JPH08170010A - 耐電離放射線性カーボネート樹脂組成物及びそれよりなる医療部品 - Google Patents
耐電離放射線性カーボネート樹脂組成物及びそれよりなる医療部品Info
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- JPH08170010A JPH08170010A JP7243765A JP24376595A JPH08170010A JP H08170010 A JPH08170010 A JP H08170010A JP 7243765 A JP7243765 A JP 7243765A JP 24376595 A JP24376595 A JP 24376595A JP H08170010 A JPH08170010 A JP H08170010A
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Abstract
内に一個の非結合性軌道を生成する炭素−炭素不飽和二
重結合を有する有機化合物を0.1〜10重量部配合し
てなる耐電離放射線性カーボネート樹脂組成物及びそれ
よりなる医療部品。 【効果】 本発明の耐電離放射線性カーボネート樹脂組
成物及びそれよりなる医療用部品は、殺菌のための電離
放射線照射処理を行っても色調や物性劣化が少なく、医
療部品材料および医療部品として有用である。
Description
ネート樹脂組成物及びそれよりなる医療用部品に関す
る。さらに詳しくは、本発明は、殺菌のための電離放射
線の照射処理を行っても色調や物性劣化の少ないカーボ
ネート樹脂組成物及びかかる組成物よりなる医療部品に
関するものである。
優れ、広範な用途に使用されている。又、透明性、衛生
性に優れ、強靱で耐熱性も秀でているため、例えば注射
器、外科用具、静脈注射器、手術用器具などを収容、包
装する容器状包装具や、人工肺、人工腎臓、麻酔吸入
器、静脈コネクター及び付属品、血液遠心分離装置など
の医療用装置、そして、外科用具、手術用具等の医療用
の部品に使用されている。これらの医療部品は通常完全
滅菌が行われる。具体的にはエチレンオキサイドによる
接触処理、オートクレーブ中での加熱処理又は電離放射
線、例えばガンマー線や電子線による照射処理が挙げら
れる。このうち、エチレンオキサイドによる接触処理で
はエチレンオキサイド自体の毒性、不安定性及び廃棄物
処理に関する環境問題などがあり、好ましくはない。
又、オートクレーブ中での加熱処理では高温処理の際に
樹脂の劣化を招くことがあること、エネルギーコストが
高いこと及び処理後の部品に湿気が残るために乾燥する
必要があるという欠点を有する。従って、低温で処理で
き、しかも比較的安価となる電離放射線照射による殺菌
処理が、これらの方法に代わって使用される。
ーボネート樹脂は、電離放射線を照射されると、本来は
光学的に透明であるポリマーが黄色く変色する。このた
め、樹脂中に青系着色剤を混入する方法や、各種の添加
物を添加してこの黄変を抑制する方法が提案されてい
る。たとえば、1、4ーシクロヘキシルジメタノールと
六員炭素環式ジカルボン酸からなるポリエステルに代表
されるポリエステル、コポリエステルを添加物として配
合する方法(特開昭60ー199051、62ー187
755)、チオグリコール類に代表されるメルカプト化
合物を配合する方法(特開平2ー49058、2ー11
5260、4ー36343)、ポリプロピレングリコー
ルに代表されるポリエーテルポリオール又はそのアルキ
ルエーテルを添加する方法(特開昭62ー13556、
64ー22959、特開平1ー311165、2ー38
450、2ー71752、1ー161050、2ー30
0257、4ー339857)、エポキシド化合物を添
加する方法(特開昭63ー213553)、ほう素化合
物を添加する方法(特開昭61ー215651)、脂肪
族性の二重結合を分子内に二個以上含有する多官能モノ
マーを添加する方法(特開平3ー33115)、さらに
ハロゲン化ビスフェノールAから誘導されるカーボネー
ト、コポリカーボネートを代表とするハロゲン化合物を
添加する方法(特開平2ー55062、2ー6806
8、2ー174850)がすでに公知であるが、これら
の方法によっても、電離放射線が照射された場合のカー
ボネート樹脂の黄変を十分に抑制することはできない。
わせて添加する方法も各種提案されている。たとえば、
ハロゲン化ビスフェノールA型エポキシ化合物を添加す
る方法(特開平4ー7356)、ハロゲン化ビスフェノ
ールAとチオエーテルを添加する方法(特開平2ー23
2259)、ハロゲン原子を含有するポリエステルを添
加する方法(特開平4ー11653)、脂肪族性の不飽
和結合を二個以上含有する化合物とハロゲン化合物を併
せて添加する方法(特開平2ー163156)、さらに
ハロゲン化合物とポリアルキレングリコールもしくはそ
