JPH08183776A - 金属の表面保護剤ならびにそれを用いた製造方法 - Google Patents
金属の表面保護剤ならびにそれを用いた製造方法Info
- Publication number
- JPH08183776A JPH08183776A JP6340935A JP34093594A JPH08183776A JP H08183776 A JPH08183776 A JP H08183776A JP 6340935 A JP6340935 A JP 6340935A JP 34093594 A JP34093594 A JP 34093594A JP H08183776 A JPH08183776 A JP H08183776A
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- JP
- Japan
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- methylimidazole
- acid
- chemical formula
- dichlorophenylmethyl
- imidazole
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/282—Applying non-metallic protective coatings for inhibiting the corrosion of the circuit, e.g. for preserving the solderability
Landscapes
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 プリント配線板の金属表面に防錆性、耐熱
性、耐湿性、耐薬品性に優れた化成被膜が形成する水溶
液系プリフラックス保護剤を提供する。 【構成】 下記式などで示される化合物、ならびに当該
化合物を有効成分として含有する金属の表面保護剤。 （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５はアルキレン基）を示す。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７は水素、低級アルキル基、ハロ
ゲン原子を示す。ａ、ｂ、ｈは０〜４の整数を示す。
ｃ、ｄは０〜１０の整数を示す。ｅは１〜１０の整数を
示す。ｆ、ｇは０〜１の整数を示す。）
性、耐湿性、耐薬品性に優れた化成被膜が形成する水溶
液系プリフラックス保護剤を提供する。 【構成】 下記式などで示される化合物、ならびに当該
化合物を有効成分として含有する金属の表面保護剤。 （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５はアルキレン基）を示す。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７は水素、低級アルキル基、ハロ
ゲン原子を示す。ａ、ｂ、ｈは０〜４の整数を示す。
ｃ、ｄは０〜１０の整数を示す。ｅは１〜１０の整数を
示す。ｆ、ｇは０〜１の整数を示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属表面に化成被膜を
形成する水溶性保護剤に関するものであり、特にプリン
ト配線板における金属表面の防錆性、耐熱性、耐湿性、
耐薬品性に優れた化成被膜を形成する保護剤として好適
なものである。
形成する水溶性保護剤に関するものであり、特にプリン
ト配線板における金属表面の防錆性、耐熱性、耐湿性、
耐薬品性に優れた化成被膜を形成する保護剤として好適
なものである。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線板の金属表面に化成被膜を
形成する表面処理方法としては、アルキルイミダゾール
系プリフラックス、５−メチルベンズイミダゾール系プ
リフラックス、２−メルカプトベンズイミダゾール系プ
リフラックス、２−アルキルベンズイミダゾール系プリ
フラックス、２−フェニルイミダゾール系プリフラック
ス、２−フェニルアルキルベンズイミダゾール系プリフ
ラックス、２−アルキルフェニルベンズイミダゾール系
プリフラックスを用いる処理方法が公報に記載されてい
る。
形成する表面処理方法としては、アルキルイミダゾール
系プリフラックス、５−メチルベンズイミダゾール系プ
リフラックス、２−メルカプトベンズイミダゾール系プ
リフラックス、２−アルキルベンズイミダゾール系プリ
フラックス、２−フェニルイミダゾール系プリフラック
ス、２−フェニルアルキルベンズイミダゾール系プリフ
ラックス、２−アルキルフェニルベンズイミダゾール系
プリフラックスを用いる処理方法が公報に記載されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しょうとする課題】近年プリント配線板に
電子部品をはんだ付けする方法として表面実装法が多く
採用されている。この表面実装法、電子部品の仮止め低
融点クリームはんだのリフロー等、プリント配線板が高
温に曝される機会が多くなり、プリント配線板のはんだ
付け性を保持するために用いられるプリフラックスの耐
熱性、即ちプリント配線板が高温に曝された後での低融
点クリームはんだの濡れ性、拡がり性、はんだ付け性が
優れていることがプリフラックスの性能に要求されるよ
うになった。ところが上記のプリフラックス処理では化
成被膜が高温に曝されるとはんだ付けに支障を生じる欠
点がある。また、使用中や貯蔵中の液の安定性が悪く低
温に成ると水溶液中に結晶物が晶出する欠点があった。
そこで高温に曝された後でもクリームはんだの濡れ性、
はんだ付け性の優れた安定した水溶性プリフラックスの
開発が切望されている。
電子部品をはんだ付けする方法として表面実装法が多く
採用されている。この表面実装法、電子部品の仮止め低
融点クリームはんだのリフロー等、プリント配線板が高
温に曝される機会が多くなり、プリント配線板のはんだ
付け性を保持するために用いられるプリフラックスの耐
熱性、即ちプリント配線板が高温に曝された後での低融
点クリームはんだの濡れ性、拡がり性、はんだ付け性が
優れていることがプリフラックスの性能に要求されるよ
うになった。ところが上記のプリフラックス処理では化
成被膜が高温に曝されるとはんだ付けに支障を生じる欠
点がある。また、使用中や貯蔵中の液の安定性が悪く低
温に成ると水溶液中に結晶物が晶出する欠点があった。
そこで高温に曝された後でもクリームはんだの濡れ性、
はんだ付け性の優れた安定した水溶性プリフラックスの
開発が切望されている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、このような
事情に鑑み鋭意検討を重ねた結果、金属表面に、（化
１）〜（化６）で示される化合物を有効成分として含有
する水溶液に接触させることにより、防錆性、耐熱性、
耐湿性、耐薬品性に優れた化成被膜が形成されることを
見い出し、本発明を完遂するに至った。本発明の実施に
おいて用いられる（化１）〜（化６）で示される代表的
な化合物は２−（１−フェニルメチル）−４−フェニル
イミダゾール、２−（１−フェニルメチル）−４−フェ
ニル−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェニルメ
チル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェニ
ルメチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、
２−（１−フェニルメチル）−４−（２，４−ジクロロ
フェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェニルメ
チル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５
−メチルイミダゾール、２−（１−フェニルメチル）−
４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミタゾー
ル、２−（１−フェニルメチル）−４−（３，４−ジク
ロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−
（１−フェニルメチル）−４−（４−ブロモフェニルメ
チル）イミダゾール、２−（１−フェニルメチル）−４
−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチルイミダゾ
ール、２−（１−トリルメチル）−４−フェニルイミダ
ゾール、２−（１−トリルメチル）−４−フェニル−５
−メチルイミダゾール、２−（１−トリルメチル）−４
−ベンジルイミダゾール、２−（１−トリルメチル）−
４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−（１−ト
リルメチル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）イミダゾール、２−（１−トリルメチル）−４−
（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミ
ダゾール、２−（１−トリルメチル）−４−（３，４−
ジクロロフェニルメチル）イミタゾール、２−（１−ト
リルメチル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−トリルメチ
ル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（１−トリルメチル）−４−（４−ブロモフェ
ニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−フ
ェニルエチル）−４−フェニルイミダゾール、２−（２
−フェニルエチル）−４−フェニル−５−メチルイミダ
ゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−ベンジルイ
ミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−ベンジ
ル−５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルエチ
ル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）イミタ
ゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−（２，４−
ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−フェニルエチル）−４−（３，４−ジクロロ
フェニルメチル）イミダゾール、２−（２−フェニルエ
チル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５
−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−
４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−
（２−フェニルエチル）−４−（４−ブロモフェニルメ
チル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−トリルエ
チル）−４−フェニルイミダゾール、２−（２−トリル
エチル）−４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２
−（２−トリルエチル）−４−ベンジルイミダゾール、
２−（２−トリルエチル）−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−（２−トリルエチル）−４−（２，
４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、２−（２
−トリルエチル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメ
チル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−トリルエ
チル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミ
ダゾール、２−（２−トリルエチル）−４−（３，４−
ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−トリルエチル）−４−（４−ブロモフェニル
メチル）イミタゾール、２−（２−トリルエチル）−４
−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチルイミダゾ
ール、２−（１−フェニルエチル）−４−フェニルイミ
ダゾール、２−（１−フェニルエチル）−４−フェニル
−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェニルエチ
ル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェニル
エチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２
−（１−フェニルエチル）−４−（２，４−ジクロロフ
ェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェニルエチ
ル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５−
メチルイミダゾール、２−（１−フェニルエチル）−４
−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、
２−（１−フェニルエチル）−４−（３，４−ジクロロ
フェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（１
−フェニルエチル）−４−（４−ブロモフェニルメチ
ル）イミダゾール、２−（１−フェニルエチル）−４−
（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチルイミダゾー
ル、２−（１−フェニルプロピル）−４−フェニルイミ
ダゾール、２−（１−フェニルプロピル）−４−フェニ
ル−５−メチルイミタゾール、２−（１−フェニルプロ
ピル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェニ
ルプロピル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾー
ル、２−（１−フェニルプロピル）−４−（２，４−ジ
クロロフェニルメチル）イミタゾール、２−（１−フェ
ニルプロピル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェニルプ
ロピル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イ
ミダゾール、２−（１−フェニルプロピル）−４−
（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミ
ダゾール、２−（１−フェニルプロピル）−４−（４−
ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェ
ニルプロピル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）−
５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルプロピ
ル）−４−フェニルイミダゾール、２−（２−フェニル
プロピル）−４−フェニル−５−メチルイミダゾール、
２−（２−フェニルプロピル）−４−ベンジルイミダゾ
ール、２−（２−フェニルプロピル）−４−ベンジル−
５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルプロピ
ル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）イミダ
ゾール、２−（２−フェニルプロピル）−４−（２，４
−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミタゾー
ル、２−（２−フェニルプロピル）−４−（３，４−ジ
クロロフェニルメチル）イミダゾール、２−（２−フェ
ニルプロピル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルプ
ロピル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾ
ール、２−（２−フェニルプロピル）−４−（４−ブロ
モフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−
（３−フェニルプロピル）−４−フェニルイミダゾー
ル、２−（３−フェニルプロピル）−４−フェニル−５
−メチルイミダゾール、２−（３−フェニルプロピル）
−４−ベンジルイミダゾール、２−（３−フェニルプロ
ピル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（３−フェニルプロピル）−４−（２，４−ジクロロフ
ェニルメチル）イミダゾール、２−（３−フェニルプロ
ピル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５
−メチルイミダゾール、２−（３−フェニルプロピル）
−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（３−フェニルプロピル）−４−（３，４−ジ
クロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２
−（３−フェニルプロピル）−４−（４−ブロモフェニ
ルメチル）イミダゾール、２−（３−フェニルプロピ
ル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチル
イミダゾール、２−（５−フェニルペンチル）−４−フ
ェニルイミダゾール、２−（５−フェニルペンチル）−
４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２−（５−フ
ェニルペンチル）−４−ベンジルイミダゾール、２−
（５−フェニルペンチル）−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−（５−フェニルペンチル）−４−
（２，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、２
−（５−フェニルペンチル）−４−（２，４−ジクロロ
フェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（５
−フェニルペンチル）−４−（３，４−ジクロロフェニ
ルメチル）イミダゾール、２−（５−フェニルペンチ
ル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５−
メチルイミダゾール、２−（５−フェニルペンチル）−
４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２，
（５−フェニルペンチル）−４−（４−ブロモフェニル
メチル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェニ
ルメチル）−４，５−ジフェニルイミダゾール、２−
（１−フェニルメチル）−４，５−ジベンジルイミダゾ
ール、２−（１−フェニルメチル）−４，５−ジ（２，
４−ジクロロフェニル）イミダゾール、２−（１−フェ
ニルメチル）−４，５−ジ（２，４−ジクロロフェニル
メチル）イミダゾール、２−（１−フェニルメチル）−
４，５−ジ（２，４−ジブロモフェニル）イミダゾー
ル、２−（１−フェニルメチル）−４，５−ジ（２，４
−ジブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−
フェニルメチル）−４，５−ジ（３，４−ジクロロフェ
ニル）イミダゾール、２−（１−フェニルメチル）４，
５−ジ（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（１−フェニルメチル）−４，５−（３，４−
ジブロモフェニル）イミダゾール、２−（１−フェニル
メチル）４，５−ジ（３，４−ジブロモフェニルメチ
ル）イミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−
フェニルイミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−
４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２−（２−フ
ェニルエチル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（２
−フェニルエチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダ
ゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−（２，４−
ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、２−（２−フ
ェニルエチル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルエ
チル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５
−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−
４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−
（２−フェニルエチル）−４−（４−ブロモフェニルメ
チルイミダゾール、２−ナフチル−４−フェニルイミダ
ゾール、２−ナフチル−４−フェニル−５−メチルイミ
ダゾール、２−（１−ナフチルメチル）−４−フェニル
−５−ベンズイミダゾール、２−（１−ナフチルメチ
ル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（２−ナフチルエチル）−４−フェニル−５−メチルイ
