Ｐ
ｔ又はＲｈを触媒金属とする第２触媒層と、希土類酸化
物層とを形成し、且つ第１触媒層と第２触媒層との間に
希土類酸化物層を介在させたから、第２触媒層から第１
触媒層へのＨＣの拡散を許容しながら、Ｐｔ又はＲｈと
Ｐｄとが干渉し合うことを避けてＰｄの触媒機能を充分
に発揮させることができ、冷間時における未浄化ＨＣの
排出を防止しながら、該ＨＣ及びＮＯｘを効率良く浄化
することができ、しかも各ＨＣ吸着剤粒子の上でＨＣ及
びＮＯｘの分解浄化が行なわれるから、高いＨＣ浄化率
及び高いＮＯｘ浄化率が得られる。
【００２０】請求項２に係る発明によれば、上記希土類
酸化物としてＣｅＯ2 を用いたから該ＣｅＯ2 の高いＯ
2 ストレージ効果をＨＣの酸化分解に利用することがで
き、ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率の向上に有利になる。
酸化物としてＣｅＯ2 を用いたから該ＣｅＯ2 の高いＯ
2 ストレージ効果をＨＣの酸化分解に利用することがで
き、ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率の向上に有利になる。
【００２１】請求項３に係る発明によれば、上記ＣｅＯ
2 の量をモノリス担体１リットル当たり１５〜１００ｇ
としたから、第２触媒層から第１触媒層へＨＣを拡散さ
せながら、第１触媒層のＰｄと第２触媒層のＰｔ又はＲ
ｈとの接触を避ける上で有利になる。
2 の量をモノリス担体１リットル当たり１５〜１００ｇ
としたから、第２触媒層から第１触媒層へＨＣを拡散さ
せながら、第１触媒層のＰｄと第２触媒層のＰｔ又はＲ
ｈとの接触を避ける上で有利になる。
【００２２】請求項４に係る発明によれば、上記ＨＣ吸
着剤として結晶性アルミノシリケートを用いたから、触
媒のＨＣ吸着能が高まり、ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率
の向上に有利になる。
着剤として結晶性アルミノシリケートを用いたから、触
媒のＨＣ吸着能が高まり、ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率
の向上に有利になる。
【００２３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【００２４】＜実施例１＞ −触媒の調製− ＨＣ吸着剤としてプロトン型のＹゼオライト（ケイバン
比８０）粉末をコージェライト製のハニカム状のモノリ
ス担体（４００セル／inch2 ）にウォッシュコートし
た。このウォッシュコートは、上記Ｙゼオライトとバイ
ンダとしての水和アルミナとを１００：２０の重量比で
合わせ適量の純水を加えて撹拌混合することによりスラ
リーを作製し、該スラリーに上記担体を浸漬し引き上げ
て余分なスラリーを吹き飛ばし乾燥するという工程を繰
り返すことによって所定量のＹゼオライトを上記担体に
担持させた後に、５００℃×２時間の焼成を行なう、と
いうものである。
比８０）粉末をコージェライト製のハニカム状のモノリ
ス担体（４００セル／inch2 ）にウォッシュコートし
た。このウォッシュコートは、上記Ｙゼオライトとバイ
ンダとしての水和アルミナとを１００：２０の重量比で
合わせ適量の純水を加えて撹拌混合することによりスラ
リーを作製し、該スラリーに上記担体を浸漬し引き上げ
て余分なスラリーを吹き飛ばし乾燥するという工程を繰
り返すことによって所定量のＹゼオライトを上記担体に
担持させた後に、５００℃×２時間の焼成を行なう、と
いうものである。
【００２５】次に、上記ウォッシュコート層にＰｄを含
浸法によって担持させることによって第１触媒層を形成
した。この含浸担持は、所定濃度の硝酸パラジウム水溶
液を上記ウォッシュコート層に含浸させ乾燥及び焼成
（５００℃×２時間）を行なう、というものである。
浸法によって担持させることによって第１触媒層を形成
した。この含浸担持は、所定濃度の硝酸パラジウム水溶
液を上記ウォッシュコート層に含浸させ乾燥及び焼成
（５００℃×２時間）を行なう、というものである。
【００２６】次に、硝酸セリウムを純水に溶解して硝酸
セリウム水溶液を調製し、該硝酸セリウム水溶液を上記
ウォッシュコート層に含浸させ、乾燥・焼成を行なうこ
とによって上記第１触媒層の上に希土類酸化物層として
