JPH08185609A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

薄膜磁気ヘッド

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JPH08185609A
JPH08185609A JP6340392A JP34039294A JPH08185609A JP H08185609 A JPH08185609 A JP H08185609A JP 6340392 A JP6340392 A JP 6340392A JP 34039294 A JP34039294 A JP 34039294A JP H08185609 A JPH08185609 A JP H08185609A
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JP
Japan
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magnetic
film
thin film
metal
alloy
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Withdrawn
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JP6340392A
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English (en)
Inventor
Hironari Eguchi
裕也 江口
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 コンター効果の発生を抑止し且つ高出力を得
ることを可能とする薄膜磁気ヘッドを提供する。 【構成】 各磁気コア半体11,12を上記基体1,2
の突き合わせ面1a,2bにそれらの上部から薄膜形成
技術により成膜し、各基体1,2の突き合わせ面1a,
2bに形成された溝部16,17から同様に薄膜形成技
術により巻線が施されて薄膜コイル(図示は省略す
る。)を形成する。そして、突き合わせ面1a,2bに
て上記基体1,2を接合して各金属磁性膜15が対向さ
せて磁気ギャップgを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
や磁気ディスク装置等に好適な磁気ヘッドに関し、特に
コイルを薄膜工程により形成してなる磁気ヘッド及びそ
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ビデオテープレコーダ(VTR)や磁気
ディスク装置等の磁気記録再生装置の磁気ヘッドとして
は、フェライトよりなる磁気コアの磁気ギャップ形成面
に金属磁性膜を成膜した、いわゆるメタル・イン・ギャ
ップ型磁気ヘッドや、一対の非磁性材料よりなる基板で
金属磁性膜を挟み込んだ形の、いわゆるラミネート型磁
気ヘッド等が使用されているが、今後の高画質化、デジ
タル化等に対応するためには、より高周波域で良好な電
磁変換特性を示すことが必要である。
【0003】しかしながら、上記メタル・イン・ギャッ
プ型磁気ヘッドは、インピーダンスが大きく、高周波数
における使用には適さない。
【0004】また、上記ラミネート型磁気ヘッドは、高
密度記録化のためにトラック幅を減少させる場合、磁路
を構成する金属磁性膜の膜厚を減少させる必要があり、
再生効率が低下する。さらに、磁路が金属磁性膜のみで
形成されるため、金属磁性膜の磁気異方性の制御に問題
があり、高い再生効率を得るのが困難である。なぜな
ら、一般に磁気ヘッドの磁気異方性は、磁化容易軸が磁
束の方向に対して常に垂直方向であるのが理想である
が、金属磁性膜の磁化容易軸を磁束の方向に対して常に
垂直方向になるようにすることは難しく、現状では異方
性のない等方(無配向)膜か、異方性があっても一方向
の一軸異方性を持つものしかないからである。
【0005】そこで、一軸異方性を利用して高透磁率を
得る磁気ヘッドとして、薄膜形成技術を用いて上層コ
ア,下層コアが所定の磁気ギャップをもって成膜され、
同様に薄膜形成技術によりスパイラル状の巻線が形成さ
れてなるいわゆる誘導型(インダクティブ型)の薄膜磁
気ヘッドが提案されている。この薄膜磁気ヘッドは主に
ハードディスク等に搭載されるものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記薄
膜磁気ヘッドでは、その磁気記録媒体の摺動面におい
