JPH08201855A - Method for manufacturing electrochromic mirror - Google Patents

Method for manufacturing electrochromic mirror

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JPH08201855A
JPH08201855A JP7010680A JP1068095A JPH08201855A JP H08201855 A JPH08201855 A JP H08201855A JP 7010680 A JP7010680 A JP 7010680A JP 1068095 A JP1068095 A JP 1068095A JP H08201855 A JPH08201855 A JP H08201855A
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
mirror
substrate
transparent electrode
oxide
Prior art date
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Pending
Application number
JP7010680A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinobu Okayama
忍 岡山
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Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
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Publication date
Application filed by Toyota Motor Corp filed Critical Toyota Motor Corp
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐久性の高いECミラーの簡便な製造方法を
提供する。 【構成】 反射基板(7) 上にエレクトロクロミック層(1
5)を形成し、次いでこのエレクトロクロミック層(15)上
に透明電極(2) を形成することを特徴とする、エレクト
ロクロミックミラーの製造方法。
(57) [Summary] [Objective] To provide a simple method for manufacturing an EC mirror having high durability. [Structure] The electrochromic layer (1
5. A method for producing an electrochromic mirror, which comprises forming 5) and then forming a transparent electrode (2) on the electrochromic layer (15).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、エレクトロクロミック
ミラーの製造方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing an electrochromic mirror.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロクロミズムとは、電流あるい
は電場を印加することにより電気化学的酸化還元によっ
て物質の光の吸収が変化し、可逆的にこの物質が着色あ
るいは色変化する現象をいう。この現象を示す物質をエ
レクトロクロミック(EC)物質といい、この変化を電
気化学的に操作し、EC物質の色を変化させるものがE
C素子である。
2. Description of the Related Art Electrochromism is a phenomenon in which absorption of light by a substance is changed by electrochemical redox upon application of a current or an electric field, and the substance is reversibly colored or color-changed. A substance that exhibits this phenomenon is called an electrochromic (EC) substance, and a substance that electrochemically manipulates this change and changes the color of the EC substance is E
It is a C element.

【0003】EC物質の具体例としては、アルカリハラ
イド(例えばLiF、NaCl、KCl)及び遷移金属
酸化物(例えばWO3 、MoO3 、TiO2 )等の固体
系並びにビオロゲン化合物等の液体系物質が知られてい
る。
Specific examples of EC substances include solid substances such as alkali halides (eg LiF, NaCl, KCl) and transition metal oxides (eg WO 3 , MoO 3 , TiO 2 ) and liquid substances such as viologen compounds. Are known.

【0004】遷移金属酸化物として、現在三酸化タング
ステン(WO3 )が多く用いられている。この三酸化タ
ングステンは還元されると、無色から青色に変化する。
そこでこの三酸化タングステンを透明電極上に薄膜とし
て成形し、電気化学セルを組立て、三酸化タングステン
をマイナスに電圧を印加すると、三酸化タングステンの
膜が青色を呈し、極性を逆転させると無色透明になる。
これをガラスに応用すると、電圧操作によってガラスの
光透過率を任意に制御することのできるECガラス(調
光ガラス)が得られる。また、このECガラスにおい
て、透明電極の一方にアルミニウムのような反射性のも
のを用いることにより、反射率を電圧操作によって切り
換えることのできるECミラーが得られる。
At present, tungsten trioxide (WO 3 ) is widely used as a transition metal oxide. When this tungsten trioxide is reduced, it changes from colorless to blue.
Therefore, this tungsten trioxide was molded as a thin film on a transparent electrode, an electrochemical cell was assembled, and when a voltage was applied to the tungsten trioxide to a negative voltage, the tungsten trioxide film became blue, and when the polarity was reversed, it became colorless and transparent. Become.
When this is applied to glass, EC glass (light control glass) in which the light transmittance of the glass can be arbitrarily controlled by voltage operation is obtained. Also, in this EC glass, by using a reflective material such as aluminum for one of the transparent electrodes, an EC mirror whose reflectance can be switched by voltage operation can be obtained.