の誘導体を併用する方法(特開平2ー71752、2ー
129261、2ー238049、2ー265957、
4ー7356、4ー11653、4ー13759)等で
ある。しかしながら、これらの方法を利用して得られた
カーボネート樹脂も、黄変を防止する効果が充分でない
か、又は、効果を発現するのに充分な量を配合するとカ
ーボネート樹脂自体の強度を著しく損なうという欠点を
有する。
て黄変がきわめて少なく、なお充分な強度と強靭性を保
持する材料ならびにそれを使用した医療部品は得られて
いないのが実状であった。
結果、カーボネート樹脂に退化性連鎖移動剤を添加する
ことにより、電離放射線の照射を受けても、色調に変化
が少なく、物理的特性を保持する材料及び医療部品が得
られることを見い出し、本発明に到達したものである。
ーボネート樹脂組成物ならびにそれから成型されてなる
医療用部品の熱および光による樹脂組成物の劣化を防止
するすべく種々検討した結果、特定の化合物が、分子内
に一個の非結合性軌道を生成する炭素−炭素不飽和二重
結合を有する有機化合物を配合してなる耐電離放射線性
カーボネート樹脂組成物において有効に作用することを
見い出し、本発明に到達したものである。
カーボネート樹脂に、1)分子内に一個の非結合性軌道
を生成する炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機化合
物、2)かかる有機化合物とポリエーテルポリオール又
はその誘導体または有機ハロゲン化合物、3)かかる有
機化合物、ポリエーテルポリオール又はその誘導体また
は有機ハロゲン化合物およびホスファイト化合物を配合
してなる電離放射線による殺菌処理に際して黄変がきわ
めて少なく、なお充分な強度と熱や光に対する優れた安
定性を保持する組成物、ならびに医療部品を提供するも
のである。
明において使用されるカーボネート樹脂とは、種々のジ
ヒドロキシジアリール化合物とホスゲンとを反応させる
ホスゲン法、またはジヒドロキシジアリール化合物とジ
フェニルカーボネートなどの炭酸エステルとを反応させ
るエステル交換法によって得られる重合体であり、代表
的なものとしては、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン(ビスフェノールA)から製造されたカ
ーボネート樹脂が挙げられる。
は、ビスフェノールAの他に、ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オク
タン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル−3−メチ
ルフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
−3−第三ブチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3、5−ジブロモフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,
5−ジクロロフェニル)プロパンのようなビス(ヒドロ
キシアリール)アルカン類、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘキサンのようなビス(ヒド
ロキシアリール)シクロアルカン類、4,4’−ジヒド
ロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ−
3,3’−ジメチルジフェニルエーテルのようなジヒド
ロキシジアリールエーテル類、4,4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒドロキシ−3,
3’−ジメチルジフェニルスルフィドのようなジヒドロ
キシジアリールスルフィド類、4,4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホキシド、4,4’−ジヒドロキシ−
3,3’−ジメチルジフェニルスルホキシドのようなジ
ヒドロキシジアリールスルホキシド類、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシ
−3,3’−ジメチルジフェニルスルホンのようなジヒ
ドロキシジアリールスルホン類等が挙げられる。これら
は1種又は2種類以上混合して使用されるが、これらの
他に、ピペラジン、ジピペリジルハイドロキノン、レゾ
ルシン、4,4’−ジヒドロキシジフェニル等を混合し
て使用してもよい。
物と以下に示すような3価以上のフェノール化合物を混
合使用してもよい。3価以上のフェノールとしてはフロ
ログルシン、4,6−ジメチル−2,4,6−トリ−
(4−ヒドロキシフェニル)−ヘプテン−2、4,6−
ジメチル−2,4,6−トリ−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−ヘプタン、1,3,5−トリ−(4−ヒドロキシ
