JPH0816978B2 - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH0816978B2 JPH0816978B2 JP61000852A JP85286A JPH0816978B2 JP H0816978 B2 JPH0816978 B2 JP H0816978B2 JP 61000852 A JP61000852 A JP 61000852A JP 85286 A JP85286 A JP 85286A JP H0816978 B2 JPH0816978 B2 JP H0816978B2
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- Japan
- Prior art keywords
- powder
- magnetic
- undercoat layer
- layer
- magnetic disk
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は磁性層の厚さが５μｍ以下の高密度記録に
適した磁気ディスクに関し、さらに詳しくは耐久性に優
れた前記の磁気ディスクに関する。
適した磁気ディスクに関し、さらに詳しくは耐久性に優
れた前記の磁気ディスクに関する。
磁気ディスクの磁性層は、通常、磁性粉末、結合剤成
分、有機溶剤およびその他の必要成分からなる磁性塗料
をポリエステルフィルムなどの基体上に塗布、乾燥して
つくられ、このようにしてつくられる磁性層の基体に対
する接着性を改善し、また表面電気抵抗を低減するた
め、ポリエステル樹脂を主体とした下塗り層を磁性層と
基体との間に形成したり、またカーボンブラックなどの
導電性粉末を均一に分散させた下塗り層を設けることが
行われている。（特開昭55-84040号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、磁気記録の高密度記録化に対応して、磁性
層の厚さを可及的に薄くすると、減磁損失が少なくなっ
て記録密度が高密度化される反面、磁性層中に含有され
る充填剤などがしだいに少なくなり、磁性層の機械的強
度が低下して充分な耐久性が得られなくなる。特に10℃
以下の低温の場合は、磁性層にかかる磁気ヘッドの摺動
応力の影響が大きく、磁性層が短時間で破壊されること
があり、耐久性が大きく低下する。また、磁気ディスク
においては、高速回転するため内周側より外周側の線速
度が大きく、磁気ヘッドと磁気ディスクの磁性層表面に
おける摺接条件が外周側において厳しくなるなど、磁気
テープと異なって耐久性がシビアに要求され、さらに、
製造工程において、円盤状に打ち抜くときは、磁性層で
使用する結合剤樹脂や非磁性粉末の使用割合などによっ
て、粘着や粉落ちなどが生じる場合があり、不良品が生
じたり、ドロップアウト事故が生じたりする。
分、有機溶剤およびその他の必要成分からなる磁性塗料
をポリエステルフィルムなどの基体上に塗布、乾燥して
つくられ、このようにしてつくられる磁性層の基体に対
する接着性を改善し、また表面電気抵抗を低減するた
め、ポリエステル樹脂を主体とした下塗り層を磁性層と
基体との間に形成したり、またカーボンブラックなどの
導電性粉末を均一に分散させた下塗り層を設けることが
行われている。（特開昭55-84040号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、磁気記録の高密度記録化に対応して、磁性
層の厚さを可及的に薄くすると、減磁損失が少なくなっ
て記録密度が高密度化される反面、磁性層中に含有され
る充填剤などがしだいに少なくなり、磁性層の機械的強
度が低下して充分な耐久性が得られなくなる。特に10℃