のＣｅＯ2 層を形成した。
セリウム水溶液を調製し、該硝酸セリウム水溶液を上記
ウォッシュコート層に含浸させ、乾燥・焼成を行なうこ
とによって上記第１触媒層の上に希土類酸化物層として
のＣｅＯ2 層を形成した。
【００２７】次に硝酸白金−Ｐソルト溶液（ジニトロジ
アミン白金(II)硝酸酸性水溶液）と硝酸ロジウム水溶液
とを混合し、該混合水溶液を上記ウォッシュコート層に
含浸させることによって、Ｐｔ及びＲｈを触媒金属とす
る第２触媒層を上記ＣｅＯ2層の上に形成した。
アミン白金(II)硝酸酸性水溶液）と硝酸ロジウム水溶液
とを混合し、該混合水溶液を上記ウォッシュコート層に
含浸させることによって、Ｐｔ及びＲｈを触媒金属とす
る第２触媒層を上記ＣｅＯ2層の上に形成した。
【００２８】従って、本例の触媒構造は図１に示すよう
に、担体の上の各ＨＣ吸着剤粒子１の表面に第１触媒層
２、ＣｅＯ2 層３及び第２触媒層４が下から順に積層形
成されたものになっている。
に、担体の上の各ＨＣ吸着剤粒子１の表面に第１触媒層
２、ＣｅＯ2 層３及び第２触媒層４が下から順に積層形
成されたものになっている。
【００２９】−触媒の評価− ［ＮＯｘ浄化性能］上記触媒の調製法によって、担体１
リットル当たりの第１触媒層のＨＣ吸着剤担持量を１３
０ｇ、Ｐｄ担持量を７ｇ、ＣｅＯ2 担持量を３６ｇと
し、第２触媒層のＰｔ及びＲｈを合わせた担持量を互い
に異なるものとした数種類の触媒を調製した。ＰｔとＲ
ｈとの重量比率はいずれも５：１とした。そして、これ
らの触媒に加熱処理を施した後に各触媒を模擬排気ガス
流通装置に組み込み、各触媒の入口ガス温度が４００℃
の時のＮＯｘ浄化率（ＮＯｘ Ｃ４００）を調べた。測
定条件は次の通りである。
リットル当たりの第１触媒層のＨＣ吸着剤担持量を１３
０ｇ、Ｐｄ担持量を７ｇ、ＣｅＯ2 担持量を３６ｇと
し、第２触媒層のＰｔ及びＲｈを合わせた担持量を互い
に異なるものとした数種類の触媒を調製した。ＰｔとＲ
ｈとの重量比率はいずれも５：１とした。そして、これ
らの触媒に加熱処理を施した後に各触媒を模擬排気ガス
流通装置に組み込み、各触媒の入口ガス温度が４００℃
の時のＮＯｘ浄化率（ＮＯｘ Ｃ４００）を調べた。測
定条件は次の通りである。
【００３０】加熱処理；９００℃×５０時間（大気中） 模擬排気ガス；成分 Ｎ2 ，ＣＯ2 ，ＣＯ，Ｃ3 Ｈ6 ，
Ｏ2 ，Ｈ2 ，ＮＯ但し、Ａ／Ｆ＝１５．０であり、Ｈ2
Ｏを１０％添加している。 空間速度；ＳＶ＝６００００ｈ-1 模擬排気ガスの昇温速度；３０度／分（室温から５００
℃まで昇温）
Ｏ2 ，Ｈ2 ，ＮＯ但し、Ａ／Ｆ＝１５．０であり、Ｈ2
Ｏを１０％添加している。 空間速度；ＳＶ＝６００００ｈ-1 模擬排気ガスの昇温速度；３０度／分（室温から５００
℃まで昇温）
【００３１】模擬排気ガスのＡ／Ｆ値を理論空燃比より
もリーン側に設定したのは、触媒によるＮＯｘの浄化を
難しいものとして、各触媒に性能差が出やすいようにす
るためである。
もリーン側に設定したのは、触媒によるＮＯｘの浄化を
難しいものとして、各触媒に性能差が出やすいようにす
るためである。
【００３２】結果は図２に比較例１のものと併せて示さ
れている。比較例１は実施例と同じ担体にＨＣ吸着剤の
ウォッシュコートを行なった後に、ＣｅＯ2 →Ｐｄ→Ｐ
ｔ，Ｒｈの順で含浸担持を行なったものであり、含浸の
順序は異なるが、ウォッシュコート法及び含浸法、並び
に材料は実施例と同じである。また、比較例１のＨＣ吸
着剤担持量は１３０ｇ／Ｌ、Ｐｄ担持量は７ｇ／Ｌ、Ｃ
ｅＯ2 担持量を３６ｇ／Ｌ、Ｐｔ及びＲｈを合わせた担
持量は１．６ｇ／Ｌである。
れている。比較例１は実施例と同じ担体にＨＣ吸着剤の
ウォッシュコートを行なった後に、ＣｅＯ2 →Ｐｄ→Ｐ
ｔ，Ｒｈの順で含浸担持を行なったものであり、含浸の
順序は異なるが、ウォッシュコート法及び含浸法、並び
に材料は実施例と同じである。また、比較例１のＨＣ吸
着剤担持量は１３０ｇ／Ｌ、Ｐｄ担持量は７ｇ／Ｌ、Ｃ
ｅＯ2 担持量を３６ｇ／Ｌ、Ｐｔ及びＲｈを合わせた担
持量は１．６ｇ／Ｌである。
【００３３】同図によれば、実施例では高いＮＯｘ浄化
率が得られることがわかる。これはＣｅＯ2 層が第１触
媒層（Ｐｄ）と第２触媒層（Ｐｔ，Ｒｈ）との間にあっ
て、ＰｄとＰｔ及びＲｈとの干渉を妨げているためであ
る。そして、実施例をみるとＮＯｘ浄化率はＰｔ及びＲ