ミダゾール、２−（２−ナフチルエチル）−４−ベンジ
ル−５−メチルイミダゾール、２−（３−ナフチルプロ
ピル）−４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２−
（３−ナフチルプロピル）−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−（４−ナフチルブチル）−４−フェ
ニル−５−メチルイミダゾール、２−（４−ナフチルブ
チル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（５−ナフチルペンチル）−４−フェニル−５−メチル
イミダゾール、２−（５−ナフチルペンチル）−４−ベ
ンジル−５−メチルイミダゾール、２−（１−ナフチル
メチル）−４，５−ジベンジルイミダゾール、２−（１
−フェノキシメチル）−４−フェニルイミダゾール、２
−（１−フェノキシメチル）−４，フェニル−５−メチ
ルイミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）−４−
ベンジルイミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）
−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−（１−
フェノキシメチル）−４−（２，４−ジクロロフェニル
メチル）イミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）
−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチ
ルイミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）−４−
（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、２
−（１−フェノキシメチル）−４−（３，４−ジクロロ
フェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（１
−フェノキシメチル）−４−（４−ブロモフェニルメチ
ル）イミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）−４
−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチルイミダゾ
ール、２−（１−フェノキシエチル）−４−フェニルイ
ミダゾール、２−（１−フェノキシエチル）−４−フェ
ニル−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシ
エチル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェ
ノキシエチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾー
ル、２−（１−フェノキシエチル）−４−（２，４−ジ
クロロフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェ
ノキシエチル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシ
エチル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチルイミ
ダゾール、２−（１−フェノキシエチル）−４−（３，
４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾー
ル、２−（１−フェノキシエチル）−４−（４−ブロモ
フェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェノキシ
エチル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メ
チルイミダゾール、２−（２−フェノキシエチル）−４
−フェニルイミダゾール、２−（２−フェノキシエチ
ル）−４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２−
（２−フェノキシエチル）−４−ベンジルイミダゾー
ル、２−（２−フェノキシエチル）−４−ベンジル−５
−メチルイミダゾール、２−（２−フェノキシエチル）
−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（２−フェノキシエチル）−４−（２，４−ジ
クロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２
−（２−フェノキシエチル）−４−（３，４−ジクロロ
フェニルメチル）イミダゾール、２−（２−フェノキシ
エチル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）−
５−メチルイミダゾール、２−（２−フェノキシエチ
ル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（２−フェノキシエチル）−４−（４−ブロモ
フェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（１
−フェノキシプロピル）−４−フェニルイミダゾール、
２−（１−フェノキシプロピル）−４−フェニル−５−
メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシプロピル）
−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェノキシプ
ロピル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２
−（１−フェノキシプロピル）−４−（２，４−ジクロ
ロフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェノキ
シプロピル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシ
プロピル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）
イミダゾール、２−（１−フェノキシプロピル）−４−
（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミ
ダゾール、２−（１−フェノキシプロピル）−４−（４
−ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フ
ェノキシプロピル）−４−（４−ブロモフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−メトキシフ
ェニル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２
−（２−エトキシフェニル）−４−ベンジル−５−メチ
ルイミダゾール、２−（４−ブトキシフェニル）−４−
ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−（２−メトキ
シフェニルメチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダ
ゾール、２−（４−エトキシフェニルメチル）−４−ベ
ンジル−５−メチルイミダゾール、２−［２−（２−メ
トキシフェニル）エチル］−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−［３−（４−メトキシフェニル）プ
ロピル］−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール ２
−（２，４−ジメトキシフェニル）−４−ベンジル−５
−メチルイミダゾール、２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（４−クロロフェノキシメチル）−４−ベンジル−５−
メチルイミダゾール、２−［３−（２−メチル−４−ク
ロロフェノキシ）エチル］−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−（２，４−ジクロロフェノキシメチ
ル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（２−メトキシ−４−クロロフェニル）−４−ベンジル
−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシメチ
ル）−４，５−ジベンジルイミダゾール等である。本発
明の（化１）〜（化６）で示される化合物は、用途には
特に限定はないが、金属表面保護剤のほか、エポキシ樹
脂の硬化剤、染色助剤、有機合成中間体等に有用であ
る。本発明の（化１）〜（化６）で示される化合物を金
属の表面保護剤として用いる場合には、（化１）〜（化
６）で示される化合物を可溶化または乳化させるために
用いられる有機酸としては、酢酸、ヨード酢酸、ブロモ
酢酸、ジメチル酢酸、ジエチル酢酸、α−ブロモ酢酸、
クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、パラニトロ安息香酸、パラ
トルエンスルホン酸、ピクリン酸、蓚酸、蟻酸、コハク
酸、マレイン酸、アクリル酸、フマール酸、酒石酸、リ
ンゴ酸、アジピン酸、乳酸、オレイン酸、クエン酸、メ
タスルホン酸、スルファミン酸等であり、無機酸として
は、塩酸、硫酸、亜りん酸、燐酸等である。ハロゲン化
芳香族カルボン酸としては、３−ブロモ−４メチル安息
香酸、４−（ブロモメチル）フェニル酢酸、α−ブロモ
フェニル酢酸、α−ブロモテトラデカン酸、２−ブロモ
フェニル酢酸、３−ブロモフェニル酢酸、４−ブロモフ
ェニル酢酸等である。ハロゲン化脂肪酸としては、ブロ
モ酢酸、３−ブロモ−２−（ブロモメチル）プロピオン
酸、２−ブロモブタン酸、４−ブロモブタン酸、２−ブ
ロモヘキサデカン酸、２−ブロモヘキサン酸、２−ブロ
モ−３−メチルブタン酸、２−ブロモ−２−メチルプロ
ピオン酸、２−ブロモオクタン酸、８−ブロモオクタン
酸、２−ブロモプロピオン酸、３−ブロモプロピオン
酸、２−ブロモペンタン酸、５−ブロモペンタン酸、ク
ロロ酢酸、クロロ酪酸、クロロプロピオン酸等である。
金属イオンとしては、リチウム、ベリリウム、カリウ
ム、マグネシウム、酢酸亜鉛、蟻酸亜鉛、乳酸亜鉛、ク
エン酸亜鉛、安息香酸亜鉛、蓚酸亜鉛、水酸化亜鉛、臭
化亜鉛、リン酸亜鉛、酸化亜鉛、塩化亜鉛、酢酸鉛、水
酸化鉛、臭化鉛、ヨウ化鉛、蓚酸鉛、ほう酸鉛、塩化第
一鉄、塩化第二鉄、臭化第一銅、臭化第二銅、ヨウ化第
一銅、蟻酸銅、塩化ニッケル、酢酸ニッケル、塩化第一
銅、塩化第二銅、酸化第一銅、酸化第二銅、水酸化銅、
リン酸銅、炭酸銅、酢酸銅、硫酸銅等の金属化合物であ
る。上記のいずれかの群から選ばれた少なくとも１種と
（化１）〜（化６）で示される化合物を１種類または２
種類以上を混合した水溶液として用いる。なお処理液に
は、アンモニア水あるいはアミン類等の緩衝作用を有す
る物質を添加することは、水溶液のＰＨの安定性を高め
るばかりでなく被膜形成速度を速めるために有効であ