以下の低温の場合は、磁性層にかかる磁気ヘッドの摺動
応力の影響が大きく、磁性層が短時間で破壊されること
があり、耐久性が大きく低下する。また、磁気ディスク
においては、高速回転するため内周側より外周側の線速
度が大きく、磁気ヘッドと磁気ディスクの磁性層表面に
おける摺接条件が外周側において厳しくなるなど、磁気
テープと異なって耐久性がシビアに要求され、さらに、
製造工程において、円盤状に打ち抜くときは、磁性層で
使用する結合剤樹脂や非磁性粉末の使用割合などによっ
て、粘着や粉落ちなどが生じる場合があり、不良品が生
じたり、ドロップアウト事故が生じたりする。
この発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果
なされたもので、基体と、この基体上に形成する厚さが
５μｍ以下の塗布型磁性層との間に、Al2O3粉末、α−F
e2O3粉末、CaCO3粉末、MgO粉末、Cr2O3粉末、BaSO4粉
末、BaCO3粉末、ZnO粉末、Cu2O粉末、CuO粉末、TiO2粉
末から選ばれる平均粒子径が0.1〜３μｍの非磁性粉末
を含む下塗り層を設け、さらに、この非磁性粉末の含有
量を下塗り層の全固形成分に対して20〜80重量％の範囲
内となるようにすることによって、磁気ヘッドの摺動に
より生じる内部応力を非磁性粉末で分散させ、塗布型の
磁性層の機械的強度を充分に補強し、磁性層の厚さが薄
い場合でも磁性層を補強して、磁性層の耐久性を充分に
向上させ、高密度記録が良好に行えるようにするととも
に、特にシビアな耐久性が要求される磁気ディスクの厚
さが極めて薄い磁性層の耐久層を充分に向上させ、かつ
製造工程で円盤状に打ち抜く際、粘着や粉落ちなどがな
く、不良品が生じたり、ドロップアウト事故が生じたり
することがないようにしたものである。
なされたもので、基体と、この基体上に形成する厚さが
５μｍ以下の塗布型磁性層との間に、Al2O3粉末、α−F
e2O3粉末、CaCO3粉末、MgO粉末、Cr2O3粉末、BaSO4粉
末、BaCO3粉末、ZnO粉末、Cu2O粉末、CuO粉末、TiO2粉
末から選ばれる平均粒子径が0.1〜３μｍの非磁性粉末
を含む下塗り層を設け、さらに、この非磁性粉末の含有
量を下塗り層の全固形成分に対して20〜80重量％の範囲
内となるようにすることによって、磁気ヘッドの摺動に
より生じる内部応力を非磁性粉末で分散させ、塗布型の
磁性層の機械的強度を充分に補強し、磁性層の厚さが薄
い場合でも磁性層を補強して、磁性層の耐久性を充分に
向上させ、高密度記録が良好に行えるようにするととも
に、特にシビアな耐久性が要求される磁気ディスクの厚
さが極めて薄い磁性層の耐久層を充分に向上させ、かつ
製造工程で円盤状に打ち抜く際、粘着や粉落ちなどがな
く、不良品が生じたり、ドロップアウト事故が生じたり
することがないようにしたものである。
この発明において、基体上に下塗り層を介して形成さ
れる磁性層は、高密度記録が良好に行えるようにするた
め５μｍ以下にするのが好ましく、これより厚くすると
減磁損失が大きくなって高密度記録が良好に行えない。
れる磁性層は、高密度記録が良好に行えるようにするた
め５μｍ以下にするのが好ましく、これより厚くすると
減磁損失が大きくなって高密度記録が良好に行えない。
また、この発明において、基体と磁性層との間に設け
る下塗り層は、平均粒子径が0.1〜３μｍの非磁性粉末
を含有させ、層厚をこれらの非磁性粉末を充分に含有で
きる0.1〜３μｍの厚さにするのが好ましく、このよう
に平均粒子径が0.1〜３μｍの非磁性粉末を含有させた
層厚が0.1〜３μｍの下塗り層を、磁性層と基体との間
に設けると、下塗り層に含有させた非磁性粉末によって