ｈの担持量に支配されていることがわかる。また、Ｐｔ
及びＲｈの担持量の合計を０．８ｇ／Ｌ以上にすれば、
高いＮＯｘ浄化率が得られることがわかる。また、Ｐｔ
及びＲｈの担持量の合計が１ｇを越えてもＮＯｘ浄化率
の向上はあまり見られないことから、該合計量を１．０
ｇ／Ｌ以上にすればよいことがわかる。
率が得られることがわかる。これはＣｅＯ2 層が第１触
媒層（Ｐｄ）と第２触媒層（Ｐｔ，Ｒｈ）との間にあっ
て、ＰｄとＰｔ及びＲｈとの干渉を妨げているためであ
る。そして、実施例をみるとＮＯｘ浄化率はＰｔ及びＲ
ｈの担持量に支配されていることがわかる。また、Ｐｔ
及びＲｈの担持量の合計を０．８ｇ／Ｌ以上にすれば、
高いＮＯｘ浄化率が得られることがわかる。また、Ｐｔ
及びＲｈの担持量の合計が１ｇを越えてもＮＯｘ浄化率
の向上はあまり見られないことから、該合計量を１．０
ｇ／Ｌ以上にすればよいことがわかる。
【００３４】［ＨＣライトオフ性能］上記触媒の調製法
によって、担体１リットル当たりの第１触媒層のＨＣ吸
着剤担持量を１３０ｇ、Ｐｄ担持量を７ｇ、第２触媒層
のＰｔ及びＲｈを合わせた担持量を１．６ｇ／Ｌとし、
ＣｅＯ2 担持量を互いに異なるものとした数種類の触媒
を調製した。そして、これらの触媒に先の場合と同じ加
熱処理を施した後に各触媒を模擬排気ガス流通装置に組
み込み、ＨＣのライトオフ温度、すなわち、ＨＣ浄化率
が５０％になるときの排気ガス温度（ＨＣ Ｔ５０）を
調べた。測定条件は模擬排気ガスの空燃比を除いて上記
ＮＯｘ浄化性能の評価の場合と同じである。模擬排気ガ
スの空燃比に関しては、Ａ／Ｆ＝１４．７を中心として
±０．９の幅で変動させた。この変動の周波数は１Ｈｚ
とした。
によって、担体１リットル当たりの第１触媒層のＨＣ吸
着剤担持量を１３０ｇ、Ｐｄ担持量を７ｇ、第２触媒層
のＰｔ及びＲｈを合わせた担持量を１．６ｇ／Ｌとし、
ＣｅＯ2 担持量を互いに異なるものとした数種類の触媒
を調製した。そして、これらの触媒に先の場合と同じ加
熱処理を施した後に各触媒を模擬排気ガス流通装置に組
み込み、ＨＣのライトオフ温度、すなわち、ＨＣ浄化率
が５０％になるときの排気ガス温度（ＨＣ Ｔ５０）を
調べた。測定条件は模擬排気ガスの空燃比を除いて上記
ＮＯｘ浄化性能の評価の場合と同じである。模擬排気ガ
スの空燃比に関しては、Ａ／Ｆ＝１４．７を中心として
±０．９の幅で変動させた。この変動の周波数は１Ｈｚ
とした。
【００３５】結果は図３に上記比較例１のものと併せて
示されている。同図によれば、実施例は比較例１よりも
ライトオフ温度が低く、ＨＣ浄化性能が高いことがわか
る。そして、実施例をみるとＣｅＯ2 担持量が１５ｇ／
ＬのときのＨＣのライトオフ温度が最も低く、これより
も該担持量が少なくなる場合も多くなる場合もライトオ
フ温度が高くなっている。ＣｅＯ2 担持量が少ない場合
にＨＣライトオフ温度が高くなっているのは、第１触媒
層のＰｄと第２触媒層のＰｔ及びＲｈとが互いに干渉
し、それらの触媒機能が充分に発揮されなくなるためと
考えられ、ＣｅＯ2 担持量が多くなった場合にＨＣライ
トオフ温度が高くなっているのは、第１触媒層へのＨＣ
の拡散移動がＣｅＯ2 によって妨げられるためと考えら
れる。また、同図から、ＣｅＯ2 担持量を１５〜１００
ｇ／Ｌにすれば高いＨＣ浄化率が得られることがわか
る。
示されている。同図によれば、実施例は比較例１よりも
ライトオフ温度が低く、ＨＣ浄化性能が高いことがわか
る。そして、実施例をみるとＣｅＯ2 担持量が１５ｇ／
ＬのときのＨＣのライトオフ温度が最も低く、これより
も該担持量が少なくなる場合も多くなる場合もライトオ
フ温度が高くなっている。ＣｅＯ2 担持量が少ない場合
にＨＣライトオフ温度が高くなっているのは、第１触媒
層のＰｄと第２触媒層のＰｔ及びＲｈとが互いに干渉
し、それらの触媒機能が充分に発揮されなくなるためと
考えられ、ＣｅＯ2 担持量が多くなった場合にＨＣライ
トオフ温度が高くなっているのは、第１触媒層へのＨＣ
の拡散移動がＣｅＯ2 によって妨げられるためと考えら
れる。また、同図から、ＣｅＯ2 担持量を１５〜１００
ｇ／Ｌにすれば高いＨＣ浄化率が得られることがわか
る。
【００３６】［Ｐｄ担持量とＨＣライトオフ性能等につ
いて］コージェライト製のハニカム状モノリス担体にプ
ロトン型のＹゼオライト（ケイバン比８０）粉末がウォ
