JPH10298152A - ジアゾ化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 式〔IV〕 【化１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ置換されていてもよいア
ルキル基またはフェニル基または保護されていてもよい
水酸基を表す）で表される化合物の工業的に有利な製造
方法の提供。 【解決手段】 式〔Ｉ〕 【化２】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は前記と同じ意味を表す）で表され
る化合物をアジ化ナトリウムまたはアジ化カリウム、塩
基及び四級アンモニウム塩の存在もしくは非存在下に式
〔II〕 【化３】 （式中、Ｒ³ はアルキル基、またはアルキル基、アルコ
キシル基、カルボキシル基もしくはハロゲン原子で置換
されていてもよいアリール基を、Ｘはハロゲン原子を表
す）で表される化合物を加えることにより生成する式
〔III 〕 【化４】 （式中、Ｒ³ は前記と同じ意味を表す）で表されるスル
ホニルアジド化合物とを反応させる事を特徴とする式
〔IV〕で表される化合物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は農医薬の中間原料として
有用な化合物の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】優れた抗菌剤であるカルパペネム系抗生
物質を製造するための中間体としてジアゾ化合物〔Ｖ〕

【化５】 が示されている。この化合物はドデシルベンゼンスルホ
ニルアジドまたはｐ−トルエンスルホニルアジドと化合
物〔VI〕

【化６】 との反応により合成している。（国際特許 ＷＯ ９０
／０８１４９、Ｅｕｒ．Ｐａｔ．Ａｐｐｌ．ＥＰ ４０
９，９３１、Ｔｅｔｒａｈｅｄｏｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ，２９，２２９３（１９８２）、特開昭５９−１７０
０９６号公報等参照）

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】一般にスルホニルアジ
ド化合物は不安定で爆発の危険性があり、工業的規模で
の大量製造のためには、その中でも比較的安定なドデシ
ルベンゼンスルホニルアジドを用いられている。しかし
ながらドデシルベンゼンスルホニルアジドが爆発の危険
性が少ないといえ、さらに安全性を考慮した製造方法が
望まれる。またドデシルベンゼンスルホニルアジドは高
価で入手容易でないため他の安価で入手容易な原料を用
いた安全性を考慮した製造方法も望まれる。一方、安価
なメタンスルホニルクロリドとアジ化ナトリウムをポリ
マーに固定した四級アンモニウム塩存在下に塩基に水酸
化ナトリウムを用いメタンスルホニルアジドを合成し、
単離すること無く引き続き活性メチレン化合物（例えば
アセト酢酸エステル）を加えてジアゾ化する方法が報告
されている（Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａ
ｔｉｏｎｓ，２１（２１），２１２１−２１２７（１９
９１））。この方法を応用して反応させれば、危険なジ
アゾ化合物を単離して取り扱う必要がないため、より安
全性も増し、更に安価で入手の容易な原料を使用でき
る。しかしながら、この方法においても、ジアゾ化合物
を単離しないものの大量のジアゾ化合物を生成、蓄積さ
せその中に活性メチレン化合物を加えて反応させている
ため、依然として反応の暴走、爆発の危険性は残ってい
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な状況下、安全にかつ高収率、安価に製造する方法を鋭
意検討した結果、本発明を完成するに至った。

【０００５】即ち、本発明はアジ化ナトリウムまたはア
ジ化カリウム、塩基及び四級アンモニウム塩存在下或い
は非存在下に式〔II〕

【化７】 （式中、Ｒ³ はアルキル基；アルキル基、アルコキシル
基、カルボキシル基、ハロゲン原子で置換されていても
よいアリール基を、Ｘはハロゲン原子を表す）で表され
る化合物を加えることにより生成するスルホニルアジド
化合物、式〔III 〕

【化８】 （式中、Ｒ³ は前記と同じ意味を示す）で表される化合
物を生成させながら式〔Ｉ〕

【化９】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ置換されてもよいアルキ
ル基またはフェニル基、または保護されてもよい水酸基
を表す）で表される化合物を反応させる事を特徴とする
式〔IV〕

