JPH0551180B2 - - Google Patents
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- JPH0551180B2 JPH0551180B2 JP11186386A JP11186386A JPH0551180B2 JP H0551180 B2 JPH0551180 B2 JP H0551180B2 JP 11186386 A JP11186386 A JP 11186386A JP 11186386 A JP11186386 A JP 11186386A JP H0551180 B2 JPH0551180 B2 JP H0551180B2
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- holder
- light
- ion beam
- detection device
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 75
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 22
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えばイオン注入装置等のよう
な、ホルダ上の基板にイオンビームを照射する装
置に用いられて、ホルダ上の基板の有無を検出す
る基板検出装置に関する。
な、ホルダ上の基板にイオンビームを照射する装
置に用いられて、ホルダ上の基板の有無を検出す
る基板検出装置に関する。
第３図はイオン注入装置のホルダ回りの一例を
部分的に示す平面図であり、第４図は第３図の線
−に沿う概略断面図である。例えばイオン注
入装置のエンドステーシヨンに設けられた真空容
器（図示省略）内に、回転軸４に取り付けられた
ホルダ（この場合はプラテンとも呼ぶ）６が設け
られており、回転軸４の矢印Ａのような回転によ
つて当該ホルダ６は、例えば第４図の実線で示す
ような基板着脱位置（例えば水平位置）と、２点
鎖線で示すような基板処理位置（例えば起立位
置）とに回転させられる。またホルダ６の上面に
は、保持する基板（例えばウエハ）２にほぼ対応
する大きさの開口８ａを有していて上下動可能な
押え板（クランパーとも呼ぶ）８が設けられてお
り、これによつて基板２はホルダ６上に押圧保持
される。１０は基板２に着脱用の搬送ベルトであ
る。
部分的に示す平面図であり、第４図は第３図の線
−に沿う概略断面図である。例えばイオン注
入装置のエンドステーシヨンに設けられた真空容
器（図示省略）内に、回転軸４に取り付けられた
ホルダ（この場合はプラテンとも呼ぶ）６が設け
られており、回転軸４の矢印Ａのような回転によ
つて当該ホルダ６は、例えば第４図の実線で示す
ような基板着脱位置（例えば水平位置）と、２点
鎖線で示すような基板処理位置（例えば起立位
置）とに回転させられる。またホルダ６の上面に
は、保持する基板（例えばウエハ）２にほぼ対応
する大きさの開口８ａを有していて上下動可能な
押え板（クランパーとも呼ぶ）８が設けられてお
り、これによつて基板２はホルダ６上に押圧保持
される。１０は基板２に着脱用の搬送ベルトであ
る。
そして、基板着脱位置においてホルダ６に対す
る基板２の着脱、例えば第３図矢印Ｂのような基
板２の搬出入が行われ、基板処理位置においてホ
ルダ６上の基板２に対してイオンビーム１２が照
射されてイオン注入が行われる。
る基板２の着脱、例えば第３図矢印Ｂのような基
板２の搬出入が行われ、基板処理位置においてホ
ルダ６上の基板２に対してイオンビーム１２が照
射されてイオン注入が行われる。
その場合、上記のような制御等を行うに当つて
は、ホルダ６上の基板２の有無を検出するのが好
ましく、そのための基盤検出装置としては図示の
ようなものが考えられる。即ちこの装置は、ホル
ダ６の面に対して垂直に貫通穴１６をあけてその
下側に光センサ１８の例えば発光器１８ａを、そ
の上側に例えば受光器１８ｂを互い対向させて配
置したものであり、ホルダ６上に不透明の基板２
が搬入されると、基板２によつて発光器１８ａか
らの光２０が受光器１８ｂに入射するのが遮ら
れ、それによつて基板２の有無が検出される。
は、ホルダ６上の基板２の有無を検出するのが好
ましく、そのための基盤検出装置としては図示の
ようなものが考えられる。即ちこの装置は、ホル
ダ６の面に対して垂直に貫通穴１６をあけてその
下側に光センサ１８の例えば発光器１８ａを、そ
の上側に例えば受光器１８ｂを互い対向させて配
