JPH08176164A - アリールリン酸クロライド類の製造方法 - Google Patents

アリールリン酸クロライド類の製造方法

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JPH08176164A
JPH08176164A JP33459994A JP33459994A JPH08176164A JP H08176164 A JPH08176164 A JP H08176164A JP 33459994 A JP33459994 A JP 33459994A JP 33459994 A JP33459994 A JP 33459994A JP H08176164 A JPH08176164 A JP H08176164A
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JP
Japan
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phosphorus oxychloride
reaction
phenol
producing
arylphosphoric
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JP33459994A
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English (en)
Inventor
Mutsuno Katou
睦乃 加藤
Yoshifusa Hara
原  義房
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Nippon Chemical Industrial Co Ltd
Original Assignee
Nippon Chemical Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 アリールリン酸ジクロライドまたはジアリー
ルリン酸クロライドを高選択でかつ高収率で製造する方
法を提供する。 【構成】 フェノールもしくは置換フェノールとオキシ
塩化リンを第4級ホスホニウム塩を触媒として反応さ
せ、アリールリン酸ジクロライドまたはジアリールリン
酸クロライドを製造する方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬、農薬、可塑剤、
合成繊維の難燃剤等の中間体として有用なアリールリン
酸クロライド類、特にアリールリン酸ジクロライドまた
はジアリールリン酸クロライドの新規な製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、アリールリン酸クロライド類の製
造方法としては、フェノール類とオキシ塩化リンを無触
媒下で反応させる方法(Ber.72.2121頁(1
939年)、J.Am.Chem.Soc.78,25
68〜2569頁(1956年)、米国特許第2,84
4,582号、Trudy Tallin. Poli
tekh.Inst.Ser.A.No.97,166
2〜1682頁.(1958年))、及び金属塩化物、
アミン類その他各種の触媒の存在下に反応させる方法が
知られている。
【0003】金属塩化物を触媒として用いる方法として
は、例えば塩化アルミニウム(Trudy Talli
n.Politekh.Inst.Ser.No.A.
97,1662〜1682頁(1958年)、Net
h.Apll.6,611頁、298頁(1967
年)、Metody Poluck.Khim.Rea
ktivov.Prep.No.18,207〜209
頁(1969年))、塩化ナトリウム、塩化カルシウ
ム、塩化カリウム(Zhur.Obschei.khi
m.26,3060〜3066頁(1966年))等を
触媒として用いる方法が挙げられる。
【0004】アミン類を触媒として用いる方法として
は、例えばN,N−ジメチルアニリン、1−メチルイミ
ダゾール、ジエチルアミン塩酸塩、ピリジン(米国特許
第3,965,220号)等を触媒として用いる方法が
挙げられる。
【0005】その他の触媒としては、例えば尿素、1,
1,3,3−テトラメチル尿素、1,3−ジフェニル尿
素等の尿素類(米国特許第3,772,414号(19
73年))、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫
酸アンモニウム、酢酸アンモニウム等のアンモニウム塩
(Ger.Offenn.2,230頁、913頁(1
972年))、第4級アンモニウム塩(特開平5−13
2491号公報)、エチル−N−エチルカーバメート、
イソプロピルカーバメート、エチル−N−フェニルカー
バメート等のカーバメート類(Ger.Offenn.