ッシュコート法によって担持量が１３０ｇ／Ｌとなるよ
うに担持され、このコート層にＰｄを含浸法によって種
々の担持量で担持されてなる複数種の触媒を調製した。
そして、これらの触媒を用いてＰｄ担持量の変化に対す
るＨＣライトオフ温度の変化を調べた。上記ウォッシュ
コート法及び含浸法は先の触媒を調製するときの方法と
同じであり、また、ＨＣライトオフ性能の測定条件及び
方法も先と同じである。
いて］コージェライト製のハニカム状モノリス担体にプ
ロトン型のＹゼオライト（ケイバン比８０）粉末がウォ
ッシュコート法によって担持量が１３０ｇ／Ｌとなるよ
うに担持され、このコート層にＰｄを含浸法によって種
々の担持量で担持されてなる複数種の触媒を調製した。
そして、これらの触媒を用いてＰｄ担持量の変化に対す
るＨＣライトオフ温度の変化を調べた。上記ウォッシュ
コート法及び含浸法は先の触媒を調製するときの方法と
同じであり、また、ＨＣライトオフ性能の測定条件及び
方法も先と同じである。
【００３７】結果は図４に示されている。同図によれ
ば、Ｐｄ担持量を多くすればＨＣライトオフ温度が低下
するが、ある量以上になるとＨＣライトオフ温度の低下
はそれほど進まなくなっている。このようなＰｄ担持量
とＨＣライトオフ性能との関係は希土類酸化物層及び第
２触媒層を設けた場合も同じであり、従って、ＨＣライ
トオフ性能の向上のためにはＰｄ担持量を６ｇ／Ｌ以上
にすることが適当である言うことができる。
ば、Ｐｄ担持量を多くすればＨＣライトオフ温度が低下
するが、ある量以上になるとＨＣライトオフ温度の低下
はそれほど進まなくなっている。このようなＰｄ担持量
とＨＣライトオフ性能との関係は希土類酸化物層及び第
２触媒層を設けた場合も同じであり、従って、ＨＣライ
トオフ性能の向上のためにはＰｄ担持量を６ｇ／Ｌ以上
にすることが適当である言うことができる。
【００３８】＜実施例２＞ −実施例２の触媒の調製− ＨＣ吸着剤として超安定化Ｙ型ゼオライト（ケイバン比
３０）粉末５００ｇ、水和アルミナ粉末（バインダ）１
５０ｇ及び水１．５Ｌを合わせて撹拌混合することによ
ってスラリーを作製した。このスラリーを用いて実施例
１と同様の担体にウォッシュコートを行なうことによっ
て、該担体に所定量のＨＣ吸着剤を担持させた。
３０）粉末５００ｇ、水和アルミナ粉末（バインダ）１
５０ｇ及び水１．５Ｌを合わせて撹拌混合することによ
ってスラリーを作製した。このスラリーを用いて実施例
１と同様の担体にウォッシュコートを行なうことによっ
て、該担体に所定量のＨＣ吸着剤を担持させた。
【００３９】次に、Ｐｄ濃度４．４ｗｔ％の硝酸パラジ
ウム水溶液２００ｇを調製し、これを上記担体のＨＣ吸
着剤コート層に全て含浸させ、乾燥させた後、焼成（５
００℃×２時間）を行なうことによって、各ＨＣ吸着剤
粒子の表面に第１触媒層を形成した。
ウム水溶液２００ｇを調製し、これを上記担体のＨＣ吸
着剤コート層に全て含浸させ、乾燥させた後、焼成（５
００℃×２時間）を行なうことによって、各ＨＣ吸着剤
粒子の表面に第１触媒層を形成した。
【００４０】次に、硝酸セリウムを純水に溶解すること
によってＣｅ濃度６．０ｗｔ％の硝酸セリウム水溶液６
４０ｇを調製し、これを上記ＨＣ吸着剤層に全て含浸さ
せ、乾燥させた後、同様の焼成を行なうことによって、
各ＨＣ吸着剤粒子の第１触媒層の上にＣｅＯ2 層を形成
した。
によってＣｅ濃度６．０ｗｔ％の硝酸セリウム水溶液６
４０ｇを調製し、これを上記ＨＣ吸着剤層に全て含浸さ
せ、乾燥させた後、同様の焼成を行なうことによって、
各ＨＣ吸着剤粒子の第１触媒層の上にＣｅＯ2 層を形成
した。
【００４１】次に、硝酸白金−Ｐソルト溶液と硝酸ロジ
ウム水溶液とを混合することによって、Ｐｔ濃度０．８
７ｗｔ％、Ｒｈ濃度０．１７ｗｔ％の混合水溶液２００
ｇを調製し、これを上記ＨＣ吸着剤層に全て含浸させ、
乾燥させた後、同様の焼成を行なうことによって、各Ｈ
Ｃ吸着剤粒子のＣｅＯ2 層の上にＰｔ及びＲｈを触媒金
属とする第２触媒層を形成した。
ウム水溶液とを混合することによって、Ｐｔ濃度０．８
７ｗｔ％、Ｒｈ濃度０．１７ｗｔ％の混合水溶液２００
ｇを調製し、これを上記ＨＣ吸着剤層に全て含浸させ、
乾燥させた後、同様の焼成を行なうことによって、各Ｈ
Ｃ吸着剤粒子のＣｅＯ2 層の上にＰｔ及びＲｈを触媒金
属とする第２触媒層を形成した。
