JPH0820201B2 - 測定具 - Google Patents
測定具Info
- Publication number
- JPH0820201B2 JPH0820201B2 JP28525786A JP28525786A JPH0820201B2 JP H0820201 B2 JPH0820201 B2 JP H0820201B2 JP 28525786 A JP28525786 A JP 28525786A JP 28525786 A JP28525786 A JP 28525786A JP H0820201 B2 JPH0820201 B2 JP H0820201B2
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- Japan
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- thin film
- hard thin
- surface plate
- block gauge
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- Length-Measuring Instruments Using Mechanical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は定盤やブロックゲージなどの測定具に関する
ものである。
ものである。
（従来の技術） 精密測定などに用いる測定具として、定盤やブロック
ゲージがあるが、第６図（ａ）（ｂ）に示すように定盤
Ｊは被測定物体を載置する基準面J1を有する板状体であ
り、基準面J1は平坦でなめらかな面としていた。またブ
ロックゲージＢは２つの平行な基準面B1，B1を有する六
面体で、基準面B1，B1間の距離ｔが定められた長さとな
っており、さまざまな距離ｔを有するブロックゲージＢ
を用意しておいて、必要な長さのものを取り出して使用
するようになっていた。また、これら定盤Ｊ、ブロック
ゲージＢの材質は、合金工具鋼、炭素クロム鋼などの金
属や、アルミナセラミックなどの用いていた。
ゲージがあるが、第６図（ａ）（ｂ）に示すように定盤
Ｊは被測定物体を載置する基準面J1を有する板状体であ
り、基準面J1は平坦でなめらかな面としていた。またブ
ロックゲージＢは２つの平行な基準面B1，B1を有する六
面体で、基準面B1，B1間の距離ｔが定められた長さとな
っており、さまざまな距離ｔを有するブロックゲージＢ
を用意しておいて、必要な長さのものを取り出して使用
するようになっていた。また、これら定盤Ｊ、ブロック
ゲージＢの材質は、合金工具鋼、炭素クロム鋼などの金
属や、アルミナセラミックなどの用いていた。
（従来技術の問題点） このような従来の定盤Ｊ、ブロックゲージＢを使用す
るときは、たとえばブロックゲージＢを定盤Ｊ上に載置
した場合、第６図（ｂ）に示すように、定盤Ｊの基準面
J1とブロックゲージＢの基準面B1の間に、微細なゴミＧ
が存在して測定値に誤差が生じるため、ブロックゲージ
Ｂを定盤Ｊに押しつけながら、矢印方向に何度か動かし
て、ゴミＧを外へ出すようにしていた。
るときは、たとえばブロックゲージＢを定盤Ｊ上に載置
した場合、第６図（ｂ）に示すように、定盤Ｊの基準面
J1とブロックゲージＢの基準面B1の間に、微細なゴミＧ
が存在して測定値に誤差が生じるため、ブロックゲージ
Ｂを定盤Ｊに押しつけながら、矢印方向に何度か動かし
て、ゴミＧを外へ出すようにしていた。
しかし、定盤Ｊの基準面J1とブロックゲージＢの基準
面B1はいずれも平坦でなめらかな面であるから、ゴミＧ
の逃げ場がなく、ゴミＧを完全に外へ出しきることが困
難であり、残ったゴミＧの大きさ分だけ誤差が生じてい
た。たとえクリーンルーム内でも数μｍ程度のゴミＧが
存在しているため、数μｍ程度の誤差を防ぐことは難か
しかった。
面B1はいずれも平坦でなめらかな面であるから、ゴミＧ
の逃げ場がなく、ゴミＧを完全に外へ出しきることが困
難であり、残ったゴミＧの大きさ分だけ誤差が生じてい
た。たとえクリーンルーム内でも数μｍ程度のゴミＧが
存在しているため、数μｍ程度の誤差を防ぐことは難か
しかった。
また、前記したように使用するときにブロックゲージ
Ｂを定盤Ｊに押しつけながら前後に動かすため、金属や
アルミナセラミックよりなる定盤ＪやブロックゲージＢ
