JPH0819908B2 - 真空製造装置の排気用真空ポンプ - Google Patents
真空製造装置の排気用真空ポンプInfo
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- JPH0819908B2 JPH0819908B2 JP4166800A JP16680092A JPH0819908B2 JP H0819908 B2 JPH0819908 B2 JP H0819908B2 JP 4166800 A JP4166800 A JP 4166800A JP 16680092 A JP16680092 A JP 16680092A JP H0819908 B2 JPH0819908 B2 JP H0819908B2
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- vacuum pump
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D27/00—Control, e.g. regulation, of pumps, pumping installations or pumping systems specially adapted for elastic fluids
- F04D27/001—Testing thereof; Determination or simulation of flow characteristics; Stall or surge detection, e.g. condition monitoring
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、排気用真空ポンプに係
り、特に、ドライエッチング、ＣＶＤ（化学蒸着）、イ
オン注入などの工程に代表される半導体や液晶など精密
電子部品の製造装置（以下真空製造装置という）の排気
用真空ポンプに関する。
り、特に、ドライエッチング、ＣＶＤ（化学蒸着）、イ
オン注入などの工程に代表される半導体や液晶など精密
電子部品の製造装置（以下真空製造装置という）の排気
用真空ポンプに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造プロセスの排気系には、エッ
チング、ＣＶＤなどのウエハープロセスに供給された未
反応ガス成分や、プロセスであらたに生成した数多くの
ガス成分が含まれている。これらの中にはきわめて反応
性に富んだガスが多く、その結果固形物状の反応生成物
が真空ポンプを含む排気系配管の内面に付着し、ついに
は閉塞させてしまう。
チング、ＣＶＤなどのウエハープロセスに供給された未
反応ガス成分や、プロセスであらたに生成した数多くの
ガス成分が含まれている。これらの中にはきわめて反応
性に富んだガスが多く、その結果固形物状の反応生成物
が真空ポンプを含む排気系配管の内面に付着し、ついに
は閉塞させてしまう。
【０００３】従来はこれらの反応生成物の付着、さらに
は閉塞を検知する方法がなかった。閉塞物に起因して真
空ポンプが停止するなどの不具合が発生して初めて閉塞
を知るのが現状であった。このため、従来は経験から寿
命を想定して早めにポンプを交換してしまうか、予備の
ポンプを常に用意しておき、不具合が発生したときに急
いで交換するなどの手段をとっていた。
は閉塞を検知する方法がなかった。閉塞物に起因して真
空ポンプが停止するなどの不具合が発生して初めて閉塞
を知るのが現状であった。このため、従来は経験から寿
命を想定して早めにポンプを交換してしまうか、予備の
ポンプを常に用意しておき、不具合が発生したときに急
いで交換するなどの手段をとっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】真空製造装置ではＬＳ
Ｉなどの精密な電子製品を加工しているので、何の前兆
もなく真空ポンプが突然停止すると、その工程にかかわ
るすべての製品が不良品になってしまう。また、ある期
間正規の排気が行われなかったことにより、ポンプ復旧
（交換）、排気ラインの付着固形物の除去などに長時間
を要し、生産停止に伴う経済的損失が大きい。本発明
は、上記真空製造装置の真空ポンプを含む排気系に対す
る反応生成物の付着・閉塞を予知する手段を有する排気
用真空ポンプを提供することを課題とする。
Ｉなどの精密な電子製品を加工しているので、何の前兆
もなく真空ポンプが突然停止すると、その工程にかかわ
るすべての製品が不良品になってしまう。また、ある期
間正規の排気が行われなかったことにより、ポンプ復旧
（交換）、排気ラインの付着固形物の除去などに長時間
を要し、生産停止に伴う経済的損失が大きい。本発明
は、上記真空製造装置の真空ポンプを含む排気系に対す
る反応生成物の付着・閉塞を予知する手段を有する排気
用真空ポンプを提供することを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、真空製造装置の排気用真空ポンプにおい
て、該真空ポンプにモータ運転電流を測定するための電
流計とポンプ排気管内の温度を測定するための温度計と
を設け、該電流計及び／又は温度計の出力値を用いて排
気系の閉塞を検知する診断装置を具備することとしたも
のである。
に本発明では、真空製造装置の排気用真空ポンプにおい
て、該真空ポンプにモータ運転電流を測定するための電
流計とポンプ排気管内の温度を測定するための温度計と
を設け、該電流計及び／又は温度計の出力値を用いて排
気系の閉塞を検知する診断装置を具備することとしたも
のである。
【０００６】正常な真空ポンプで閉塞が生じていないも
のであれば、プロセス流量や半導体製造装置等の操作条
件は厳密にコントロールされているので、真空ポンプモ
ータ電流値、ポンプ排気温度とも変動がすくなく、安定
している。例えば、標準的なドライエッチング工程の場
合、排気量１０００リットル／ｍｉｎ程度で、ポンプモ
ータ電流値約１４アンペアであるが、真空ポンプの流路
に反応生成物が付着してくると、その付着具合によって
モータ運転電流値が増大し、最大１９アンペアに達する
例もある。
のであれば、プロセス流量や半導体製造装置等の操作条
件は厳密にコントロールされているので、真空ポンプモ
ータ電流値、ポンプ排気温度とも変動がすくなく、安定
している。例えば、標準的なドライエッチング工程の場
合、排気量１０００リットル／ｍｉｎ程度で、ポンプモ
ータ電流値約１４アンペアであるが、真空ポンプの流路
に反応生成物が付着してくると、その付着具合によって
モータ運転電流値が増大し、最大１９アンペアに達する
例もある。
【０００７】また、真空ポンプに内蔵しているインター
クーラの性能が悪くなり、排気温度が上昇する。たとえ
ば、長期間使用して付着物が異常に多くなったポンプで
は、ポンプ本体出口で百数十℃程度に排気温度が上昇す
る。本発明では、上記のようなモータ運転の電流変化及
びポンプ排気管の温度変化を、電流計及び温度計により
常時測定しておき、その測定値を診断装置で正常値と比
較することにより、真空ポンプの排気系の閉塞を検知す
ることができる。
クーラの性能が悪くなり、排気温度が上昇する。たとえ
ば、長期間使用して付着物が異常に多くなったポンプで
は、ポンプ本体出口で百数十℃程度に排気温度が上昇す
る。本発明では、上記のようなモータ運転の電流変化及