磁気ヘッドの摺動により生じる内部応力を分散すること
ができて、磁性層の機械的強度を充分に補強することが
でき、磁性層の厚みが可及的に薄い場合でも磁性層を充
分に補強して、耐久性を充分に向上することができる。
る下塗り層は、平均粒子径が0.1〜３μｍの非磁性粉末
を含有させ、層厚をこれらの非磁性粉末を充分に含有で
きる0.1〜３μｍの厚さにするのが好ましく、このよう
に平均粒子径が0.1〜３μｍの非磁性粉末を含有させた
層厚が0.1〜３μｍの下塗り層を、磁性層と基体との間
に設けると、下塗り層に含有させた非磁性粉末によって
磁気ヘッドの摺動により生じる内部応力を分散すること
ができて、磁性層の機械的強度を充分に補強することが
でき、磁性層の厚みが可及的に薄い場合でも磁性層を充
分に補強して、耐久性を充分に向上することができる。
このような下塗り層中に含有させる非磁性粉末として
は、Al2O3粉末、α−Fe2O3粉末、CaCO3粉末、MgO粉末、
Cr2O3粉末、BaSO4粉末、BaCO3粉末、ZnO粉末、Cu2O粉
末、CuO粉末、TiO2粉末から選ばれる平均粒子径が0.1〜
３μｍの非磁性粉末が好ましく使用され、平均粒子径が
0.3〜1.0μｍのものがより好ましく使用される。この種
の非磁性粉末は、磁気テープと違って、特にシビアな耐
久性が要求される磁気ディスクにおいて優れた耐久性向
上効果を発揮する。
は、Al2O3粉末、α−Fe2O3粉末、CaCO3粉末、MgO粉末、
Cr2O3粉末、BaSO4粉末、BaCO3粉末、ZnO粉末、Cu2O粉
末、CuO粉末、TiO2粉末から選ばれる平均粒子径が0.1〜
３μｍの非磁性粉末が好ましく使用され、平均粒子径が
0.3〜1.0μｍのものがより好ましく使用される。この種
の非磁性粉末は、磁気テープと違って、特にシビアな耐
久性が要求される磁気ディスクにおいて優れた耐久性向
上効果を発揮する。
使用量は、下塗り層の全固形成分に対して20〜80重量
％の範囲内で使用するのが好ましく、これより少なくて
は所期の効果がえられず、また結合剤樹脂が多くなる
と、製造工程において、円盤状に打ち抜くとき、粘着が
起こって不良品となり、多すぎると下塗り層の表面粗さ
が大きくなり、磁性層のノイズ増加の原因となる他、製
造工程において、円盤状に打ち抜くとき、エッジから非
磁性粉末が粉落ちして磁性層に付着し、ドロップアウト
を生じたりする。このとき、磁気テープのように直線的
に切断する場合は、連続的に落ちた粉などを除去するこ
とも容易であっても、一枚づつ打ち抜かれて製造される
磁気ディスクにおいては困難であり、このため、前記の
非磁性粉末を使用量を下塗り層の全固形成分に対して20
〜80重量％の範囲内で使用するのが好ましい。
％の範囲内で使用するのが好ましく、これより少なくて
は所期の効果がえられず、また結合剤樹脂が多くなる
と、製造工程において、円盤状に打ち抜くとき、粘着が
起こって不良品となり、多すぎると下塗り層の表面粗さ
が大きくなり、磁性層のノイズ増加の原因となる他、製
造工程において、円盤状に打ち抜くとき、エッジから非
磁性粉末が粉落ちして磁性層に付着し、ドロップアウト
を生じたりする。このとき、磁気テープのように直線的
に切断する場合は、連続的に落ちた粉などを除去するこ
とも容易であっても、一枚づつ打ち抜かれて製造される
磁気ディスクにおいては困難であり、このため、前記の
非磁性粉末を使用量を下塗り層の全固形成分に対して20
〜80重量％の範囲内で使用するのが好ましい。
このような非磁性粉末を含む下塗り層は、通常、これ
らの非磁性粉末を、結合剤樹脂および有機溶剤等ととも
に混合分散して下塗り層用塗料を調製し、これをポリエ
ステルフイルムなどの基体上に塗布し、乾燥して形成さ
れる。このようにして形成される下塗り層の層厚は、前