フェニル)−ベンゾール、1,1,1−トリ−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−エタンおよび2,2−ビス−
〔4,4−(4,4’−ジヒドロキシジフェニル)−シ
クロヘキシル〕−プロパンなどが挙げられ、1種又は2
種類以上用いることができる。
に制限はないが、成形加工性、強度の面より通常100
00〜100000、好ましくは15000〜3500
0である。又、かかるカーボネート樹脂を製造するに際
し、分子量調節剤、触媒等を必要に応じて使用すること
ができる。
軌道を生成する炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機
化合物とは、分子軌道論において、すでに公知の概念で
あり、非結合性軌道については、たとえば「モリソンボ
イド有機化学(下)」第5版(1989年6月6日、東
京化学同人発行)に記載のように、炭素−炭素二重結合
に隣接する炭素原子を有するアリル基の場合のようにア
リルカチオン、アリルアニオン、アリルラジカルとなっ
た場合に、非結合性軌道を生成し、結合性軌道が安定
し、生成した反応性が安定化するという特徴を有する。
軌道を生成する炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機
化合物としては、アリルアルコール及びその誘導体、ア
リルエーテル化合物及びその誘導体、αーメチルスチレ
ンダイマー及びその誘導体などを挙げることができる。
アリルアルコール及びその誘導体としては、アリル酢
酸、アリルヘキサノエート、アリルブタノエート、アリ
ルデカノエートなどのアリルアルコール及びそのエステ
ルを挙げることができる。アリルエーテル化合物及びそ
の誘導体としては、p−アリルアニソール、アピオー
ル、アリルトリメチルシラン、エレミシン(5ーアリル
ー1,2,3ートリメトキシベンゼン)、5ーアリルー
5ーネオペンチルバルビツル酸、5ーアリルー5ー(2
−ヒドロキシプロピル)バルビツル酸、5ーアリルー5
ー(1ーメチルブチル)バルビツル酸、カビベトール
(4ーアリル−2−ヒドロキシー1ーメトキシベンゼ
ン)、4ーアリルメトキシフェノール、アリルフェニル
エーテル、アリルフェノール、アリルベンゼン、アリル
マロン酸、さらにはモノアリルグリセロールエーテル、
モノアリルペンタエリスルトールなどのようなモノアリ
ルエーテル、ポリエチレングリコールモノアリルエーテ
ル、ポリプロピレングリコールモノアリルエーテル、ポ
リエチレンポリプロピレングリコールモノアリルエーテ
ルなどのポリアルキレングリコールモノアリルエーテル
及びそのモノアルキルエーテル等を挙げることができ
る。なお、ポリアルキレングリコールモノアリルエーテ
ル及びそのモノアルキルエーテルにおいては、その分子
量に特に制限はないが、分子量200〜3000が好ま
しい。さらに、などが挙げられる。αーメチルスチレン
ダイマー及びその誘導体としては、αーメチルスチレン
ダイマー、αーメチルスチレントリマーなどが挙げられ
る。
道を有する炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機化合
物の配合量は、カーボネート樹脂100重量部当たり、
0.1〜10重量部、さらに好適には0.3〜5重量部
である。0.1%未満では、充分な耐電離放射線性の改
良効果を得ることができず、又10重量部を越すと、成
型加工時の樹脂の劣化や最終製品における物性低下を招
く。
よびその誘導体としては、以下の一般式(2)〜(8)
に示される化合物が挙げられ、一種または二種以上用い
ることができる。一般式(2)で示される化合物が好ま
しく、特にポリプロピレングリコールが好ましい。
は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10
のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数6
〜18のアルキルアリール基または炭素数4〜10のシ
クロアルキル基を示す。nは少なくとも1の整数、好ま
しくは1〜1000を示す。mは少なくとも1の整数、
好ましくは1〜1000を示す、lは少なくとも1の整
数、好ましくは1〜1000を示す。Y1 およびY2 は
それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜1
0のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数
6〜18のアルキルアリール基、炭素数4〜10のシク
ロアルキル基、Y3 −CO−〔ただし、Y3 は炭素数1
〜20のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭
素数6〜18のアルキルアリール基炭素数4〜10のシ
クロアルキル基を示す。〕を示す。
〜6、R1 〜R4 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1
〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭
素数6〜18のアルキルアリール基を示す。
は、カーボネート樹脂100重量部に対して0.1〜5
重量部含有される。分子内に一個の非結合性軌道を有す
る炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機化合物0.1
〜10重量部とポリエーテルポリオール又はその誘導体
0.1〜5重量部を併用することにより、耐電離放射線
性において優れた相乗効果が得られる。
分子中にハロゲン原子を含む化合物であり、例えば、ヘ
キサブロムベンゼン、ペンタブロムトルエンのようなハ
ロゲン化ベンゼン類、テトラブロムジフェニル、デカブ
ロムジフェニル、テトラブロムジフェニルエーテル、デ
カブロムジフェニルエーテル、デカブロムジフェニルス
ルホンのようなハロゲン化ジフェニル類、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロムフェニル)プロパ
ン〔テトラブロムビスフェノールA〕、2,2−ビス
(4−グリシドキシ−3,5−ジブロムフェニル)プロ
パンまたはその低重合度物〔ハロゲン化ビスフェノール
A型エポキシ樹脂〕、2,2−ビス(4−ヒドロキシエ
トキシ−3,5−ジブロムフェニル)プロパン、2,2
−ビス(4−アセトキシ−3,5−ジブロムフェニル)
プロパン、テトラブロムビスフェノールAのポリカーボ
ネートオリゴマーのようなハロゲン化ビスフェノールA
またはその誘導体、ビスフェノールAとテトラブロモビ
スフェノールAのコポリカーボネート、テトラブロム無
水フタル酸、トリブロムフェノール縮合物、ポリペンタ
ブロムベンジルアクリレート、ブロム化スチレン、テト
ラブロムビスフェノールAとシアヌル酸とトリブロムフ
ェノールとの縮合物などが挙げられ、一種または二種以
上用いることができる。特にビスフェノールAとテトラ
ブロモビスフェノールAのコポリカーボネートが好まし
い。
00重量部に対してハロゲン原子換算で0.1〜10重
量部含有される。分子内に一個の非結合性軌道を生成す
る炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機化合物0.1
〜10重量部と有機ハロゲン化合物を、ハロゲン原子換
算で0.1〜10重量部を併用することにより、耐電離
放射線性において優れた相乗効果が得られる。
されるホスファイト化合物を配合することにより、耐電
離放射線性のみならず、熱および光に対し優れた性能を
有する、すなわち安定性に優れた耐電離放射線性カーボ
ネート樹脂組成物を提供することができる。
はアルキリデン基(メチレン、エチリデン、イソプロピ
リデン、ブチリデンなど)、R1 はアルキル基(メチ
ル、エチル、イソプロピル、オクチル、ラウリル、ベン
ジルなど)、R2 は水素原子またはアルキル基(メチ
ル、エチル、イソプロピル、オクチル、ラウリル、ベン
ジルなど)、R3 は2〜4個のアルコール残基(エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、1,2プロパン
ジオール、ネオペンチルグリコール1,6ヘキサンジオ
ールなど)または3個の多核フェノール残基(トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
イソシアヌレート、1,1,3−トリス(2−メチル−
4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタンな
ど)を示す。nは2〜4を示す。特に、2,2−メチレ
ンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホ
スファイトが好ましい。
物の添加量には特に制限はないが、カーボネート樹脂1
00重量部当り、0.001〜10重量部、特に0.0
1〜1重量部であることが好ましい。0.001重量部
未満では、ホスファイト化合物添加による充分な安定性
改良効果が得られない。10重量部を越すとカーボネー
ト樹脂本来の物性を損なう。
素−炭素不飽和二重結合を有する有機化合物、該有機化
合物とポリエーテルポリオール又はその誘導体、該有機
化合物と有機ハロゲン化合物、さらにはそれらのいずれ
かとホスファイト化合物をカーボネート樹脂に配合する
方法としては、最終成型品を成型する直前までの任意の
段階で当該業者に周知の手段によって行うことができ
る。例えば、カーボネート樹脂の重合前、中、又は直後
に分子内に一個の非結合性軌道を生成する炭素−炭素不
