JPH08165193A - 基板固定治具 - Google Patents
基板固定治具Info
- Publication number
- JPH08165193A JPH08165193A JP33107794A JP33107794A JPH08165193A JP H08165193 A JPH08165193 A JP H08165193A JP 33107794 A JP33107794 A JP 33107794A JP 33107794 A JP33107794 A JP 33107794A JP H08165193 A JPH08165193 A JP H08165193A
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- JP
- Japan
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- substrate
- magnetic
- sggg
- substrate holding
- garnet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids
- H01F41/28—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids by liquid phase epitaxy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガーネット結晶を液相エピタキシャルにより
成長する場合の単結晶育成に有効な、容易に非磁性基板
をホールドする取り付け治具と、クラック，結晶欠陥の
ない膜成長を得ることができる基板ホールド固定治具を
提供する。 【構成】 非磁性基板（Gd3Ga5Ｏ12（ＧＧＧ）又はCaMg
Zr置換型Gd3Ga5Ｏ12（ＳＧＧＧ））７に３本以上の複数
本の基板ホールド用支持部９を設け、複数本の基板ホー
ルド用支持部９は基板回転用丸棒８と固定され、かつ複
数の基板ホールド用支持部９が内側へ引張されるように
白金等よりなるバネ10で連結され、非磁性基板（ＧＧ
Ｇ）又は（ＳＧＧＧ）７の外周部側面をホールドするよ
うにする。
成長する場合の単結晶育成に有効な、容易に非磁性基板
をホールドする取り付け治具と、クラック，結晶欠陥の
ない膜成長を得ることができる基板ホールド固定治具を
提供する。 【構成】 非磁性基板（Gd3Ga5Ｏ12（ＧＧＧ）又はCaMg
Zr置換型Gd3Ga5Ｏ12（ＳＧＧＧ））７に３本以上の複数
本の基板ホールド用支持部９を設け、複数本の基板ホー
ルド用支持部９は基板回転用丸棒８と固定され、かつ複
数の基板ホールド用支持部９が内側へ引張されるように
白金等よりなるバネ10で連結され、非磁性基板（ＧＧ
Ｇ）又は（ＳＧＧＧ）７の外周部側面をホールドするよ
うにする。
Description
【０００１】本発明は、ファラデー効果を利用した光ア
イソレータに用いられる磁気光学ガーネットに関するも
のであり、光サーキュレータ、光・磁界センサー、光ス
イッチ用としての光学素子としても応用が期待される磁
気光学素子の製造方法に関するものである。
イソレータに用いられる磁気光学ガーネットに関するも
のであり、光サーキュレータ、光・磁界センサー、光ス
イッチ用としての光学素子としても応用が期待される磁
気光学素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および課題】光アイソレータ、光センサ
ー、光スイッチなどには、ファラデー素子として磁性ガ
ーネットが用いられている。磁性ガーネットの製造方法
としては液相エピタキシャル成長法（ＬＰＥ法）が幅広
く知られている。ＬＰＥ法はPbＯ−Bi2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3をフ
ラックスとして、磁性ガーネット（（ＲBi）3（FeＭ）5
Ｏ12（Ｒ：Ｙを含む希土類元素、Ｍ：Ti、Mn、Al、G
a））を溶融後、８００℃前後に冷却してガーネットの
過飽和を作り成長させる単結晶育成技術である。
ー、光スイッチなどには、ファラデー素子として磁性ガ
ーネットが用いられている。磁性ガーネットの製造方法
としては液相エピタキシャル成長法（ＬＰＥ法）が幅広
く知られている。ＬＰＥ法はPbＯ−Bi2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3をフ
