JPH08203010A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ギャップ長不良の発生を抑え、製造歩留りを
向上させる。 【構成】 磁性基板に複数のトラック幅規制溝を形成す
るとともに、上記トラック幅規制溝と直交する方向に巻
線溝１８，２６とガラス溝１９，２７を形成する際、上
記ガラス溝１９，２７を磁性基板の一側縁に開放するよ
うに形成して一対の磁気コア半体ブロック２３，２４を
形成する。次に、上記一対の磁気コア半体ブロック２
３，２４のトラック幅規制溝同士、巻線溝１８，２６同
士及びガラス溝１９，２７同士を位置合わせした状態で
加圧しながら巻線溝１８，２６間及びガラス溝１９，２
７間に形成される溝部間に融着ガラス２９，３０をそれ
ぞれ溶融充填して一対の磁気コア半体ブロック２３，２
４を接合一体化し、所定の幅に分断する。このとき、上
記ガラス溝１９，２７のデプス方向における幅ｗを磁性
基板のデプス方向における磁気ヘッド１個分の全長Ｗの
２０％以下とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される高密度記録用磁気ヘッドを製造す
る磁気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＶＴＲ（ビデオテープレコーダ
ー）等の磁気記録再生装置においては高密度記録等を目
的として、磁気ヘッドの狭トラック幅化及び狭ギャップ
長化が進められるとともに、磁気記録媒体として磁性粉
に強磁性粉末を用いたいわゆるメタルテープや、ベース
フィルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ
等の高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになってき
ている。

【０００３】また、上記高抗磁力磁気記録媒体に対応す
るために、磁気ヘッドの分野においても研究が進められ
ており、高抗磁力磁気記録媒体用の磁気ヘッドとして磁
気コアに磁性金属材料を用いた磁気ヘッドが種々開発さ
れている。このような磁気ヘッドの代表的なものとして
は、強磁性酸化物材料を主コアとし、強磁性金属材料を
磁気ギャップ近傍部に配したメタル・イン・ギャップヘ
ッド（いわゆるＭＩＧヘッド）が挙げられる。

【０００４】上記ＭＩＧヘッドは、フェライト等の酸化
物磁性材料よりなる磁気コア基板の対向面に金属磁性膜
が被着形成された一対の磁気コア半体が、上記金属磁性
膜同士を突き合わせるようにして接合一体化されたもの
であり、当該金属磁性膜の突合わせ面間には磁気ギャッ
プ（フロントギャップ及びバックギャップ）が形成され
ている。

【０００５】このとき、磁気コア基板の対向面の磁気ギ
ャップに相当する位置には磁気ギャップと平行なギャッ
プ形成面が形成されており、上記ギャップ形成面の両端
には、磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅
規制溝が設けられている。従って、磁気コア基板の対向
面にその形状に沿って被着形成される金属磁性膜は、ギ
ャップ形成面上において磁気ギャップと平行となる。ま
た、上記トラック幅規制溝により一対の磁気コア半体間
に形成される溝部間には融着ガラスが充填され、一対の
磁気コア半体は接合一体化されている。

【０００６】そして、上記ＭＩＧヘッドは以下のように
して形成される。すなわち、先ず、板状の磁性フェライ
ト材等の基板のトラック幅規制溝を形成する面の研削加
工を行う。次に、上記基板に機械加工によりトラック幅
規制溝を形成する。

【０００７】次に、上記基板にトラック幅規制溝と直交
する方向に巻線溝及び断面略コ字状のガラス溝を機械加
工により形成する。続いて、各溝部形成面にポリッシン
グ等により鏡面加工を行う。

【０００８】さらに、上記鏡面加工を行った面に、スパ
ッタリング法等の手法により強磁性金属膜を形成し、図
１８に示すような一主面１０１ａに、複数のトラック幅
規制溝１０２、上記トラック幅規制溝１０２と直交する
巻線溝１０３及びガラス溝１０４が形成されるととも
に、金属磁性膜１０５も形成される一対の磁気コア半体
ブロック（図１８中には一方の磁気コア半体ブロック１
０１のみを示す。）を得る。