置したものであり、ホルダ６上に不透明の基板２
が搬入されると、基板２によつて発光器１８ａか
らの光２０が受光器１８ｂに入射するのが遮ら
れ、それによつて基板２の有無が検出される。
所が上記のような基板検出装置においては、基
板２による光２０の断続を検出しているため、例
えば石英ガラスのような透明の基板２の有無を検
出することはできない。また、ホルダ６に垂直に
貫通穴１６があけられているため、基板処理位置
においてホルダ６に対して何等かの原因で基板２
無しでイオンビーム１２が照射されたような場合
は、イオンビーム１２が貫通穴１６を通つてホル
ダ６の裏面側へ通過してしまい、他の機器に悪影
響を及ぼす（第４図のイオンビーム１２′参照）。
板２による光２０の断続を検出しているため、例
えば石英ガラスのような透明の基板２の有無を検
出することはできない。また、ホルダ６に垂直に
貫通穴１６があけられているため、基板処理位置
においてホルダ６に対して何等かの原因で基板２
無しでイオンビーム１２が照射されたような場合
は、イオンビーム１２が貫通穴１６を通つてホル
ダ６の裏面側へ通過してしまい、他の機器に悪影
響を及ぼす（第４図のイオンビーム１２′参照）。
そこでこの発明は、透明基板の検出が可能であ
り、しかもイオンビームが誤つてホルダの裏面側
へ通過しないように改良した基板検出装置を提供
することを主たる目的とする。
り、しかもイオンビームが誤つてホルダの裏面側
へ通過しないように改良した基板検出装置を提供
することを主たる目的とする。
この発明の基板検出装置は、ホルダ内にホルダ
を貫通するように設けられた二つの傾斜穴であつ
て、イオンビームが当該傾斜穴を通してホルダの
裏面側へ通過しないように逆Ｖ字状に傾斜して設
けられたものと、ホルダの裏面部またはその近傍
に設けられた発光器と受光器の組み合わせから成
る光センサとを備え、発光器からの光が一方の傾
斜穴を通してホルダ上の基板に入射し、基板から
の反射光が他方の傾斜穴を通して受光器に入射す
るよう構成したことを特徴とする。
を貫通するように設けられた二つの傾斜穴であつ
て、イオンビームが当該傾斜穴を通してホルダの
裏面側へ通過しないように逆Ｖ字状に傾斜して設
けられたものと、ホルダの裏面部またはその近傍
に設けられた発光器と受光器の組み合わせから成
る光センサとを備え、発光器からの光が一方の傾
斜穴を通してホルダ上の基板に入射し、基板から
の反射光が他方の傾斜穴を通して受光器に入射す
るよう構成したことを特徴とする。
ホルダ上に基板が搬入されると、発光器からの
光は基板の表面で反射して受光器に入射する。こ
の反射光は、基板が透明、不透明に拘わらず得ら
れる。従つていずれの場合でも基板の検出が可能
である。またホルダには傾斜穴を設けているた
め、イオンビームは傾斜穴の内壁で阻止されてホ
ルダの裏面側へ通過することが防止される。
光は基板の表面で反射して受光器に入射する。こ
の反射光は、基板が透明、不透明に拘わらず得ら
れる。従つていずれの場合でも基板の検出が可能
である。またホルダには傾斜穴を設けているた
め、イオンビームは傾斜穴の内壁で阻止されてホ
ルダの裏面側へ通過することが防止される。
第１図は、この発明の一実施例に係る基板検出
装置を示す概略断面図である。この図は第３図の
線−方向に見たものに相当し、ホルダ６は例
えば基板着脱位置にあり、また押え板８の図示を
省略している（第２図も同様）。また第３図およ
び第４図と同一または同等部分には同一符号を付
してその説明を省略する。
装置を示す概略断面図である。この図は第３図の
線−方向に見たものに相当し、ホルダ６は例
えば基板着脱位置にあり、また押え板８の図示を
省略している（第２図も同様）。また第３図およ
び第４図と同一または同等部分には同一符号を付
してその説明を省略する。
この実施例の基板検出装置は、前述したような
ホルダ６内にホルダ６を貫通するように傾斜して
設けられた二つの傾斜穴２２ａおよび２２ｂと、
ホルダ６の裏面部であつて各傾斜穴２２ａ，２２
ｂの後方にそれぞれ埋め込まれた発光器１８ａお
よび受光器１８ｂの組み合わせから成る光センサ
１８とを備え、発光器１８ａからの光２０が傾斜
穴２２ａを通してホルダ６上の基板２に入射し、
基板２からの反射光２０′が傾斜穴２２ｂを通し
て受光器１８ｂに入射するように構成している。
両傾斜穴２２ａ，２２ｂは、後述するイオンビー
ム１２が当該傾斜穴２２ａ，２２ｂを通してホル
ダ６の裏面側へ通過しないように逆Ｖ字状に傾斜
して設けられている。
ホルダ６内にホルダ６を貫通するように傾斜して