る。また、従来から表面処理剤等に使用されている種々
の添加剤を、必要に応じて添加しても良い。本発明の実
施においては、（化１）〜（化６）で示される化合物及
び有機酸、金属化合物、ハロゲン化芳香族カルボン酸、
ハロゲン化脂肪酸の溶解が困難となる場合には、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノー
ル、アセトン等の水溶性溶媒を夫々単独に用いることが
できる他、任意の割合で混合して使用することも可能で
ある。また、界面活性剤、乳化分散剤を添加することも
有効である。本発明方法の実施において使用される（化
１）〜（化６）で示される化合物及び有機酸、金属化合
物を含む水溶液に、接触させることによって、化成被膜
の防錆性、耐熱性、耐薬品性、はんだ濡れ性、はんだ広
がり性がさらに高めることが出来る。また、化成被膜を
形成させたのち、熱可塑性樹脂を塗布することにより耐
熱性を向上させることも可能である。本発明の金属表面
保護剤により防錆性化成被膜、耐薬品性化成被膜を金属
表面に施すには、金属と処理液とを接触させる。接触さ
せる方法としては浸漬、噴霧、塗布による方法を用い
る。接触させる処理液の温度は、０〜１００℃の温度範
囲で浸漬時間は数秒〜数十分の処理が適当である。
事情に鑑み鋭意検討を重ねた結果、金属表面に、（化
１）〜（化６）で示される化合物を有効成分として含有
する水溶液に接触させることにより、防錆性、耐熱性、
耐湿性、耐薬品性に優れた化成被膜が形成されることを
見い出し、本発明を完遂するに至った。本発明の実施に
おいて用いられる（化１）〜（化６）で示される代表的
な化合物は２−（１−フェニルメチル）−４−フェニル
イミダゾール、２−（１−フェニルメチル）−４−フェ
ニル−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェニルメ
チル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェニ
ルメチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、
２−（１−フェニルメチル）−４−（２，４−ジクロロ
フェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェニルメ
チル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５
−メチルイミダゾール、２−（１−フェニルメチル）−
４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミタゾー
ル、２−（１−フェニルメチル）−４−（３，４−ジク
ロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−
（１−フェニルメチル）−４−（４−ブロモフェニルメ
チル）イミダゾール、２−（１−フェニルメチル）−４
−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチルイミダゾ
ール、２−（１−トリルメチル）−４−フェニルイミダ
ゾール、２−（１−トリルメチル）−４−フェニル−５
−メチルイミダゾール、２−（１−トリルメチル）−４
−ベンジルイミダゾール、２−（１−トリルメチル）−
４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−（１−ト
リルメチル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）イミダゾール、２−（１−トリルメチル）−４−
（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミ
ダゾール、２−（１−トリルメチル）−４−（３，４−
ジクロロフェニルメチル）イミタゾール、２−（１−ト
リルメチル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−トリルメチ
ル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（１−トリルメチル）−４−（４−ブロモフェ
ニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−フ
ェニルエチル）−４−フェニルイミダゾール、２−（２
−フェニルエチル）−４−フェニル−５−メチルイミダ
ゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−ベンジルイ
ミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−ベンジ
ル−５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルエチ
ル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）イミタ
ゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−（２，４−
ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−フェニルエチル）−４−（３，４−ジクロロ
フェニルメチル）イミダゾール、２−（２−フェニルエ
チル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５
−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−
４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−
（２−フェニルエチル）−４−（４−ブロモフェニルメ
チル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−トリルエ
チル）−４−フェニルイミダゾール、２−（２−トリル
エチル）−４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２
−（２−トリルエチル）−４−ベンジルイミダゾール、
２−（２−トリルエチル）−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−（２−トリルエチル）−４−（２，
４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、２−（２
−トリルエチル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメ
チル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−トリルエ
チル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミ
ダゾール、２−（２−トリルエチル）−４−（３，４−
ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、
２−（２−トリルエチル）−４−（４−ブロモフェニル
メチル）イミタゾール、２−（２−トリルエチル）−４
−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチルイミダゾ
ール、２−（１−フェニルエチル）−４−フェニルイミ
ダゾール、２−（１−フェニルエチル）−４−フェニル
−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェニルエチ
ル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェニル
エチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２
−（１−フェニルエチル）−４−（２，４−ジクロロフ
ェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェニルエチ
ル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５−
メチルイミダゾール、２−（１−フェニルエチル）−４
−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、
２−（１−フェニルエチル）−４−（３，４−ジクロロ
フェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（１
−フェニルエチル）−４−（４−ブロモフェニルメチ
ル）イミダゾール、２−（１−フェニルエチル）−４−
（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチルイミダゾー
ル、２−（１−フェニルプロピル）−４−フェニルイミ
ダゾール、２−（１−フェニルプロピル）−４−フェニ
ル−５−メチルイミタゾール、２−（１−フェニルプロ
ピル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェニ
ルプロピル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾー
ル、２−（１−フェニルプロピル）−４−（２，４−ジ
クロロフェニルメチル）イミタゾール、２−（１−フェ
ニルプロピル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェニルプ
ロピル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イ
ミダゾール、２−（１−フェニルプロピル）−４−
（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミ
ダゾール、２−（１−フェニルプロピル）−４−（４−
ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェ
ニルプロピル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）−
５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルプロピ
ル）−４−フェニルイミダゾール、２−（２−フェニル
プロピル）−４−フェニル−５−メチルイミダゾール、
２−（２−フェニルプロピル）−４−ベンジルイミダゾ
ール、２−（２−フェニルプロピル）−４−ベンジル−
５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルプロピ
ル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）イミダ
ゾール、２−（２−フェニルプロピル）−４−（２，４
−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミタゾー
ル、２−（２−フェニルプロピル）−４−（３，４−ジ
クロロフェニルメチル）イミダゾール、２−（２−フェ
ニルプロピル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルプ
ロピル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾ
ール、２−（２−フェニルプロピル）−４−（４−ブロ
モフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−
（３−フェニルプロピル）−４−フェニルイミダゾー
ル、２−（３−フェニルプロピル）−４−フェニル−５
−メチルイミダゾール、２−（３−フェニルプロピル）
−４−ベンジルイミダゾール、２−（３−フェニルプロ
ピル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（３−フェニルプロピル）−４−（２，４−ジクロロフ
ェニルメチル）イミダゾール、２−（３−フェニルプロ
ピル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５
−メチルイミダゾール、２−（３−フェニルプロピル）
−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（３−フェニルプロピル）−４−（３，４−ジ
クロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２
−（３−フェニルプロピル）−４−（４−ブロモフェニ
ルメチル）イミダゾール、２−（３−フェニルプロピ
ル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチル
イミダゾール、２−（５−フェニルペンチル）−４−フ
ェニルイミダゾール、２−（５−フェニルペンチル）−
４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２−（５−フ
ェニルペンチル）−４−ベンジルイミダゾール、２−
（５−フェニルペンチル）−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−（５−フェニルペンチル）−４−
（２，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、２
−（５−フェニルペンチル）−４−（２，４−ジクロロ
フェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（５
−フェニルペンチル）−４−（３，４−ジクロロフェニ
ルメチル）イミダゾール、２−（５−フェニルペンチ
ル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５−
メチルイミダゾール、２−（５−フェニルペンチル）−
４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２，
（５−フェニルペンチル）−４−（４−ブロモフェニル
メチル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェニ
ルメチル）−４，５−ジフェニルイミダゾール、２−
（１−フェニルメチル）−４，５−ジベンジルイミダゾ
ール、２−（１−フェニルメチル）−４，５−ジ（２，
４−ジクロロフェニル）イミダゾール、２−（１−フェ
ニルメチル）−４，５−ジ（２，４−ジクロロフェニル
メチル）イミダゾール、２−（１−フェニルメチル）−
４，５−ジ（２，４−ジブロモフェニル）イミダゾー
ル、２−（１−フェニルメチル）−４，５−ジ（２，４
−ジブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−
フェニルメチル）−４，５−ジ（３，４−ジクロロフェ
ニル）イミダゾール、２−（１−フェニルメチル）４，
５−ジ（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（１−フェニルメチル）−４，５−（３，４−
ジブロモフェニル）イミダゾール、２−（１−フェニル
メチル）４，５−ジ（３，４−ジブロモフェニルメチ
ル）イミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−
フェニルイミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−
４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２−（２−フ
ェニルエチル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（２
−フェニルエチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダ
ゾール、２−（２−フェニルエチル）−４−（２，４−
ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、２−（２−フ
ェニルエチル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルエ
チル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５
−メチルイミダゾール、２−（２−フェニルエチル）−
４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−
（２−フェニルエチル）−４−（４−ブロモフェニルメ
チルイミダゾール、２−ナフチル−４−フェニルイミダ
ゾール、２−ナフチル−４−フェニル−５−メチルイミ
ダゾール、２−（１−ナフチルメチル）−４−フェニル
−５−ベンズイミダゾール、２−（１−ナフチルメチ
ル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（２−ナフチルエチル）−４−フェニル−５−メチルイ
ミダゾール、２−（２−ナフチルエチル）−４−ベンジ
ル−５−メチルイミダゾール、２−（３−ナフチルプロ
ピル）−４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２−
（３−ナフチルプロピル）−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−（４−ナフチルブチル）−４−フェ
ニル−５−メチルイミダゾール、２−（４−ナフチルブ
チル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（５−ナフチルペンチル）−４−フェニル−５−メチル
イミダゾール、２−（５−ナフチルペンチル）−４−ベ
ンジル−５−メチルイミダゾール、２−（１−ナフチル
メチル）−４，５−ジベンジルイミダゾール、２−（１
−フェノキシメチル）−４−フェニルイミダゾール、２
−（１−フェノキシメチル）−４，フェニル−５−メチ
ルイミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）−４−
ベンジルイミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）
−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−（１−
フェノキシメチル）−４−（２，４−ジクロロフェニル
メチル）イミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）
−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチ
ルイミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）−４−
（３，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾール、２
−（１−フェノキシメチル）−４−（３，４−ジクロロ
フェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（１
−フェノキシメチル）−４−（４−ブロモフェニルメチ
ル）イミダゾール、２−（１−フェノキシメチル）−４
−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メチルイミダゾ
ール、２−（１−フェノキシエチル）−４−フェニルイ
ミダゾール、２−（１−フェノキシエチル）−４−フェ
ニル−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシ
エチル）−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェ
ノキシエチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾー
ル、２−（１−フェノキシエチル）−４−（２，４−ジ
クロロフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェ
ノキシエチル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシ
エチル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチルイミ
ダゾール、２−（１−フェノキシエチル）−４−（３，
４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾー
ル、２−（１−フェノキシエチル）−４−（４−ブロモ
フェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェノキシ
エチル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）−５−メ
チルイミダゾール、２−（２−フェノキシエチル）−４
−フェニルイミダゾール、２−（２−フェノキシエチ
ル）−４−フェニル−５−メチルイミダゾール、２−
（２−フェノキシエチル）−４−ベンジルイミダゾー
ル、２−（２−フェノキシエチル）−４−ベンジル−５
−メチルイミダゾール、２−（２−フェノキシエチル）
−４−（２，４−ジクロロフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（２−フェノキシエチル）−４−（２，４−ジ
クロロフェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２
−（２−フェノキシエチル）−４−（３，４−ジクロロ
フェニルメチル）イミダゾール、２−（２−フェノキシ
エチル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）−
５−メチルイミダゾール、２−（２−フェノキシエチ
ル）−４−（４−ブロモフェニルメチル）イミダゾー
ル、２−（２−フェノキシエチル）−４−（４−ブロモ
フェニルメチル）−５−メチルイミダゾール、２−（１
−フェノキシプロピル）−４−フェニルイミダゾール、
２−（１−フェノキシプロピル）−４−フェニル−５−
メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシプロピル）
−４−ベンジルイミダゾール、２−（１−フェノキシプ
ロピル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２
−（１−フェノキシプロピル）−４−（２，４−ジクロ
ロフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フェノキ
シプロピル）−４−（２，４−ジクロロフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシ
プロピル）−４−（３，４−ジクロロフェニルメチル）
イミダゾール、２−（１−フェノキシプロピル）−４−
（３，４−ジクロロフェニルメチル）−５−メチルイミ
ダゾール、２−（１−フェノキシプロピル）−４−（４
−ブロモフェニルメチル）イミダゾール、２−（１−フ
ェノキシプロピル）−４−（４−ブロモフェニルメチ
ル）−５−メチルイミダゾール、２−（２−メトキシフ
ェニル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２
−（２−エトキシフェニル）−４−ベンジル−５−メチ
ルイミダゾール、２−（４−ブトキシフェニル）−４−
ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−（２−メトキ
シフェニルメチル）−４−ベンジル−５−メチルイミダ
ゾール、２−（４−エトキシフェニルメチル）−４−ベ
ンジル−５−メチルイミダゾール、２−［２−（２−メ
トキシフェニル）エチル］−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−［３−（４−メトキシフェニル）プ
ロピル］−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール ２
−（２，４−ジメトキシフェニル）−４−ベンジル−５
−メチルイミダゾール、２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（４−クロロフェノキシメチル）−４−ベンジル−５−
メチルイミダゾール、２−［３−（２−メチル−４−ク
ロロフェノキシ）エチル］−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール、２−（２，４−ジクロロフェノキシメチ
ル）−４−ベンジル−５−メチルイミダゾール、２−
（２−メトキシ−４−クロロフェニル）−４−ベンジル
−５−メチルイミダゾール、２−（１−フェノキシメチ
ル）−４，５−ジベンジルイミダゾール等である。本発
明の（化１）〜（化６）で示される化合物は、用途には
特に限定はないが、金属表面保護剤のほか、エポキシ樹
脂の硬化剤、染色助剤、有機合成中間体等に有用であ
る。本発明の（化１）〜（化６）で示される化合物を金
属の表面保護剤として用いる場合には、（化１）〜（化
６）で示される化合物を可溶化または乳化させるために
用いられる有機酸としては、酢酸、ヨード酢酸、ブロモ
酢酸、ジメチル酢酸、ジエチル酢酸、α−ブロモ酢酸、
クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、パラニトロ安息香酸、パラ
トルエンスルホン酸、ピクリン酸、蓚酸、蟻酸、コハク
酸、マレイン酸、アクリル酸、フマール酸、酒石酸、リ
ンゴ酸、アジピン酸、乳酸、オレイン酸、クエン酸、メ
タスルホン酸、スルファミン酸等であり、無機酸として
は、塩酸、硫酸、亜りん酸、燐酸等である。ハロゲン化
芳香族カルボン酸としては、３−ブロモ−４メチル安息
香酸、４−（ブロモメチル）フェニル酢酸、α−ブロモ
フェニル酢酸、α−ブロモテトラデカン酸、２−ブロモ
フェニル酢酸、３−ブロモフェニル酢酸、４−ブロモフ
ェニル酢酸等である。ハロゲン化脂肪酸としては、ブロ
モ酢酸、３−ブロモ−２−（ブロモメチル）プロピオン
酸、２−ブロモブタン酸、４−ブロモブタン酸、２−ブ
ロモヘキサデカン酸、２−ブロモヘキサン酸、２−ブロ
モ−３−メチルブタン酸、２−ブロモ−２−メチルプロ
ピオン酸、２−ブロモオクタン酸、８−ブロモオクタン
酸、２−ブロモプロピオン酸、３−ブロモプロピオン
酸、２−ブロモペンタン酸、５−ブロモペンタン酸、ク
ロロ酢酸、クロロ酪酸、クロロプロピオン酸等である。
金属イオンとしては、リチウム、ベリリウム、カリウ
ム、マグネシウム、酢酸亜鉛、蟻酸亜鉛、乳酸亜鉛、ク
エン酸亜鉛、安息香酸亜鉛、蓚酸亜鉛、水酸化亜鉛、臭
化亜鉛、リン酸亜鉛、酸化亜鉛、塩化亜鉛、酢酸鉛、水
酸化鉛、臭化鉛、ヨウ化鉛、蓚酸鉛、ほう酸鉛、塩化第
一鉄、塩化第二鉄、臭化第一銅、臭化第二銅、ヨウ化第
一銅、蟻酸銅、塩化ニッケル、酢酸ニッケル、塩化第一
銅、塩化第二銅、酸化第一銅、酸化第二銅、水酸化銅、
リン酸銅、炭酸銅、酢酸銅、硫酸銅等の金属化合物であ
る。上記のいずれかの群から選ばれた少なくとも１種と
（化１）〜（化６）で示される化合物を１種類または２
種類以上を混合した水溶液として用いる。なお処理液に
は、アンモニア水あるいはアミン類等の緩衝作用を有す
る物質を添加することは、水溶液のＰＨの安定性を高め
るばかりでなく被膜形成速度を速めるために有効であ
る。また、従来から表面処理剤等に使用されている種々
の添加剤を、必要に応じて添加しても良い。本発明の実
施においては、（化１）〜（化６）で示される化合物及
び有機酸、金属化合物、ハロゲン化芳香族カルボン酸、
ハロゲン化脂肪酸の溶解が困難となる場合には、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノー
ル、アセトン等の水溶性溶媒を夫々単独に用いることが
できる他、任意の割合で混合して使用することも可能で
ある。また、界面活性剤、乳化分散剤を添加することも
有効である。本発明方法の実施において使用される（化
１）〜（化６）で示される化合物及び有機酸、金属化合
物を含む水溶液に、接触させることによって、化成被膜
の防錆性、耐熱性、耐薬品性、はんだ濡れ性、はんだ広
がり性がさらに高めることが出来る。また、化成被膜を
形成させたのち、熱可塑性樹脂を塗布することにより耐
熱性を向上させることも可能である。本発明の金属表面
保護剤により防錆性化成被膜、耐薬品性化成被膜を金属
表面に施すには、金属と処理液とを接触させる。接触さ
せる方法としては浸漬、噴霧、塗布による方法を用い
る。接触させる処理液の温度は、０〜１００℃の温度範
囲で浸漬時間は数秒〜数十分の処理が適当である。
【０００５】
【作用】イミダゾール環の２位にアルコキシ基やフェノ
キシ基もしくはアルキレン基が入ることによって、この
化合物の水溶液は非常に結晶が晶出しにくく使用中や貯
蔵中の安定性が著しく改善される。また耐熱性も著しく
改善される。上記した処理方法によれば、金属たとえば
銅、銅合金、はんだ、無電解はんだ、ニッケル、銀、亜
鉛等の表面に有効な、（化１）〜（化６）を主体とする
防錆化成被膜、耐薬品性化成被膜が形成される。これら
の化成被膜は揆水性で耐湿性、耐熱性、耐薬品性にも優
れ金属表面を長期間保護すると共に、低融点クリームは
んだの濡れ性、拡がり性、リフロー後のはんだ上がり
性、濡れ性が良好である。且つ作業環境、安全性の面か
らも優れたプリント配線板の製造ができる。
キシ基もしくはアルキレン基が入ることによって、この
化合物の水溶液は非常に結晶が晶出しにくく使用中や貯
蔵中の安定性が著しく改善される。また耐熱性も著しく
改善される。上記した処理方法によれば、金属たとえば
銅、銅合金、はんだ、無電解はんだ、ニッケル、銀、亜
鉛等の表面に有効な、（化１）〜（化６）を主体とする
防錆化成被膜、耐薬品性化成被膜が形成される。これら
の化成被膜は揆水性で耐湿性、耐熱性、耐薬品性にも優
れ金属表面を長期間保護すると共に、低融点クリームは
んだの濡れ性、拡がり性、リフロー後のはんだ上がり
性、濡れ性が良好である。且つ作業環境、安全性の面か
らも優れたプリント配線板の製造ができる。
【０００６】
【実施例１】表１の記載の（化１）〜（化６）化合物を
０．５ｗｔ％、蟻酸、ジエチル酢酸、臭化第二銅、イオ
ン交換水等を含む水溶液にアンモニア水を添加してＰＨ
調整した各種類の水溶液を作り、１００ｍｌ容器に入
れ、液温を４０°Ｃに加熱した。他方、１ｃｍ×５ｃ
ｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍ
のニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄し
て、上記（化１）〜（化６）で示される化合物を有効成
分とする各種類の０．５ｗｔ％水溶液に６０秒間浸漬し
た。その後水洗した後ち、（１）〜の試料片を熱風
乾燥機に入れ２５０℃で５分間加熱後ポストフラックス
に浸漬しはんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定し
た。（２）〜の試料片を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２
０２Ｆ−Ｍ−１０６Ｄ）処理後の試験片をポストフラッ
クスに浸漬してはんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を
測定した。（３）上記（化１）〜（化６）で示される化
合物を有効成分とする各種類の０．５ｗｔ％水溶液を５
℃の冷蔵庫に１０日間入れて液の安定性を確認した。以
上の試験結果は表１に示した。
０．５ｗｔ％、蟻酸、ジエチル酢酸、臭化第二銅、イオ
ン交換水等を含む水溶液にアンモニア水を添加してＰＨ
調整した各種類の水溶液を作り、１００ｍｌ容器に入
れ、液温を４０°Ｃに加熱した。他方、１ｃｍ×５ｃ
ｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍ
のニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄し
て、上記（化１）〜（化６）で示される化合物を有効成
分とする各種類の０．５ｗｔ％水溶液に６０秒間浸漬し
た。その後水洗した後ち、（１）〜の試料片を熱風
乾燥機に入れ２５０℃で５分間加熱後ポストフラックス
に浸漬しはんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定し
た。（２）〜の試料片を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２
０２Ｆ−Ｍ−１０６Ｄ）処理後の試験片をポストフラッ
クスに浸漬してはんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を
測定した。（３）上記（化１）〜（化６）で示される化
合物を有効成分とする各種類の０．５ｗｔ％水溶液を５
℃の冷蔵庫に１０日間入れて液の安定性を確認した。以
上の試験結果は表１に示した。
【表１】
【０００７】
【実施例２】表１の記載の（化１）〜（化６）化合物を
０．５ｗｔ％、蟻酸、ジエチル酢酸、臭化第二銅、イソ
プロピルアルコール、イオン交換水等を含む水溶液にア
ンモニア水を添加してＰＨ調整した各種類の水溶液を作
り、１００ｍｌ容器に入れ、液温を４０°Ｃに加熱し
た。他方、１ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍの銅板、１
ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍのニッケル板の試料片を準備
し、次いで表面を洗浄して、上記（化１）〜（化６）で
示される化合物を有効成分とする各種類の０．５ｗｔ％