【０００９】次に、上記一対の磁気コア半体ブロックの
金属磁性膜１０５上にスパッタリング法，蒸着法等によ
り図示しないギャップ膜を形成する。

【００１０】次に、図１９に示すように、上記一対の磁
気コア半体ブロック１０１，１１１をそれぞれの金属磁
性膜１０５，１１５を突き合わせるようにして相対向さ
せ、複数のトラック幅規制溝１０２，１１２同士、巻線
溝１０３，１１３同士、ガラス溝１０４，１１４同士を
位置合わせした状態で、上記巻線溝１０３，１１３間及
びガラス溝１０４，１１４間に形成される溝部間に融着
ガラス１０６，１０７をそれぞれ配する。

【００１１】そして、磁気コア半体ブロック１０１，１
１１を加圧して突き合わせながら加熱して図２０に示す
ように上記融着ガラス１０６，１０７を溶融充填させて
一対の磁気コア半体ブロック１０１，１１１を接合一体
化する。

【００１２】最後に上記接合一体化された一対の磁気コ
ア半体ブロック１０１，１１１を所定の幅に分断して磁
気ヘッドを得る。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにして製造されるＭＩＧヘッドにおいては、ギャッ
プ長不良が生じ易く、製造歩留りが良好でないという不
都合が生じている。

【００１４】前述のように、ＭＩＧヘッドにおいても、
高密度記録化のための狭トラック幅化及び狭ギャップ長
化が進められており、例えばトラック幅を１５μｍ以下
としている。このように狭トラック幅化を進めると、ト
ラック幅規制溝形成時や各溝部形成面の鏡面加工時、所
定の幅に分断する際にトラック幅規制溝間の部分、すな
わち磁気ギャップ形成部分の欠けや折れが発生し易い。

【００１５】また、上記ＭＩＧヘッドを製造するにあた
っては、製造コストをなるべく低く抑え、生産性を高め
るために磁気コア半体ブロックを形成する板状の磁性フ
ェライト材である基板の磁気ギャップのデプス方向にお
ける長さを磁気コア半体ブロックのデプス方向における
長さと略同等とするようにしている。従って、図２１に
示すような巻線溝１０３及びガラス溝１０４の形成され
た磁気コア半体ブロック１０１の断面略コ字状のガラス
溝１０４と磁気コア半体ブロック１０１の一側縁１０１
ｂの間の部分１０８のデプス方向における厚さｔは０．
１ｍｍ程度となってしまう。

【００１６】すなわち、上記磁気コア半体ブロック１０
１のガラス溝１０４と一側縁１０１ｂの間の部分１０８
は断面積０．１ｍｍ×１５μｍ程度の非常に小さな柱状
の突起部となり、その剛性は非常に小さいものとなって
しまう。そして、トラック幅規制溝，巻線溝，ガラス溝
を形成した後に各溝部形成面を鏡面加工したり、所定の
幅に分断したりすると、図２２に示すように上記磁気コ
ア半体ブロック１０１のガラス溝１０４と一側縁１０１
ｂの間の部分１０８（以下、突起部１０８と称する。）
に欠けや折れが非常に発生し易い。

【００１７】ところで、上記ＭＩＧヘッドを製造する
際、磁性フェライト材よりなる基板への各溝部形成にお
ける加工歪や磁性フェライト材よりなる基板上への金属
磁性膜形成における熱膨張率の差により、図２３に示す
ように、一対の磁気コア半体ブロック１０１，１１１
（図２３中には一方の磁気コア半体ブロック１０１のみ
を示す。）には、例えば各溝部形成面である一主面１０
１ａ側が凸となるような反りが生じる。なお、この反り
の反り量Ｌは通常５〜６μｍ程度である。そこで、この
ような一対の磁気コア半体ブロック１０１，１１１を接
合一体化するにあたっては、前述のように加圧を行って
おり、その圧力は上記反りを解消できる程度の１０〜２
０ＭＰａ（約１００〜２００ｋｇ／ｃｍ² ）とされてい
る。