記の非磁性粉末を充分に含有することができるように、
0.1〜３μｍの範囲内にするのが好ましい。
らの非磁性粉末を、結合剤樹脂および有機溶剤等ととも
に混合分散して下塗り層用塗料を調製し、これをポリエ
ステルフイルムなどの基体上に塗布し、乾燥して形成さ
れる。このようにして形成される下塗り層の層厚は、前
記の非磁性粉末を充分に含有することができるように、
0.1〜３μｍの範囲内にするのが好ましい。
ここで、下塗り層に使用される結合剤樹脂としては、
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ
ール樹脂、繊維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹脂、
イソシアネート化合物、放射線硬化型樹脂など従来から
汎用されている結合剤樹脂がいずれも好適に使用され
る。
塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ
ール樹脂、繊維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹脂、
イソシアネート化合物、放射線硬化型樹脂など従来から
汎用されている結合剤樹脂がいずれも好適に使用され
る。
また、有機溶剤としては、アセトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ト
ルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミドなど従来一般に使用される有機溶剤がいずれ
も単独で、或いは二種以上混合して使用される。
ルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ト
ルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミドなど従来一般に使用される有機溶剤がいずれ
も単独で、或いは二種以上混合して使用される。
下塗り層上の磁性層の形成は、γ−Fe2O3粉末、Fe3O4
粉末、Co含有γ−Fe2O3粉末、Co含有Fe3O4粉末、Fe粉
末、Co粉末、Fe-Ni粉末およびバリウムフェライト、ス
トロンチウムフェライトなどの従来公知の各種磁性粉末
を、結合剤樹脂および有機溶剤等とともに混合分散して
磁性塗料を調製し、この磁性塗料を、基体上に形成した
下塗り層上に塗布、乾燥するなどして形成される。
粉末、Co含有γ−Fe2O3粉末、Co含有Fe3O4粉末、Fe粉
末、Co粉末、Fe-Ni粉末およびバリウムフェライト、ス
トロンチウムフェライトなどの従来公知の各種磁性粉末
を、結合剤樹脂および有機溶剤等とともに混合分散して
磁性塗料を調製し、この磁性塗料を、基体上に形成した
下塗り層上に塗布、乾燥するなどして形成される。
この際、使用する結合剤樹脂および有機溶剤は、前記
の下塗り層を形成する場合に使用したものと同じものが
いずれも好適に使用される。
の下塗り層を形成する場合に使用したものと同じものが
いずれも好適に使用される。
なお、磁性塗料中には、通常使用されている各種添加
剤、たとえば、潤滑剤、分散剤、研磨剤、帯電防止剤な
どを適宜に添加使用してもよい。
剤、たとえば、潤滑剤、分散剤、研磨剤、帯電防止剤な
どを適宜に添加使用してもよい。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１ ポリエステル樹脂（東洋紡社製；バイロン200）100重量
部 Al2O3粉末（粒子径0.7μｍ） 100 〃 シクロヘキサノン 400 〃 トルエン 400 〃 この組成物をボールミル中で24時間混合分散して下塗