は基準面J1，B1が摩耗しやすく、長期使用中には基準面
J1，B1の平坦度が悪くなって測定値に誤差が生じてしま
うという不都合があった。
Ｂを定盤Ｊに押しつけながら前後に動かすため、金属や
アルミナセラミックよりなる定盤ＪやブロックゲージＢ
は基準面J1，B1が摩耗しやすく、長期使用中には基準面
J1，B1の平坦度が悪くなって測定値に誤差が生じてしま
うという不都合があった。
（問題点を解決するための手段） 上記に鑑みて本発明は、被測定物体と接触する平坦な
基準面に、凹凸パターンを形成するように硬質薄膜を被
着したり、また前記基準面にあらかじめ凹凸パターンを
形成し、その上に硬質薄膜を被着して測定具を構成する
ようにしたものである。
基準面に、凹凸パターンを形成するように硬質薄膜を被
着したり、また前記基準面にあらかじめ凹凸パターンを
形成し、その上に硬質薄膜を被着して測定具を構成する
ようにしたものである。
（実施例） 以下、本発明の実施例を図によって説明する。
第１図（ａ）（ｂ）に示すように、定盤Ｊは基体１の
載置面に縞状に硬質薄膜２を被着して、溝３よりなる凹
凸パターンを形成したものであり、硬質薄膜２の表面2a
は表面粗さ0.25Ra以下のなめらかな面としてある。
載置面に縞状に硬質薄膜２を被着して、溝３よりなる凹
凸パターンを形成したものであり、硬質薄膜２の表面2a
は表面粗さ0.25Ra以下のなめらかな面としてある。
また、第２図（ａ）（ｂ）に示すようにブロックゲー
ジＢは、基体11の２つの平行な基準面に縞状に硬質薄膜
12を被着して溝13よりなる凹凸パターンを形成したもの
であり、硬質薄膜12の表面12cは表面粗さ0.1Ra以下のな
めらかな面としてある。
ジＢは、基体11の２つの平行な基準面に縞状に硬質薄膜
12を被着して溝13よりなる凹凸パターンを形成したもの
であり、硬質薄膜12の表面12cは表面粗さ0.1Ra以下のな
めらかな面としてある。
このような第１図（ａ）（ｂ）に示した本発明実施例
に係る定盤Ｊを用いれば、第３図に示すように、定盤Ｊ
上で、被測定物体Ｈを矢印方向に何度が動かすと、微細
なゴミＧが溝３の中に入りこむため、被測定物体Ｈが硬
質薄膜２の表面2aに完全に密着して正確な測定を行うこ
とができる。また、被測定物体Ｈが接触する部分は硬質
薄膜２の表面2aであるから摩耗が少なく、さらに硬質薄
膜２の表面2aの粒子構造は丸味を帯びたなめらかなもの
となっているため、被測定物体Ｈに傷をつけにくい。
に係る定盤Ｊを用いれば、第３図に示すように、定盤Ｊ
上で、被測定物体Ｈを矢印方向に何度が動かすと、微細
なゴミＧが溝３の中に入りこむため、被測定物体Ｈが硬
質薄膜２の表面2aに完全に密着して正確な測定を行うこ
とができる。また、被測定物体Ｈが接触する部分は硬質
薄膜２の表面2aであるから摩耗が少なく、さらに硬質薄
膜２の表面2aの粒子構造は丸味を帯びたなめらかなもの
となっているため、被測定物体Ｈに傷をつけにくい。
以上第１図（ａ）（ｂ）に示した定盤Ｊについて説明
したが、第２図（ａ）（ｂ）に示したブロックゲージＢ
についても同様である。
したが、第２図（ａ）（ｂ）に示したブロックゲージＢ
についても同様である。
次に第１図（ａ）（ｂ）に示した定盤Ｊおよび第２図
（ａ）（ｂ）に示すブロックゲージＢの製法を定盤Ｂを
例として説明する。まずアルミナ，ジルコニアなどのセ
ラミックまたはコバールよりなる基体１を用意し、載置
面をなめらかで平坦な面とする。次にこの載置上面の溝
３とすべき分に樹脂やフォトレジストなどでマスクを形
成しおいて、その上からTiC,TiN,TiB2，ダイヤモンド,W
B,SiC,Si3N4などのビッカース硬度1800Kg/mm2以上の硬
質薄膜２をCVD法などで被着させる。その後、前記マス
クを取り除けばマスク部分は硬質薄膜２が被着されてい
ないため溝３となり、第１図（ｂ）に示すような凹凸パ
ターンを形成することができる。さらに、必要に応じて
硬質薄膜２の表面を研磨して、表面粗さ0.25Ra以下のな
めらかな面とすればよい。
（ａ）（ｂ）に示すブロックゲージＢの製法を定盤Ｂを
例として説明する。まずアルミナ，ジルコニアなどのセ
ラミックまたはコバールよりなる基体１を用意し、載置
面をなめらかで平坦な面とする。次にこの載置上面の溝
３とすべき分に樹脂やフォトレジストなどでマスクを形