【００１８】さらに、上記のようなＭＩＧヘッドにおい
ては、通常±０．０１μｍ程度のギャップ長精度が要求
されており、上記ギャップ長精度を達成するためには、
一対の磁気コア半体ブロック１０１，１１１を接合一体
化するための加圧を突き合わせ面全面に均一に行う必要
がある。しかしながら、上記のように突起部１０８に欠
けや折れが生じていると、加圧を突き合わせ面全面に均
一に行うことができず、ギャップ長不良が生じ易い。

【００１９】すなわち、図２４に示すように、一対の磁
気コア半体ブロック１０１，１１１を接合一体化するべ
くこれらを相対向させて図中矢印Ｐで示す方向に加圧し
て突き合わせる際に、磁気コア半体ブロック１０１の突
起部１０８と磁気コア半体ブロック１１１の突起部１１
８間を突き合わせようとすると、突起部１０８，１１８
と反対側の磁気ギャップ形成側が開いてしまい、上記ギ
ャップ長精度を達成することは困難であり、ギャップ長
不良が生じ易く、製造歩留りは良好ではない。

【００２０】これらの問題を解消するべく、突起部１０
８，１１８のデプス方向の厚さｔを大きくして（例えば
０．３ｍｍ程度）上記のような突起部１０８，１１８の
欠けや折れの発生を防ぎ、ギャップ長不良の発生を防ぐ
ことも考えられるが、そのためには磁性フェライト材よ
りなる基板のデプス方向の長さを従来よりも大きくする
必要が生じ、製造コストの増大を招き、好ましくない。

【００２１】そこで、本発明は従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、狭トラック幅化、狭ギャップ長化し
てもギャップ長不良が生じ難く、製造歩留りが向上し、
製造コストを増大させることなく磁気ヘッドを製造する
ことの可能な磁気ヘッドの製造方法を提供することを目
的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明は、磁性基板の一主面に磁気ギャップのトラ
ック幅を規制する複数のトラック幅規制溝を形成すると
ともに、上記トラック幅規制溝と直交する方向に巻線溝
とガラス溝を形成して一対の磁気コア半体ブロックを形
成し、上記一対の磁気コア半体ブロックを各溝部形成面
を対向面として相対向させ、トラック位置合わせした状
態で加圧しながら一対の磁気コア半体ブロックの巻線溝
間に形成される溝部間とガラス溝間に形成される溝部間
に融着ガラスを溶融充填して該一対の磁気コア半体ブロ
ックを接合一体化した後、所定の幅に分断して磁気ヘッ
ドを得る磁気ヘッドの製造方法において、ガラス溝が磁
性基板の一側縁に開放して形成されており、且つ磁気ギ
ャップのデプス方向において上記ガラス溝の幅ｗが磁性
基板の磁気ヘッド１個分の全長の２０％以下であること
を特徴とするものである。

【００２３】なお、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、磁性基板の各溝部形成面上に金属磁性膜を形成
しても良い。

【００２４】さらに、本発明の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、磁気ギャップのトラック幅が１５μｍ以下で
あっても良い。

【００２５】

【作用】本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、磁
性基板に磁気ギャップのトラック幅を規制する複数のト
ラック幅規制溝を形成するとともに、上記トラック幅規
制溝と直交する方向に巻線溝とガラス溝を形成する際、
上記ガラス溝を磁性基板の一側縁に開放するように形成
して一対の磁気コア半体ブロックを形成するため、従来
のように磁気コア半体ブロックの一側縁とガラス溝間に
柱状の突起部が形成されることがなく、この部分の欠け
や折れが生じることもない。従って、上記一対の磁気コ
ア半体ブロックを接合一体化するために加圧しながら巻
線溝間に形成される溝部間とガラス溝間に形成される溝
部間に融着ガラスを溶融充填する際に加圧が突き合わせ
面全面に均一に行われギャップ長精度が確保される。ま
た、上記ガラス溝のデプス方向における幅ｗが磁性基板
のデプス方向における磁気ヘッド１個分の全長Ｗの２０
％以下とされていることから、突き合わせ面が十分に確
保され、ギャップ長精度が確保される。