【００４２】得られた触媒は、上記担体が１．３Ｌ、Ｈ
Ｃ吸着剤の担持量が１５０ｇ／Ｌ、Ｐｄ担持量が７ｇ／
Ｌ、ＣｅＯ2 担持量が３６ｇ／Ｌ、Ｐｔ及びＲｈを合わ
せた担持量が１．６ｇ／Ｌ（但し、Ｐｔ：Ｒｈ＝５：
１）であった。
Ｃ吸着剤の担持量が１５０ｇ／Ｌ、Ｐｄ担持量が７ｇ／
Ｌ、ＣｅＯ2 担持量が３６ｇ／Ｌ、Ｐｔ及びＲｈを合わ
せた担持量が１．６ｇ／Ｌ（但し、Ｐｔ：Ｒｈ＝５：
１）であった。
【００４３】−比較例２の触媒の調製− 実施例２と同様に、担体にＨＣ吸着剤コート層を形成
し、これにＰｄを含浸法によって担持させた。そして、
硝酸白金−Ｐソルト溶液と硝酸ロジウム水溶液とを混合
してなるＰｔ濃度３．７ｗｔ％、Ｒｈ濃度０．７４ｗｔ
％の混合水溶液１００ｇにＣｅＯ2 粉末１００ｇを投入
し、ホットプレート上で加熱しつつ混合撹拌を行なうこ
とによって水分を蒸発させ、焼成（５００℃×２時間）
した。このＰｔ及びＲｈが担持されたＣｅＯ2 粉末１０
０ｇと水和アルミナ１５ｇと純水３００ｍＬとを撹拌混
合することによってスラリーを得た。このスラリーを用
いて上記担体のＨＣ吸着剤コート層の上にウォッシュコ
ートを行なった。
し、これにＰｄを含浸法によって担持させた。そして、
硝酸白金−Ｐソルト溶液と硝酸ロジウム水溶液とを混合
してなるＰｔ濃度３．７ｗｔ％、Ｒｈ濃度０．７４ｗｔ
％の混合水溶液１００ｇにＣｅＯ2 粉末１００ｇを投入
し、ホットプレート上で加熱しつつ混合撹拌を行なうこ
とによって水分を蒸発させ、焼成（５００℃×２時間）
した。このＰｔ及びＲｈが担持されたＣｅＯ2 粉末１０
０ｇと水和アルミナ１５ｇと純水３００ｍＬとを撹拌混
合することによってスラリーを得た。このスラリーを用
いて上記担体のＨＣ吸着剤コート層の上にウォッシュコ
ートを行なった。
【００４４】従って、得られた比較例２の触媒は、担体
の上に上下２つの層が形成されていて、下層がＰｄを担
持したＨＣ吸着剤層、上層がＰｔ及びＲｈを担持したＣ
ｅＯ2 層になっている。また、担体は１．３Ｌ、ＨＣ吸
着剤担持量は１５０ｇ／Ｌ、Ｐｄ担持量は７ｇ／Ｌ、Ｐ
ｔ及びＲｈを担持したＣｅＯ2 の担持量が３８ｇ／Ｌ
（但し、Ｐｔ：Ｒｈ＝５：１）である。
の上に上下２つの層が形成されていて、下層がＰｄを担
持したＨＣ吸着剤層、上層がＰｔ及びＲｈを担持したＣ
ｅＯ2 層になっている。また、担体は１．３Ｌ、ＨＣ吸
着剤担持量は１５０ｇ／Ｌ、Ｐｄ担持量は７ｇ／Ｌ、Ｐ
ｔ及びＲｈを担持したＣｅＯ2 の担持量が３８ｇ／Ｌ
（但し、Ｐｔ：Ｒｈ＝５：１）である。
【００４５】−比較例３の触媒の調製− 実施例２と同様に、担体にＨＣ吸着剤コート層を形成
し、該コート層に硝酸セリウム水溶液を用いて同様の含
浸法によってＣｅＯ2 を同量担持させ、さらに、硝酸パ
ラジウム水溶液を用いて同様の含浸法によってＰｄを同
量担持させた。従って、得られた比較例３の触媒はＰｔ
及びＲｈがない点が実施例２の触媒と相違することにな
る。
し、該コート層に硝酸セリウム水溶液を用いて同様の含
浸法によってＣｅＯ2 を同量担持させ、さらに、硝酸パ
ラジウム水溶液を用いて同様の含浸法によってＰｄを同
量担持させた。従って、得られた比較例３の触媒はＰｔ
及びＲｈがない点が実施例２の触媒と相違することにな
る。
【００４６】−比較例４の触媒の調製− 実施例２と同様に、担体にＨＣ吸着剤コート層を形成
し、該コート層に硝酸セリウム水溶液を用いて同様の含
浸法によってＣｅＯ2 を同量担持させ、さらに、硝酸白
金−Ｐソルト溶液と硝酸ロジウム水溶液との混合水溶液
を用いて同様の含浸法によってＰｔ及びＲｈを同量担持
させた。従って、得られた比較例４の触媒はＰｄがない
点が実施例２の触媒と相違することになる。
し、該コート層に硝酸セリウム水溶液を用いて同様の含
浸法によってＣｅＯ2 を同量担持させ、さらに、硝酸白
金−Ｐソルト溶液と硝酸ロジウム水溶液との混合水溶液
を用いて同様の含浸法によってＰｔ及びＲｈを同量担持
させた。従って、得られた比較例４の触媒はＰｄがない
点が実施例２の触媒と相違することになる。
【００４７】−触媒の評価− 上記各触媒について、それぞれＶ型６気筒の３０００ｃ
ｃのエンジンを搭載した自動車の排気系に組み込み、走
行モードＬＡ−４にて排気ガス浄化性能を評価した。結
果は表１に示す通りである。
ｃのエンジンを搭載した自動車の排気系に組み込み、走