り層用塗料を調整し、これらを75μｍのポリエステルフ
イルムの両面に、乾燥厚が３μｍとなるように、塗布、
乾燥し、カレンダ処理して下塗り層を形成した。
部 Al2O3粉末（粒子径0.7μｍ） 100 〃 シクロヘキサノン 400 〃 トルエン 400 〃 この組成物をボールミル中で24時間混合分散して下塗
り層用塗料を調整し、これらを75μｍのポリエステルフ
イルムの両面に、乾燥厚が３μｍとなるように、塗布、
乾燥し、カレンダ処理して下塗り層を形成した。
次いで、このポリエステルフイルム両面の下塗り層上
に、下記組成の磁性塗料を乾燥厚が0.7μｍとなるよう
に、塗布、乾燥し、50℃、10kg/cm2でカレンダ処理して
磁性層を形成した。しかる後、円盤状に打抜き加工処理
して、第１図に示すように、ポリエステルフイルム１の
両面に、下塗り層２および磁性層３を積層形成した磁気
ディスクＡをつくった。
に、下記組成の磁性塗料を乾燥厚が0.7μｍとなるよう
に、塗布、乾燥し、50℃、10kg/cm2でカレンダ処理して
磁性層を形成した。しかる後、円盤状に打抜き加工処理
して、第１図に示すように、ポリエステルフイルム１の
両面に、下塗り層２および磁性層３を積層形成した磁気
ディスクＡをつくった。
磁性塗料 α−Fe磁性粉末 500重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体50
〃 （米国U.C.C.社製;VAGH） ポリウレタン樹脂 30 〃 （大日本インキ化学工業社製；パンデックスＴ−5250） イソシアネート化合物 20 〃 （日本ポリウレタン工業社製；コロネートＬ） オレイルオレート 15 〃 シクロヘキサノン 650 〃 トルエン 650 〃 実施例２ 実施例１における下塗り層用塗料の組成において、Al
2O3粉末に代えてCaCO3粉末（平均粒子径0.1μｍ）を同
量使用した以外は、実施例１と同様にして下塗り層を形
成し、磁気ディスクＡをつくった。
〃 （米国U.C.C.社製;VAGH） ポリウレタン樹脂 30 〃 （大日本インキ化学工業社製；パンデックスＴ−5250） イソシアネート化合物 20 〃 （日本ポリウレタン工業社製；コロネートＬ） オレイルオレート 15 〃 シクロヘキサノン 650 〃 トルエン 650 〃 実施例２ 実施例１における下塗り層用塗料の組成において、Al
2O3粉末に代えてCaCO3粉末（平均粒子径0.1μｍ）を同
量使用した以外は、実施例１と同様にして下塗り層を形
成し、磁気ディスクＡをつくった。
実施例３ 実施例１における下塗り層用塗料の組成において、Al
2O3粉末に代えてα−Fe2O3粉末（平均粒子径0.3μｍ）
を同量使用した以外は、実施例１と同様にして下塗り層
を形成し、磁気ディスクＡをつくった。
2O3粉末に代えてα−Fe2O3粉末（平均粒子径0.3μｍ）
を同量使用した以外は、実施例１と同様にして下塗り層
を形成し、磁気ディスクＡをつくった。
比較例１ 実施例１における下塗り層用塗料の組成において、平
均粒子径が0.7μｍのAl2O3粉末に代えて平均粒子径が0.
07μｍのAl2O3粉末を同量使用した以外は、実施例１と
同様にして下塗り層を形成し、磁気ディスクをつくっ
た。
均粒子径が0.7μｍのAl2O3粉末に代えて平均粒子径が0.
07μｍのAl2O3粉末を同量使用した以外は、実施例１と
同様にして下塗り層を形成し、磁気ディスクをつくっ
た。
比較例２ 実施例１における下塗り層用塗料の組成において、平
均粒子径が0.7μｍのAl2O3粉末に代えて平均粒子径が4.
0μｍのAl2O3粉末を同量使用した以外は、実施例１と同
様にして下塗り層を形成し、磁気ディスクをつくった。
均粒子径が0.7μｍのAl2O3粉末に代えて平均粒子径が4.