【0005】従来のECミラーにおいては、電極に外部
電源を供給するため取り出し部が設けられており、この
取り出し部は封止されることなく露出しているためその
剥離又は金属電極の腐食等の問題があった。このような
問題を解決するため、実公平5−5536号公報において、
図2に示すようなECミラーが考案された。図2におい
て、7は反射基板、5は還元着色性EC層、4はイオン
導電層、3は可逆的電解酸化層、2は透明電極をそれぞ
れ示す。これらは基板11上に透明電極(ITO)、可
逆的電解酸化層(IrOx ) 、イオン導電層(Ta2
5)、還元着色性EC層(WO3)及び反射基板(Al)を
順に積層した後、各電極の少なくとも一部を除いて上面
を封止材12及び封止基板14を取付けることにより製
造される。このようにクリップを取付け、これを介して
外部配線を接続することにより金属電極の端面を封止す
ることにより上記の問題の解決を試みている。
In the conventional EC mirror, a lead-out portion is provided for supplying an external power source to the electrodes. Since the lead-out portion is exposed without being sealed, peeling of the lead-out portion or corrosion of the metal electrode occurs. There was a problem. In order to solve such a problem, in Japanese Utility Model Publication 5-5536,
An EC mirror as shown in FIG. 2 has been devised. In FIG. 2, 7 is a reflective substrate, 5 is a reduction coloring EC layer, 4 is an ion conductive layer, 3 is a reversible electrolytic oxidation layer, and 2 is a transparent electrode. These are a transparent electrode (ITO), a reversible electrolytic oxidation layer (IrO x ), an ion conductive layer (Ta 2 O) on the substrate 11.
5 ), a reducing coloring EC layer (WO 3 ) and a reflective substrate (Al) are laminated in this order, and then the sealing material 12 and the sealing substrate 14 are attached on the upper surface except at least a part of each electrode. It In this way, an attempt is made to solve the above problem by mounting the clip and connecting the external wiring through the clip to seal the end surface of the metal electrode.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記E
Cミラーの製造において、ITO成膜、IrOx 成膜、
Ta2 5 成膜、WO3 成膜、及びAl成膜の各成膜工
程は真空中において行わねばならず、真空引きの時間、
真空設備を作動させる電力等において必ずしも生産性は
十分ではなかった。
However, the above-mentioned E
In manufacturing the C mirror, ITO film formation, IrO x film formation,
Each of the Ta 2 O 5 film forming process, the WO 3 film forming process, and the Al film forming process must be performed in a vacuum.
Productivity was not always sufficient in terms of electric power for operating vacuum equipment.

【0007】本発明は、上記の従来のECミラーの問題
点を解決し、生産性に優れたECミラーの改良された製
造方法を提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems of the conventional EC mirror and to provide an improved method for manufacturing an EC mirror having excellent productivity.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のエレクトロクロ
ミックミラーの製造方法は、反射基板上にエレクトロク
ロミック層を形成し、次いでこのエレクトロクロミック
層上に透明電極を形成することを特徴とするものであ
る。
The method for manufacturing an electrochromic mirror of the present invention is characterized by forming an electrochromic layer on a reflective substrate and then forming a transparent electrode on the electrochromic layer. is there.

【0009】[0009]

【作用】本発明の方法は、従来の方法とは逆に、反射基
板上から各層を成膜するため封止基板を必要とせず、従
って従来方法よりも成膜工程が少なくてすみ、生産性に
おいて優れている。
In contrast to the conventional method, the method of the present invention does not require a sealing substrate because each layer is formed on the reflective substrate, and therefore requires fewer film forming steps than the conventional method, thus improving productivity. Is excellent in.

【0010】[0010]

【実施例】本発明の方法により製造されるECミラーを
図1に示す。まず、反射基板7の上にEC層15を形成
する。この反射基板は電極としても機能し、例えば金、
銀、アルミニウム、クロム、錫、亜鉛、ニッケル、ルテ
ニウム、ロジウム、ステンレス等の金属を使用すること
ができる。EC層は通常用いられる積層構造であってよ
く、特に限定はされないが、還元着色性EC層/イオン
導電層、又は還元着色性EC層/イオン導電層/可逆的
電解酸化層等が例示される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An EC mirror manufactured by the method of the present invention is shown in FIG. First, the EC layer 15 is formed on the reflective substrate 7. This reflective substrate also functions as an electrode, for example gold,
Metals such as silver, aluminum, chromium, tin, zinc, nickel, ruthenium, rhodium and stainless steel can be used. The EC layer may be a laminated structure which is usually used, and is not particularly limited, and examples thereof include a reduction coloring EC layer / ion conductive layer, or a reduction coloring EC layer / ion conductive layer / reversible electrolytic oxidation layer. .

【0011】還元着色性EC層としては、遷移金属酸化
物、例えばWO3 、MoO3 、TiO2 等を使用するこ
とができる。イオン導電層としては、例えば酸化珪素、
酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニ
オブ、酸化ジルコニウム、フッ化マグネシウム等を使用
することができる。このイオン導電層は、電子に対して
は絶縁体であるが、プロトン及びヒドロキシイオンに対
しては良導体である。
For the reduction coloring EC layer, transition metal oxides such as WO 3 , MoO 3 and TiO 2 can be used. As the ion conductive layer, for example, silicon oxide,
Tantalum oxide, titanium oxide, aluminum oxide, niobium oxide, zirconium oxide, magnesium fluoride and the like can be used. This ionic conductive layer is an insulator for electrons, but a good conductor for protons and hydroxy ions.