2,230頁、912頁(1972年))、N−メチル
ピロリドン(米国特許第3,790,649号)、マグ
ネシウム(Bril.734頁、764頁(1955
年)、Pr.Nauk.Lnst.Technal O
rg.Tworzyw.Sziucznych Pol
itech.Wroclaw.17,3〜22頁(19
75年))等の触媒を用いる方法、或いは酸化マグネシ
ウムを触媒としてフェノール対オキシ塩化リンのモル比
で0.33で反応させフェニルリン酸クロライドをそれ
ぞれ選択的に製造する方法(Ger.(East)13
4,104頁(1979年))が知られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来技術において、無触媒で反応をおこなった場合、
反応速度が遅くなり、原料のフェノール類とオキシ塩化
リンが未反応で残り易く、トリアリールホスフェート類
の副生物が多量に生成され、本発明の目的物質であるモ
ノまたはジアリールホスフェートの収量が低くなる。塩
化アルミニウムを触媒として用いた場合、アルミニウム
化合物が反応器内壁に付着して反応後の処理がめんどう
になり、酸化マグネシウムを触媒として用いた場合に
は、オキシ塩化リンが未反応物質として残存し、マグネ
シウムを触媒として用いた場合には、熱、水、塩酸等の
酸性物質との接触により、水素ガスを発生し大変危険を
ともなう。また、それ以外の触媒を用いた場合において
も、無触媒の場合に比べて反応速度が速くなるが、トリ
アリールホスフェート類の副生成物が多量に生成される
という欠点があった。
【0007】本発明者らは前記事実に鑑み、鋭意研究を
重ねた結果、フェノール類とオキシ塩化リンとを第4級
ホスホニウム塩を触媒として反応させることにより、ト
リアリールホスフェートの生成を抑制し、未反応のオキ
シ塩化リンも残存せずに、工業的に簡便な操作により、
目的物のアリールリン酸クロライド類としてアリールリ
ン酸ジクロライドまたはジアリールリン酸クロライドを
それぞれ選択してかつ高収率で得ることができることを
知見し、本発明を完成させた。即ち、本発明は合理的で
工業的に有利なアリールリン酸クロライド類の製造方法
を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、フェノ
ール核に置換基を有するかもしくは置換基を有しないフ
ェノール類とオキシ塩化リンを第4級ホスホニウム塩を
触媒として反応させることを特徴とするアリールリン酸
クロライド類の製造方法に係るものである。
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。本発明が
提供しようとするアリールリン酸クロライド類の製造方
法は、フェノール核に置換基を有するかもしくは置換基
を有しないフェノール類とオキシ塩化リンを第4級ホス
ホニウム塩を触媒として反応させることを構成上の特徴
とする。
【0010】本発明の触媒に用いる第4級ホスホニウム
塩は、特に限定されるものではないが、例えば次の一般
式(I)で示されるハロゲン化第4級ホスホニウム塩が
挙げられる。
【0011】
【化1】 (R1234 )PX (I) (式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 は水素原子、同種又は
異種のアルキル基またはフェニル基、Xはハロゲン原子
を表わす。)
【0012】上記の一般式(I)において、R1 ,R
2 ,R3 ,R4 のアルキル基としては、炭素原子数20
以下、好ましくは1〜10、さらに好ましくは1〜8の
直鎖状または分岐状のアルキル基が望ましい。
【0013】上記の一般式(I)で示されるハロゲン化
第4級ホスホニウム塩の具体例としては通常は工業的に
容易に入手できるハロゲン化第4級ホスホニウム塩が好
ましい。例えば、テトラメチルホスホニウムクロライ
ド、テトラメチルホスホニウムブロマイド、テトラメチ
ルホスホニウムイオダイド、テトラメチルホスホニウム
フルオライド、テトラブチルホスホニウムクロライド、
テトラブチルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホ
スホニウムイオダイド、テトラブチルホスホニウムフル
オライド、テトラエチルホスホニウムクロライド、テト
ラエチルホスホニウムブロマイド、テトラエチルホスホ
ニウムイオダイド、テトラエチルホスホニウムフルオラ
イド、テトラヘキシルホスホニウムクロライド、テトラ
ヘキシルホスホニウムブロマイド、テトラヘキシルホス
ホニウムイオダイド、テトラヘキシルホスホニウムフル
オライド、ベンジルトリメチルホスホニウムクロライ
ド、ベンジルトリメチルホスホニウムブロマイド、ベン
ジルトリメチルホスホニウムイオダイド、ベンジルトリ
メチルホスホニウムフルオライド、ベンジルトリエチル
ホスホニウムクロライド、ベンジルトリエチルホスホニ
ウムブロマイド、ベンジルトリエチルホスホニウムイオ
ダイド、ベンジルトリエチルホスホニウムフルオライ
ド、セチルトリメチルホスホニウムクロライド、セチル
トリメチルホスホニウムブロマイド、セチルトリメチル
ホスホニウムイオダイド、セチルトリメチルホスホニウ
ムフルオライド、トリブチルオクチルホスホニウムクロ
ライド、トリブチルオクチルホスホニウムブロマイド、
トリブチルベンジルホスホニウムクロライド、トリブチ
ルベンジルホスホニウムブロマイド、トリヘキシルエチ
ルホスホニウムクロライド、トリヘキシルエチルホスホ
ニウムブロマイド、トリオクチルメチルホスホニウムク
ロライド、トリオクチルメチルホスホニウムブロマイ
ド、トリフェニルブチルホスホニウムクロライド、トリ
フェニルブチルホスホニウムブロマイド、ベンジルジメ
チルセチルホスホニウムクロライド等が挙げられ、好ま
しくはこれらの中からクロル又はブロムを含む第4級ホ
スホニウム塩が最適である。
【0014】また、本発明の触媒に用いる第4級ホスホ
ニウム塩は、上記の一般式(I)で示される化合物以外
の化合物として、例えばテトラブチルホスホニウムジエ
チルホスホロジチオエート、テトラブチルホスホニウム
ベンゾトリアゾレート、テトラエチルホスホニウムハイ
ドロオキサイド等が挙げられる。
【0015】第4級ホスホニウム塩の使用量は特に限定
されないが、フェノール類1モルに対して通常0.01
〜5g、好ましくは0.5〜5gである。触媒量が0.