0μｍのAl2O3粉末を同量使用した以外は、実施例１と同
様にして下塗り層を形成し、磁気ディスクをつくった。
比較例３ 実施例１における下塗り層用塗料の組成において、Al
2O3粉末に代えて平均粒子径が0.2μｍのカーボンブラッ
クを同量使用した以外は、実施例１と同様にして下塗り
層を形成し、磁気ディスクをつくった。
2O3粉末に代えて平均粒子径が0.2μｍのカーボンブラッ
クを同量使用した以外は、実施例１と同様にして下塗り
層を形成し、磁気ディスクをつくった。
比較例４ 実施例１における下塗り層用塗料の組成において、Al
2O3粉末を省いた以外は、実施例１と同様にして下塗り
層を形成し、磁気ディスクをつくった。
2O3粉末を省いた以外は、実施例１と同様にして下塗り
層を形成し、磁気ディスクをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気ディスクについ
て、耐久性を調べた。耐久性は、磁気ディスクを磁気デ
ィスク駆動装置に装着し、相対速度3m/sec、ヘッド圧20
gで、磁気ディスクに傷が発生するまでの時間を測定し
て調べた。
て、耐久性を調べた。耐久性は、磁気ディスクを磁気デ
ィスク駆動装置に装着し、相対速度3m/sec、ヘッド圧20
gで、磁気ディスクに傷が発生するまでの時間を測定し
て調べた。
下記第１表はその結果である。
〔発明の効果〕 上記第１表から明らかなように、この発明で得られた
磁気ディスク（実施例１ないし３）は、比較例１ないし
４で得られた磁気ディスクに比し、傷が発生するまでの
時間が長く、このことからこの発明によって得られる磁
気ディスクは、耐久性が充分に向上されていることがわ
かる。
磁気ディスク（実施例１ないし３）は、比較例１ないし
４で得られた磁気ディスクに比し、傷が発生するまでの
時間が長く、このことからこの発明によって得られる磁
気ディスクは、耐久性が充分に向上されていることがわ
かる。
第１図はこの発明で得られた磁気ディスクの部分拡大断
面図である。 １……ポリエステルフイルム（基体）、２……下塗り
層、３……磁性層、Ａ……磁気ディスク
面図である。 １……ポリエステルフイルム（基体）、２……下塗り
層、３……磁性層、Ａ……磁気ディスク
Claims (2)
- 【請求項１】基体上に、Al2O3粉末、α−Fe2O3粉末、Ca
CO3粉末、MgO粉末、Cr2O3粉末、BaSO4粉末、BaCO3粉
末、ZnO粉末、Cu2O粉末、CuO粉末、TiO2粉末から選ばれ
る平均粒子径が0.1〜３μｍの非磁性粉末を含む下塗り
層を設け、この下塗り層上に磁性粉末を含む厚さが５μ
ｍ以下の塗布型磁性層を設けたことを特徴とする磁気デ
ィスク - 【請求項２】下塗り層が、Al2O3粉末、α−Fe2O3粉末、
CaCO3粉末、MgO粉末、Cr2O3粉末、BaSO4粉末、BaCO3粉
末、ZnO粉末、Cu2O粉末、CuO粉末、TiO2粉末から選ばれ
る平均粒子径が0.1〜３μｍの非磁性粉末を、下塗り層
の全固形成分に対して20〜80重量％含有させた下塗り層
である特許請求の範囲第１項記載の磁気ディスク
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61000852A JPH0816978B2 (ja) | 1986-01-06 | 1986-01-06 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61000852A JPH0816978B2 (ja) | 1986-01-06 | 1986-01-06 | 磁気ディスク |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7051797A Division JPH09231549A (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | 磁気ディスク |
| JP7051697A Division JPH09231548A (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | 磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62159338A JPS62159338A (ja) | 1987-07-15 |
| JPH0816978B2 true JPH0816978B2 (ja) | 1996-02-21 |
Family
ID=11485172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61000852A Expired - Lifetime JPH0816978B2 (ja) | 1986-01-06 | 1986-01-06 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0816978B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07107735B2 (ja) * | 1986-03-25 | 1995-11-15 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体 |
| JP2855440B2 (ja) * | 1989-03-31 | 1999-02-10 | コニカ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US5645917A (en) * | 1991-04-25 | 1997-07-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US5827600A (en) * | 1991-01-21 | 1998-10-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JP2566088B2 (ja) * | 1992-01-08 | 1996-12-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2566096B2 (ja) * | 1992-04-14 | 1996-12-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2582051B2 (ja) * | 1995-07-27 | 1997-02-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| KR970023005A (ko) | 1995-10-20 | 1997-05-30 | 토다 토시유끼 | 자기기록매체용 비자성 하도층용 헤마타이트 입자, 그의 제조방법, 비자성 하도층 및 자기기록매체 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613515A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5928226A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-14 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59223935A (ja) * | 1983-06-03 | 1984-12-15 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-01-06 JP JP61000852A patent/JPH0816978B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62159338A (ja) | 1987-07-15 |
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Legal Events
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |