JPH08183776A - Surface-protecting agent of metal and production using the same - Google Patents
Surface-protecting agent of metal and production using the sameInfo
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- JPH08183776A JPH08183776A JP6340935A JP34093594A JPH08183776A JP H08183776 A JPH08183776 A JP H08183776A JP 6340935 A JP6340935 A JP 6340935A JP 34093594 A JP34093594 A JP 34093594A JP H08183776 A JPH08183776 A JP H08183776A
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/282—Applying non-metallic protective coatings for inhibiting the corrosion of the circuit, e.g. for preserving the solderability
Landscapes
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、金属表面に化成被膜を
形成する水溶性保護剤に関するものであり、特にプリン
ト配線板における金属表面の防錆性、耐熱性、耐湿性、
耐薬品性に優れた化成被膜を形成する保護剤として好適
なものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a water-soluble protective agent for forming a chemical conversion film on a metal surface, and particularly to a metal surface of a printed wiring board having rust-preventing property, heat resistance and moisture resistance.
It is suitable as a protective agent for forming a chemical conversion film having excellent chemical resistance.
【0002】[0002]
【従来の技術】プリント配線板の金属表面に化成被膜を
形成する表面処理方法としては、アルキルイミダゾール
系プリフラックス、5−メチルベンズイミダゾール系プ
リフラックス、2−メルカプトベンズイミダゾール系プ
リフラックス、2−アルキルベンズイミダゾール系プリ
フラックス、2−フェニルイミダゾール系プリフラック
ス、2−フェニルアルキルベンズイミダゾール系プリフ
ラックス、2−アルキルフェニルベンズイミダゾール系
プリフラックスを用いる処理方法が公報に記載されてい
る。2. Description of the Related Art As a surface treatment method for forming a chemical conversion film on a metal surface of a printed wiring board, alkylimidazole preflux, 5-methylbenzimidazole preflux, 2-mercaptobenzimidazole preflux, 2-alkyl are used. The publication describes a treatment method using a benzimidazole-based preflux, a 2-phenylimidazole-based preflux, a 2-phenylalkylbenzimidazole-based preflux, and a 2-alkylphenylbenzimidazole-based preflux.
【0003】[0003]
【発明が解決しょうとする課題】近年プリント配線板に
電子部品をはんだ付けする方法として表面実装法が多く
採用されている。この表面実装法、電子部品の仮止め低
融点クリームはんだのリフロー等、プリント配線板が高
温に曝される機会が多くなり、プリント配線板のはんだ
付け性を保持するために用いられるプリフラックスの耐
熱性、即ちプリント配線板が高温に曝された後での低融
点クリームはんだの濡れ性、拡がり性、はんだ付け性が
優れていることがプリフラックスの性能に要求されるよ
うになった。ところが上記のプリフラックス処理では化
成被膜が高温に曝されるとはんだ付けに支障を生じる欠
点がある。また、使用中や貯蔵中の液の安定性が悪く低
温に成ると水溶液中に結晶物が晶出する欠点があった。
そこで高温に曝された後でもクリームはんだの濡れ性、
はんだ付け性の優れた安定した水溶性プリフラックスの
開発が切望されている。In recent years, the surface mounting method has been widely adopted as a method for soldering electronic components to a printed wiring board. Due to this surface mounting method, reflow of low melting point cream solder for temporary fixing of electronic parts, the printed wiring board is exposed to high temperatures frequently, and the heat resistance of the pre-flux used to maintain the solderability of the printed wiring board. Of the low melting point cream solder after the printed wiring board is exposed to a high temperature, the wettability, spreadability and solderability of the low melting point solder paste are required to be excellent in the performance of the preflux. However, the above-mentioned pre-flux treatment has a drawback that soldering is hindered when the chemical conversion film is exposed to high temperatures. Further, the stability of the liquid during use or storage was poor, and there was a defect that the crystallized product crystallized in the aqueous solution at low temperature.
Therefore, even after being exposed to high temperatures, the wettability of cream solder,
The development of stable water-soluble preflux with excellent solderability has been earnestly desired.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者は、このような
事情に鑑み鋭意検討を重ねた結果、金属表面に、(化
1)〜(化6)で示される化合物を有効成分として含有
する水溶液に接触させることにより、防錆性、耐熱性、
耐湿性、耐薬品性に優れた化成被膜が形成されることを
見い出し、本発明を完遂するに至った。本発明の実施に
おいて用いられる(化1)〜(化6)で示される代表的
な化合物は2−(1−フェニルメチル)−4−フェニル
イミダゾール、2−(1−フェニルメチル)−4−フェ
ニル−5−メチルイミダゾール、2−(1−フェニルメ
チル)−4−ベンジルイミダゾール、2−(1−フェニ
ルメチル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、
2−(1−フェニルメチル)−4−(2,4−ジクロロ
フェニルメチル)イミダゾール、2−(1−フェニルメ
チル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチル)−5
−メチルイミダゾール、2−(1−フェニルメチル)−
4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)イミタゾー
ル、2−(1−フェニルメチル)−4−(3,4−ジク
ロロフェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2−
(1−フェニルメチル)−4−(4−ブロモフェニルメ
チル)イミダゾール、2−(1−フェニルメチル)−4
−(4−ブロモフェニルメチル)−5−メチルイミダゾ
ール、2−(1−トリルメチル)−4−フェニルイミダ
ゾール、2−(1−トリルメチル)−4−フェニル−5
−メチルイミダゾール、2−(1−トリルメチル)−4
−ベンジルイミダゾール、2−(1−トリルメチル)−
4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2−(1−ト
リルメチル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチ
ル)イミダゾール、2−(1−トリルメチル)−4−
(2,4−ジクロロフェニルメチル)−5−メチルイミ
ダゾール、2−(1−トリルメチル)−4−(3,4−
ジクロロフェニルメチル)イミタゾール、2−(1−ト
リルメチル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチ
ル)−5−メチルイミダゾール、2−(1−トリルメチ
ル)−4−(4−ブロモフェニルメチル)イミダゾー
ル、2−(1−トリルメチル)−4−(4−ブロモフェ
ニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2−(2−フ
ェニルエチル)−4−フェニルイミダゾール、2−(2
−フェニルエチル)−4−フェニル−5−メチルイミダ
ゾール、2−(2−フェニルエチル)−4−ベンジルイ
ミダゾール、2−(2−フェニルエチル)−4−ベンジ
ル−5−メチルイミダゾール、2−(2−フェニルエチ
ル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチル)イミタ
ゾール、2−(2−フェニルエチル)−4−(2,4−
ジクロロフェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、
2−(2−フェニルエチル)−4−(3,4−ジクロロ
フェニルメチル)イミダゾール、2−(2−フェニルエ
チル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)−5
−メチルイミダゾール、2−(2−フェニルエチル)−
4−(4−ブロモフェニルメチル)イミダゾール、2−
(2−フェニルエチル)−4−(4−ブロモフェニルメ
チル)−5−メチルイミダゾール、2−(2−トリルエ
チル)−4−フェニルイミダゾール、2−(2−トリル
エチル)−4−フェニル−5−メチルイミダゾール、2
−(2−トリルエチル)−4−ベンジルイミダゾール、
2−(2−トリルエチル)−4−ベンジル−5−メチル
イミダゾール、2−(2−トリルエチル)−4−(2,
4−ジクロロフェニルメチル)イミダゾール、2−(2