01g未満で少ないと反応時間が長くなり、一方、5g
を越えて多すぎると使用量に対する効果が飽和すると共
に、分離上や経済上から好ましくない。
【0016】本発明の原料であるフェノール類は、フェ
ノール核に置換基を有するかもしくは置換基を有しない
ものが用いられ、例えば次の一般式(II)で示される
化合物が挙げられる。
【0017】
【化2】
【0018】(式中、R5 ,R6 は水素原子、同種又は
異種のアルキル基、ハロゲン原子またはフェニル基を表
わす。)
【0019】上記の一般式(II)において、R5 ,R
6 のアルキル基としては、炭素原子数8以下、好ましく
は1〜4、さらに好ましくは1〜2の直鎖状または分岐
状のアルキル基が望ましい。
【0020】上記の一般式(II)で示されるフェノー
ル類の具体例としては、フェノール及び置換フェノール
類が挙げられる。置換フェノール類としては、例えばo
−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,
4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キ
シレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノ
ール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、
p−エチルフェノール、o−イソプロピルフェノール、
m−イソプロピルフェノール、p−イソプロピルフェノ
ール、p−tert−ブチルフェノール等のアルキルフ
ェノール類、p−フェニルフェノール等のアリールフェ
ノール類、2,4−ジクロロフェノール、3−クロロフ
ェノール、2,4−ジブロモフェノール、3−ブロモフ
ェノール等のハロゲン化フェノール類等が挙げられ、ま
た、その他の置換フェノール類についても限定されるも
のではない。
【0021】本発明は、目的物のアリールリン酸クロラ
イド類として、アリールリン酸ジクロライドまたはジア
リールリン酸クロライドを得ることを目的とする。本発
明においては、一般式(II)で示されるフェノール類
とオキシ塩化リンとの反応により、アリールリン酸ジク
ロライドとジアリールリン酸クロライドが混合した状態
の反応生成物が得られるが、この反応において、原料の
オキシ塩化リンとフェノール類のモル比(オキシ塩化リ
ン/フェノール類)を調整することにより、アリールリ
ン酸ジクロライド及び/又はジアリールリン酸クロライ
ドをそれぞれを高収率で選択的に得ることができる。
【0022】すなわち、反応生成物のアリールリン酸ジ
クロライドを高収率で選択的に得るには、原料のオキシ
塩化リン/フェノール類のモル比を大きくすればよく、
通常0.9〜5、好ましくは0.9〜3である。オキシ
塩化リン/フェノール類のモル比が5を越えて大きくな
るほどアリールリン酸ジクロライドの生成が増加すると
共に、未反応のオキシ塩化リンの残存量が増加し、反応
率を低下させるので好ましくない。
【0023】また、反応生成物のジアリールリン酸クロ
ライドを高収率で選択的に得るには、原料のオキシ塩化
リン/フェノール類のモル比を小さくすればよく、通常
0.4〜0.9、好ましくは0.5〜0.9である。オ
キシ塩化リン/フェノール類のモル比が0.4より小さ
すぎると副生物のトリアリールリン酸類の生成量が増え
るので好ましくない。
【0024】フェノール類とオキシ塩化リンとの反応温
度は特に制限されないが、液液反応が好ましいことから
通常80〜160℃である。
【0025】このようにして得られた反応液を減圧蒸留
することにより、ジアリールリン酸クロライドとアリー
ルリン酸ジクロライドをそれぞれ単独の成分として得る
ことができる。また、減圧蒸留で得たアリールリン酸ジ
クロライドを本発明に繰り返し使用するとジアリールリ
ン酸クロライドを選択的に製造することもできる。
【0026】
【作用】本発明において、フェノール類とオキシ塩化リ
ンとの反応によるアリールリン酸クロライド類の製造方
法は、下記の反応式(1)に基づき進行する。
【0027】
【化3】
【0028】(式中、R5 ,R6 は水素原子、同種又は
異種のアルキル基、ハロゲン原子またはフェニル基、n
は1又は2を表わす。)
【0029】本発明では、上記反応において、触媒とし
て第4級ホスホニウム塩を存在させることにより、反応
が促進しかつトリアリールホスフェートの生成などの副
反応を抑制して目的物を収率よく製造できる。この反応
機構の詳細は不明であるが、第4級ホスホニウム塩が反
応系の接触層で層間移動触媒として作用し、塩化水素を
発生して反応を促進することによると思われる。
【0030】上記の反応は、上記反応式(1)から判る