て、上層コア及び/又は下層コアのエッジが磁気ギャッ
プから数μm程度のところに位置し、当該エッジと磁気
ギャップとが略々平行とされる。このエッジの影響によ
り、いわゆるコンター効果が生じて再生時における信号
波形にうねりが発生することになる。この再生時のうね
りは磁気記録装置の種類によって著しく大きくなる場合
があり、コンター効果の防止策の案出が大きな課題とさ
れている現状である。
【0007】そこで本発明は、上述の従来の磁気ヘッド
の有する欠点を解消すべく提案されたものであって、コ
ンター効果の発生を抑止し且つ高出力を得ることを可能
とする薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の対象とするもの
は、突き合わせ面にそれぞれ第1の金属磁性膜が磁気コ
ア半体として成膜された一対の基体を突き合わせ、これ
ら第1の金属磁性膜の対向面間に磁気ギャップを形成し
てなる薄膜磁気ヘッドである。
【0009】本発明の磁気ヘッドは、磁気記録媒体摺動
面に臨む前記第1の金属磁性膜の磁気記録媒体摺動方向
における長さが拡大されていることを特徴とするもので
ある。
【0010】具体的には、非磁性材よりなる第1の基板
の上部に一対の非磁性板にて第2の金属磁性膜を挟持し
てなる第2の基板が接合されて基体とされ、第1の金属
磁性膜が突き合わせ面に成膜された第2の金属磁性膜と
連なって磁気記録媒体摺動面に臨む前記第1の金属磁性
膜の磁気記録媒体摺動方向における長さが拡大されてい
るものが考えられる。このとき、上記磁気コア半体の少
なくとも一方に薄膜コイルを形成する必要があり、また
金属磁性膜と磁気コア半体とを同一の材料から形成する
ことが好ましい。
【0011】この場合、金属磁性膜及び磁気コア半体の
材料としては、それぞれFe−Al−Si系合金,Fe
−Ni系合金,Fe−Al−Ge系合金,Fe−Ga−
Ge系合金,Fe−Si−Ga系合金,Fe−Si−G
e系合金,Fe−Si−Ga−Ru系合金,Fe−Co
−Si−Al系合金,アモルファス合金等のうちの1種
を用いることが望ましい。ここで、上記アモルファス合
金としては、例えばFe,Ni,Coのうち1つ以上の
元素とP,C,B,SIのうち1つ以上の元素とからな
る合金や、これらの元素を主成分としてAl,Ge,B
e,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,Hf,
Nb等を含有した合金等のメタル−メタロイド系アモル
ファス合金、或はCo,Hf,Zr等の遷移元素や希土
類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモルファス
合金等が挙げられる。
【0012】さらに、上記金属磁性膜及び磁気コア半体
の材料としては、それぞれTi,Cr,Mn,Zr,N
b,Mo,Ta,W,Ru,Os,Rh,Ir,Re,
Ni,Pd,Pt,Hf,V等のうちの少なくとも1種
を添加したものであることが好ましい。
【0013】
【作用】本発明に係る薄膜磁気ヘッドにおいては、磁気
記録媒体摺動面に臨む前記第1の金属磁性膜の磁気記録
媒体摺動方向における長さが拡大されている、具体的に
は、非磁性材よりなる第1の基板の上部に一対の非磁性
板にて第2の金属磁性膜を挟持してなる第2の基板が接
合されて基体とされ、第1の金属磁性膜が突き合わせ面
に成膜された第2の金属磁性膜と連なって磁気記録媒体
摺動面に臨む前記第1の金属磁性膜の磁気記録媒体摺動
方向における長さが拡大されている。このとき、各第2
の基板の第2の金属磁性膜の対向面から第1の基板の対
向面にかけて磁気コア半体である第1の金属磁性膜が直
接成膜されており、第1の金属磁性膜と第2の金属磁性
膜とは磁気的に接続されたかたちとされている。したが
ってこの場合、当該薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動
面において、磁気ギャップの近傍には見かけ上磁気的な
段差が存在しないために再生時に当該磁気ギャップのみ
で信号を拾うようになってコンター効果(信号波形に生
じるうねり)が抑止される。しかも、各磁気コア半体が
薄膜として形成されているためにインダクタンスが極め
て小さく、その分巻線数の多い薄膜コイルを形成するこ
とが可能となって高出力が得られる。
【0014】
【実施例】以下、本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの具
体的な実施例について、図面を用いて詳細に説明する。