飽和二重結合を有する有機化合物または該有機化合物と
上述の化合物(ポリエーテルポリオール又はその誘導
体、有機ハロゲン化合物、ホスファイト化合物)を配合
する方法はもちろんのこと、重合にて得られたカーボネ
ート樹脂と分子内に一個の非結合性軌道を有する炭素−
炭素不飽和二重結合を有する有機化合物または該有機化
合物と上述の化合物(ポリエーテルポリオール又はその
誘導体、有機ハロゲン化合物、ホスファイト化合物)を
タンブラー、リボンブレンダー、高速ミキサー等で混合
し、一軸または二軸押出機等で溶融混練する方法などで
ある。分子内に一個の非結合性軌道を生成する炭素−炭
素不飽和二重結合を有する有機化合物と併用される上述
の化合物(ポリエーテルポリオール又はその誘導体、有
機ハロゲン化合物、ホスファイト化合物)との配合順に
は何ら制限はなく、同時配合はもちろんのこと任意の順
にて配合することが可能である。
ト樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、
他の樹脂材料、たとえば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエステルポリカ
ーボネート、シクロヘキサンジメタノールとテレフタル
酸及び/またはイソフタル酸との重縮合物又はそれとポ
リエチレンテレフタレートとの共重合物などを少量添加
して使用することができる。
剤(ポリエステル、メルカプト化合物、エポキシド化合
物、ほう素化合物、多官能モノマー、ハロゲン化合物)
をはじめ、各種の添加剤、例えばエポキシ化合物などの
加水分解防止剤、パラフィンワックス、脂肪酸エステル
等の滑剤、ヒンダードフェノール、リン酸エステル、亜
リン酸エステル等の酸化防止剤、トリアジン系化合物等
の耐候性改良剤、ハロゲン系、リン酸系等の難燃剤、又
顔料、染料等の着色剤等を配合しても良い。
組成物は、当該業者に周知の方法で医療部品に加工され
る。医療部品としては、注射器、外科用具、静脈注射
器、手術用器具などを収容、包装する容器状包装具や、
人工肺、人工腎臓、麻酔吸入器、静脈コネクター及び付
属品、血液遠心分離装置などの医療用装置、外科用具、
手術用具などである。加工法にも特に制限はなく、例え
ば、射出成型、押出成型、ブロー成型、プレス成型など
が適用され、従来公知のカーボネート樹脂ならびに耐電
離放射線性改良カーボネート樹脂と同様の条件で成型す
ることができる。
線、陽子線、ベータ線、電子線、中性子線、ガンマ線及
びエックス線が挙げられるが、工業的にはガンマ線が使
用される。放射される電離放射線の量にも特に制限はな
いが、通常20〜30KGray程度である。
明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り、これら
の実施例に限定されるものではない。
21000)ペレット100重量部に添加した後、十分
にタンブラーで混合し、40mm一軸押出機を用いて、
定法によりペレット化した。このペレットを射出成型
(300℃、滞留なし、成型サイクル40秒)により成
型し、45mm×55mm、厚さ3mmの試験プレート
を得た。この初期プレート(2ショット目)のYI値と
このプレートを25KGrayのガンマ線で処理した後
のプレートのYI値を表1に示す。 添加剤A:α−メチルスチレンダイマー 添加剤B:分子量2000のポリプロピレングリコール 添加剤C:分子量2500、末端フェノキシのテトラブ
ロモビスフェノールAのオリゴマー
24000)ペレット100重量部に添加した後、十分
にタンブラーで混合し、40mm一軸押出機を用いて、
定法によりペレット化した。配合処方を表2に示す。こ
のペレットを射出成形(300℃、滞留なし、成型サイ
クル40秒)により成型し、45mm×55mm、厚さ
3mmの試験プレートを得た。この初期プレート(2シ
ョット目)のYI値と、このプレートを32KGray
のガンマ線で処理した後のプレートのYI値を表2に示
す。
コールモノアリルエーテル CH2=CHCH20(EO)nH E;平均分子量1500のポリエチレングリコールモノ
アリルエーテル CH2=CHCH20(EO)nH F;平均分子量1500のポリエチレングリコールメチ
ルアリルエーテル CH2=CHCH20(EO)nCH3 G;平均分子量2000のエチレンオキサイドとプロピ
レンオキサイドの構成比が50/50であるポリエチレ
ンポリプロピレングリコールモノアリルエーテル CH2=CHCH20〔(EO)m(PO)n〕H (m:n=1:1) H;平均分子量1600のエチレンオキサイドとプロピ
レンオキサイドの構成比が50/50であるポリエチレ
ンポリプロピレングリコールブチルアリルエーテル CH2=CHCH20〔(EO)m(PO)n〕C4H
9 (m:n=1:1)
B、Cとを表3に示す配合でカーボネート樹脂(粘度平
均分子量24000)ペレット100重量部に添加した