ラックスとして、磁性ガーネット（（ＲBi）3（FeＭ）5
Ｏ12（Ｒ：Ｙを含む希土類元素、Ｍ：Ti、Mn、Al、G
a））を溶融後、８００℃前後に冷却してガーネットの
過飽和を作り成長させる単結晶育成技術である。
【０００３】図２は、従来のガーネット結晶のＬＰＥ成
長装置の模式断面図、図３は、その要部の基板保持体を
基板を装着して示す斜視図である。
長装置の模式断面図、図３は、その要部の基板保持体を
基板を装着して示す斜視図である。
【０００４】ＬＰＥ成長装置は、図２に示すように、断
熱構造体１と電気炉ヒータ２、および引上げ機構３を主
体に構成され、４は坩堝、５は育成材料の融液（以下メ
ルトという）である。また、図３において６は基板保持
体であり、図２の引上げ機構３の先端に装着され、基板
７を図のように保持する。
熱構造体１と電気炉ヒータ２、および引上げ機構３を主
体に構成され、４は坩堝、５は育成材料の融液（以下メ
ルトという）である。また、図３において６は基板保持
体であり、図２の引上げ機構３の先端に装着され、基板
７を図のように保持する。
【０００５】ＬＰＥ成長装置では、坩堝４にメルトを保
持しその温度を飽和温度以上とすることにより融液の均
一化をはかり、しかるのち、融液を飽和温度以下の適当
な過冷却温度に降温させ、その温度に保持しつつメルト
に基板７を浸してエピタキシャル成長を行う過程を繰り
返すものである。
持しその温度を飽和温度以上とすることにより融液の均
一化をはかり、しかるのち、融液を飽和温度以下の適当
な過冷却温度に降温させ、その温度に保持しつつメルト
に基板７を浸してエピタキシャル成長を行う過程を繰り
返すものである。
【０００６】従来ＬＰＥ法においては、非磁性基板７を
ホールドする方法として、回転治具の丸棒８と非磁性基
板７の取り付け治具である基板支持体６が一体型で、板
材（厚み0.5mm〜1.0mm）の先端を３分割して非磁性基板
７をサンドイッチにして挟み込んでホールドする方法が
取られていた。
ホールドする方法として、回転治具の丸棒８と非磁性基
板７の取り付け治具である基板支持体６が一体型で、板
材（厚み0.5mm〜1.0mm）の先端を３分割して非磁性基板
７をサンドイッチにして挟み込んでホールドする方法が
取られていた。
【０００７】つまり、基板取り付け治具である基板支持
体６は回転丸棒８に固定されていて、非磁性基板７をホ
ールド後、白金ワイヤー等を外周に巻回して基板固定を
サポートしていた。
体６は回転丸棒８に固定されていて、非磁性基板７をホ
ールド後、白金ワイヤー等を外周に巻回して基板固定を
サポートしていた。
【０００８】しかしながら、この方法は板材で挟み込む
ためワイヤーの力加減で基板に対しての応力が変化し、
成育時の基板クラックの原因となっていた。又、板材の
断面形状が四角（長方形）であるため、単結晶育成時基
板を回転（正逆）した際、メルト中のフラックスがホー
ルド部の一部に堆積し、成長時単結晶の結晶欠陥（ピッ
ト、スワール）の原因となっていた。
ためワイヤーの力加減で基板に対しての応力が変化し、
成育時の基板クラックの原因となっていた。又、板材の
断面形状が四角（長方形）であるため、単結晶育成時基
板を回転（正逆）した際、メルト中のフラックスがホー
ルド部の一部に堆積し、成長時単結晶の結晶欠陥（ピッ
ト、スワール）の原因となっていた。
【０００９】又、育成後フラックス除去の酸洗浄によっ
て、治具が消耗し一体型治具を作りなおす必要があった
ため、結果として単結晶育成のコストアップにつながっ
ていた。
て、治具が消耗し一体型治具を作りなおす必要があった
ため、結果として単結晶育成のコストアップにつながっ
ていた。
【００１０】本発明の目的は、上記のような欠点を解決
し、ガーネット結晶を液相エピタキシャルにより成長す
る場合の単結晶育成に有効な、容易に非磁性基板をホー
ルドする取り付け治具と、クラック，結晶欠陥のない膜
成長を得ることができる基板ホールド固定方法を提供す
るものである。
し、ガーネット結晶を液相エピタキシャルにより成長す
る場合の単結晶育成に有効な、容易に非磁性基板をホー
ルドする取り付け治具と、クラック，結晶欠陥のない膜
成長を得ることができる基板ホールド固定方法を提供す
るものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記従来の課
題を解決するためになされたもので、本発明のガーネッ