−トリルエチル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメ
チル)−5−メチルイミダゾール、2−(2−トリルエ
チル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)イミ
ダゾール、2−(2−トリルエチル)−4−(3,4−
ジクロロフェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、
2−(2−トリルエチル)−4−(4−ブロモフェニル
メチル)イミタゾール、2−(2−トリルエチル)−4
−(4−ブロモフェニルメチル)−5−メチルイミダゾ
ール、2−(1−フェニルエチル)−4−フェニルイミ
ダゾール、2−(1−フェニルエチル)−4−フェニル
−5−メチルイミダゾール、2−(1−フェニルエチ
ル)−4−ベンジルイミダゾール、2−(1−フェニル
エチル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2
−(1−フェニルエチル)−4−(2,4−ジクロロフ
ェニルメチル)イミダゾール、2−(1−フェニルエチ
ル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチル)−5−
メチルイミダゾール、2−(1−フェニルエチル)−4
−(3,4−ジクロロフェニルメチル)イミダゾール、
2−(1−フェニルエチル)−4−(3,4−ジクロロ
フェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2−(1
−フェニルエチル)−4−(4−ブロモフェニルメチ
ル)イミダゾール、2−(1−フェニルエチル)−4−
(4−ブロモフェニルメチル)−5−メチルイミダゾー
ル、2−(1−フェニルプロピル)−4−フェニルイミ
ダゾール、2−(1−フェニルプロピル)−4−フェニ
ル−5−メチルイミタゾール、2−(1−フェニルプロ
ピル)−4−ベンジルイミダゾール、2−(1−フェニ
ルプロピル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾー
ル、2−(1−フェニルプロピル)−4−(2,4−ジ
クロロフェニルメチル)イミタゾール、2−(1−フェ
ニルプロピル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチ
ル)−5−メチルイミダゾール、2−(1−フェニルプ
ロピル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)イ
ミダゾール、2−(1−フェニルプロピル)−4−
(3,4−ジクロロフェニルメチル)−5−メチルイミ
ダゾール、2−(1−フェニルプロピル)−4−(4−
ブロモフェニルメチル)イミダゾール、2−(1−フェ
ニルプロピル)−4−(4−ブロモフェニルメチル)−
5−メチルイミダゾール、2−(2−フェニルプロピ
ル)−4−フェニルイミダゾール、2−(2−フェニル
プロピル)−4−フェニル−5−メチルイミダゾール、
2−(2−フェニルプロピル)−4−ベンジルイミダゾ
ール、2−(2−フェニルプロピル)−4−ベンジル−
5−メチルイミダゾール、2−(2−フェニルプロピ
ル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチル)イミダ
ゾール、2−(2−フェニルプロピル)−4−(2,4
−ジクロロフェニルメチル)−5−メチルイミタゾー
ル、2−(2−フェニルプロピル)−4−(3,4−ジ
クロロフェニルメチル)イミダゾール、2−(2−フェ
ニルプロピル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチ
ル)−5−メチルイミダゾール、2−(2−フェニルプ
ロピル)−4−(4−ブロモフェニルメチル)イミダゾ
ール、2−(2−フェニルプロピル)−4−(4−ブロ
モフェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2−
(3−フェニルプロピル)−4−フェニルイミダゾー
ル、2−(3−フェニルプロピル)−4−フェニル−5
−メチルイミダゾール、2−(3−フェニルプロピル)
−4−ベンジルイミダゾール、2−(3−フェニルプロ
ピル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2−
(3−フェニルプロピル)−4−(2,4−ジクロロフ
ェニルメチル)イミダゾール、2−(3−フェニルプロ
ピル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチル)−5
−メチルイミダゾール、2−(3−フェニルプロピル)
−4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)イミダゾー
ル、2−(3−フェニルプロピル)−4−(3,4−ジ
クロロフェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2
−(3−フェニルプロピル)−4−(4−ブロモフェニ
ルメチル)イミダゾール、2−(3−フェニルプロピ
ル)−4−(4−ブロモフェニルメチル)−5−メチル
イミダゾール、2−(5−フェニルペンチル)−4−フ
ェニルイミダゾール、2−(5−フェニルペンチル)−
4−フェニル−5−メチルイミダゾール、2−(5−フ
ェニルペンチル)−4−ベンジルイミダゾール、2−
(5−フェニルペンチル)−4−ベンジル−5−メチル
イミダゾール、2−(5−フェニルペンチル)−4−
(2,4−ジクロロフェニルメチル)イミダゾール、2
−(5−フェニルペンチル)−4−(2,4−ジクロロ
フェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2−(5
−フェニルペンチル)−4−(3,4−ジクロロフェニ
ルメチル)イミダゾール、2−(5−フェニルペンチ
ル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)−5−
メチルイミダゾール、2−(5−フェニルペンチル)−
4−(4−ブロモフェニルメチル)イミダゾール、2,
(5−フェニルペンチル)−4−(4−ブロモフェニル
メチル)−5−メチルイミダゾール、2−(1−フェニ
ルメチル)−4,5−ジフェニルイミダゾール、2−
(1−フェニルメチル)−4,5−ジベンジルイミダゾ
ール、2−(1−フェニルメチル)−4,5−ジ(2,
4−ジクロロフェニル)イミダゾール、2−(1−フェ
ニルメチル)−4,5−ジ(2,4−ジクロロフェニル
メチル)イミダゾール、2−(1−フェニルメチル)−
4,5−ジ(2,4−ジブロモフェニル)イミダゾー
ル、2−(1−フェニルメチル)−4,5−ジ(2,4
−ジブロモフェニルメチル)イミダゾール、2−(1−
フェニルメチル)−4,5−ジ(3,4−ジクロロフェ
ニル)イミダゾール、2−(1−フェニルメチル)4,
5−ジ(3,4−ジクロロフェニルメチル)イミダゾー
ル、2−(1−フェニルメチル)−4,5−(3,4−
ジブロモフェニル)イミダゾール、2−(1−フェニル
メチル)4,5−ジ(3,4−ジブロモフェニルメチ
ル)イミダゾール、2−(2−フェニルエチル)−4−
フェニルイミダゾール、2−(2−フェニルエチル)−
4−フェニル−5−メチルイミダゾール、2−(2−フ
ェニルエチル)−4−ベンジルイミダゾール、2−(2
−フェニルエチル)−4−ベンジル−5−メチルイミダ
ゾール、2−(2−フェニルエチル)−4−(2,4−
ジクロロフェニルメチル)イミダゾール、2−(2−フ
ェニルエチル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチ
ル)−5−メチルイミダゾール、2−(2−フェニルエ
チル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)−5
−メチルイミダゾール、2−(2−フェニルエチル)−
4−(4−ブロモフェニルメチル)イミダゾール、2−
(2−フェニルエチル)−4−(4−ブロモフェニルメ
チルイミダゾール、2−ナフチル−4−フェニルイミダ
ゾール、2−ナフチル−4−フェニル−5−メチルイミ
ダゾール、2−(1−ナフチルメチル)−4−フェニル
−5−ベンズイミダゾール、2−(1−ナフチルメチ
ル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2−
(2−ナフチルエチル)−4−フェニル−5−メチルイ
ミダゾール、2−(2−ナフチルエチル)−4−ベンジ
ル−5−メチルイミダゾール、2−(3−ナフチルプロ
ピル)−4−フェニル−5−メチルイミダゾール、2−
(3−ナフチルプロピル)−4−ベンジル−5−メチル
イミダゾール、2−(4−ナフチルブチル)−4−フェ
ニル−5−メチルイミダゾール、2−(4−ナフチルブ
チル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2−
(5−ナフチルペンチル)−4−フェニル−5−メチル
イミダゾール、2−(5−ナフチルペンチル)−4−ベ
ンジル−5−メチルイミダゾール、2−(1−ナフチル
メチル)−4,5−ジベンジルイミダゾール、2−(1
−フェノキシメチル)−4−フェニルイミダゾール、2
−(1−フェノキシメチル)−4,フェニル−5−メチ
ルイミダゾール、2−(1−フェノキシメチル)−4−
ベンジルイミダゾール、2−(1−フェノキシメチル)
−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2−(1−
フェノキシメチル)−4−(2,4−ジクロロフェニル
メチル)イミダゾール、2−(1−フェノキシメチル)
−4−(2,4−ジクロロフェニルメチル)−5−メチ
ルイミダゾール、2−(1−フェノキシメチル)−4−
(3,4−ジクロロフェニルメチル)イミダゾール、2
−(1−フェノキシメチル)−4−(3,4−ジクロロ
フェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2−(1
−フェノキシメチル)−4−(4−ブロモフェニルメチ
ル)イミダゾール、2−(1−フェノキシメチル)−4
−(4−ブロモフェニルメチル)−5−メチルイミダゾ
ール、2−(1−フェノキシエチル)−4−フェニルイ
ミダゾール、2−(1−フェノキシエチル)−4−フェ
ニル−5−メチルイミダゾール、2−(1−フェノキシ
エチル)−4−ベンジルイミダゾール、2−(1−フェ
ノキシエチル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾー
ル、2−(1−フェノキシエチル)−4−(2,4−ジ
クロロフェニルメチル)イミダゾール、2−(1−フェ
ノキシエチル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチ
ル)−5−メチルイミダゾール、2−(1−フェノキシ
エチル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチルイミ
ダゾール、2−(1−フェノキシエチル)−4−(3,
4−ジクロロフェニルメチル)−5−メチルイミダゾー
ル、2−(1−フェノキシエチル)−4−(4−ブロモ
フェニルメチル)イミダゾール、2−(1−フェノキシ
エチル)−4−(4−ブロモフェニルメチル)−5−メ
チルイミダゾール、2−(2−フェノキシエチル)−4
−フェニルイミダゾール、2−(2−フェノキシエチ
ル)−4−フェニル−5−メチルイミダゾール、2−
(2−フェノキシエチル)−4−ベンジルイミダゾー
ル、2−(2−フェノキシエチル)−4−ベンジル−5
−メチルイミダゾール、2−(2−フェノキシエチル)
−4−(2,4−ジクロロフェニルメチル)イミダゾー
ル、2−(2−フェノキシエチル)−4−(2,4−ジ
クロロフェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2
−(2−フェノキシエチル)−4−(3,4−ジクロロ
フェニルメチル)イミダゾール、2−(2−フェノキシ
エチル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)−