【0015】本実施例の磁気薄膜ヘッドは、図1〜図3
に示すように、一対の基体1,2の突き合わせ面1a,
2bに薄膜形成技術により第1の金属薄膜である各磁気
コア半体11,12がそれぞれ成膜され、当該各基体
1,2が突き合わせられて閉磁路が形成されてなるもの
である。
【0016】上記各基体1,2は、それぞれ第1の基板
3及び第2の基板4から構成されており、非磁性材より
なる第1の基板3の上に第2の基板4が接合固定されて
いる。この第2の基板4は、一対の非磁性板13,14
が薄膜形成技術により成膜された第2の金属磁性膜15
(以下、単に金属磁性膜15と記す。)を挟持したかた
ちに形成されている。このとき、第2の基板4にはその
上面に所定の円筒研削が施されて磁気記録媒体の摺動面
aが形成されている。
【0017】上記各磁気コア半体11,12は、図2及
び図3に示すように、上記基体1,2の突き合わせ面1
a,2bにおいてそれらの上部から薄膜形成技術により
成膜されており、各基体1,2の突き合わせ面1a,2
bに形成された各溝部16から同様に薄膜形成技術によ
り巻線が施されて薄膜コイル(図示は省略する。)が形
成されている。そして、これら磁気コア半体11,12
の表面に所定のギャップ膜が成膜され、突き合わせ面1
a,2bにて上記基体1,2が融合ガラス5により接合
されて、各金属磁性膜15が対向して磁気ギャップgが
形成される。
【0018】ここで、上記金属磁性膜15及び磁気コア
半体11,12は、それぞれ高飽和磁束密度を有し且つ
軟磁気特性に優れた強磁性合金材料よりなるものであ
り、この材料としては、例えば、Fe−Al−Si系合
金,Fe−Ni系合金,Fe−Al−Ge系合金,Fe
−Ga−Ge系合金,Fe−Si−Ga系合金,Fe−
Si−Ge系合金,Fe−Si−Ga−Ru系合金,F
e−Co−Si−Al系合金,アモルファス合金等のう
ちの1種を用いることが望ましい。ここで、上記アモル
ファス合金としては、例えばFe,Ni,Coのうち1
つ以上の元素とP,C,B,SIのうち1つ以上の元素
とからなる合金や、これらの元素を主成分としてAl,
Ge,Be,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Z
r,Hf,Nb等を含有した合金等のメタル−メタロイ
ド系アモルファス合金、或はCo,Hf,Zr等の遷移
元素や希土類元素等を主成分とするメタル−メタル系ア
モルファス合金等が挙げられる。さらに、金属磁性膜1
5としては、高周波領域における渦電流損失を回避する
ために金属磁性層と絶縁層とを交互に積層してなる多層
膜構造に形成したものを用いてもよい。
【0019】このように、上記薄膜磁気ヘッドにおいて
は、第2の基板4が一対の非磁性板13,14にて金属
磁性膜15を挟持してなり、薄膜の磁気コア半体11,
12がそれぞれ成膜されている一対の基体1,2が突き
合わせられて対向する各金属磁性膜15により磁気ギャ
ップgが形成されている。このとき、各第2の基板4の
突き合わせ面1a,2bにおいて、金属磁性膜15から
第1の基板3に架けて磁気コア半体11,12が直接成
膜されており、金属磁性膜15と磁気コア半体11,1
2とは磁気的に接続されたかたちとされている。したが
ってこの場合、当該薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体との
摺動面において、磁気ギャップgの近傍には見かけ上磁
気的な段差が存在しないために再生時に当該磁気ギャッ
プのみで信号を拾うようになってコンター効果(信号波
形に生じるうねり)が抑止される。しかも、各磁気コア
半体が薄膜として形成されているためにインダクタンス
が極めて小さく、その分巻線数の多い薄膜コイルを形成
することが可能となって高出力が得られる。
【0020】ここで、上記薄膜磁気ヘッドを作製するに
は、先ず図4に示すように、非磁性材よりなる短冊状の
ブロック21の一側面に真空薄膜形成技術により所定の
金属磁性材を材料として所要厚の金属膜22を成膜す
る。このように金属膜22を成膜したブロック21を複
数(ここでは4つ)用意し、金属膜22を有しないブロ
ック23を図中右端に載置して各金属膜22がブロック
21(及びブロック23)により挟持されるように接合
して上部ブロック31を作製する。そして、図5に示す
ように、非磁性材よりなる下部ブロック32上に上記上
部ブロック31を載置固定して基体ブロック33を作製
する。
【0021】次に、図6に示すように、基体ブロック3
3の一側面33bに、上部ブロック31から下部ブロッ