行モードＬＡ−４にて排気ガス浄化性能を評価した。結
果は表１に示す通りである。
【００４８】
【表１】
【００４９】同表によれば実施例２ではＨＣ浄化率及び
ＮＯｘ浄化率が共に高い。実施例２と比較例２とを比べ
た場合、ＨＣ浄化率は実施例２の方が高く、ＮＯｘ浄化
率は比較例２の方が高いのは、実施例２では各ＨＣ吸着
剤粒子の第１触媒層（Ｐｄ）上にＣｅＯ2 層が形成され
ているのに対し、比較例２では層厚なＣｅＯ2 層がＨＣ
吸着剤層全体を覆うように形成されているためである。
比較例３ではＰｔ及びＲｈがないためにＮＯｘ浄化率が
低くなっており、比較例４ではＰｄがないためにＨＣ浄
化率が低くなっている。
ＮＯｘ浄化率が共に高い。実施例２と比較例２とを比べ
た場合、ＨＣ浄化率は実施例２の方が高く、ＮＯｘ浄化
率は比較例２の方が高いのは、実施例２では各ＨＣ吸着
剤粒子の第１触媒層（Ｐｄ）上にＣｅＯ2 層が形成され
ているのに対し、比較例２では層厚なＣｅＯ2 層がＨＣ
吸着剤層全体を覆うように形成されているためである。
比較例３ではＰｔ及びＲｈがないためにＮＯｘ浄化率が
低くなっており、比較例４ではＰｄがないためにＨＣ浄
化率が低くなっている。
【００５０】＜実施例３＞ −実施例及び比較例の各触媒の調製− 実施例２と同様の方法によつて同様の構造の実施例３の
触媒を調製した。この実施例３の触媒は、ＨＣ吸着剤と
してケイバン比が８０のＨ型超安定化Ｙ型ゼオライトを
用い、ＣｅＯ2 の担持量が３５ｇ／Ｌである点が実施例
２の触媒と相違する。また、以下の比較例５〜９の各触
媒を調製した。
触媒を調製した。この実施例３の触媒は、ＨＣ吸着剤と
してケイバン比が８０のＨ型超安定化Ｙ型ゼオライトを
用い、ＣｅＯ2 の担持量が３５ｇ／Ｌである点が実施例
２の触媒と相違する。また、以下の比較例５〜９の各触
媒を調製した。
【００５１】比較例５は、先の比較例２と同じ構造の触
媒であるが、ＨＣ吸着剤の種類、ＣｅＯ2 の担持量など
他の条件を実施例３と同じにした。
媒であるが、ＨＣ吸着剤の種類、ＣｅＯ2 の担持量など
他の条件を実施例３と同じにした。
【００５２】比較例６の触媒は、担体の上にＨＣ吸着剤
層、Ｐｄを担持したＣｅＯ2 層、並びにＰｔ及びＲｈを
担持したＣｅＯ2 層が下から順に形成されたものであ
り、ＨＣ吸着剤の種類、ＣｅＯ2 の担持量など他の条件
を実施例３と同じにした。
層、Ｐｄを担持したＣｅＯ2 層、並びにＰｔ及びＲｈを
担持したＣｅＯ2 層が下から順に形成されたものであ
り、ＨＣ吸着剤の種類、ＣｅＯ2 の担持量など他の条件
を実施例３と同じにした。
【００５３】比較例７の触媒は、担体の上にＨＣ吸着剤
層を形成し、該ＨＣ吸着剤層にＰｔ及びＲｈを含浸法に
よって担持させ、その上にＰｄを担持したＣｅＯ2 層を
形成し、該ＣｅＯ2 層にＰｔ及びＲｈを含浸法によって
担持させたものであり、ＨＣ吸着剤の種類、ＣｅＯ2 の
担持量など他の条件を実施例３と同じにした。
層を形成し、該ＨＣ吸着剤層にＰｔ及びＲｈを含浸法に
よって担持させ、その上にＰｄを担持したＣｅＯ2 層を
形成し、該ＣｅＯ2 層にＰｔ及びＲｈを含浸法によって
担持させたものであり、ＨＣ吸着剤の種類、ＣｅＯ2 の
担持量など他の条件を実施例３と同じにした。
【００５４】比較例８の触媒は、担体の上にＨＣ吸着剤
層を形成し、これにＣｅＯ2 →Ｐｄ→Ｐｔ及びＲｈの順
でこれらを含浸担持させたものであり、ＨＣ吸着剤の種
類、ＣｅＯ2 の担持量など他の条件を実施例３と同じに
した。
層を形成し、これにＣｅＯ2 →Ｐｄ→Ｐｔ及びＲｈの順
でこれらを含浸担持させたものであり、ＨＣ吸着剤の種
類、ＣｅＯ2 の担持量など他の条件を実施例３と同じに
した。
【００５５】比較例９の触媒は、担体の上にＨＣ吸着剤
層を形成し、Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈを担持したＣｅＯ2 層
を上記ＨＣ吸着剤層の上にウォッシュコートによって形
成したものであり、ＨＣ吸着剤の種類、ＣｅＯ2 の担持
量など他の条件を実施例３と同じにした。
層を形成し、Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈを担持したＣｅＯ2 層
を上記ＨＣ吸着剤層の上にウォッシュコートによって形
成したものであり、ＨＣ吸着剤の種類、ＣｅＯ2 の担持