5−メチルイミダゾール、2−(2−フェノキシエチ
ル)−4−(4−ブロモフェニルメチル)イミダゾー
ル、2−(2−フェノキシエチル)−4−(4−ブロモ
フェニルメチル)−5−メチルイミダゾール、2−(1
−フェノキシプロピル)−4−フェニルイミダゾール、
2−(1−フェノキシプロピル)−4−フェニル−5−
メチルイミダゾール、2−(1−フェノキシプロピル)
−4−ベンジルイミダゾール、2−(1−フェノキシプ
ロピル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2
−(1−フェノキシプロピル)−4−(2,4−ジクロ
ロフェニルメチル)イミダゾール、2−(1−フェノキ
シプロピル)−4−(2,4−ジクロロフェニルメチ
ル)−5−メチルイミダゾール、2−(1−フェノキシ
プロピル)−4−(3,4−ジクロロフェニルメチル)
イミダゾール、2−(1−フェノキシプロピル)−4−
(3,4−ジクロロフェニルメチル)−5−メチルイミ
ダゾール、2−(1−フェノキシプロピル)−4−(4
−ブロモフェニルメチル)イミダゾール、2−(1−フ
ェノキシプロピル)−4−(4−ブロモフェニルメチ
ル)−5−メチルイミダゾール、2−(2−メトキシフ
ェニル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2
−(2−エトキシフェニル)−4−ベンジル−5−メチ
ルイミダゾール、2−(4−ブトキシフェニル)−4−
ベンジル−5−メチルイミダゾール、2−(2−メトキ
シフェニルメチル)−4−ベンジル−5−メチルイミダ
ゾール、2−(4−エトキシフェニルメチル)−4−ベ
ンジル−5−メチルイミダゾール、2−[2−(2−メ
トキシフェニル)エチル]−4−ベンジル−5−メチル
イミダゾール、2−[3−(4−メトキシフェニル)プ
ロピル]−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール 2
−(2,4−ジメトキシフェニル)−4−ベンジル−5
−メチルイミダゾール、2−(3,4−ジエトキシフェ
ニル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2−
(4−クロロフェノキシメチル)−4−ベンジル−5−
メチルイミダゾール、2−[3−(2−メチル−4−ク
ロロフェノキシ)エチル]−4−ベンジル−5−メチル
イミダゾール、2−(2,4−ジクロロフェノキシメチ
ル)−4−ベンジル−5−メチルイミダゾール、2−
(2−メトキシ−4−クロロフェニル)−4−ベンジル
−5−メチルイミダゾール、2−(1−フェノキシメチ
ル)−4,5−ジベンジルイミダゾール等である。本発
明の(化1)〜(化6)で示される化合物は、用途には
特に限定はないが、金属表面保護剤のほか、エポキシ樹
脂の硬化剤、染色助剤、有機合成中間体等に有用であ
る。本発明の(化1)〜(化6)で示される化合物を金
属の表面保護剤として用いる場合には、(化1)〜(化
6)で示される化合物を可溶化または乳化させるために
用いられる有機酸としては、酢酸、ヨード酢酸、ブロモ
酢酸、ジメチル酢酸、ジエチル酢酸、α−ブロモ酢酸、
クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、パラニトロ安息香酸、パラ
トルエンスルホン酸、ピクリン酸、蓚酸、蟻酸、コハク
酸、マレイン酸、アクリル酸、フマール酸、酒石酸、リ
ンゴ酸、アジピン酸、乳酸、オレイン酸、クエン酸、メ
タスルホン酸、スルファミン酸等であり、無機酸として
は、塩酸、硫酸、亜りん酸、燐酸等である。ハロゲン化
芳香族カルボン酸としては、3−ブロモ−4メチル安息
香酸、4−(ブロモメチル)フェニル酢酸、α−ブロモ
フェニル酢酸、α−ブロモテトラデカン酸、2−ブロモ
フェニル酢酸、3−ブロモフェニル酢酸、4−ブロモフ
ェニル酢酸等である。ハロゲン化脂肪酸としては、ブロ
モ酢酸、3−ブロモ−2−(ブロモメチル)プロピオン
酸、2−ブロモブタン酸、4−ブロモブタン酸、2−ブ
ロモヘキサデカン酸、2−ブロモヘキサン酸、2−ブロ
モ−3−メチルブタン酸、2−ブロモ−2−メチルプロ
ピオン酸、2−ブロモオクタン酸、8−ブロモオクタン
酸、2−ブロモプロピオン酸、3−ブロモプロピオン
酸、2−ブロモペンタン酸、5−ブロモペンタン酸、ク
ロロ酢酸、クロロ酪酸、クロロプロピオン酸等である。
金属イオンとしては、リチウム、ベリリウム、カリウ
ム、マグネシウム、酢酸亜鉛、蟻酸亜鉛、乳酸亜鉛、ク
エン酸亜鉛、安息香酸亜鉛、蓚酸亜鉛、水酸化亜鉛、臭
化亜鉛、リン酸亜鉛、酸化亜鉛、塩化亜鉛、酢酸鉛、水
酸化鉛、臭化鉛、ヨウ化鉛、蓚酸鉛、ほう酸鉛、塩化第
一鉄、塩化第二鉄、臭化第一銅、臭化第二銅、ヨウ化第
一銅、蟻酸銅、塩化ニッケル、酢酸ニッケル、塩化第一
銅、塩化第二銅、酸化第一銅、酸化第二銅、水酸化銅、
リン酸銅、炭酸銅、酢酸銅、硫酸銅等の金属化合物であ
る。上記のいずれかの群から選ばれた少なくとも1種と
(化1)〜(化6)で示される化合物を1種類または2
種類以上を混合した水溶液として用いる。なお処理液に
は、アンモニア水あるいはアミン類等の緩衝作用を有す
る物質を添加することは、水溶液のPHの安定性を高め
るばかりでなく被膜形成速度を速めるために有効であ
る。また、従来から表面処理剤等に使用されている種々
の添加剤を、必要に応じて添加しても良い。本発明の実
施においては、(化1)〜(化6)で示される化合物及
び有機酸、金属化合物、ハロゲン化芳香族カルボン酸、
ハロゲン化脂肪酸の溶解が困難となる場合には、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノー
ル、アセトン等の水溶性溶媒を夫々単独に用いることが
できる他、任意の割合で混合して使用することも可能で
ある。また、界面活性剤、乳化分散剤を添加することも
有効である。本発明方法の実施において使用される(化
1)〜(化6)で示される化合物及び有機酸、金属化合
物を含む水溶液に、接触させることによって、化成被膜
の防錆性、耐熱性、耐薬品性、はんだ濡れ性、はんだ広
がり性がさらに高めることが出来る。また、化成被膜を
形成させたのち、熱可塑性樹脂を塗布することにより耐
熱性を向上させることも可能である。本発明の金属表面
保護剤により防錆性化成被膜、耐薬品性化成被膜を金属
表面に施すには、金属と処理液とを接触させる。接触さ
せる方法としては浸漬、噴霧、塗布による方法を用い
る。接触させる処理液の温度は、0〜100℃の温度範
囲で浸漬時間は数秒〜数十分の処理が適当である。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies in view of such circumstances, the present inventor has found that the metal surface contains the compounds represented by (Chemical Formula 1) to (Chemical Formula 6) as an active ingredient. Corrosion resistance, heat resistance,
It was found that a chemical conversion film having excellent moisture resistance and chemical resistance was formed, and the present invention was completed. Typical compounds represented by (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) used in the practice of the present invention are 2- (1-phenylmethyl) -4-phenylimidazole and 2- (1-phenylmethyl) -4-phenyl. -5-methylimidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4-benzylimidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole,
2- (1-phenylmethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5
-Methylimidazole, 2- (1-phenylmethyl)-
4- (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2-
(1-Phenylmethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4
-(4-Bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-tolylmethyl) -4-phenylimidazole, 2- (1-tolylmethyl) -4-phenyl-5
-Methylimidazole, 2- (1-tolylmethyl) -4
-Benzylimidazole, 2- (1-tolylmethyl)-
4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (1-tolylmethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-tolylmethyl) -4-
(2,4-Dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-tolylmethyl) -4- (3,4-
Dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-tolylmethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-tolylmethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (1-Tolylmethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (2-phenylethyl) -4-phenylimidazole, 2- (2
-Phenylethyl) -4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (2-phenylethyl) -4-benzylimidazole, 2- (2-phenylethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (2 -Phenylethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenylethyl) -4- (2,4-
Dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole,
2- (2-phenylethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenylethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) -5
-Methylimidazole, 2- (2-phenylethyl)-
4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2-
(2-Phenylethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (2-tolylethyl) -4-phenylimidazole, 2- (2-tolylethyl) -4-phenyl-5-methyl Imidazole, 2
-(2-tolylethyl) -4-benzylimidazole,
2- (2-tolylethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (2-tolylethyl) -4- (2,2
4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2
-Tolylethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (2-tolylethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2-tolylethyl) -4- (3,4-
Dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole,
2- (2-tolylethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (2-tolylethyl) -4
-(4-Bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenylethyl) -4-phenylimidazole, 2- (1-phenylethyl) -4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (1 -Phenylethyl) -4-benzylimidazole, 2- (1-phenylethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2
-(1-Phenylethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-
Methylimidazole, 2- (1-phenylethyl) -4
-(3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole,
2- (1-phenylethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1
-Phenylethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylethyl) -4-
(4-Bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenylpropyl) -4-phenylimidazole, 2- (1-phenylpropyl) -4-phenyl-5-methylimidazole, 2- ( 1-phenylpropyl) -4-benzylimidazole, 2- (1-phenylpropyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (1-phenylpropyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylpropyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenylpropyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1 -Phenylpropyl) -4-
(3,4-Dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenylpropyl) -4- (4-
Bromophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylpropyl) -4- (4-bromophenylmethyl)-
5-methylimidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4-phenylimidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4-phenyl-5-methylimidazole,
2- (2-phenylpropyl) -4-benzylimidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4-benzyl-
5-methylimidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4- (2,4
-Dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4- (3,4-dichlorophenyl) Methyl) -5-methylimidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenylpropyl) -4- (4-bromophenylmethyl) -5-methyl Imidazole, 2-
(3-phenylpropyl) -4-phenylimidazole, 2- (3-phenylpropyl) -4-phenyl-5
-Methylimidazole, 2- (3-phenylpropyl)
-4-Benzylimidazole, 2- (3-phenylpropyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2-
(3-phenylpropyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (3-phenylpropyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5
-Methylimidazole, 2- (3-phenylpropyl)
-4- (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (3-phenylpropyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2
-(3-phenylpropyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (3-phenylpropyl) -4- (4-bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (5-phenylpentyl) ) -4-Phenylimidazole, 2- (5-phenylpentyl)-
4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (5-phenylpentyl) -4-benzylimidazole, 2-
(5-phenylpentyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (5-phenylpentyl) -4-
(2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2
-(5-phenylpentyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (5
-Phenylpentyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (5-phenylpentyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) -5-
Methylimidazole, 2- (5-phenylpentyl)-
4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2,
(5-Phenylpentyl) -4- (4-bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4,5-diphenylimidazole, 2-
(1-phenylmethyl) -4,5-dibenzylimidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4,5-di (2,2
4-dichlorophenyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4,5-di (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl)-
4,5-di (2,4-dibromophenyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4,5-di (2,4)
-Dibromophenylmethyl) imidazole, 2- (1-
Phenylmethyl) -4,5-di (3,4-dichlorophenyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl) 4,
5-di (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl) -4,5- (3,4-
Dibromophenyl) imidazole, 2- (1-phenylmethyl) 4,5-di (3,4-dibromophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenylethyl) -4-
Phenylimidazole, 2- (2-phenylethyl)-
4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (2-phenylethyl) -4-benzylimidazole, 2- (2
-Phenylethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (2-phenylethyl) -4- (2,4-
Dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenylethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (2-phenylethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl)- 5
-Methylimidazole, 2- (2-phenylethyl)-
4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2-
(2-Phenylethyl) -4- (4-bromophenylmethylimidazole, 2-naphthyl-4-phenylimidazole, 2-naphthyl-4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (1-naphthylmethyl) -4- Phenyl-5-benzimidazole, 2- (1-naphthylmethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2-
(2-naphthylethyl) -4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (2-naphthylethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (3-naphthylpropyl) -4-phenyl-5-methyl Imidazole, 2-
(3-naphthylpropyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (4-naphthylbutyl) -4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (4-naphthylbutyl) -4-benzyl-5-methyl Imidazole, 2-
(5-naphthylpentyl) -4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (5-naphthylpentyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (1-naphthylmethyl) -4,5-dibenzylimidazole , 2- (1