【化１０】 （式中、Ｒ¹ 〜Ｒ³ は前記と同じ意味を示す）で表され
る化合物の製造方法である。

【０００６】

【発明の実施の形態】Ｒ¹ 、Ｒ² は、それぞれメチル、
エチル、プロピル、ブチル、オクチル、シクロヘキシル
等の炭素数１−１２の直鎖、枝分かれ或いは環状のアル
キル基、炭素数１−１２の直鎖または枝分かれのアルキ
ル基、炭素数１−１２の直鎖または枝分かれのアルコキ
シル基、ニトロ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、ジア
ルキルアミノ基、カルボキシル基等の置換基を有しても
よいベンゼン、ナフタレン等のアリール基、またはメチ
ル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、２−クロロエチ
ル、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、ピバロイ
ルオキシメチル等の置換または未置換の低級アルキル
基、２−クロロアリル、クロチル、シンナミル等の置換
または未置換のアリル基、４−ニトロベンジル、２−ニ
トロベンジル、４−ブロモベンジル、４−クロロベンジ
ル、４−メトキシベンジルまたはジフェニルメチル、ト
リフェニルメチル等の置換または未置換のベンジル基等
に保護されてもよい水酸基が挙げられる。また、１，３
−シクロヘキサンジオン、メルドラム酸のように、
Ｒ¹ 、Ｒ² を伴い、前述の置換基を有し、環状構造を形
成してもよい。

【０００７】Ｒ³ はメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、オクチル、シクロヘキシル等の炭素数１−１２の直
鎖、枝分かれ或いは環状のアルキル基、置換または未置
換のベンゼン、ナフタレン等のアリール基でその置換基
としては炭素数１−１８の直鎖または枝分かれのアルキ
ル基、炭素数１−１２の直鎖または枝分かれのアルコキ
シル基、ニトロ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、ジア
ルキルアミノ基、カルボキシル基等が挙げられる。

【０００８】溶媒は反応に関与しなければ特に限定され
ないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレンあるいは
クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、
メチルエチルケトン、ジエチルケトン、イソブチルメチ
ルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエ
ステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロ
エタン等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の炭
化水素系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニ
トリル系溶媒、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系
溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミドまたは水等が挙げられ、これ
らを混合してもよい。

【０００９】反応は化合物〔Ｉ〕を溶媒に溶解または懸
濁し、アジ化ナトリウムまたはアジ化カリウム、塩基及
び四級アンモニウム塩を必要に応じて加え、次いで化合
物〔II〕を滴下する事により化合物〔III 〕を系内で生
成させながら化合物〔Ｉ〕と反応させることで行われ
る。反応温度は−２０〜８０℃、好ましくは０〜５０℃
であり、反応時間は１０分〜数日、通常は１〜２０時間
程度である。

【００１０】化合物〔II〕の使用量は化合物〔Ｉ〕に対
し１−１０倍モルであり、アジ化ナトリウム或いはアジ
化カリウムは化合物〔II〕に対し１−５倍モルである。

【００１１】塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸カル
シウム等の無機塩基、ジエチルアミン、シクロヘキシル
イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジベンジ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン等の二級または三級アミン、Ｎ
−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェ
ニルエチルアミン等の二級または三級アニリン、ピロー
ル、イミダゾール、ピリジン、ピコリン、ルチジン、モ
ルホリン、ピペリジン、ピペラジン、１−メチルピペリ
ジン、４−メチルモルホリン、キノリン、キノキサリ
ン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウン
デセン等の複素環状の塩基等が挙げられる。使用する塩
基の量は化合物〔Ｉ〕に対し０．０１−１倍モルが使用
され、単独或いは混合して用いてもよい。また塩基は化
合物〔II〕を滴下する前後に分割して仕込むことも出来
る。