成しおいて、その上からTiC,TiN,TiB2，ダイヤモンド,W
B,SiC,Si3N4などのビッカース硬度1800Kg/mm2以上の硬
質薄膜２をCVD法などで被着させる。その後、前記マス
クを取り除けばマスク部分は硬質薄膜２が被着されてい
ないため溝３となり、第１図（ｂ）に示すような凹凸パ
ターンを形成することができる。さらに、必要に応じて
硬質薄膜２の表面を研磨して、表面粗さ0.25Ra以下のな
めらかな面とすればよい。
このとき溝３の深さＤは硬質薄膜２の薄厚でありCVD
法の時間を変化させることにより、また溝３の幅Ｗ、ピ
ッチＰはマスクの形状を変化させることによりそれぞれ
容易に変化させることができ、しかも非常に微小なもの
とすることができる。
法の時間を変化させることにより、また溝３の幅Ｗ、ピ
ッチＰはマスクの形状を変化させることによりそれぞれ
容易に変化させることができ、しかも非常に微小なもの
とすることができる。
したがって、定盤Ｊの大きさや被測定物体Ｈの種類、
使用環境などに応じて最適の形状、深さを持った溝３を
形成すればよい。
使用環境などに応じて最適の形状、深さを持った溝３を
形成すればよい。
さらに本発明の他の実施例を説明する。
第３図に示す定盤Ｊは基体１の載置面全体に硬質薄膜
２を被着しておき、表面に溝３よりなる凹凸パターンを
形成したものであり、凸部表面2aは0.25Ra以下のなめら
かな面となっている。このような凹凸パターンは、硬質
薄膜２を被着後、溝３以外の部分にマスクを形成してお
いて、エッチング処理を施したあとマスクを取り除くこ
とによって形成される。
２を被着しておき、表面に溝３よりなる凹凸パターンを
形成したものであり、凸部表面2aは0.25Ra以下のなめら
かな面となっている。このような凹凸パターンは、硬質
薄膜２を被着後、溝３以外の部分にマスクを形成してお
いて、エッチング処理を施したあとマスクを取り除くこ
とによって形成される。
さらに、第４図に示す定盤Ｊは基体１の載置面1aにあ
らかじめ、マスクを形成しておいてエッチングまたはサ
ンドブラストを施すことにより凹凸バターンを形成して
おき、この載置面1aに硬質薄膜２を被着させ、溝３を形
成したものである。
らかじめ、マスクを形成しておいてエッチングまたはサ
ンドブラストを施すことにより凹凸バターンを形成して
おき、この載置面1aに硬質薄膜２を被着させ、溝３を形
成したものである。
これらの第３図、第４図に示した定盤Ｊを用いても溝
３に微細なゴミＧを取り込むことができるため、載置し
た被測定物体を硬質薄膜２の表面2aに完全に密着させる
ことができる。また溝３の深さＤはエッチングまたはサ
ンドブラストの時間を変化させることにより、幅W,ピッ
チＰはマスクの形状を変化させることによりそれぞれ容
易に変化させることがでいる。したっがって、定盤Ｊの
大きさや被測定物体の種類、使用環境などに応じて最適
の形状、深さを持った溝３を形成すればよい。また第３
図、第４図では測定具として定盤のみを示したが、ブロ
ックゲージなどの他の測定具にも応用でき同様の効果を
奏することは言うまでもない。
３に微細なゴミＧを取り込むことができるため、載置し
た被測定物体を硬質薄膜２の表面2aに完全に密着させる
ことができる。また溝３の深さＤはエッチングまたはサ
ンドブラストの時間を変化させることにより、幅W,ピッ
チＰはマスクの形状を変化させることによりそれぞれ容
易に変化させることがでいる。したっがって、定盤Ｊの
大きさや被測定物体の種類、使用環境などに応じて最適
の形状、深さを持った溝３を形成すればよい。また第３
図、第４図では測定具として定盤のみを示したが、ブロ
ックゲージなどの他の測定具にも応用でき同様の効果を
奏することは言うまでもない。
実際に第１図（ａ）（ｂ）、第３図、第４図に示した
定盤Ｊを測定具に使用する場合は種々実験の結果、溝３
の深さＤは５〜10μｍ、幅Ｗが５〜10μｍ、ピッチＰは
１〜５μｍのものがゴミを確実に取り除き摩耗も少なく
優れていた。また、第２図（ａ）（ｂ）に示したブロッ
クゲージＢの場合は溝13の深さＤは５〜10μｍ、幅Ｗは
10〜30μｍ、ピッチＰは0.5〜１μｍのものが優れてい
た。さらに、これらの定盤ＪやブロックゲージＢにおい
て溝3,13の形状は格子状などさまざまなものとしてよ
く、また基準面の端部まで溝3,13を形成しておけば中に
たまったゴミＧを容易に排除することができる。
定盤Ｊを測定具に使用する場合は種々実験の結果、溝３
の深さＤは５〜10μｍ、幅Ｗが５〜10μｍ、ピッチＰは
１〜５μｍのものがゴミを確実に取り除き摩耗も少なく
優れていた。また、第２図（ａ）（ｂ）に示したブロッ
クゲージＢの場合は溝13の深さＤは５〜10μｍ、幅Ｗは
10〜30μｍ、ピッチＰは0.5〜１μｍのものが優れてい
た。さらに、これらの定盤ＪやブロックゲージＢにおい
て溝3,13の形状は格子状などさまざまなものとしてよ
く、また基準面の端部まで溝3,13を形成しておけば中に
たまったゴミＧを容易に排除することができる。
また本発明の実施例の測定具を構成する基体１の材質
はアルミナ，ジルコニア等のセラミックやコバールなど
の熱膨張率の低いものを用いる。らに硬質薄膜2,12とし
て用いる物質は第１表に示すように従来の測定具を形成
する物質である合金工具鋼，炭素クロム鋼，アルミナに
比べ硬度が大きく、したがって本発明実施例に係る測定
具は基準面の耐摩耗性が大きいことがわかる。
はアルミナ，ジルコニア等のセラミックやコバールなど
の熱膨張率の低いものを用いる。らに硬質薄膜2,12とし
て用いる物質は第１表に示すように従来の測定具を形成
する物質である合金工具鋼，炭素クロム鋼，アルミナに
比べ硬度が大きく、したがって本発明実施例に係る測定
具は基準面の耐摩耗性が大きいことがわかる。
次に本発明実施例に係る定盤Ｊを、第２表に示すさま
ざまな材質の基体１と硬質薄膜２の組合せ試作した。基
体１の大きさは縦100mm,横100mm,厚さ20mmで硬質薄膜２
の膜厚は10μm,溝３の幅は10μm,ピッチは1mmとした。
また比較例として同じ大きさで硬質薄膜２を被着しない
ものと、硬質薄膜２を被着して溝３を形成しないもの試
作して、これらの定盤Ｊを用いて特性試験を行った。ま
ず、各々の定盤Ｊに従来のブロックゲージを載置して何
度か前後に動かしてゴミＧを除くようにした後、その大
きさを測定し、測定誤差の大きさを調べ、次に20mm角の
セラミックブロックを各定盤上に一定時間内こすりつけ
て、定盤の摩耗量を測定した。結果は第２表の通りであ
る。
ざまな材質の基体１と硬質薄膜２の組合せ試作した。基
体１の大きさは縦100mm,横100mm,厚さ20mmで硬質薄膜２
の膜厚は10μm,溝３の幅は10μm,ピッチは1mmとした。
また比較例として同じ大きさで硬質薄膜２を被着しない
ものと、硬質薄膜２を被着して溝３を形成しないもの試
作して、これらの定盤Ｊを用いて特性試験を行った。ま
ず、各々の定盤Ｊに従来のブロックゲージを載置して何
度か前後に動かしてゴミＧを除くようにした後、その大
きさを測定し、測定誤差の大きさを調べ、次に20mm角の
セラミックブロックを各定盤上に一定時間内こすりつけ
て、定盤の摩耗量を測定した。結果は第２表の通りであ
る。
第２表より比較例であるNo.1,2の定盤は硬質薄膜２を
被着してないため摩耗量が大きく、またゴミＧが完全に
取り除けないため測定誤差も大きかった。No.3の定盤は
硬質薄膜２を被着しているが溝３を形成していないため
ゴミＧを取り除けず、測定誤差が大きかった。これに対
して、本発明実施例に係るNo.4〜７の定盤はいずれも摩
耗量が少なく、溝中にゴミを取り込むことができるため
測定誤差も小さかった。
被着してないため摩耗量が大きく、またゴミＧが完全に
取り除けないため測定誤差も大きかった。No.3の定盤は
硬質薄膜２を被着しているが溝３を形成していないため
ゴミＧを取り除けず、測定誤差が大きかった。これに対
して、本発明実施例に係るNo.4〜７の定盤はいずれも摩
耗量が少なく、溝中にゴミを取り込むことができるため
測定誤差も小さかった。
次に本発明実施例に係るブロックゲージＢを第２表に
示すさまざま材質の基体11と硬質薄膜12の組合せで試作
した。ブロックゲージＢの大きさは縦10mm,横10mm,基準
面間の距離ｔが5mmとし、硬質薄膜12の膜厚は５μm,溝1
3の幅は10μｍ、ピッチは1mmとした。また比較例とし
て、同じ大きさで、硬質薄膜12を被着しないものと、硬
質薄膜12を被着して溝13を形成しないものも試作して、
これらのブロックゲージＢを用いて特性試験を行った。
まず各々のブロックゲージＢをアルミナセラミックより
なる従来の定盤上に載置し、前後に何度か動かしてゴミ
を取り除くようにした後、基準面間の距離ｔを測定して
誤差の大きさを調べ、次に各々のブロックゲージＢを定