-Phenoxymethyl) -4-phenylimidazole, 2
-(1-phenoxymethyl) -4, phenyl-5-methylimidazole, 2- (1-phenoxymethyl) -4-
Benzylimidazole, 2- (1-phenoxymethyl)
-4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (1-
Phenoxymethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenoxymethyl)
-4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenoxymethyl) -4-
(3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2
-(1-phenoxymethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1
-Phenoxymethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenoxymethyl) -4
-(4-Bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenoxyethyl) -4-phenylimidazole, 2- (1-phenoxyethyl) -4-phenyl-5-methylimidazole, 2- (1 -Phenoxyethyl) -4-benzylimidazole, 2- (1-phenoxyethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (1-phenoxyethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2 -(1-phenoxyethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenoxyethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethylimidazole, 2- (1-phenoxy) Ethyl) -4- (3,
4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenoxyethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenoxyethyl) -4- (4-bromophenylmethyl)- 5-methylimidazole, 2- (2-phenoxyethyl) -4
-Phenylimidazole, 2- (2-phenoxyethyl) -4-phenyl-5-methylimidazole, 2-
(2-phenoxyethyl) -4-benzylimidazole, 2- (2-phenoxyethyl) -4-benzyl-5
-Methylimidazole, 2- (2-phenoxyethyl)
-4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenoxyethyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2
-(2-phenoxyethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenoxyethyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl)-
5-methylimidazole, 2- (2-phenoxyethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) imidazole, 2- (2-phenoxyethyl) -4- (4-bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2 -(1
-Phenoxypropyl) -4-phenylimidazole,
2- (1-phenoxypropyl) -4-phenyl-5-
Methylimidazole, 2- (1-phenoxypropyl)
-4-Benzylimidazole, 2- (1-phenoxypropyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2
-(1-phenoxypropyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenoxypropyl) -4- (2,4-dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1- Phenoxypropyl) -4- (3,4-dichlorophenylmethyl)
Imidazole, 2- (1-phenoxypropyl) -4-
(3,4-Dichlorophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (1-phenoxypropyl) -4- (4
-Bromophenylmethyl) imidazole, 2- (1-phenoxypropyl) -4- (4-bromophenylmethyl) -5-methylimidazole, 2- (2-methoxyphenyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2
-(2-Ethoxyphenyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (4-butoxyphenyl) -4-
Benzyl-5-methylimidazole, 2- (2-methoxyphenylmethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (4-ethoxyphenylmethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- [2- (2-Methoxyphenyl) ethyl] -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- [3- (4-methoxyphenyl) propyl] -4-benzyl-5-methylimidazole 2
-(2,4-dimethoxyphenyl) -4-benzyl-5
-Methylimidazole, 2- (3,4-diethoxyphenyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2-
(4-chlorophenoxymethyl) -4-benzyl-5-
Methylimidazole, 2- [3- (2-methyl-4-chlorophenoxy) ethyl] -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (2,4-dichlorophenoxymethyl) -4-benzyl-5-methylimidazole , 2-
(2-methoxy-4-chlorophenyl) -4-benzyl-5-methylimidazole, 2- (1-phenoxymethyl) -4,5-dibenzylimidazole and the like. The compounds represented by (Chemical Formula 1) to (Chemical Formula 6) of the present invention are not particularly limited in use, but in addition to metal surface protective agents, they can be used as epoxy resin curing agents, dyeing assistants, organic synthetic intermediates and the like. It is useful. When the compounds represented by (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) of the present invention are used as a metal surface protective agent, they are used for solubilizing or emulsifying the compounds represented by (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6). Examples of the organic acid used include acetic acid, iodoacetic acid, bromoacetic acid, dimethylacetic acid, diethylacetic acid, α-bromoacetic acid,
Chloroacetic acid, dichloroacetic acid, paranitrobenzoic acid, paratoluenesulfonic acid, picric acid, oxalic acid, formic acid, succinic acid, maleic acid, acrylic acid, fumaric acid, tartaric acid, malic acid, adipic acid, lactic acid, oleic acid, citric acid, Examples thereof include metasulfonic acid and sulfamic acid, and examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphorous acid, phosphoric acid and the like. Examples of the halogenated aromatic carboxylic acid include 3-bromo-4methylbenzoic acid, 4- (bromomethyl) phenylacetic acid, α-bromophenylacetic acid, α-bromotetradecanoic acid, 2-bromophenylacetic acid, 3-bromophenylacetic acid, 4-bromophenylacetic acid and the like. Examples of the halogenated fatty acid include bromoacetic acid, 3-bromo-2- (bromomethyl) propionic acid, 2-bromobutanoic acid, 4-bromobutanoic acid, 2-bromohexadecanoic acid, 2-bromohexanoic acid, 2-bromo-3-methylbutane. Acid, 2-bromo-2-methylpropionic acid, 2-bromooctanoic acid, 8-bromooctanoic acid, 2-bromopropionic acid, 3-bromopropionic acid, 2-bromopentanoic acid, 5-bromopentanoic acid, chloroacetic acid , Chlorobutyric acid, chloropropionic acid and the like.