【００２６】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本実施
例の磁気ヘッドの製造方法においては、ＭＩＧヘッドを
製造するものとした。

【００２７】先ず、本実施例の磁気ヘッドの製造方法に
よって製造される磁気ヘッドについて説明する。

【００２８】上記磁気ヘッドは図１に示すように、フェ
ライト等の酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板３，４
の対向面に金属磁性膜５，６が被着形成された一対の磁
気コア半体１，２が、上記金属磁性膜５，６を突き合わ
せるようにして接合一体化されたものであり、当該金属
磁性膜５，６の突合わせ面間には記録再生として動作す
る磁気ギャップｇ₁ （フロントギャップ）と記録再生と
して動作しない磁気ギャップｇ₂ （バックギャップ）が
形成されている。

【００２９】このとき、図２に示すように、磁気コア基
板３，４の対向面の磁気ギャップｇ₁ ，ｇ₂ に相当する
位置には磁気ギャップｇ₁ ，ｇ₂ と平行なギャップ形成
面３ａ，４ａが形成されており（図２中には磁気ギャッ
プｇ₁ のみを示す。）、その両端には、磁気ギャップｇ
₁ ，ｇ₂ のトラック幅を規制するためのトラック幅規制
溝７，８が設けられている。

【００３０】すなわち、磁気コア基板３，４の対向面に
その形状に沿って被着形成される金属磁性膜５，６は、
ギャップ形成面３ａ，４ａ上において磁気ギャップｇ₁
と平行となる。また、トラック幅規制溝７，８によって
磁気コア基板３，４のギャップ形成面３ａ，４ａの幅が
規制されていることから、金属磁性膜５，６の突き合わ
せ面の幅も自ずから規制されることとなる。従って、金
属磁性膜５，６の突き合わせ面間に形成される磁気ギャ
ップｇ₁ ，ｇ₂ のトラック幅Ｔｗも規制されることとな
る。（図２には磁気ギャップｇ₁ のみを示す。）なお、
本実施例においては、トラック幅Ｔｗが１５μｍ以下で
あるものとする。

【００３１】また、磁気ギャップｇ₁ （フロントギャッ
プ）側及び磁気ギャップｇ₂ （バックギャップ）側のト
ラック幅規制溝７，８により形成される溝部間には融着
ガラス９，１０が充填され、磁気コア半体１，２は接合
一体化されている。

【００３２】さらに、磁気コア基板３，４にはコイルを
巻回するための巻線溝１１，１２及びこれらと相対向す
る位置に巻線補助溝１３，１４が設けられている。そし
て、この磁気ヘッドにおいては、磁気記録媒体に対する
当たりを確保するために磁気記録媒体と摺接する磁気記
録媒体摺動面に段差が設けられている。

【００３３】次いで、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
について説明する。先ず、図３に示されるように、フェ
ライト等の酸化物磁性材料よりなる磁性基板１６を用意
し、上記磁性基板１６の各溝部を形成する一主面１６ａ
に研削加工を行った後、上記一主面１６ａに磁気コア基
板の突き合わせ面の幅、すなわち後工程において形成さ
れる磁気ギャップｇ₁ のトラック幅Ｔｗを規制するため
のトラック幅規制溝１７を機械加工により複数形成す
る。

【００３４】上記のような磁性基板１６としては、フェ
ライト等の酸化物磁性材料が用いられるが、このような
酸化物磁性材料としては、フェライトの単結晶或いは多
結晶、或いはこれらの接合材等が挙げられる。なお、本
実施例においては、フェライトの単結晶を用いた。

【００３５】次いで、図４に示すように、コイルを巻装
するための断面略コ字状の巻線溝１８、ガラス融着接合
を行うための断面略Ｖ字状のガラス溝１９をトラック幅
規制溝１７と直交するように機械加工によって形成し、
磁性基板１６の一主面１６ａをポリッシング等により鏡
面に仕上げる。なお、本実施例においては、上記磁性基
板１６により２個の磁気コア半体ブロックを形成できる
ように、巻線溝１８及びガラス溝１９を各２個ずつ形成
するものとした。

