JPH08183773A - 置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は除草剤として有用なＮ−〔（ 4,6−
ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕
−３−トリフルオロメチルピリジン−２−スルホンアミ
ド（以下置換ピリジンスルホンアミド系化合物と略す）
を製造するための中間体およびその製造方法を提供す
る。 【構成】 一般式（Ｉ）； 【化１】 で表わされる化合物と、一般式（II）；ＸＣＯＯＲ
…（II） （式中、Ｒはフェニル基またはアルキル基であり、Ｘは
ハロゲン原子である）で表わされる化合物とを反応させ
て一般式(III）； 【化２】 （式中、Ｒは前述の通りである）で表わされる置換ピリ
ジンスルホニルカーバメート系化合物を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、除草剤の有効成分とし
て有用なＮ−〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）アミノカルボニル〕−３−トリフルオロメチルピ
リジン−２−スルホンアミド（以下置換ピリジンスルホ
ンアミド系化合物と略す）を製造するための中間体とし
て有用な、後記一般式(III）で表わされる置換ピリジン
スルホニルカーバメート系化合物およびその製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】前記置換ピリジンスルホンアミド系化合
物については種々の製造方法が知られているが、３−ト
リフルオロメチルピリジン−２−スルホンアミドとハロ
ゲノ炭酸エステルを反応させて置換ピリジンスルホニル
カーバメート系化合物を生成させ、これに２−アミノ−
４，６−ジメトキシピリミジンを反応させて前記置換ピ
リジンスルホンアミド系化合物を製造する方法は知られ
ていない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、毒性の強い取扱困難なホスゲンを使用して
製造したイソシアネート化合物を原料として使用せず
に、いずれも安価にかつ大量に入手可能な前述の化合物
を原料として使用し、高い収率で目的化合物を製造する
ことである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
（Ｉ）；

【化４】

【０００５】で表される化合物と、一般式（II）； Ｘ
ＣＯＯＲ …（II） （式中、Ｒはフェニル基またはア
ルキル基であり、Ｘはハロゲン原子である）で表わされ
る化合物とを反応させて一般式(III）；

【化５】

【０００６】（式中、Ｒは前述の通りである）で表わさ
れる置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物を製
造する方法並びに前記一般式(III）においてＲがフェニ
ル基またはメチル基である置換ピリジンスルホニルカー
バメート系化合物に関する。

【０００７】前記一般式（II）〜(III）中Ｒで表わされ
るアルキル基としては、炭素数１〜６を有するもの、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが
挙げられ、それらは直鎖または枝分れ脂肪鎖の幾何異性
のものを含むが、メチル基、エチル基またはフェニル基
が望ましく、なかでもメチル基またはフェニル基がより
望ましい。

【０００８】前記一般式（II）中Ｘで表わされるハロゲ
ン原子としては、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げ
られ、なかでも塩素原子が望ましい。

【０００９】本発明に係る置換ピリジンスルホニルカー
バメート系化合物の製造方法を以下に詳述する。

【００１０】

【化６】

【００１１】（式中、ＲおよびＸは前述の通りであ
る）。一般式（II）で表わされる化合物の使用量は一概
に規定できないが、一般式（Ｉ）で表わされる化合物に
対して通常１〜２倍モル、望ましくは１．１〜１．６倍
モルである。

【００１２】上記反応で使用される塩基としては例え
ば、無水炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウムなどが挙げられ、その使用量は一
概に規定できないが、一般式（Ｉ）で表わされる化合物
に対して通常２〜４倍当量、望ましくは２．４〜３．０
倍当量である。

【００１３】また、上記反応で使用される溶媒としては
例えば、アセトンなどのケトン類、アセトニトリルなど
のニトリル類、水、前記有機溶媒と水との混合物などが
挙げられ、その使用量は一概に規定できないが、一般式
（Ｉ）で表わされる化合物１ｇに対して通常１〜１０ｍ
ｌ、望ましくは２〜５ｍｌである。

【００１４】上記反応の反応条件は一概に規定できない
が、反応温度は通常０〜１００℃、反応時間は通常０．
５〜１０時間である。上記製造方法で得られる置換ピリ
ジンスルホニルカーバメート系化合物と２−アミノ−
４，６−ジメトキシピリミジンを反応させて、置換ピリ
ジンスルホンアミド系化合物を製造することができる。

【００１５】前記２−アミノ−４，６−ジメトキシピリ
ミジンの使用量は一概に規定できないが、置換ピリジン
スルホニルカーバメート系化合物に対して通常１〜２モ
ルである。

【００１６】置換ピリジンスルホニルカーバメート系化
合物と２−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジンとの
上記反応で使用される溶媒としては例えば、ベンゼン、
トルエンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プ
ロピルなどの脂肪酸エステル類が挙げられ、その使用量
は一概に規定できないが、置換ピリジンスルホンアミド
系化合物 1ｇに対して通常３〜３０ｍｌ、望ましくは５
〜１５ｍｌである。上記反応の反応条件は一概に規定で
きないが、反応温度は通常、使用する溶媒の還流温度で
あり、反応時間は通常１〜１５時間である。

【００１７】

【実施例】本発明をより詳しく述べるため、以下に実施
例を記載するが、これらは本発明を限定するものではな
い。

【００１８】実施例１．Ｎ−メトキシカルボニル−３−
トリフルオロメチルピリジン−２−スルホンアミドの合
成 ５リットル容の四つ口フラスコに、アセトン６７８．０
ｇ、水３８７．０ｇおよび無水炭酸カリウム３８７．０
ｇ（２．８ｍｏｌ）を仕込み、室温で攪拌し完全に無水
炭酸カリウムを溶解させた。その後、３−トリフルオロ
メチルピリジン−２−スルホンアミド２２６．０ｇ
（１．０ｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌しスラリ
ー化した。