水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗した後ち、
（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２５０℃で５
分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性試験
機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜の試料片
を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１０６Ｄ）処
理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはんだ濡れ
性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（３）上記（化
１）〜（化４）で示される化合物を有効成分とする各種
類の０．５ｗｔ％水溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れ
て液の安定性を確認した。以上の試験以上の試験結果は
表１に示した。
０．５ｗｔ％、蟻酸、ジエチル酢酸、臭化第二銅、イソ
プロピルアルコール、イオン交換水等を含む水溶液にア
ンモニア水を添加してＰＨ調整した各種類の水溶液を作
り、１００ｍｌ容器に入れ、液温を４０°Ｃに加熱し
た。他方、１ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍの銅板、１
ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍのニッケル板の試料片を準備
し、次いで表面を洗浄して、上記（化１）〜（化６）で
示される化合物を有効成分とする各種類の０．５ｗｔ％
水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗した後ち、
（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２５０℃で５
分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性試験
機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜の試料片
を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１０６Ｄ）処
理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはんだ濡れ
性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（３）上記（化
１）〜（化４）で示される化合物を有効成分とする各種
類の０．５ｗｔ％水溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れ
て液の安定性を確認した。以上の試験以上の試験結果は
表１に示した。
【０００８】
【比較例１】２−フェニル−４−ベンジル−５−メチル
イミダゾール０．４０ｗｔ％、酢酸２．０ｗｔ％、酢酸
第二銅０．０６３ｗｔ％および臭化アンモニウム０．０
２５ｗｔ％を含む水溶液を作り、１００ｍｌ容器に入
れ、液温を５０°Ｃに加熱した。他方、１ｃｍ×５ｃ
ｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍ
のニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄し
て、水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗した後ち、
（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２５０℃で５
分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性試験
機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜の試料片
を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１０６Ｄ）処
理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはんだ濡れ
性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（３）上記の水
溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れて液の安定性を確認
した。以上の試験結果は表１に示した。
イミダゾール０．４０ｗｔ％、酢酸２．０ｗｔ％、酢酸
第二銅０．０６３ｗｔ％および臭化アンモニウム０．０
２５ｗｔ％を含む水溶液を作り、１００ｍｌ容器に入
れ、液温を５０°Ｃに加熱した。他方、１ｃｍ×５ｃ
ｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍ
のニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄し
て、水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗した後ち、
（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２５０℃で５
分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性試験
機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜の試料片
を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１０６Ｄ）処
理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはんだ濡れ
性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（３）上記の水
溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れて液の安定性を確認
した。以上の試験結果は表１に示した。
【０００９】
【比較例２】２−フェニルイーミダゾール１．０ｗｔ
％、酢酸２．０ｗｔ％、塩化第二銅０．０５ｗｔ％およ
び臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、１００ｍｌ容
器に入れ、液温を５０℃に加熱した。他方、１ｃｍ×
５ｃｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ×０．３
ｍｍのニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄
して、水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗した後
ち、（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２５０℃
で５分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性
試験機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜の試
料片を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１０６
Ｄ）処理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはん
だ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（３）上
記の水溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れて液の安定性
を確認した。以上の試験結果は表１に示した。
％、酢酸２．０ｗｔ％、塩化第二銅０．０５ｗｔ％およ
び臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、１００ｍｌ容
器に入れ、液温を５０℃に加熱した。他方、１ｃｍ×
５ｃｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ×０．３
ｍｍのニッケル板の試料片を準備し、次いで表面を洗浄
して、水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗した後
ち、（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２５０℃
で５分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡れ性
試験機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜の試
料片を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１０６
Ｄ）処理後の試験片をポストフラックスに浸漬してはん
だ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（３）上
記の水溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れて液の安定性
を確認した。以上の試験結果は表１に示した。
【００１０】
【比較例３】２−フェニル−ベンズイミダゾール１．０
ｗｔ％、酢酸２．５ｗｔ％、塩化第二銅０．０５ｗｔ％
および臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、１００ｍ
ｌ容器に入れ、液温を５０℃に加熱した。他方、１ｃ
ｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ×
０．３ｍｍのニッケル板の試料片を準備し、次いで表面
を洗浄して、水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗し
た後ち、（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２５
０℃で５分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡
れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜
の試料片を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１０
６Ｄ）処理後の試験片をポストフラックスに浸漬しては
んだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（３）
上記の水溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れて液の安定
性を確認した。以上の試験結果は表１に示した。