【００３６】このとき、巻線溝１８の一方の側面１８ａ
は、後工程において形成される磁気ギャップｇ₁ （フロ
ントギャップ）深さ（デプス）を規制することとなるた
め傾斜面とする。なお、巻線溝１８の他方の側面１８ｂ
は、傾斜面または垂直面のいずれでも良い。

【００３７】そして、本実施例においては、図５に示す
ように、ガラス溝１９を断面略Ｖ字状の溝部として形成
し、磁気ヘッド完成後に底面となる側の側面が一主面１
６ａに対して垂直となるように形成し、ガラス溝１９の
デプス方向の幅ｗが磁性基板１６中の１個の磁気ヘッド
分のデプス方向の長さＷの２０％以下となるようにし
た。

【００３８】次に、図６に示すような磁性基板１６のト
ラック幅規制溝１７，巻線溝１８，ガラス溝１９の形成
により残った図中斜線部で示すギャップ形成面１６ｂを
ポリッシング等の手法により鏡面加工する。

【００３９】そして、上記磁性基板１６を図５及び図６
中のＸ−Ｘ´及びＹ−Ｙ´にて示す切断線により切断
し、図７に示すような一対のブロック半体（図中には一
方のブロック半体２０のみを示す。）を形成する。この
とき、図８に示すように、上記一方のブロック半体２０
のガラス溝１９は、磁性基板よりなるブロック半体２０
の一側縁に開放して形成されており、他方のブロック半
体においても同様である。

【００４０】次いで、図９及び図１０に示すようにトラ
ック幅規制溝１７，巻線溝１８，ガラス溝１９の形成さ
れた上記ブロック半体２０のギャップ形成面２０ａに、
金属磁性膜２１をスパッタリング法，蒸着法等の真空薄
膜形成法により形成する。この際、金属磁性膜２１とブ
ロック半体２０の付着力を向上させるために、これらの
間に下地膜を介在させても良い。

【００４１】上記金属磁性膜２１としては、センダスト
（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）及びこれにＴｉを添加したもの、
Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ等よりなる結晶質磁性金属膜、
或いはＦｅ系，Ｃｏ系の微結晶磁性金属膜等が挙げら
れ、これらの積層膜を用いても良い。また、下地膜とし
ては、ＳｉＯ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄
等の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ
る。なお、本実施例においては、金属磁性膜２１として
Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ膜を形成し、下地膜としてＳｉ
Ｏ₂ 膜を形成した。

【００４２】続いて、図１１に示すように金属磁性膜２
１上にスパッタリング法，蒸着法等の手法により所定の
ギャップ長を形成できるギャップ膜２２を形成して磁気
コア半体ブロック２３を得る。なお、本実施例において
は、ギャップ膜２２としてスパッタリング法により厚さ
１００ｎｍのＳｉＯ₂ 膜を形成するものとした。

【００４３】次に、図１２に示すように、上記のように
して得られた磁気コア半体ブロック２３とこれと同様に
形成される磁気コア半体ブロック２４の接合一体化を行
うべく、それぞれに形成される金属磁性膜を対向面とし
てギャップ膜を介して突き合わせ、トラック幅規制溝同
士、巻線溝１８，２６同士、ガラス溝１９，２７同士の
位置合わせを行った状態で、巻線溝１８，２６の溝部
間、ガラス溝１９，２７の溝部間に融着ガラス２９，３
０をそれぞれ配する。なお、図１２中においては、磁気
コア半体ブロック２３，２４の金属磁性膜及びトラック
幅規制溝の図示を省略するものとする。