Examples of metal ions include lithium, beryllium, potassium, magnesium, zinc acetate, zinc formate, zinc lactate, zinc citrate, zinc benzoate, zinc oxalate, zinc hydroxide, zinc bromide, zinc phosphate, zinc oxide, zinc chloride. , Lead acetate, lead hydroxide, lead bromide, lead iodide, lead oxalate, lead borate, ferrous chloride, ferric chloride, cuprous bromide, cupric bromide, cuprous iodide, Copper formate, nickel chloride, nickel acetate, cuprous chloride, cupric chloride, cuprous oxide, cupric oxide, copper hydroxide,
Metal compounds such as copper phosphate, copper carbonate, copper acetate, and copper sulfate. At least one selected from any of the above groups and one or two compounds represented by (Chemical Formula 1) to (Chemical Formula 6)
Used as an aqueous solution that is a mixture of more than one type. It should be noted that adding a substance having a buffering action such as aqueous ammonia or amines to the treatment liquid is effective not only for enhancing the stability of PH of the aqueous solution but also for accelerating the film formation rate. In addition, various additives which have been conventionally used as surface treatment agents and the like may be added as necessary. In the practice of the present invention, the compounds represented by (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) and organic acids, metal compounds, halogenated aromatic carboxylic acids,
When it becomes difficult to dissolve the halogenated fatty acid, water-soluble solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, and acetone can be used individually, or they can be mixed and used at any ratio. Is. It is also effective to add a surfactant and an emulsifying dispersant. Corrosion resistance, heat resistance, and chemical resistance of the chemical conversion coating are obtained by contacting with an aqueous solution containing the compounds represented by (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6), an organic acid, and a metal compound used in the method of the present invention. Property, solder wettability, and solder spreadability can be further enhanced. It is also possible to improve the heat resistance by applying a thermoplastic resin after forming the chemical conversion film. In order to apply a rust-preventive chemical conversion coating and a chemical resistance chemical conversion coating to the metal surface with the metal surface protective agent of the present invention, the metal and the treatment liquid are brought into contact with each other. As a method of contacting, a method of dipping, spraying or coating is used. It is suitable that the temperature of the treatment liquid to be brought into contact is in the temperature range of 0 to 100 ° C. and the immersion time is several seconds to several tens of minutes.
【0005】[0005]
【作用】イミダゾール環の2位にアルコキシ基やフェノ
キシ基もしくはアルキレン基が入ることによって、この
化合物の水溶液は非常に結晶が晶出しにくく使用中や貯
蔵中の安定性が著しく改善される。また耐熱性も著しく
改善される。上記した処理方法によれば、金属たとえば
銅、銅合金、はんだ、無電解はんだ、ニッケル、銀、亜
鉛等の表面に有効な、(化1)〜(化6)を主体とする
防錆化成被膜、耐薬品性化成被膜が形成される。これら
の化成被膜は揆水性で耐湿性、耐熱性、耐薬品性にも優
れ金属表面を長期間保護すると共に、低融点クリームは
んだの濡れ性、拡がり性、リフロー後のはんだ上がり
性、濡れ性が良好である。且つ作業環境、安全性の面か
らも優れたプリント配線板の製造ができる。By incorporating an alkoxy group, a phenoxy group or an alkylene group at the 2-position of the imidazole ring, crystals of an aqueous solution of this compound are extremely unlikely to crystallize and the stability during use or storage is significantly improved. Also, the heat resistance is remarkably improved. According to the above-mentioned treatment method, a rust-preventive chemical conversion film mainly composed of (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6), which is effective for surfaces of metals such as copper, copper alloys, solders, electroless solders, nickel, silver and zinc , A chemical resistant conversion coating is formed. These chemical conversion coatings are water-repellent, have excellent moisture resistance, heat resistance, and chemical resistance, and protect the metal surface for a long period of time, as well as the wettability, spreadability, solder rise after reflow, and wettability of low melting point cream solder. It is good. In addition, it is possible to manufacture a printed wiring board excellent in terms of work environment and safety.