ように、反応生成物はジアリールリン酸クロライドとア
リールリン酸ジクロライドの混合物として生成する。そ
れら混合物の生成割合は、前述の様に、原料の仕込みモ
ル比(オキシ塩化リン/フェノール類)が大きいとジク
ロル体のアリールリン酸ジクロライドが、逆に小さくな
るとモノクロル体のジアリールリン酸クロライドが生成
し易くなる。
【0031】したがって、いずれの生成物にするかは、
原料のフェノール化合物の選択と相まって、目的物の使
用目的により条件設定することにより反応を行わせれば
よい。反応終了後は常法に従い分離、精製して目的物を
回収する。
【0032】
【実施例】以下、実施例において本発明を詳細に説明す
る。
【0033】実施例1 回転子、冷却管を備えた25ml三角フラスコに、オキ
シ塩化リン3.07g(0.02M)、フェノール2.
35g(0.025M)、及びテトラエチルホスホニウ
ムブロマイド(TEPB)0.025gを仕込み、撹拌
しながら昇温する。バス温を140℃に設定し、4時間
反応させた。ガスクロマトグラフで原料のフェノールが
なくなったのを確認し、反応終点とし、無色透明液体
4.05gを得た。
【0034】得られた無色透明液体をガスクロマトグラ
フで分析した結果、ジフェニルリン酸クロライドの含有
率は42.4%、フェニルリン酸ジクロライドの含有率
は54.5%、トリフェニルリン酸の含有率は1.1%
であった。
【0035】この無色透明液体を減圧蒸留し、82℃/
0.8mmHgで、フェニルリン酸ジクロライド1.8
9gを得た。更に132℃/0.3mmHgで、ジフェ
ニルリン酸クロライド1.72gを得た。この時の釜残
は0.4gであった。
【0036】蒸留によって得られたジフェニルリン酸ク
ロライドの収率は32.0%(オキシ塩化リンに対する
収率)、フェニルリン酸ジクロライドの収率は44.8
%(オキシ塩化リンに対する収率)であった。
【0037】実施例2 実施例1と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びテトラブチルホスホニウムブロマイド(TB
PB)0.025gを仕込み、140℃で7時間反応さ
せ、無色透明液体4.12gを得た。
【0038】実施例3 実施例1と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びテトラブチルホスホニウムイオダイド(TB
PI)0.025gを仕込み、140℃で6時間反応さ
せ、黄色透明液体4.14gを得た。
【0039】実施例4 実施例1と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びテトラヘキシルホスホニウムブロマイド(T
HPB)0.025gを仕込み、140℃で10時間反
応させ、無色透明液体4.12gを得た。
【0040】実施例5 実施例1と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びトリヘキシルエチルホスホニウムブロマイド
(THEPB)0.025gを仕込み、140℃で8時
間反応させ、無色透明液体4.14gを得た。
【0041】実施例6 実施例1と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びトリブチルベンジルホスホニウムクロライド
(TBBPC)0.025gを仕込み、140℃で8時
間反応させ、無色透明液体4.03gを得た。
【0042】実施例7 実施例1と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びトリフェニルブチルホスホニウムブロマイド
(TPBPB)0.025gを仕込み、140℃で8時
間反応させ、無色透明液体3.87gを得た。
【0043】実施例8 実施例1と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びトリブチルオクチルホスホニウムクロライド
(TBOPC)0.025gを仕込み、140℃で8時
間反応させ、無色透明液体4.05gを得た。
【0044】実施例9 実施例1と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びテトラブチルホスホニウムジエチルホスホロ
ジチオエート(TBPEP)0.025gを仕込み、1
40℃で8時間反応させ、無色透明液体3.92gを得
た。
【0045】実施例1〜9で得られた蒸留前の粗液体を
ガスクロマトグラフで分析した結果を表1に示す。
【0046】
【表1】
【0047】実施例10 回転子、冷却管を備えた25ml三角フラスコに、オキ
シ塩化リン3.07g(0.02M)、フェノール2.