【００４４】そして、上記磁気コア半体ブロック２３，
２４を加圧して突き合わせながら融着ガラス２９，３０
が溶融する温度まで加熱し、上記融着ガラス２９，３０
を巻線溝１８，２６からトラック幅規制溝へ、或いはガ
ラス溝１９，２７からトラック幅規制溝にわたるように
溶融充填する。続いて室温まで冷却して融着ガラス２
９，３０を固化させて加圧を解放する。その結果、図１
３に示すように一対の磁気コア半体ブロック２３，２４
は巻線溝１８，２６の溝部間に充填された融着ガラス２
９及びガラス溝１９，２７の溝部間に充填された融着ガ
ラス３０により接合一体化される。なお、図１３中にお
いても、磁気コア半体ブロック２３，２４の金属磁性膜
及びトラック幅規制溝の図示を省略するものとする。

【００４５】そして、このとき、図示しない金属磁性膜
の突き合わせ面間には、磁気ギャップｇ₁ （フロントギ
ャップ）及び図示しない磁気ギャップｇ₂ （バックギャ
ップ）が形成される。

【００４６】最後に、磁気コア半体ブロック２３，２４
の巻線溝１８，２６に相対向する位置に巻線補助溝を形
成し、これらの磁気記録媒体摺動面に円筒研削を施し、
必要に応じて所定のアジマス角に傾斜させ、当たり幅を
確保する段差加工を行い、所定の幅（チップ厚）に分断
して図１に示すような磁気ヘッドを完成する。

【００４７】すなわち、本実施例の磁気ヘッドの製造方
法においては、一対の磁気コア半体ブロック２３，２４
にガラス溝１９，２７が各磁気コア半体ブロック２３，
２４の一側縁に開放して形成されているため、従来のよ
うに磁気コア半体ブロックの一側縁とガラス溝間に柱状
の突起部が形成されることがなく、この部分の欠けや折
れが生じることもない。

【００４８】従って、一対の磁気コア半体ブロック２
３，２４を接合一体化するために加圧しながら巻線溝１
８，２６間に形成される溝部間とガラス溝１９，２７間
に形成される溝部間に融着ガラス２９，３０を溶融充填
する際にも加圧が突き合わせ面全面に均一に行われギャ
ップ長精度が確保され、製造歩留りが向上する。

【００４９】また、上記ガラス溝１９，２７のデプス方
向の幅ｗが磁性基板１６の中の１個の磁気ヘッド分のデ
プス方向の長さＷの２０％以下とされていることから、
磁気コア半体ブロック２３，２４を接合一体化する際の
突き合わせ面が十分に確保され、ギャップ長精度が向上
し、製造歩留りが向上する。

【００５０】さらに、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
においては、用いる磁性基板のサイズを変更することな
く、磁気ヘッドの製造を行うため、製造コストが増大す
ることもない。

【００５１】上述の実施例においては、ガラス溝を断面
略Ｖ字状の溝部として形成する例について述べたが、ガ
ラス溝の形状としては、上記の断面略Ｖ字状のものの他
に、断面略コ字状のものも挙げられる。すなわち、図１
４に示すように、磁性基板４６にガラス溝４９を断面略
コ字状の溝部として形成し、少なくとも磁気ヘッド完成
後に底面となる側の面が各溝部形成面となる一主面４６
ａに対して垂直となるようにしても良い。

【００５２】そして、上記磁性基板４６を図１４中ｘ−
ｘ´及びｙ−ｙ´にて示す切断線により切断し、一対の
ブロック半体を形成すると、図１５に示すようにガラス
溝４９は、磁性基板よりなるブロック半体５０の一側縁
に開放して形成されることとなり、上述の実施例と同様
の効果を有する。

【００５３】また、上述の実施例においては、本発明を
ＭＩＧヘッドの製造に適用した例について述べたが、本
発明が一対の磁気コア半体を加圧しながら突き合わせて
ガラス溝間に融着ガラスを溶融充填して接合一体化して
製造する磁気ヘッドの製造方法であれば適用可能である
ことは言うまでもない。

【００５４】次に、ガラス溝のデプス方向の幅がギャッ
プ長精度に及ぼす影響について調査した。すなわち、先
に述べた実施例に従って磁気ヘッドを製造する際にガラ
ス溝１９のデプス方向の幅を変化させてそれぞれ磁気ヘ
ッドを製造し、各磁気ヘッドにおけるギャップ長不良発
生率を調査した。なお、ここではギャップ長を０．２μ
ｍとした。