【0006】[0006]
【実施例1】表1の記載の(化1)〜(化6)化合物を
0.5wt%、蟻酸、ジエチル酢酸、臭化第二銅、イオ
ン交換水等を含む水溶液にアンモニア水を添加してPH
調整した各種類の水溶液を作り、100ml容器に入
れ、液温を40°Cに加熱した。他方、1cm×5c
m×0.3mmの銅板、1cm×5cm×0.3mm
のニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄し
て、上記(化1)〜(化6)で示される化合物を有効成
分とする各種類の0.5wt%水溶液に60秒間浸漬し
た。その後水洗した後ち、(1)〜の試料片を熱風
乾燥機に入れ250℃で5分間加熱後ポストフラックス
に浸漬しはんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定し
た。(2)〜の試料片を耐湿(MIL−STD−2
02F−M−106D)処理後の試験片をポストフラッ
クスに浸漬してはんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を
測定した。(3)上記(化1)〜(化6)で示される化
合物を有効成分とする各種類の0.5wt%水溶液を5
℃の冷蔵庫に10日間入れて液の安定性を確認した。以
上の試験結果は表1に示した。Example 1 Ammonia water was added to an aqueous solution containing 0.5 wt% of the compounds (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) described in Table 1, formic acid, diethyl acetic acid, cupric bromide, ion-exchanged water and the like. PH
Each kind of adjusted aqueous solution was prepared, put into a 100 ml container, and the liquid temperature was heated to 40 ° C. On the other hand, 1 cm x 5 c
m × 0.3mm copper plate, 1cm × 5cm × 0.3mm
The sample piece of the nickel plate was prepared, and then the surface was washed and immersed for 60 seconds in each type of 0.5 wt% aqueous solution containing the compound represented by the above (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) as an active ingredient. Then, after washing with water, the sample pieces (1) to (1) were placed in a hot air dryer, heated at 250 ° C. for 5 minutes, immersed in post flux, and the wetting time was measured using a solder wettability tester. Moisture resistant (MIL-STD-2
02F-M-106D) The treated test piece was immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. (3) Five kinds of 0.5 wt% aqueous solutions containing the compounds shown in (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) as active ingredients
The stability of the liquid was confirmed by putting it in a refrigerator at 10 ° C for 10 days. The above test results are shown in Table 1.
【表1】 [Table 1]
【0007】[0007]
【実施例2】表1の記載の(化1)〜(化6)化合物を
0.5wt%、蟻酸、ジエチル酢酸、臭化第二銅、イソ
プロピルアルコール、イオン交換水等を含む水溶液にア
ンモニア水を添加してPH調整した各種類の水溶液を作
り、100ml容器に入れ、液温を40°Cに加熱し
た。他方、1cm×5cm×0.3mmの銅板、1
cm×5cm×0.3mmのニッケル板の試料片を準備
し、次いで表面を洗浄して、上記(化1)〜(化6)で
示される化合物を有効成分とする各種類の0.5wt%
水溶液に60秒間浸漬した。その後水洗した後ち、
(1)〜の試料片を熱風乾燥機に入れ250℃で5
分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性試験
機を用いて濡れ時間を測定した。(2)〜の試料片
を耐湿(MIL−STD−202F−M−106D)処
理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはんだ濡れ
性試験機を用いて濡れ時間を測定した。(3)上記(化
1)〜(化4)で示される化合物を有効成分とする各種
類の0.5wt%水溶液を5℃の冷蔵庫に10日間入れ
て液の安定性を確認した。以上の試験以上の試験結果は
表1に示した。Example 2 Aqueous solution containing 0.5 wt% of the compounds (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) described in Table 1, formic acid, diethyl acetic acid, cupric bromide, isopropyl alcohol, ion-exchanged water and the like in aqueous ammonia. Was added to prepare each type of aqueous solution having a pH adjusted, which was placed in a 100 ml container and heated to a liquid temperature of 40 ° C. On the other hand, 1 cm x 5 cm x 0.3 mm copper plate, 1
cm × 5 cm × 0.3 mm sample piece of nickel plate was prepared, and then the surface was washed, and 0.5 wt% of each kind containing the compound shown in (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) as an active ingredient.
It was immersed in the aqueous solution for 60 seconds. After washing with water,
Put the sample pieces of (1) to 5 in a hot air dryer at 250 ° C.
After heating for one minute, the sample was immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. The test pieces after the moisture resistance (MIL-STD-202F-M-106D) treatment of the sample pieces of (2) to (4) were immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. (3) Each type of 0.5 wt% aqueous solution containing the compound represented by the above (Chemical Formula 1) to (Chemical Formula 4) as an active ingredient was placed in a refrigerator at 5 ° C. for 10 days to confirm the stability of the liquid. The above test results are shown in Table 1.
【0008】[0008]
【比較例1】2−フェニル−4−ベンジル−5−メチル
イミダゾール0.40wt%、酢酸2.0wt%、酢酸
第二銅0.063wt%および臭化アンモニウム0.0
25wt%を含む水溶液を作り、100ml容器に入
れ、液温を50°Cに加熱した。他方、1cm×5c
m×0.3mmの銅板、1cm×5cm×0.3mm
のニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄し
て、水溶液に60秒間浸漬した。その後水洗した後ち、
(1)〜の試料片を熱風乾燥機に入れ250℃で5
分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性試験
機を用いて濡れ時間を測定した。(2)〜の試料片
を耐湿(MIL−STD−202F−M−106D)処
理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはんだ濡れ
性試験機を用いて濡れ時間を測定した。(3)上記の水
溶液を5℃の冷蔵庫に10日間入れて液の安定性を確認
した。以上の試験結果は表1に示した。Comparative Example 1 2-phenyl-4-benzyl-5-methylimidazole 0.40 wt%, acetic acid 2.0 wt%, cupric acetate 0.063 wt% and ammonium bromide 0.0
An aqueous solution containing 25 wt% was prepared, put in a 100 ml container, and the liquid temperature was heated to 50 ° C. On the other hand, 1 cm x 5 c
m × 0.3mm copper plate, 1cm × 5cm × 0.3mm
Of nickel plate was prepared, then the surface was washed and immersed in the aqueous solution for 60 seconds. After washing with water,
Put the sample pieces of (1) to 5 in a hot air dryer at 250 ° C.
After heating for one minute, the sample was immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. The test pieces after the moisture resistance (MIL-STD-202F-M-106D) treatment of the sample pieces of (2) to (4) were immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. (3) The above aqueous solution was placed in a refrigerator at 5 ° C for 10 days to confirm the stability of the solution. The above test results are shown in Table 1.
【0009】[0009]
【比較例2】2−フェニルイーミダゾール1.0wt
%、酢酸2.0wt%、塩化第二銅0.05wt%およ
び臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、100ml容
器に入れ、液温を50℃に加熱した。他方、1cm×
5cm×0.3mmの銅板、1cm×5cm×0.3
mmのニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄
して、水溶液に60秒間浸漬した。その後水洗した後
ち、(1)〜の試料片を熱風乾燥機に入れ250℃
で5分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性
試験機を用いて濡れ時間を測定した。(2)〜の試
料片を耐湿(MIL−STD−202F−M−106
D)処理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはん
だ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。(3)上
記の水溶液を5℃の冷蔵庫に10日間入れて液の安定性
を確認した。以上の試験結果は表1に示した。Comparative Example 2 2-phenyl imidazole 1.0 wt
%, Acetic acid 2.0 wt%, cupric chloride 0.05 wt% and ammonium bromide were prepared and put in a 100 ml container and heated to 50 ° C. On the other hand, 1 cm x
5 cm x 0.3 mm copper plate, 1 cm x 5 cm x 0.3
A sample piece of a mm nickel plate was prepared, and then the surface was washed and immersed in the aqueous solution for 60 seconds. Then, after washing with water, the sample pieces of (1) to
After being heated for 5 minutes, the sample was immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. Moisture resistance (MIL-STD-202F-M-106
D) The treated test piece was dipped in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. (3) The above aqueous solution was placed in a refrigerator at 5 ° C for 10 days to confirm the stability of the solution. The above test results are shown in Table 1.