ト単結晶の基板固定治具は、非磁性基板（Gd3Ga5Ｏ
12（ＧＧＧ）又はCaMgZr置換型Gd3Ga5Ｏ12（ＳＧＧ
Ｇ））７に３本以上の複数本の基板ホールド用支持部９
を設け、複数本の基板ホールド用支持部９は基板回転用
丸棒８と固定され、かつ複数の基板ホールド用支持部９
が内側へ引張されるように白金等よりなるバネ10で連結
され、非磁性基板（ＧＧＧ）又は（ＳＧＧＧ）７の外周
部側面をホールドするようにしたものである。
題を解決するためになされたもので、本発明のガーネッ
ト単結晶の基板固定治具は、非磁性基板（Gd3Ga5Ｏ
12（ＧＧＧ）又はCaMgZr置換型Gd3Ga5Ｏ12（ＳＧＧ
Ｇ））７に３本以上の複数本の基板ホールド用支持部９
を設け、複数本の基板ホールド用支持部９は基板回転用
丸棒８と固定され、かつ複数の基板ホールド用支持部９
が内側へ引張されるように白金等よりなるバネ10で連結
され、非磁性基板（ＧＧＧ）又は（ＳＧＧＧ）７の外周
部側面をホールドするようにしたものである。
【００１２】
【作用】本発明は、バネの力で非磁性基板をホールドす
るように構成したので、非磁性基板を固定する力を均一
にすることができ、成膜時の回転に対してもガタがない
ので、育成時の基板クラックの原因を取り除くことがで
きる。
るように構成したので、非磁性基板を固定する力を均一
にすることができ、成膜時の回転に対してもガタがない
ので、育成時の基板クラックの原因を取り除くことがで
きる。
【００１３】さらに、液面との接触において基板ホール
ド用支持部９の先端が非磁性基板７の外周部のみで、非
磁性基板７の裏側にないので、基板回転に対してのメル
トの流れが治具部で変化することなく対流するため、治
具先端部にフラックスが堆積しないので結晶欠陥（ピッ
ト、スワール）が抑制される。
ド用支持部９の先端が非磁性基板７の外周部のみで、非
磁性基板７の裏側にないので、基板回転に対してのメル
トの流れが治具部で変化することなく対流するため、治
具先端部にフラックスが堆積しないので結晶欠陥（ピッ
ト、スワール）が抑制される。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
して説明する。図１は本発明の実施例の基板と基板保持
体の関係を説明する図である。
して説明する。図１は本発明の実施例の基板と基板保持
体の関係を説明する図である。
【００１５】本発明の実施例によるガーネット単結晶の
基板固定治具は、非磁性基板（Gd3Ga5Ｏ12（ＧＧＧ）又
はCaMgZr置換型Gd3Ga5Ｏ12（ＳＧＧＧ））７に３本また
は４本の基板ホールド用支持部９を設け、この基板ホー
ルド用支持部９は基板回転用丸棒８に固定された基板支
持体６と固定され、かつこの基板ホールド用支持部９が
内側へ引張されるように白金等よりなるバネ10でリング
部材11と連結され、非磁性基板（ＧＧＧ）又は（ＳＧＧ
Ｇ）７の外周部側面を外側からホールドするようにした
ものである。
基板固定治具は、非磁性基板（Gd3Ga5Ｏ12（ＧＧＧ）又
はCaMgZr置換型Gd3Ga5Ｏ12（ＳＧＧＧ））７に３本また
は４本の基板ホールド用支持部９を設け、この基板ホー
ルド用支持部９は基板回転用丸棒８に固定された基板支
持体６と固定され、かつこの基板ホールド用支持部９が
内側へ引張されるように白金等よりなるバネ10でリング
部材11と連結され、非磁性基板（ＧＧＧ）又は（ＳＧＧ
Ｇ）７の外周部側面を外側からホールドするようにした
ものである。
【００１６】実施例による、磁性ガーネット単結晶の製
造方法において、本発明の治具と、従来の治具の両方を
用いて、PbＯ−Bi2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3をフラックス成分として
構成元素の酸化物を調合、メルト後800℃前後まで冷却
しガーネットを過冷却し、ＬＰＥ法によりBi置換型磁性
ガーネット単結晶を育成し、クラック，結晶欠陥を観察
した結果を表１に示す。但し、使用基板としてＧＧＧ、
ＳＧＧＧ基板を用いた。
造方法において、本発明の治具と、従来の治具の両方を
用いて、PbＯ−Bi2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3をフラックス成分として
構成元素の酸化物を調合、メルト後800℃前後まで冷却
しガーネットを過冷却し、ＬＰＥ法によりBi置換型磁性
ガーネット単結晶を育成し、クラック，結晶欠陥を観察