後、十分にタンブラーで混合し、40mm一軸押出機を
用いて、定法によりペレット化した。配合処方を表2に
示す。このペレットを射出成形(300℃、滞留なし、
成型サイクル40秒)により成型し、45mm×55m
m、厚さ3mmの試験プレートを得た。この初期プレー
ト(2ショット目)のYI値と、このプレートを32K
Grayのガンマ線で処理した後のプレートのYI値を
表3に示す。
4に示す配合でカーボネート樹脂(粘度平均分子量24
000)ペレット100重量部に添加した後、十分にタ
ンブラーで混合し、40mm一軸押出機を用いて、定法
によりペレット化した。配合処方を表2に示す。このペ
レットを射出成形(300℃、滞留なし、成型サイクル
40秒)により成型し、45mm×55mm、厚さ3m
mの試験プレートを得た。この初期プレート(2ショッ
ト目)のYI値と、このプレートを32KGrayのガ
ンマ線で処理した後のプレートのYI値を表4に示す。
21000)ペレット100重量部に添加した後、十分
にタンブラーで混合し、40mm一軸押出機を用いて、
定法によりペレット化した。このペレットを射出成型に
より加工し、45mm×55mm、厚さ3mmの試験プ
レートを得た。射出成型(340℃、溶融樹脂を15分
間成型機シリンダー内で滞留)により成型を行い、2シ
ョット目プレートのYI値とかかるプレートを25KG
rayのガンマ線で処理した後のプレートのYI値を表
5に示す。 A:α−メチルスチレンダイマー C:分子量2500、末端フェノキシのテトラブロモビ
スフェノールAのオリゴマー D;平均分子量200のポリエチレングリコールモノア
リルエーテルCH2=CHCH20(EO)nH J;2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフ
ェニル)オクチルホスファイト
脂組成物及びそれよりなる医療部品は、電離放射線によ
る殺菌処理に際して黄変がきわめて少なく、なお充分な
強度と強靭性を保持するものであり、電離放射線による
殺菌処理が行われる医療部品材料として有用である。
Claims (8)
- 【請求項1】 カーボネート樹脂100重量部に対して
分子内に一個の非結合性軌道を生成する炭素−炭素不飽
和二重結合を有する有機化合物を0.1〜10重量部配
合してなることを特徴とする耐電離放射線性カーボネー
ト樹脂組成物。 - 【請求項2】 分子内に一個の非結合性軌道を生成する
炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機化合物として、
アリルアルコールおよび/またはその誘導体を0.3〜
5重量部配合してなることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の耐電離放射線性カーボネート樹脂組成物。 - 【請求項3】 分子内に一個の非結合性軌道を生成する
炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機化合物として、
アリルエーテル化合物および/またはその誘導体を0.
3〜5重量部配合してなることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の耐電離放射線性カーボネート樹脂組成
物。 - 【請求項4】 分子内に一個の非結合性軌道を生成する
炭素−炭素不飽和二重結合を有する有機化合物として、
αーメチルスチレンダイマーおよび/またはその誘導体
を0.3〜5重量部配合してなることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の耐電離放射線性カーボネート樹
脂組成物。 - 【請求項5】 ポリエーテルポリオールおよび/または
その誘導体を0.1〜5重量部含有する特許請求の範囲
第1項、第2項、第3項又は第4項記載の耐電離放射線
性カーボネート樹脂組成物。 - 【請求項6】 有機ハロゲン化合物をハロゲン原子換算
にて0.1〜10重量部含有する特許請求の範囲第1
項、第2項、第3項又は第4項記載の耐電離放射線性カ
ーボネート樹脂組成物。 - 【請求項7】 下記一般式(1)に示されるホスファイ
ト化合物を0.001〜10重量部含有する特許請求の
範囲第1項、第2項、第3項、第4項、第5項または第
6項記載の耐電離放射線性カーボネート樹脂組成物。 【式】一般式(1) 〔式(1)中、Aは硫黄原子、酸素原子またはアルキリ
デン基、R1 はアルキル基、R2 は水素原子またはアル
キル基、R3 は2〜4個のアルコール残基または3個の
多核フェノール残基を示す。nは2〜4を示す。〕 - 【請求項8】 特許請求の範囲第1項、第2項、第3
項、第4項、第5項、第6項または第7項記載の耐電離
放射線性カーボネート樹脂組成物よりなる医療部品。
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