【００５５】具体的には、図１６に示すように、製造さ
れる磁気ヘッドの磁気コア半体６１（磁性基板）のデプ
ス方向の全長をＷとし、ガラス溝６２のデプス方向の幅
をｗとしたとき、ガラス溝６２のデプス方向の幅ｗを変
化させてこれらの比ｗ／Ｗが０．１，０．１５，０．２
０，０．２５，０．３０となるような磁気ヘッドをそれ
ぞれ製造し、これらの磁気ヘッドのギャップ長を走差型
電子顕微鏡により測定した。そしてギャップ長が０．２
±０．０１μｍを越えるものをギャップ長不良とし、そ
の発生率を調査した。

【００５６】なお、比較のために従来の磁気ヘッドの製
造方法によっても磁気ヘッドを製造し、これについても
ギャップ長不良を調査した。ただし、従来の磁気ヘッド
の製造方法に従って磁気ヘッドを製造する際、図１７に
示すようにガラス溝７２のデプス方向の幅ｗと製造され
る磁気ヘッドの磁気コア半体７１のデプス方向の全長Ｗ
の比を０．３０とし、ガラス溝７２が磁気コア半体７１
の一側縁にかからないように形成するものとした。

【００５７】その結果、ｗ／Ｗが０．２以下であるもの
についてはギャップ長不良発生率が０％であった。ｗ／
Ｗが０．２５であるものについてはギャップ長が大きく
なる傾向がありギャップ長不良発生率は１０％であり、
０．３０であるものについてもギャップ長が大きくなる
傾向がありギャップ長不良発生率は３０％であった。

【００５８】また、従来の磁気ヘッドの製造方法に従っ
て製造した磁気ヘッドにおいては、ギャップ長が大きく
なる傾向がありギャップ長不良発生率は３０％であっ
た。さらには、ガラス溝７２と磁性基板７１の一側縁７
１ｂ間の突起部７３に欠けや折れが多発していた。

【００５９】すなわち、本発明の磁気ヘッドの製造方法
のように、磁性基板の一側縁に開放して形成され、デプ
ス方向の幅ｗが磁性基板の磁気ヘッド１個分のデプス方
向の全長Ｗの２０％以下とされているガラス溝を形成し
て一対の磁気コア半体ブロックを形成すれば、これら一
対の磁気コア半体ブロックを接合一体化するために加圧
しながら巻線溝間に形成される溝部間とガラス溝間に形
成される溝部間に融着ガラスを溶融充填する際に加圧が
突き合わせ面全面に均一に行われギャップ長精度が確保
されることが確認された。

【００６０】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドの製造方法においては、磁性基板に磁気
ギャップのトラック幅を規制する複数のトラック幅規制
溝を形成するとともに、上記トラック幅規制溝と直交す
る方向に巻線溝とガラス溝を形成する際、上記ガラス溝
を磁性基板の一側縁に開放するように形成して一対の磁
気コア半体ブロックを形成するため、従来のように磁気
コア半体ブロックの一側縁とガラス溝間に柱状の突起部
が形成されることがなく、この部分の欠けや折れが生じ
ることもない。従って、上記一対の磁気コア半体ブロッ
クを接合一体化するために加圧しながら巻線溝間に形成
される溝部間とガラス溝間に形成される溝部間に融着ガ
ラスを溶融充填する際に加圧が突き合わせ面全面に均一
に行われギャップ長精度が確保され、製造歩留りが向上
する。また、上記ガラス溝のデプス方向における幅ｗが
磁性基板のデプス方向における磁気ヘッド１個分の全長
Ｗの２０％以下とされていることから、突き合わせ面が
十分に確保され、ギャップ長精度が確保される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法によっ
て製造される磁気ヘッドを示す斜視図である。