【００１２】四級アンモニウム塩としてはテトラメチル
アンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロ
ミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド等のテ
トラアルキルアンモニウムハライド類、ベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロ
リド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド等のベ
ンジルトリアルキルアンモニウムハライド類、水酸化ベ
ンジルトリメチルアンモニウム、硫酸水素テトラブチル
アンモニウム、セチルピリジニウムブロミド、Ｎ−ラウ
リル−４−ピコリニウムクロリド、Ｎ−ベンジルピコリ
ニウムクロリド等が挙げられる。四級アンモニウム塩の
使用量は化合物〔Ｉ〕に対し、０．００１〜０．５倍モ
ルである。四級アンモニウム塩を使用しない場合でも反
応は進行するが、その反応速度は添加した場合に比べ遅
く、特に希薄溶液でその傾向が顕著である。反応時間が
長時間になれば、生産性の低下、好ましくない副反応の
進行の恐れがある。この様な場合四級アンモニウム塩を
添加することで反応をスムーズに進行させ、高収率で目
的物を得ることが出来る。

【００１３】

【実施例】次に実施例を挙げ本発明をさらに詳細に説明
する。 実施例１ ｐ−ニトロベンジル ２−ジアゾ−３−オキソブチレー
トの製造方法

【化１１】 ｐ−ニトロベンジル ３−オキソブチレート４７．４
ｇ、アジ化ナトリウム１８．２０ｇ、炭酸水素ナトリウ
ム６．７２ｇ、アセトニトリル８０ｍｌ、水４０ｍｌを
混合し、２６〜３６℃にてメタンスルホニルクロリド３
２．１ｇを１０４分で滴下した。同温度で、２時間撹拌
を続け、更に５７℃まで５分間で昇温させた。冷却し、
水１６０ｍｌ添加し、析出した結晶を濾過した。結晶乾
燥後重量５１．１ｇ、ＨＰＬＣにて分析したところ、目
的物を４９．２ｇ含有していた（収率９３．６％）。目
的物は公知であり、ＮＭＲにより構造の確認を行なっ
た。

【００１４】実施例２ ｐ−ニトロベンジル ２−ジアゾ−３−オキソブチレー
トの製造方法

【化１２】 ｐ−ニトロベンジル ３−オキソブチレート４７．４
ｇ、アジ化ナトリウム１５．６０ｇ、炭酸水素ナトリウ
ム５．０４ｇ、テトラブチルアンモニウムブロマイド
１．３ｇ、トルエン１１４ｍｌ、水４０ｍｌを混合し３
７〜４２℃にて、メタンスルホニルクロリド２７．５ｇ
を４５分で滴下した。３２〜３９℃で、１時間撹拌を続
けた。冷却し、析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶
乾燥後重量５１．６ｇ、ＨＰＬＣにて分析したところ、
目的物を４８．７ｇ含有していた（収率９２．６％）。

【００１５】

【発明の効果】本発明は農医薬中間原料として有用なジ
アゾ化合物を工業的多量生産するためのより安全でかつ
安価な製造方法である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ置換されてもよいアルキ
   ル基またはフェニル基、または保護されてもよい水酸基
   を表す）で表される化合物をアジ化ナトリウムまたはア
   ジ化カリウム、塩基及び四級アンモニウム塩存在化もし
   くは非存在下に式〔II〕 【化２】 （式中、Ｒ³ はアルキル基；アルキル基、アルコキシル
   基、カルボキシル基、ハロゲン原子で置換されていても
   よいアリール基を、Ｘはハロゲン原子を表す）で表され
   る化合物を加えることにより生成する式〔III 〕 【化３】 （式中、Ｒ³ は前記と同じ意味を示す）で表されるスル
   ホニルアジド化合物とを反応させる事を特徴とする式
   〔IV〕 【化４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は前記と同じ意味を示す）で表され
   る化合物の製造方法。
2. 【請求項２】 Ｒ¹ がメチル基、Ｒ² が保護されている
   水酸基である請求項１に記載の製造方法。
3. 【請求項３】 Ｒ¹ がメチル基、Ｒ² がｐ−ニトロベン
   ジル基にて保護されている水酸基である請求項１または
   請求項２に記載の製造方法。