した結果を表１に示す。但し、使用基板としてＧＧＧ、
ＳＧＧＧ基板を用いた。
【００１７】
【表１】
【００１８】表１より明らかなように、従来の治具に比
べ、結晶性も良好で、得られるチツプ枚数も多くなっ
た。
べ、結晶性も良好で、得られるチツプ枚数も多くなっ
た。
【００１９】
【発明の効果】本発明によると、実施例で詳細に説明し
たとおり、バネの力で非磁性基板をホールドするように
構成したので、非磁性基板を固定する力を均一にするこ
とができ、成膜時の回転に対してもガタがないので、育
成時の基板クラックの原因を取り除くことができる。
たとおり、バネの力で非磁性基板をホールドするように
構成したので、非磁性基板を固定する力を均一にするこ
とができ、成膜時の回転に対してもガタがないので、育
成時の基板クラックの原因を取り除くことができる。
【００２０】さらに、液面との接触において基板ホール
ド用支持部９の先端が非磁性基板７の外周部のみで、非
磁性基板７の裏側にないので、基板回転に対してのメル
トの流れが治具部で変化することなく対流するため、治
具先端部にフラックスが堆積しないので、クラック、ピ
ット、スワールの結晶欠陥の少ない磁性ガーネット単結
晶の製造が可能となり、低コスト，再現性良好なガーネ
ット結晶を提供できる。
ド用支持部９の先端が非磁性基板７の外周部のみで、非
磁性基板７の裏側にないので、基板回転に対してのメル
トの流れが治具部で変化することなく対流するため、治
具先端部にフラックスが堆積しないので、クラック、ピ
ット、スワールの結晶欠陥の少ない磁性ガーネット単結
晶の製造が可能となり、低コスト，再現性良好なガーネ
ット結晶を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例のカートリッジ式基板固定治具
の構造を説明する図。
の構造を説明する図。
【図２】従来のガーネット結晶のＬＰＥ成長装置の模式
断面図。
断面図。
【図３】従来の基板を基板保持体に装着して示す斜視
図。
図。
１ 断熱構造体 ２ 電気炉ヒータ ３ 引上げ機構 ４ 坩堝 ５ エッチング材料の融液（メルト） ６ 基板支持体 ７ 非磁性ガーネット基板 ８ 丸棒 ９ 基板ホールド用支持部 10 バネ 11 リング部材
Claims (1)
- 【請求項１】 非磁性基板（Gd3Ga5Ｏ12（ＧＧＧ）又は
CaMgZr置換型Gd3Ga5Ｏ12（ＳＧＧＧ））に３本以上の複
数本の基板ホールド用支持部を設け、該複数本の基板ホ
ールド用支持部は基板回転用丸棒と固定され、かつ該複
数の基板ホールド用支持部が内側へ引張されるように白
金等よりなるバネで連結され、非磁性基板（ＧＧＧ）又
は（ＳＧＧＧ）の外周部側面をホールドするように構成
したことを特徴とする基板固定治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33107794A JPH08165193A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | 基板固定治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33107794A JPH08165193A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | 基板固定治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08165193A true JPH08165193A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=18239599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33107794A Withdrawn JPH08165193A (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | 基板固定治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08165193A (ja) |
-
1994
- 1994-12-07 JP JP33107794A patent/JPH08165193A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020305 |