盤上に一定時間こすりつけて、基準面の摩耗量を測定し
た。結果は第３表の通りである。
示すさまざま材質の基体11と硬質薄膜12の組合せで試作
した。ブロックゲージＢの大きさは縦10mm,横10mm,基準
面間の距離ｔが5mmとし、硬質薄膜12の膜厚は５μm,溝1
3の幅は10μｍ、ピッチは1mmとした。また比較例とし
て、同じ大きさで、硬質薄膜12を被着しないものと、硬
質薄膜12を被着して溝13を形成しないものも試作して、
これらのブロックゲージＢを用いて特性試験を行った。
まず各々のブロックゲージＢをアルミナセラミックより
なる従来の定盤上に載置し、前後に何度か動かしてゴミ
を取り除くようにした後、基準面間の距離ｔを測定して
誤差の大きさを調べ、次に各々のブロックゲージＢを定
盤上に一定時間こすりつけて、基準面の摩耗量を測定し
た。結果は第３表の通りである。
第３表より、比較例であるNo.1のものは硬質薄膜12を
被着していないため測定誤差、摩耗量とも大きく、また
No.2のものは溝13を形成していないためゴミを逃がしき
れず、測定誤差が大きかった。これに対して、本発明実
施例に係るNo.3〜７のものは測定誤差、摩耗量ともに小
さく優れた結果であった。
被着していないため測定誤差、摩耗量とも大きく、また
No.2のものは溝13を形成していないためゴミを逃がしき
れず、測定誤差が大きかった。これに対して、本発明実
施例に係るNo.3〜７のものは測定誤差、摩耗量ともに小
さく優れた結果であった。
以上の実施例において、硬質薄膜2,12の被着方法はCV
D法以外にもイオンプレーティング法、スパッタリング
法、イオンデームポジション法などのPVD法を用いても
よい。また、硬質薄膜2,12としてTiC,TiNなどの導電性
の高い物質を用いると、表面の静電気を除去することが
でき好都合であった。
D法以外にもイオンプレーティング法、スパッタリング
法、イオンデームポジション法などのPVD法を用いても
よい。また、硬質薄膜2,12としてTiC,TiNなどの導電性
の高い物質を用いると、表面の静電気を除去することが
でき好都合であった。
（発明の効果） 叙上のように本発明によれば、被測定物体と接触する
平坦な基準面に凹凸パターンを形成するように硬質薄膜
を被着したり、または前記基準面に凹凸パターンを形成
しておいて、その上に硬質薄膜を被着させて測定具を形
成したことによって、該凹凸パターン溝中にゴミが入り
込むため、被測定物体や他の測定具を完全に密着させ、
正確な測定ができるだけでなく、基準面の耐摩耗性が大
きく長期にわたって優れた平坦度を保つことができ、ま
た基準面の粒子構造が丸味を帯びたものとなるため被測
定物体や他の測定具に傷をつけることもないなど、多く
の特長を有した測定具を提供することができる。
平坦な基準面に凹凸パターンを形成するように硬質薄膜
を被着したり、または前記基準面に凹凸パターンを形成
しておいて、その上に硬質薄膜を被着させて測定具を形
成したことによって、該凹凸パターン溝中にゴミが入り
込むため、被測定物体や他の測定具を完全に密着させ、
正確な測定ができるだけでなく、基準面の耐摩耗性が大
きく長期にわたって優れた平坦度を保つことができ、ま
た基準面の粒子構造が丸味を帯びたものとなるため被測
定物体や他の測定具に傷をつけることもないなど、多く
の特長を有した測定具を提供することができる。
第１図（ａ）は本発明に係る測定具の一実施例である定
盤を示す斜視図、第１図（ｂ）は同図（ａ）中のＸ−Ｘ
線断面図である。第２図（ａ）は本発明の他の実施例で
あるブロックゲージを示す斜視図、第２図（ｂ）は同図
（ａ）中のＹ−Ｙ線断面図である。第３図、第４図はそ
れぞれ本発明の他の実施例を示す断面図である。第５図
は第１図に示した定盤上に被測定物体を載置した状態を
示す断面図である。 第６図（ａ）は従来の定盤とブロックゲージを示す斜視
図、第６図（ｂ）は同図（ａ）のＺ−Ｚ線断面図であ
る。 Ｊ……定盤 Ｂ……ブロックゲージ 1,11……基体 2,12……硬質薄膜
盤を示す斜視図、第１図（ｂ）は同図（ａ）中のＸ−Ｘ
線断面図である。第２図（ａ）は本発明の他の実施例で
あるブロックゲージを示す斜視図、第２図（ｂ）は同図
（ａ）中のＹ−Ｙ線断面図である。第３図、第４図はそ
れぞれ本発明の他の実施例を示す断面図である。第５図
は第１図に示した定盤上に被測定物体を載置した状態を