【0012】図1では、反射基板7上にまず還元着色性
EC層5を形成し、次いでイオン導電層4を形成してい
るが、この還元着色性EC層とイオン導電層は、どちら
を上にしても下にしてもよい。さらに、図1に示すよう
に、前記還元着色性EC層に対して、前記イオン導電層
を挟んで可逆的電解酸化層3を設けてもよい。可逆的電
解酸化層としては、例えば酸化イリジウム、酸化ニッケ
ル、酸化クロム、酸化バナジウム等を用いることができ
る。これらの物質は電極又はイオン導電層中に分散させ
てもよい。
In FIG. 1, the reducing coloring EC layer 5 is first formed on the reflective substrate 7, and then the ion conductive layer 4 is formed. Or it may be below. Further, as shown in FIG. 1, a reversible electrolytic oxidation layer 3 may be provided on the reduction coloring EC layer with the ion conductive layer interposed therebetween. As the reversible electrolytic oxidation layer, for example, iridium oxide, nickel oxide, chromium oxide, vanadium oxide or the like can be used. These substances may be dispersed in the electrode or the ion conductive layer.

【0013】次いで、こうして形成したEC層15の上
に透明電極2を形成する。透明電極としては、例えばS
nO2 、In2 3 、ITO(SnO2 とIn2 3
混合物)、ZnO等を用いることができる。
Next, the transparent electrode 2 is formed on the EC layer 15 thus formed. As the transparent electrode, for example, S
nO 2 , In 2 O 3 , ITO (mixture of SnO 2 and In 2 O 3 ), ZnO or the like can be used.

【0014】これらの各層は、通常の方法、例えば真空
蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の真空
薄膜形成法により形成される。
Each of these layers is formed by a conventional method, for example, a vacuum thin film forming method such as vacuum deposition, ion plating, or sputtering.

【0015】また、透明電極2を形成する前に、EC層
15の端面をレーザーカットすることが好ましい。従来
のECミラーにおいては図2に示すように、EC層の端
面がカットされておらず、このEC層内の各層に応力が
残留しやすい。その結果、この応力が集中し、特に還元
着色性EC層5とイオン導電層4の界面において剥離し
やすかった。本発明において、このEC層の端面をレー
ザーカットすることにより、上記のような従来みられた
EC層の各層の残留応力が開放され、剥離の可能性が低
下する。従来のECミラーの製造方法では、透明基板側
から各層を形成している。従って、従来の方法により製
造したECミラーの端面をレーザーカットすると、この
透明基板もカットすることになり、電極の取り出しが不
可能となってしまい、従って従来の方法ではこのレーザ
ーカットを実施することはできなかった。本発明の方法
では、従来とは逆の側から各層を形成するため、すなわ
ち、EC層を形成した後透明基板を形成するため、透明
基板をカットすることなくEC層の端面をレーザーカッ
トすることができる。
Before the transparent electrode 2 is formed, it is preferable to laser cut the end surface of the EC layer 15. In the conventional EC mirror, as shown in FIG. 2, the end surface of the EC layer is not cut, and stress is likely to remain in each layer in this EC layer. As a result, this stress was concentrated, and it was easy to peel off at the interface between the reduction coloring EC layer 5 and the ion conductive layer 4. In the present invention, by laser-cutting the end surface of the EC layer, the residual stress of each layer of the EC layer, which has been conventionally observed, is released and the possibility of peeling is reduced. In the conventional EC mirror manufacturing method, each layer is formed from the transparent substrate side. Therefore, if the end face of the EC mirror manufactured by the conventional method is laser-cut, this transparent substrate is also cut, and it becomes impossible to take out the electrodes. Therefore, it is necessary to perform this laser-cut by the conventional method. I couldn't. In the method of the present invention, in order to form each layer from the side opposite to the conventional one, that is, in order to form the transparent substrate after forming the EC layer, the end face of the EC layer is laser-cut without cutting the transparent substrate. You can

【0016】以上のようにして各層を形成した後、導電
性テープ10及びリード線9を用いて反射基板7及び透
明電極2に電極リードを接続し、最後に全体を樹脂1で
封止する。このように、全体を樹脂で封止することによ
り、水分の侵入経路がリード線9と樹脂1の界面のみと
なり、その結果水の侵入が大幅に低減される。従って、
水分により劣化を防ぐことができ、耐久性を向上させる
ことができる。
After forming each layer as described above, the electrode lead is connected to the reflective substrate 7 and the transparent electrode 2 using the conductive tape 10 and the lead wire 9, and finally the whole is sealed with the resin 1. In this way, by sealing the whole with resin, the invasion path of water is only the interface between the lead wire 9 and the resin 1, and as a result, the invasion of water is significantly reduced. Therefore,
Deterioration can be prevented by moisture, and durability can be improved.