量など他の条件を実施例３と同じにした。
【００５６】−触媒の評価− 上記各触媒に加熱処理を施した後に各触媒を模擬排気ガ
ス流通装置に組み込み、各触媒の入口ガス温度が４００
℃の時のＮＯｘ浄化率（ＮＯｘ Ｃ４００）と、ＨＣの
ライトオフ温度（ＨＣ Ｔ５０）を調べた。この場合の
加熱処理の条件並びに測定の条件及び方法は実施例１の
それと同じであり、結果は表２に示されている。
ス流通装置に組み込み、各触媒の入口ガス温度が４００
℃の時のＮＯｘ浄化率（ＮＯｘ Ｃ４００）と、ＨＣの
ライトオフ温度（ＨＣ Ｔ５０）を調べた。この場合の
加熱処理の条件並びに測定の条件及び方法は実施例１の
それと同じであり、結果は表２に示されている。
【００５７】
【表２】
【００５８】同表によれば、実施例３はＨＣの浄化性能
及びＮＯｘの浄化性能が共に高い。ここに、比較例５，
６は層厚なＣｅＯ2 層がＨＣ吸着剤層全体を覆っている
ためにＨＣ Ｔ５０が高くなり、比較例７，８はＰｄと
ＨＣ吸着剤とが離れているためにＨＣ Ｔ５０が高くな
り、比較例８，９はＰｄとＰｔ、Ｒｈとが接近している
ためにＮＯｘ Ｃ４００が低くなっているものと認めら
れる。
及びＮＯｘの浄化性能が共に高い。ここに、比較例５，
６は層厚なＣｅＯ2 層がＨＣ吸着剤層全体を覆っている
ためにＨＣ Ｔ５０が高くなり、比較例７，８はＰｄと
ＨＣ吸着剤とが離れているためにＨＣ Ｔ５０が高くな
り、比較例８，９はＰｄとＰｔ、Ｒｈとが接近している
ためにＮＯｘ Ｃ４００が低くなっているものと認めら
れる。
【図１】実施例１の触媒構造を示す断面図
【図２】触媒入口ガス温度が４００℃のときのＮＯｘ浄
化率とＰｔ・Ｒｈ担持量との関係を示すグラフ図
化率とＰｔ・Ｒｈ担持量との関係を示すグラフ図
【図３】ＣｅＯ2 担持量とＨＣ浄化におけるライトオフ
温度との関係を示すグラフ図
温度との関係を示すグラフ図
【図４】Ｐｄ含浸担持量とＨＣ浄化におけるライトオフ
温度との関係を示すグラフ図
温度との関係を示すグラフ図
１ ＨＣ吸着剤粒子 ２ 第１触媒層 ３ ＣｅＯ2 層（希土類酸化物層） ４ 第２触媒層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/86 ＺＡＢ 53/94 Ｂ０１Ｊ 29/12 ＺＡＢ Ａ Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢ １０２ Ｂ １０４ Ａ
Claims (4)
- 【請求項１】 担体の上に、排気ガス中の炭化水素を吸
着する粉末状の無機結晶性モレキュラーシーブよりなる
ＨＣ吸着剤が担持されていて、 上記ＨＣ吸着剤粒子の各々の表面にＰｄを触媒金属とす
る第１触媒層が形成され、 上記第１触媒層の上に、希土類酸化物を主成分とする希
土類酸化物層が形成され、 上記希土類酸化物層の上に、Ｐｔ及びＲｈのうちの少な
くとも一方を触媒金属とする第２触媒層が形成されてい
ることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項２】 請求項１に記載されている内燃機関の排
気ガス浄化用触媒において、 上記希土類酸化物がＣｅＯ2 であることを特徴とする内
燃機関の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３】 請求項３に記載されている内燃機関の排
気ガス浄化用触媒において、 上記担体がモノリス担体であって、該担体１リットル当
たりの上記ＣｅＯ2 の量が１５〜１００ｇであることを
特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項４】 請求項１に記載されている内燃機関の排
気ガス浄化用触媒において、 上記ＨＣ吸着剤が結晶性アルミノシリケートであること