示す断面図である。 第６図（ａ）は従来の定盤とブロックゲージを示す斜視
図、第６図（ｂ）は同図（ａ）のＺ−Ｚ線断面図であ
る。 Ｊ……定盤 Ｂ……ブロックゲージ 1,11……基体 2,12……硬質薄膜
Claims (2)
- 【請求項１】被測定物体と接触する平坦な基準面に、凹
凸パターンを形成するように硬質薄膜を被着したことを
特徴とする測定具。 - 【請求項２】被測定物体と接触する基準面に凹凸パター
ンを形成し、該基準面に硬質薄膜を被着したことを特徴
とする測定具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28525786A JPH0820201B2 (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 測定具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28525786A JPH0820201B2 (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 測定具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63138201A JPS63138201A (ja) | 1988-06-10 |
| JPH0820201B2 true JPH0820201B2 (ja) | 1996-03-04 |
Family
ID=17689156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28525786A Expired - Lifetime JPH0820201B2 (ja) | 1986-11-29 | 1986-11-29 | 測定具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0820201B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6427355B1 (en) | 1999-01-14 | 2002-08-06 | Mitutoyo Corporation | Gauge block |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0339612A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-20 | Origin Electric Co Ltd | 紙の厚さ検知装置用ローラ |
| JP4511316B2 (ja) * | 2003-11-06 | 2010-07-28 | 昭和電工株式会社 | ワーク受け台ならびにこのワーク受け台を備えたワークの平坦度測定装置 |
| JP2005288619A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Nippon Oil Corp | Ｃｆｒｐ定盤 |
| JP7497154B2 (ja) * | 2019-12-20 | 2024-06-10 | 株式会社ディスコ | 隙間ゲージ |
-
1986
- 1986-11-29 JP JP28525786A patent/JPH0820201B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6427355B1 (en) | 1999-01-14 | 2002-08-06 | Mitutoyo Corporation | Gauge block |
| US6516532B2 (en) | 1999-01-14 | 2003-02-11 | Mitutoyo Corporation | Gauge block |
| DE10001171B4 (de) * | 1999-01-14 | 2008-08-28 | Mitutoyo Corp., Kawasaki | Endmaß |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63138201A (ja) | 1988-06-10 |
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