35g(0.025M)、及びテトラエチルホスホニウ
ムブロマイド0.0125gを仕込み、撹拌しながら昇
温する。バス温を140℃に設定し、9時間反応させ
た。ガスクロマトグラフで原料のフェノールがなくなっ
たのを確認し、反応終点とし、無色透明液体3.91g
を得た。
【0048】実施例11 実施例10と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びテトラエチルホスホニウムブロマイド0.0
5gを仕込み、140℃で6時間反応させ、無色透明液
体4.05gを得た。
【0049】実施例12 実施例10と同様な操作で、オキシ塩化リン3.07g
(0.02M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びテトラエチルホスホニウムブロマイド0.1
25gを仕込み、140℃で4時間反応させ、黄色透明
液体4.37gを得た。
【0050】比較例1 撹拌機、温度計、冷却管を備えた25ml三角フラスコ
に、オキシ塩化リン3.07g(0.02M)、フェノ
ール2.35g(0.025M)を仕込み、撹拌しなが
ら昇温する。内温が140℃ぐらいより、リフラックス
し、塩素ガスが緩やかに発生した。リフラックスするよ
うに内温を徐々に上げ、200℃まで昇温し、31時間
反応させた。ガスクロマトグラフで分析し、原料のフェ
ノールがなくなった事を確認して、反応の終点とした。
無色透明液体4.21gを得た。
【0051】実施例10〜12と比較例1で得られた粗
液体をガスクロマトグラフで分析した結果を表2に示
す。
【0052】
【表2】
【0053】実施例13 回転子、冷却管を備えた25ml三角フラスコに、オキ
シ塩化リン1.73g(0.01125M)、フェノー
ル2.35g(0.025M)、及びテトラエチルホス
ホニウムブロマイド0.125gを仕込み、撹拌しなが
ら昇温する。バス温を140℃に設定し、13時間反応
させた。ガスクロマトグラフで原料のフェノールがなく
なったのを確認し、反応終点とし、無色透明液体3.2
1gを得た。
【0054】実施例14 実施例13と同様な操作で、オキシ塩化リン1.92g
(0.0125M)、フェノール2.35g(0.02
5M)、及びテトラエチルホスホニウムブロマイド0.
125gを仕込み、140℃で10時間反応させ、無色
透明液体3.42gを得た。
【0055】実施例15 実施例13と同様な操作で、オキシ塩化リン2.30g
(0.015M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びテトラエチルホスホニウムブロマイド0.1
25gを仕込み、140℃で7時間反応させ、無色透明
液体3.40gを得た。
【0056】実施例16 実施例13と同様な操作で、オキシ塩化リン2.68g
(0.0175M)、フェノール2.35g(0.02
5M)、及びテトラエチルホスホニウムブロマイド0.
125gを仕込み、140℃で5時間反応させ、無色透
明液体3.87gを得た。
【0057】実施例17 実施例13と同様な操作で、オキシ塩化リン3.44g
(0.0225M)、フェノール2.35g(0.02
5M)、及びテトラエチルホスホニウムブロマイド0.
125gを仕込み、140℃で2時間反応させ、無色透
明液体4.49gを得た。
【0058】実施例18 実施例13と同様な操作で、オキシ塩化リン3.84g
(0.025M)、フェノール2.35g(0.025
M)、及びテトラエチルホスホニウムブロマイド0.1
25gを仕込み、140℃で2時間反応させ、無色透明
液体5.14gを得た。
【0059】実施例19 実施例13と同様な操作で、オキシ塩化リン11.50
g(0.075M)、フェノール2.35g(0.02
5M)、及びテトラエチルホスホニウムブロマイド0.