を特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6307831A JPH08164338A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6307831A JPH08164338A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08164338A true JPH08164338A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=17973732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6307831A Withdrawn JPH08164338A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08164338A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6042797A (en) * | 1997-07-02 | 2000-03-28 | Tosoh Corporation | Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas |
| JP2003154274A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-05-27 | Hitachi Ltd | 排ガス浄化触媒、排ガス浄化方法及び装置 |
| US6641788B1 (en) | 1997-07-02 | 2003-11-04 | Tosoh Corporation | Absorbent for a hydrocarbon, and exhaust gas-purifying catalyst |
| NL1021116C2 (nl) * | 2002-07-19 | 2004-01-20 | Stichting Energie | Werkwijze voor het verwijderen van NOx en katalysator daarvoor. |
-
1994
- 1994-12-12 JP JP6307831A patent/JPH08164338A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6309616B1 (en) | 1977-11-26 | 2001-10-30 | Tosoh Corporation | Method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas |
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| US6103208A (en) * | 1997-07-02 | 2000-08-15 | Tosoh Corporation | Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas |
| US6641788B1 (en) | 1997-07-02 | 2003-11-04 | Tosoh Corporation | Absorbent for a hydrocarbon, and exhaust gas-purifying catalyst |
| JP2003154274A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-05-27 | Hitachi Ltd | 排ガス浄化触媒、排ガス浄化方法及び装置 |
| NL1021116C2 (nl) * | 2002-07-19 | 2004-01-20 | Stichting Energie | Werkwijze voor het verwijderen van NOx en katalysator daarvoor. |
| WO2004009220A1 (en) * | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Stichting Energieonderzoek Centrum Nederland | Method for the removal of nox and catalyst therefor |
| US7459135B2 (en) * | 2002-07-19 | 2008-12-02 | Stichting Energieonderzoek Centrum Nederland | Method for the removal of NOx and catalyst therefor |
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