設けられた二つの傾斜穴２２ａおよび２２ｂと、
ホルダ６の裏面部であつて各傾斜穴２２ａ，２２
ｂの後方にそれぞれ埋め込まれた発光器１８ａお
よび受光器１８ｂの組み合わせから成る光センサ
１８とを備え、発光器１８ａからの光２０が傾斜
穴２２ａを通してホルダ６上の基板２に入射し、
基板２からの反射光２０′が傾斜穴２２ｂを通し
て受光器１８ｂに入射するように構成している。
両傾斜穴２２ａ，２２ｂは、後述するイオンビー
ム１２が当該傾斜穴２２ａ，２２ｂを通してホル
ダ６の裏面側へ通過しないように逆Ｖ字状に傾斜
して設けられている。
このホルダ６上に基板２が搬入されると、発光
器１８ａからの光２０は基板２の表面で反射して
反射光２０′として受光器１８ｂに入射する。こ
の反射光２０′は、基板２が透明、不透明に拘わ
らず得られ、しかもその反射光２０′を基板２の
近くにある受光器１８ｂで受けるので、受光器１
８ｂにおいて当該反射光２０′を十分に検出する
ことができる。そして受光器１８ｂは、例えば、
反射光２０′が有りの時は基板有りの信号を、反
射光２０′が無しの時は基板無しの信号を出力す
る。
器１８ａからの光２０は基板２の表面で反射して
反射光２０′として受光器１８ｂに入射する。こ
の反射光２０′は、基板２が透明、不透明に拘わ
らず得られ、しかもその反射光２０′を基板２の
近くにある受光器１８ｂで受けるので、受光器１
８ｂにおいて当該反射光２０′を十分に検出する
ことができる。そして受光器１８ｂは、例えば、
反射光２０′が有りの時は基板有りの信号を、反
射光２０′が無しの時は基板無しの信号を出力す
る。
このようにこの基板検出装置においては、発光
器１８ａからの光２０を基板２の裏面で斜めに反
射させ、しかもその反射光２０′を基板２の近く
にある受光器１８ｂで受けることになるので、不
透明な基板は勿論のこと、透明あるいは透過率の
高い基板２であつても、それからの反射光２０′
を受光器１８ｂにおいて十分に検出して、当該基
板２の有無を検出することができる。
器１８ａからの光２０を基板２の裏面で斜めに反
射させ、しかもその反射光２０′を基板２の近く
にある受光器１８ｂで受けることになるので、不
透明な基板は勿論のこと、透明あるいは透過率の
高い基板２であつても、それからの反射光２０′
を受光器１８ｂにおいて十分に検出して、当該基
板２の有無を検出することができる。
しかも、一般的に光センサの発光器からの光は
ある発散角を持つており、また受光器はある視野
角を持つており、このような光センサをそのまま
用いると、検出対象物である基板付近の構造物で
の反射光で誤検出する可能性が高くなるが、この
基板検出装置では、上記二つの傾斜穴２２ａ，２
２ｂがそれぞれコリメーターのような作用をし
て、発光器１８ａからの光を絞つて基板２に入射
させ、また受光器１８ｂの視野を基板２の反射領
域に絞ることができるので、誤検出の可能性が低
く、従つて基板検出の信頼性が向上する。特に、
基板２が透明あるい透過率の高いものであつて反
射光２０′が弱い場合に、この効果は大きい。
ある発散角を持つており、また受光器はある視野
角を持つており、このような光センサをそのまま
用いると、検出対象物である基板付近の構造物で
の反射光で誤検出する可能性が高くなるが、この
基板検出装置では、上記二つの傾斜穴２２ａ，２
２ｂがそれぞれコリメーターのような作用をし
て、発光器１８ａからの光を絞つて基板２に入射
させ、また受光器１８ｂの視野を基板２の反射領
域に絞ることができるので、誤検出の可能性が低
く、従つて基板検出の信頼性が向上する。特に、
基板２が透明あるい透過率の高いものであつて反
射光２０′が弱い場合に、この効果は大きい。
一方、ホルダ６が基板処理位置にある場合は、
図中に破線で示すような関係でイオンビーム１２
が照射されることになる（この関係は第３図およ
び第４図を参照すればより明らかとなる）。その
場合、何等かの原因で基板２無しでイオンビーム
１２が照射されたとしても、従来とは違つてホル
ダ６には逆Ｖ字状に傾斜した傾斜穴２２ａ，２２
ｂを設けてイオンビーム１２を傾斜穴２２ａ，２
２ｂの内壁で阻止するようにしているので、イオ
ンビーム１２がホルダ６の裏面側へ通過すること
はない。従つて、他の機器へ悪影響が及ぶのを防
止することができる。尚、発光器１８ａおよび受
光器１８ｂは、上記のような場合を考慮すると、
図示例のようにイオンビーム１２が誤つて照射さ
れないような位置にまで後退させておくのが好ま
しい。
図中に破線で示すような関係でイオンビーム１２