【0010】[0010]
【比較例3】2−フェニル−ベンズイミダゾール1.0
wt%、酢酸2.5wt%、塩化第二銅0.05wt%
および臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、100m
l容器に入れ、液温を50℃に加熱した。他方、1c
m×5cm×0.3mmの銅板、1cm×5cm×
0.3mmのニッケル板の試料片を準備し、次いで表面
を洗浄して、水溶液に60秒間浸漬した。その後水洗し
た後ち、(1)〜の試料片を熱風乾燥機に入れ25
0℃で5分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡
れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。(2)〜
の試料片を耐湿(MIL−STD−202F−M−10
6D)処理後の試験片をポストフラックスに浸漬しては
んだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。(3)
上記の水溶液を5℃の冷蔵庫に10日間入れて液の安定
性を確認した。以上の試験結果は表1に示した。Comparative Example 3 2-Phenyl-benzimidazole 1.0
wt%, acetic acid 2.5 wt%, cupric chloride 0.05 wt%
And make an aqueous solution containing ammonium bromide, 100m
The solution was heated to 50 ° C. in a 1-liter container. On the other hand, 1c
mx 5 cm x 0.3 mm copper plate, 1 cm x 5 cm x
A sample piece of a 0.3 mm nickel plate was prepared, and then the surface was washed and immersed in the aqueous solution for 60 seconds. Then, after washing with water, the sample pieces of (1) to
After heating at 0 ° C. for 5 minutes, it was immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. (2) ~
Moisture resistance (MIL-STD-202F-M-10
6D) The treated test piece was immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. (3)
The above aqueous solution was placed in a refrigerator at 5 ° C. for 10 days to confirm the stability of the solution. The above test results are shown in Table 1.
【0011】[0011]
【比較例4】2−p−ノニルフェニルイミダゾール1.
0wt%、氷酢酸6.0wt%、酢酸第二銅0.05w
t%および臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、10
0ml容器に入れ、液温を50℃に加熱した。他方、
1cm×5cm×0.3mmの銅板、1cm×5cm
×0.3mmのニッケル板の試料片を準備し、次いで表
面を洗浄して、水溶液に60秒間浸漬した。その後水洗
した後ち、(1)〜の試料片を熱風乾燥機に入れ2
50℃で5分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ
濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。(2)〜
の試料片を耐湿(MIL−STD−202F−M−1
06D)処理後の試験片をポストフラックスに浸漬して
はんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。
(3)上記の水溶液を5℃の冷蔵庫に10日間入れて液
の安定性を確認した。以上の試験結果は表1に示した。Comparative Example 4 2-p-nonylphenylimidazole 1.
0wt%, glacial acetic acid 6.0wt%, cupric acetate 0.05w
make an aqueous solution containing t% and ammonium bromide, and
The solution was placed in a 0 ml container and heated to 50 ° C. On the other hand,
1 cm x 5 cm x 0.3 mm copper plate, 1 cm x 5 cm
A sample piece of a nickel plate having a size of 0.3 mm was prepared, and then the surface was washed and immersed in the aqueous solution for 60 seconds. Then, after washing with water, put the sample pieces of (1) to 2 in a hot air dryer.
After heating at 50 ° C. for 5 minutes, it was immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester. (2) ~
Moisture resistant (MIL-STD-202F-M-1
06D) The treated test piece was immersed in post flux and the wetting time was measured using a solder wettability tester.
(3) The above aqueous solution was placed in a refrigerator at 5 ° C for 10 days to confirm the stability of the solution. The above test results are shown in Table 1.
【0012】[0012]
【発明の効果】本発明の化合物を用いた非常に安定な水
溶液に浸漬処理することにより金属表面に、防錆性、耐
湿性、耐熱性、耐薬品性に優れた化成被膜が形成し長期
間保護すると共に、低融点クリームはんだの濡れ性、拡
がり性、また、リフロー後のはんだ上がり性、濡れ性が
良好で、且つ作業環境、安全性の面からも優れたプリン
ト配線板の表面実装に特に顕著な効果を発揮しうるもの
である。The compound of the present invention is soaked in a very stable aqueous solution to form a chemical conversion coating film having excellent rust resistance, moisture resistance, heat resistance and chemical resistance on the metal surface for a long period of time. Especially for surface mounting of a printed wiring board that is not only protected, but also has good wettability and spreadability of low melting point cream solder, solderability after reflow, good wettability, and excellent work environment and safety. It is possible to exert a remarkable effect.
Claims (5)
有効成分として含有することを特徴とする金属の表面保
護剤。2. A metal surface protective agent comprising the compounds represented by (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) as an active ingredient.
び有機酸、金属化合物を含む水溶液に、接触させること
を特徴とする金属の表面保護剤および使用方法。3. A surface protective agent for metal and a method for using the same, which comprises contacting with an aqueous solution containing the compounds represented by (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6), an organic acid and a metal compound.
処理を行うことを特徴とするプリント配線板の製造方
法。4. A method for producing a printed wiring board, which comprises applying a soldering treatment after applying a metal surface protective agent.
れる金属表面保護剤を塗布後、空気中または窒素雰囲気
中で加熱する赤外線リフロー、近赤外線リフロー、遠赤
外線リフロー、窒素リフロー、ベーパーリフロー処理を
行うことを特徴とするプリント配線板の製造方法。5. An infrared reflow process, a near infrared reflow process, a far infrared reflow process, and nitrogen which are heated in air or a nitrogen atmosphere after applying the metal surface protective agent represented by (Chemical formula 1) to (Chemical formula 6) on the metal surface. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising performing reflow and vapor reflow processing.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340935A JPH08183776A (en) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Surface-protecting agent of metal and production using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340935A JPH08183776A (en) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Surface-protecting agent of metal and production using the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08183776A true JPH08183776A (en) | 1996-07-16 |
Family
ID=18341657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6340935A Pending JPH08183776A (en) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Surface-protecting agent of metal and production using the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08183776A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005121101A1 (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Shikoku Chemicals Corporation | Phenylnaphthylimidazoles for use on copper surfaces during soldering |
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| CN101624374B (en) | 2004-06-10 | 2012-03-21 | 四国化成工业株式会社 | Phenylnaphthylimidazoles for use on copper surfaces during soldering |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP6340935A patent/JPH08183776A/en active Pending
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