【００１９】その後氷水冷却下室温でクロル炭酸メチル
エステル１３２．３ｇ（１．４ｍｏｌ）を６０分間を要
して攪拌下に滴下した。さらに同温度で２時間反応させ
た。四つ口フラスコに水２５００ｍｌを加え反応物を溶
解させ、さらに反応で副生した炭酸ジメチルを除去する
ために、トルエン２５０ｍｌを入れ攪拌した。静置後水
層とトルエン層を分液し、水層に濃塩酸を加えｐＨ＝２
以下に調整して結晶を析出させた。得られた結晶を濾
過、水洗後乾燥し、融点１３７〜１３９℃の目的物２５
８．４ｇを得た（収率９１．０％）。

【００２０】さらに５００ｍｌ容の四つ口フラスコに前
記製造例で得たＮ−メトキシカルボニル−３−トリフル
オロメチルピリジン−２−スルホンアミド５６．８ｇ
（０．２ｍｏｌ）、２−アミノ−４，６−ジメトキシピ
リミジン３２．６ｇ（０．２１ｍｏｌ）およびトルエン
２００ｍｌを仕込み、１００℃で窒素ガスをバブリング
しながら副生してくるメタノールを系外へ留出しつつ同
速度でトルエンを系内へ滴下していった。同温度で５時
間反応した後、室温まで冷却し濾過した。トルエン５０
ｇで濾過物を２回洗浄し乾燥し、Ｎ−〔（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル〕−３
−トリフルオロメチルピリジン−２−スルホンアミド７
５．７ｇ（収率９３．０％）を得た。

【００２１】実施例２．Ｎ−フェノキシカルボニル−３
−トリフルオロメチルピリジン−２−スルホンアミドの
合成 １リットル容の四つ口フラスコに、アセトン６７．８
ｇ、水３８．７ｇおよび無水炭酸カリウム３８．７ｇ
（０．２８ｍｏｌ）を仕込み、室温で攪拌し完全に無水
炭酸カリウムを溶解させた。その後、３−トリフルオロ
メチルピリジン−２−スルホンアミド２２．６ｇ（０．
１ｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌しスラリー化し
た。

【００２２】その後氷水冷却下室温でクロル炭酸フェニ
ルエステル２１．９ｇ（０．１４ｍｏｌ）を３０分間要
して攪拌下に滴下した。さらに同温度で２時間反応させ
た。四つ口フラスコに希釈水４７５ｍｌを加え副生した
炭酸ジフェニルを除去するために濾過し、濾過物を水２
５０ｍｌを入で洗浄した。

【００２３】濾液を攪拌下濃塩酸を加えｐＨ＝２以下に
調整して結晶を析出させた。得られた結晶を濾過、水洗
後乾燥し、融点１３０〜１３３．５℃の目的物３２．１
ｇを得た（収率９２．８％）。

【００２４】さらに５００ｍｌ容の四つ口フラスコに前
記製造例で得た純度９１％のＮ−フェノキシカルボニル
−３−トリフルオロメチルピリジン−２−スルホンアミ
ド２６．０ｇ（０．０７５ｍｏｌ）、２−アミノ−４，
６−ジメトキシピリミジン１２．１ｇ（０．０７８ｍｏ
ｌ）および酢酸エチル１５０ｇを仕込み、還流下１時間
反応させた。その後室温まで冷却し濾過した。濾過物を
酢酸エチル４５ｇで洗浄し４０℃で乾燥し、Ｎ−
〔（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノ
カルボニル〕−３−トリフルオロメチルピリジン−２−
スルホンアミド２８．７ｇ（収率９４．０％）を得た。

【００２５】実施例３〜５ 前記実施例１に準じた反応を行い、第１表の結果を得
た。

【００２６】

【表１】

【発明の効果】本発明の方法によれば、置換ピリジンス
ルホニルカーバメート系化合物を高い収率で製造するこ
とができる。また、毒性の強い取扱困難なホスゲンを使
用して製造したイソシアネート化合物を原料として使用
しなくても、安価にかつ大量に入手可能な化合物を原料
として用いることにより、置換ピリジンスルホニルカー
バメート系化合物を製造することができるで、本発明は
除草剤として有用な置換ピリジンスルホンアミド系化合
物を工業的に製造、実施する上で有益である。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）； 【化１】 で表わされる化合物と、一般式（II）；ＸＣＯＯＲ
   …（II） （式中、Ｒはフェニル基またはアルキル基であり、Ｘは
   ハロゲン原子である）で表わされる化合物とを反応させ
   ることを特徴とする一般式(III）； 【化２】 （式中、Ｒは前述の通りである）で表わされる置換ピリ
   ジンスルホニルカーバメート系化合物の製造方法。
2. 【請求項２】 Ｒがフェニル基、メチル基またはエチル
   基である、請求項１に記載の置換ピリジンスルホニルカ
   ーバメート系化合物の製造方法。
3. 【請求項３】 一般式(III')； 【化３】 （式中、Ｒ’はフェニル基、メチル基またはエチル基で
   ある）で表わされる置換ピリジンスルホニルカーバメー
   ト系化合物。
4. 【請求項４】 Ｒ’がメチル基である請求項３に記載の
   置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物。