が照射されることになる（この関係は第３図およ
び第４図を参照すればより明らかとなる）。その
場合、何等かの原因で基板２無しでイオンビーム
１２が照射されたとしても、従来とは違つてホル
ダ６には逆Ｖ字状に傾斜した傾斜穴２２ａ，２２
ｂを設けてイオンビーム１２を傾斜穴２２ａ，２
２ｂの内壁で阻止するようにしているので、イオ
ンビーム１２がホルダ６の裏面側へ通過すること
はない。従つて、他の機器へ悪影響が及ぶのを防
止することができる。尚、発光器１８ａおよび受
光器１８ｂは、上記のような場合を考慮すると、
図示例のようにイオンビーム１２が誤つて照射さ
れないような位置にまで後退させておくのが好ま
しい。
第２図は、この発明の他の実施例に係る基板検
出装置を示す概略断面図である。第１図の実施例
との相違点を主に説明すれば、この実施例におい
ては、光センサ１８の発光器１８ａおよび受光器
１８ｂを、ホルダ６の裏面部の近傍に設けてい
る。傾斜穴２２ａ，２２ｂについては、それがそ
のままストレートにホルダ６の裏面側まで貫通し
ている点を除けば第１図の場合とほぼ同様であ
る。この実施例においては、イオンビーム１２が
誤つて発光器１８ａや受光器１８ｂに照射される
恐れは全くなくなる。その他の作用効果は第１図
の場合とほぼ同様である。
出装置を示す概略断面図である。第１図の実施例
との相違点を主に説明すれば、この実施例におい
ては、光センサ１８の発光器１８ａおよび受光器
１８ｂを、ホルダ６の裏面部の近傍に設けてい
る。傾斜穴２２ａ，２２ｂについては、それがそ
のままストレートにホルダ６の裏面側まで貫通し
ている点を除けば第１図の場合とほぼ同様であ
る。この実施例においては、イオンビーム１２が
誤つて発光器１８ａや受光器１８ｂに照射される
恐れは全くなくなる。その他の作用効果は第１図
の場合とほぼ同様である。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、発光器からの
光を基板の裏面で斜めに反射させ、しかもその反
射光を基板の近くにある受光器で受けることにな
るので、不透明な基板は勿論のこと、透明あるい
は透過率の高い基板であつても、それからの反射
光を受光器において十分に検出して、当該基板の
有無を検出することができる。
光を基板の裏面で斜めに反射させ、しかもその反
射光を基板の近くにある受光器で受けることにな
るので、不透明な基板は勿論のこと、透明あるい
は透過率の高い基板であつても、それからの反射
光を受光器において十分に検出して、当該基板の
有無を検出することができる。
しかも、一般的に光センサの発光器からの光は
ある発散角を持つており、また受光器はある視野
角を持つており、このような光センサをそのまま
用いると、検出対象物である基板付近の構造物で
の反射光で誤検出する可能性が高くなるが、この
基板検出装置では、上記二つの傾斜穴がそれぞれ
コリメーターのような作用をして、発光器からの
光を絞つて基板に入射させ、また受光器の視野を
基板の反射領域に絞ることができるので、誤検出
の可能性が低く、従つて基板検出の信頼性が向上
する。特に、基板が透明あるいは透過率の高いの
ものであつて反射光が弱い場合に、この効果は大
きい。
ある発散角を持つており、また受光器はある視野
角を持つており、このような光センサをそのまま
用いると、検出対象物である基板付近の構造物で
の反射光で誤検出する可能性が高くなるが、この
基板検出装置では、上記二つの傾斜穴がそれぞれ
コリメーターのような作用をして、発光器からの
光を絞つて基板に入射させ、また受光器の視野を
基板の反射領域に絞ることができるので、誤検出
の可能性が低く、従つて基板検出の信頼性が向上
する。特に、基板が透明あるいは透過率の高いの
ものであつて反射光が弱い場合に、この効果は大
きい。
また、何らかの原因で基板無しでイオンビーム
が照射されても、イオンビームは傾斜穴の内壁で
阻止されてホルダの裏面側へは通過しないので、
他の機器へ悪影響を及ぶのを防止することができ
る。
が照射されても、イオンビームは傾斜穴の内壁で
阻止されてホルダの裏面側へは通過しないので、
他の機器へ悪影響を及ぶのを防止することができ
る。
第１図は、この発明の一実施例に係る基板検出
装置を示す概略断面図である。第２図は、この発
明の他の実施例に係る基板検出装置を示す概略断
面図である。第３図は、イオン注入装置のホルダ
回りの一例を部分的に示す平面図である。第４図
は、第３図の線−に沿う概略断面図である。 ２……基板、６……ホルダ、１２……イオンビ
ーム、１８……光センサ、１８ａ……発光器、１