125gを仕込み、130℃で1時間反応させた。過剰
のオキシ塩化リンを60℃、30mmHgにて減圧回収
した後、無色透明液体5.61gを得た。
【0060】実施例13〜19で得られた粗液体をガス
クロマトグラフで分析した結果を表3に示す。
【0061】
【表3】
【0062】実施例20 回転子、冷却管を備えた25ml三角フラスコに、オキ
シ塩化リン3.07g(0.02M)、m−クレゾール
2.70g(0.025M)、及びテトラエチルホスホ
ニウムブロマイド0.125gを仕込み、撹拌しながら
昇温する。バス温を140℃に設定し、3時間反応させ
た。ガスクロマトグラフで原料のm−クレゾールがなく
なったのを確認し、反応終点とし、赤色透明液体4.9
6gを得た。
【0063】得られた無色透明液体をガスクロマトグラ
フで分析した結果、ビス(3−メチルフェニル)クロロ
ホスフェートの含有率は42.7%、3−メチルフェニ
ルジクロロホスフェートの含有率は53.7%、トリス
(3−メチルフェニル)ホスフェートの含有率は1.4
%であった。
【0064】実施例21 回転子、冷却管を備えた25ml三角フラスコに、オキ
シ塩化リン3.07g(0.02M)、2,4−ジクロ
ロフェノール4.07g(0.025M)、及びテトラ
エチルホスホニウムブロマイド0.125gを仕込み、
撹拌しながら昇温する。バス温を140℃に設定し、6
時間反応させた。ガスクロマトグラフで原料の2,4−
ジクロロフェノールがなくなったのを確認し、反応終点
とし、無色透明液体5.69gを得た。
【0065】得られた無色透明液体をガスクロマトグラ
フで分析した結果、ビス(2,4−ジクロロフェニル)
クロロホスフェートの含有率は4.9%、2,4−ジク
ロロフェニルジクロロホスフェートの含有率は76.6
%、トリス(2,4−ジクロロフェニル)ホスフェート
の含有率は18.5%であった。
【0066】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明は、フェノー
ル類とオキシ塩化リンの反応において、原料のオキシ塩
化リンとフェノール類のモル比を調整し、触媒として第
4級ホスホニウム塩を用いることにより、原料であるフ
ェニール類とオキシ塩化リンの損失が少なく、かつ副生
成物であるトリアリールホスフェート類の生成量を抑制
し、目的とするアリールリン酸ジクロライド及びジアリ
ールリン酸クロライドを高選択でかつ高収率で得ること
ができる極めて有利な製造方法である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フェノール核に置換基を有するかもしく
    は置換基を有しないフェノール類とオキシ塩化リンを第
    4級ホスホニウム塩を触媒として反応させることを特徴
    とするアリールリン酸クロライド類の製造方法。
  2. 【請求項2】 アリールリン酸クロライド類がアリール
    リン酸ジクロライドまたはジアリールリン酸クロライド
    である請求項1記載のアリールリン酸クロライド類の製
    造方法。
  3. 【請求項3】 原料のオキシ塩化リン/フェノール類の
    モル比を大きくして反応し、反応生成物中のアリールリ
    ン酸ジクロライドの生成量を増加する請求項1または2
    記載のアリールリン酸クロライド類の製造方法。
  4. 【請求項4】 原料のオキシ塩化リン/フェノール類の
    モル比を小さくして反応し、反応生成物中のジアリール
    リン酸クロライドの生成量を増加する請求項1または2
    記載のアリールリン酸クロライド類の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011015104A1 (de) 2011-03-25 2012-09-27 Skw Stickstoffwerke Piesteritz Gmbh Verfahren zur Herstellung von Phosphorsäurearylesterdichloriden
EP3816170A1 (de) 2019-10-29 2021-05-05 SKW STICKSTOFFWERKE PIESTERITZ GmbH Verfahren zur herstellung von phosphorsäurearylesterdiamiden

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011015104A1 (de) 2011-03-25 2012-09-27 Skw Stickstoffwerke Piesteritz Gmbh Verfahren zur Herstellung von Phosphorsäurearylesterdichloriden
DE102011015104B4 (de) * 2011-03-25 2013-03-14 Skw Stickstoffwerke Piesteritz Gmbh Verfahren zur Herstellung von Phosphorsäurearylesterdichloriden
EP3816170A1 (de) 2019-10-29 2021-05-05 SKW STICKSTOFFWERKE PIESTERITZ GmbH Verfahren zur herstellung von phosphorsäurearylesterdiamiden
DE102019216652B4 (de) 2019-10-29 2023-03-02 Skw Stickstoffwerke Piesteritz Gmbh Verfahren zur Herstellung von Phosphorsäurearylesterdiamiden

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