ク32に架けて当該基体ブロック33の長手方向に平行
に帯状の溝部33aを形成する。その後、図7に示すよ
うに、上記一側面33bの各金属膜22のエッジから溝
部33aに架けて真空薄膜形成技術により磁気コア半体
11(及び磁気コア半体12)を所要厚に成膜する。
【0022】なお、上記各金属膜22及び磁気コア半体
11,12の成膜方法としては、具体的には膜厚制御性
に優れたスパッタリング法や、真空蒸着法、イオンプレ
ーミング法、イオンビーム法等の手法を用いることが好
ましい。
【0023】そして、上記の真空薄膜形成技術により各
磁気コア半体11(及び磁気コア半体12)に薄膜コイ
ルを形成し、溶融した融着ガラスを用いて一対の上記基
体ブロック33を接合して、円筒研削等の後処理を施し
所要のヘッドチップ(図示は省略する。)に切り出す。
このようにして上記薄膜磁気ヘッドが完成する。
【0024】
【発明の効果】本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、コン
ター効果の発生を抑止し且つ高出力を得ることが可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例の薄膜磁気ヘッドを模式的に示す斜視
図である。
【図2】磁気コア半体が成膜された基体を模式的に示す
側面図である。
【図3】磁気コア半体が成膜された基体を模式的に示す
正面図である。
【図4】上部ブロック及び下部ブロックが作製された様
子を模式的に示す斜視図である。
【図5】上部ブロックと下部ブロックとが接合されて基
体ブロックが作製された様子を模式的に示す斜視図であ
る。
【図6】基体ブロックに溝部が形成された様子を模式的
に示す斜視図である。
【図7】基体ブロックに各磁気コア半体が成膜された様
子を模式的に示す斜視図である。
【符号の説明】
1,2 基体 3 第1の基板 4 第2の基板 5 融着ガラス 11,12 磁気コア半体11,12 13,14 非磁性板 15 金属磁性膜

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 突き合わせ面にそれぞれ第1の金属磁性
    膜が磁気コア半体として成膜された一対の基体を突き合
    わせ、これら第1の金属磁性膜の対向面間に磁気ギャッ
    プを形成してなる薄膜磁気ヘッドにおいて、 磁気記録媒体摺動面に臨む前記第1の金属磁性膜の磁気
    記録媒体摺動方向における長さが拡大されていることを
    特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 非磁性材よりなる第1の基板の上部に一
    対の非磁性板にて第2の金属磁性膜を挟持してなる第2
    の基板が接合されて基体とされ、 第1の金属磁性膜が突き合わせ面に成膜された第2の金
    属磁性膜と連なって磁気記録媒体摺動面に臨む前記第1
    の金属磁性膜の磁気記録媒体摺動方向における長さが拡
    大されていることを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気
    ヘッド。
  3. 【請求項3】 磁気コア半体の少なくとも一方に薄膜コ
    イルが形成されていることを特徴とする請求項1記載の
    薄膜磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】 第2の基板の金属磁性膜と磁気コア半体
    とが同一の材料からなることを特徴とする請求項1記載
    の薄膜磁気ヘッド。
  5. 【請求項5】 金属磁性膜及び磁気コア半体がそれぞれ
    Fe−Al−Si系合金,Fe−Ni系合金,Fe−A
    l−Ge系合金,Fe−Ga−Ge系合金,Fe−Si
    −Ga系合金,Fe−Si−Ge系合金,Fe−Si−
    Ga−Ru系合金,Fe−Co−Si−Al系合金,ア
    モルファス合金のうちの1種よりなることを特徴とする
    請求項1記載の薄膜磁気ヘッド。
  6. 【請求項6】 金属磁性膜及び磁気コア半体がそれぞれ
    Ti,Cr,Mn,Zr,Nb,Mo,Ta,W,R
    u,Os,Rh,Ir,Re,Ni,Pd,Pt,H
    f,Vのうちの少なくとも1種を含有することを特徴と
    する請求項5記載の薄膜磁気ヘッド。
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Effective date: 20020305