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明の方法は、従来の方法とは逆に、
反射基板側から各層を形成するため、従来の方法のよう
な、基板(ガラス)上に透明基板を形成する工程が必要
なく、真空中で実施することが必要な成膜工程が減り、
生産性が向上する。さらに、このガラスを使用する必要
がなく、割れのおそれがなく、またガラス基板を用い
ず、反射基板(アルミニウム)1枚のみでよく、コスト
ダウンの効果が大きい。さらに、本発明の方法では、残
留応力が集中するEC膜の端面をレーザーカットするこ
とができ、その結果、この残留応力を開放し、各層の剥
離を抑制することができ、また、この端面をレーザーカ
ットすることにより漏れ電流を低減することもできる。
The method of the present invention, contrary to the conventional method,
Since each layer is formed from the reflective substrate side, unlike the conventional method, the step of forming a transparent substrate on the substrate (glass) is not necessary, and the film forming step that needs to be performed in vacuum is reduced.
Productivity is improved. Furthermore, there is no need to use this glass, there is no risk of cracking, and there is no need to use a glass substrate, and only one reflective substrate (aluminum) is required, which is highly cost-effective. Further, according to the method of the present invention, the end surface of the EC film on which the residual stress is concentrated can be laser-cut, and as a result, this residual stress can be released and peeling of each layer can be suppressed. The leakage current can be reduced by laser cutting.

【0018】上記実公平5−5536号公報に記載されてい
るような従来のECミラーにおいては、封止樹脂である
エポキシ樹脂とクリップとの界面及びエポキシ樹脂と透
明電極との界面の接着力は湿度によって低下しやすく、
水の侵入経路となりやすい。また、クリップがミラー全
周にわたり設けられているため、水の侵入経路がミラー
全周に存在することになる。この部分から水が侵入する
と、還元着色性EC層であるWO3 膜の変色、及び還元
着色性EC層とイオン導電層の界面において層剥離が生
じ、正常な着消色の駆動ができなくなるおそれがある。
本発明のECミラーは、封止樹脂により全体を封止する
ことができ、水の侵入経路がリードと封止樹脂の界面の
みであるため、水の侵入が大幅に低減され、上記のよう
な問題を回避することができる。
In the conventional EC mirror as described in JP-B-5-5536, the adhesive force at the interface between the epoxy resin as the sealing resin and the clip and at the interface between the epoxy resin and the transparent electrode is It easily drops due to humidity,
It easily becomes a water entry route. Further, since the clip is provided around the entire circumference of the mirror, a water entry path exists around the entire circumference of the mirror. If water enters from this portion, discoloration of the WO 3 film, which is the reducing coloring EC layer, and layer separation at the interface between the reducing coloring EC layer and the ionic conductive layer may occur, making it impossible to drive the normal coloration / decoloration. There is.
The EC mirror of the present invention can be wholly sealed with the sealing resin, and since the water invasion path is only at the interface between the lead and the sealing resin, the water intrusion is greatly reduced. The problem can be avoided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の方法により得られるECミラーの略断
面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an EC mirror obtained by the method of the present invention.

【図2】従来のECミラーの略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a conventional EC mirror.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…封止樹脂 2…透明電極 3…可逆性電解酸化層 4…イオン導電層 5…還元着色性EC層 6…絶縁層 7…反射基板 8…はんだ 9…リード線 10…導電性テープ 11…基板 12…封止材 13…電極取り出し用クリップ 14…封止基板 15…EC層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Sealing resin 2 ... Transparent electrode 3 ... Reversible electrolytic oxidation layer 4 ... Ion conductive layer 5 ... Reduction coloring EC layer 6 ... Insulating layer 7 ... Reflective substrate 8 ... Solder 9 ... Lead wire 10 ... Conductive tape 11 ... Substrate 12 ... Encapsulating material 13 ... Electrode extraction clip 14 ... Encapsulating substrate 15 ... EC layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 反射基板(7) 上にエレクトロクロミック
層(15)を形成し、次いでこのエレクトロクロミック層(1
5)上に透明電極(2) を形成することを特徴とする、エレ
クトロクロミックミラーの製造方法。
1. An electrochromic layer (15) is formed on a reflective substrate (7), and then the electrochromic layer (1) is formed.
5) A method for manufacturing an electrochromic mirror, which comprises forming a transparent electrode (2) on the surface.
JP7010680A 1995-01-26 1995-01-26 Method for manufacturing electrochromic mirror Pending JPH08201855A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7010680A JPH08201855A (en) 1995-01-26 1995-01-26 Method for manufacturing electrochromic mirror

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115826311A (en) * 2022-12-28 2023-03-21 深圳市光羿科技有限公司 Binding method of lead-out structure, electrochromic device and color-changing device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115826311A (en) * 2022-12-28 2023-03-21 深圳市光羿科技有限公司 Binding method of lead-out structure, electrochromic device and color-changing device

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