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法によっ
て製造される磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍部を示す要
部拡大平面図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、磁性基板にトラック幅規制
溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、磁性基板に巻線溝，ガラス
溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図５】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、磁性基板に巻線溝，ガラス
溝を形成する工程を示す側面図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、磁性基板に鏡面加工を行う
工程を示す斜視図である。

【図７】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、磁性基板を切断して得たブ
ロック半体を示す斜視図である。

【図８】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、ブロック半体を示す側面図
である。

【図９】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すものであり、ブロック半体に金属磁性膜
を形成する工程を示す斜視図である。

【図１０】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一
例を工程順に示すものであり、ブロック半体に金属磁性
膜を形成する工程を示す要部拡大側面図である。

【図１１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一
例を工程順に示すものであり、金属磁性膜上にギャップ
膜を形成する工程を示す要部拡大側面図である。

【図１２】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一
例を工程順に示すものであり、一対の磁気コア半体ブロ
ックを接合一体化する工程を示す斜視図である。

【図１３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一
例を工程順に示すものであり、一対の磁気コア半体ブロ
ックを接合一体化した状態を示す斜視図である。

【図１４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の他
の例における磁性基板にガラス溝を形成する工程を示す
側面図である。

【図１５】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の他
の例のブロック半体を示す側面図である。

【図１６】磁気コア半体のデプス方向の全長とガラス溝
のデプス方向の幅の関係の一例を示す模式図である。

【図１７】磁気コア半体のデプス方向の全長とガラス溝
のデプス方向の幅の関係の他の例を示す模式図である。

【図１８】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
ものであり、磁気コア半体ブロックを形成する工程を示
す斜視図である。

【図１９】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
ものであり、一対の磁気コア半体ブロックを接合一体化
する工程を示す斜視図である。

【図２０】従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示す
ものであり、一対の磁気コア半体ブロックを接合一体化
した状態を示す斜視図である。

【図２１】従来の磁気ヘッドの製造方法によって形成さ
れる磁気コア半体ブロックを示す側面図である。

【図２２】従来の磁気ヘッドの製造方法によって形成さ
れる磁気コア半体ブロックを示す斜視図である。

【図２３】従来の磁気ヘッドの製造方法において、磁気
コア半体ブロックに反りが生じた状態を示す模式図であ
る。

【図２４】従来の磁気ヘッドの製造方法において、一対
の磁気コア半体ブロックの接合時に磁気ギャップ形成側
が開いた状態を示す模式図である。

【符号の説明】

１６・・・磁性基板 １６ａ・・・一主面 １７・・・トラック幅規制溝 １８，２６・・・巻線溝 １９，２７・・・ガラス溝 ２１・・・金属磁性膜 ２３，２４・・・磁気コア半体ブロック ２９，３０・・・融着ガラス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 後藤 和伯 宮城県登米郡中田町宝江新井田字加賀野境 30 ソニー・プレシジョン・マグネ株式会 社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁性基板の一主面に磁気ギャップのトラ
   ック幅を規制する複数のトラック幅規制溝を形成すると
   ともに、上記トラック幅規制溝と直交する方向に巻線溝
   とガラス溝を形成して一対の磁気コア半体ブロックを形
   成し、 上記一対の磁気コア半体ブロックを各溝部形成面を対向
   面として相対向させ、トラック位置合わせした状態で加
   圧しながら一対の磁気コア半体ブロックの巻線溝間に形
   成される溝部間とガラス溝間に形成される溝部間に融着
   ガラスを溶融充填して該一対の磁気コア半体ブロックを
   接合一体化した後、所定の幅に分断して磁気ヘッドを得
   る磁気ヘッドの製造方法において、 ガラス溝が磁性基板の一側縁に開放して形成されてお
   り、且つ磁気ギャップのデプス方向において上記ガラス
   溝の幅ｗが磁性基板の磁気ヘッド１個分の全長の２０％
   以下であることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 磁性基板の各溝部形成面上に金属磁性膜
   を形成することを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド
   の製造方法。
3. 【請求項３】 磁気ギャップのトラック幅が１５μｍ以
   下であることを特徴とする請求項１または２記載の磁気
   ヘッドの製造方法。