びポンプ排気管の温度変化を、電流計及び温度計により
常時測定しておき、その測定値を診断装置で正常値と比
較することにより、真空ポンプの排気系の閉塞を検知す
ることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を図面を用いて具体的に説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ 図１は、本発明の真空製造装置の排気用真空ポンプの主
要機器を模的的に示す概略図である。図１において、真
空ポンプ２は半導体製造装置１に接続され、該装置１に
導入されたプロセスガス８と共に排気ガスを吸引して排
気管７から排気９する。真空ポンプ２はモータ３によっ
て作動され、該モータ３にはモータ運転電流を測定する
ためのモータ電流計５が設けられ、また真空ポンプ２の
排気管７には排気管内の温度を測定するための温度計４
が設けられている。そして、電流計５及び温度計４の測
定値は閉塞診断装置６に送られる。
るが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ 図１は、本発明の真空製造装置の排気用真空ポンプの主
要機器を模的的に示す概略図である。図１において、真
空ポンプ２は半導体製造装置１に接続され、該装置１に
導入されたプロセスガス８と共に排気ガスを吸引して排
気管７から排気９する。真空ポンプ２はモータ３によっ
て作動され、該モータ３にはモータ運転電流を測定する
ためのモータ電流計５が設けられ、また真空ポンプ２の
排気管７には排気管内の温度を測定するための温度計４
が設けられている。そして、電流計５及び温度計４の測
定値は閉塞診断装置６に送られる。
【０００９】閉塞診断装置６での閉塞診断は、上記のモ
ータ電流値と排気温度の絶対値及びそれらの変化率（単
位時間当りの変化量）を演算して行うことができる。具
体的には モータ電流値上限値（例えば１８Å）、排気温度上
限値（例えば４０℃）のいずれかで警報を出す。 モータ電流値の変化率、排気温度の変化率を演算し
て規定値を越えると警報を出す。 ことにより行うことができ、真空ポンプを含む排気系に
対する反応生成物の付着・閉塞を予知することができ
る。
ータ電流値と排気温度の絶対値及びそれらの変化率（単
位時間当りの変化量）を演算して行うことができる。具
体的には モータ電流値上限値（例えば１８Å）、排気温度上
限値（例えば４０℃）のいずれかで警報を出す。 モータ電流値の変化率、排気温度の変化率を演算し
て規定値を越えると警報を出す。 ことにより行うことができ、真空ポンプを含む排気系に
対する反応生成物の付着・閉塞を予知することができ
る。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、真空ポンプモータ運転
電流値及び／又はポンプ排気温度を測定演算することに
より、排気系への反応生成物付着さらには閉塞を予知す
ることができるので計画的に真空ポンプの交換を行うこ
とができる。
電流値及び／又はポンプ排気温度を測定演算することに
より、排気系への反応生成物付着さらには閉塞を予知す
ることができるので計画的に真空ポンプの交換を行うこ
とができる。
【図１】本発明の主要機器を模式的に示す概略図。
１：半導体製造装置、２：真空ポンプ本体、３：真空ポ
ンプモータ、４：真空ポンプ排気温度計、５：モータ電
流計、６：閉塞診断装置、７：排気管、８：プロセスガ
ス、９：排気ガス
ンプモータ、４：真空ポンプ排気温度計、５：モータ電
流計、６：閉塞診断装置、７：排気管、８：プロセスガ
ス、９：排気ガス
Claims (1)
- 【請求項１】 真空製造装置の排気用真空ポンプにおい
て、該真空ポンプにモータ運転電流を測定するための電
流計とポンプ排気管内の温度を測定するための温度計と
を設け、該電流計及び／又は温度計の出力値を用いて排
気系の閉塞を検知する診断装置を具備することを特徴と
する真空製造装置の排気用真空ポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4166800A JPH0819908B2 (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 真空製造装置の排気用真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4166800A JPH0819908B2 (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 真空製造装置の排気用真空ポンプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0626460A JPH0626460A (ja) | 1994-02-01 |
| JPH0819908B2 true JPH0819908B2 (ja) | 1996-03-04 |
Family
ID=15837919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4166800A Expired - Fee Related JPH0819908B2 (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 真空製造装置の排気用真空ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819908B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8721295B2 (en) | 2005-04-08 | 2014-05-13 | Ebara Corporation | Vacuum pump self-diagnosis method, vacuum pump self-diagnosis system, and vacuum pump central monitoring system |
| JP5504107B2 (ja) * | 2010-09-06 | 2014-05-28 | エドワーズ株式会社 | 逆流防止システム及び該逆流防止システムを備えた真空ポンプ |
| EP3456979B1 (de) * | 2017-09-18 | 2022-03-30 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Vakuumgerät und verfahren zur erzeugung einer information betreffend den betrieb eines vakuumgerätes |
| JP7577989B2 (ja) * | 2020-12-08 | 2024-11-06 | 富士電機株式会社 | ポンプの目詰まり検知システム |
-
1992
- 1992-06-03 JP JP4166800A patent/JPH0819908B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0626460A (ja) | 1994-02-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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