ｗｔ％、酢酸２．５ｗｔ％、塩化第二銅０．０５ｗｔ％
および臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、１００ｍ
ｌ容器に入れ、液温を５０℃に加熱した。他方、１ｃ
ｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ×
０．３ｍｍのニッケル板の試料片を準備し、次いで表面
を洗浄して、水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗し
た後ち、（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２５
０℃で５分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ濡
れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜
の試料片を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１０
６Ｄ）処理後の試験片をポストフラックスに浸漬しては
んだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（３）
上記の水溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れて液の安定
性を確認した。以上の試験結果は表１に示した。
【００１１】
【比較例４】２−ｐ−ノニルフェニルイミダゾール１．
０ｗｔ％、氷酢酸６．０ｗｔ％、酢酸第二銅０．０５ｗ
ｔ％および臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、１０
０ｍｌ容器に入れ、液温を５０℃に加熱した。他方、
１ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ
×０．３ｍｍのニッケル板の試料片を準備し、次いで表
面を洗浄して、水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗
した後ち、（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２
５０℃で５分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ
濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜
の試料片を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１
０６Ｄ）処理後の試験片をポストフラックスに浸漬して
はんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。
（３）上記の水溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れて液
の安定性を確認した。以上の試験結果は表１に示した。
０ｗｔ％、氷酢酸６．０ｗｔ％、酢酸第二銅０．０５ｗ
ｔ％および臭化アンモニウムを含む水溶液を作り、１０
０ｍｌ容器に入れ、液温を５０℃に加熱した。他方、
１ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｍｍの銅板、１ｃｍ×５ｃｍ
×０．３ｍｍのニッケル板の試料片を準備し、次いで表
面を洗浄して、水溶液に６０秒間浸漬した。その後水洗
した後ち、（１）〜の試料片を熱風乾燥機に入れ２
５０℃で５分間加熱後ポストフラックスに浸漬しはんだ
濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。（２）〜
の試料片を耐湿（ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０２Ｆ−Ｍ−１
０６Ｄ）処理後の試験片をポストフラックスに浸漬して
はんだ濡れ性試験機を用いて濡れ時間を測定した。
（３）上記の水溶液を５℃の冷蔵庫に１０日間入れて液
の安定性を確認した。以上の試験結果は表１に示した。
【００１２】
【発明の効果】本発明の化合物を用いた非常に安定な水
溶液に浸漬処理することにより金属表面に、防錆性、耐
湿性、耐熱性、耐薬品性に優れた化成被膜が形成し長期
間保護すると共に、低融点クリームはんだの濡れ性、拡
がり性、また、リフロー後のはんだ上がり性、濡れ性が
良好で、且つ作業環境、安全性の面からも優れたプリン
ト配線板の表面実装に特に顕著な効果を発揮しうるもの
である。
溶液に浸漬処理することにより金属表面に、防錆性、耐
湿性、耐熱性、耐薬品性に優れた化成被膜が形成し長期
間保護すると共に、低融点クリームはんだの濡れ性、拡
がり性、また、リフロー後のはんだ上がり性、濡れ性が
良好で、且つ作業環境、安全性の面からも優れたプリン
ト配線板の表面実装に特に顕著な効果を発揮しうるもの
である。
Claims (5)
- 【請求項１】 （化１）〜（化６）で示される化合物 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】
- 【請求項２】 （化１）〜（化６）で示される化合物を
有効成分として含有することを特徴とする金属の表面保
護剤。 - 【請求項３】 （化１）〜（化６）で示される化合物及
び有機酸、金属化合物を含む水溶液に、接触させること
を特徴とする金属の表面保護剤および使用方法。 - 【請求項４】 金属の表面保護剤を塗布後、はんだ付け
処理を行うことを特徴とするプリント配線板の製造方
法。 - 【請求項５】 金属表面に、（化１）〜（化６）で示さ
れる金属表面保護剤を塗布後、空気中または窒素雰囲気
中で加熱する赤外線リフロー、近赤外線リフロー、遠赤
外線リフロー、窒素リフロー、ベーパーリフロー処理を
行うことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340935A JPH08183776A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | 金属の表面保護剤ならびにそれを用いた製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340935A JPH08183776A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | 金属の表面保護剤ならびにそれを用いた製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08183776A true JPH08183776A (ja) | 1996-07-16 |
Family
ID=18341657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6340935A Pending JPH08183776A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | 金属の表面保護剤ならびにそれを用いた製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08183776A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005121101A1 (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Shikoku Chemicals Corporation | Phenylnaphthylimidazoles for use on copper surfaces during soldering |
| US7176220B2 (en) | 2002-11-20 | 2007-02-13 | Japan Tobacco Inc. | 4-oxoquinoline compound and use thereof as pharmaceutical agent |
| WO2010024421A1 (en) * | 2008-08-25 | 2010-03-04 | Shikoku Chemicals Corporation | Surface treating agent for copper or copper alloy and use thereof |
| JP2010059445A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Shikoku Chem Corp | 銅または銅合金の表面処理剤及びその利用 |
| JP2010150651A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-07-08 | Shikoku Chem Corp | 銅または銅合金の表面処理剤及びその利用 |
| CN101624374B (zh) | 2004-06-10 | 2012-03-21 | 四国化成工业株式会社 | 在焊接过程中用于铜表面上的苯基萘基咪唑 |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP6340935A patent/JPH08183776A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7176220B2 (en) | 2002-11-20 | 2007-02-13 | Japan Tobacco Inc. | 4-oxoquinoline compound and use thereof as pharmaceutical agent |
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| US8183386B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-05-22 | Shikoku Chemicals Corporation | Phenylnaphthylimidazole compound and usage of the same |
| US8378116B2 (en) | 2004-06-10 | 2013-02-19 | Shikoku Chemicals Corporation | Phenylnaphthylimidazole compound and usage of the same |
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| KR101540144B1 (ko) * | 2008-08-25 | 2015-07-28 | 시코쿠가세이고교가부시키가이샤 | 구리 또는 구리 합금용 표면 처리제 및 그 용도 |
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| KR101520992B1 (ko) * | 2008-09-01 | 2015-05-19 | 시코쿠가세이고교가부시키가이샤 | 구리 또는 구리 합금용 표면 처리제 및 그 용도 |
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