８ｂ……受光器、２０……光、２０′……反射光、
２２ａ，２２ｂ……傾斜穴。
装置を示す概略断面図である。第２図は、この発
明の他の実施例に係る基板検出装置を示す概略断
面図である。第３図は、イオン注入装置のホルダ
回りの一例を部分的に示す平面図である。第４図
は、第３図の線−に沿う概略断面図である。 ２……基板、６……ホルダ、１２……イオンビ
ーム、１８……光センサ、１８ａ……発光器、１
８ｂ……受光器、２０……光、２０′……反射光、
２２ａ，２２ｂ……傾斜穴。
Claims (1)
- １ ホルダの表面側に保持された基板にイオンビ
ームを照射する装置に用いられる基板検出装置に
おいて、ホルダ内にホルダを貫通するように設け
られた二つの傾斜穴であつて、イオンビームが当
該傾斜穴を通してホルダの裏面側へ通過しないよ
うに逆Ｖ字状に傾斜して設けられたものと、ホル
ダの裏面部またはその近傍に設けられた発光器と
受光器の組み合わせから成る光センサとを備え、
発光器からの光が一方の傾斜穴を通してホルダ上
の基板に入射し、基板からの反射光が他方の傾斜
穴を通して受光器に入射するよう構成したことを
特徴とする基板検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11186386A JPS62268139A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 基板検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11186386A JPS62268139A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 基板検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62268139A JPS62268139A (ja) | 1987-11-20 |
| JPH0551180B2 true JPH0551180B2 (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=14572051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11186386A Granted JPS62268139A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 基板検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62268139A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10108745A (ja) * | 1996-10-04 | 1998-04-28 | Touzai Kagaku Sangyo Kk | 流し台 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4705450B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2011-06-22 | 株式会社ディスコ | ウェーハの保持機構 |
| JP5558673B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2014-07-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 熱処理装置 |
| KR102597414B1 (ko) * | 2022-02-21 | 2023-11-02 | (주)디바이스이엔지 | 기판 검출유닛을 구비한 기판 식각 처리장치 |
-
1986
- 1986-05-15 JP JP11186386A patent/JPS62268139A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10108745A (ja) * | 1996-10-04 | 1998-04-28 | Touzai Kagaku Sangyo Kk | 流し台 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62268139A (ja) | 1987-11-20 |
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