JPH0729117A

JPH0729117A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH0729117A
Application number: JP17130893A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Saito; 正斉藤; Heikichi Sato; 平吉佐藤; Tomio Kobayashi; 富夫小林
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-07-12
Filing date: 1993-07-12
Publication date: 1995-01-31

Abstract

(57)【要約】【目的】飽和磁界が大きく、記録効率に優れた磁気ヘ
ッドを提供する。【構成】一対の磁気コア半体１，２の互いの突き合わ
せ面を斜めに切り欠いた金属磁性薄膜形成面１ａ，２ａ
に形成された強磁性金属薄膜３の端面が互いに突き合わ
されて両者間に磁気ギャップｇを形成する磁気ヘッドに
おいて、金属磁性薄膜形成面１ａ，２ａから垂直方向に
測定した強磁性金属薄膜３の厚さｔが、磁気ギャップｇ
近傍において、ギャップ接合長Ｌより大とされている。
なお、上記ギャップ接合長Ｌは１５μｍ以下である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッド、特に一対
のコア半体の互いの突き合わせ面に強磁性金属薄膜が形
成され、両コア半体の強磁性金属薄膜の端面間が突き合
わされて両端面間に作動磁気ギャップが形成されてなる
狭トラック磁気ヘッドに係わる。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置にお
いて、高画質化等を図るため、強磁性金属粉末を使用し
たいわゆるメタルテープや、非磁性支持体上に強磁性金
属材料を直接被着した蒸着テープ等の高保磁力の磁気記
録媒体が使用されつつある。この種の磁気記録媒体は高
い保磁力Ｈｃを有するため、これに対して記録再生を行
う磁気ヘッドの材料にも高い飽和磁束密度Ｂｓが要求さ
れる。

【０００３】そこで、本出願人は、先に特開昭６０−２
２９２１０号明細書において、例えばメタルテープ等の
高い保磁力を有する磁気記録媒体に高密度記録再生する
に適した磁気ヘッドを提案した。

【０００４】この磁気ヘッドは、例えば図１５にその拡
大斜視図を示し、図１６に更にその一部の拡大正面図を
示すようにメタル・イン・ギャップ型の構成を採る。即
ち、一対の磁気コア半体１０１及び１０２を高透磁率の
強磁性酸化物により形成するとともに、これら磁気コア
半体１０１及び１０２の接合面を斜めに切り欠いた強磁
性金属薄膜形成面１０１ａ，１０２ａには、フロントギ
ャップ形成面からバックギャップ形成面に至るまで連続
して、飽和磁束密度Ｂｓの高い強磁性金属薄膜１０３が
ｔなる厚さに被着形成されている。

【０００５】そして、これら一対の磁気コア半体１０
１，１０２をギャップ材を介して突き合わせ、上記強磁
性金属薄膜１０３の当接面がギャップ接合長Ｌ，トラッ
ク幅Ｔｗの磁気ギャップｇとなるように構成されてい
る。また、上記磁気コア半体１０１，１０２の突き合わ
せ面には、当該磁気ギャップｇのデプスを規制するとと
もにコイル１０８を巻回させるための巻線溝１０６，１
０７が形成されている。

【０００６】ここで、上記各磁気コア半体１０１，１０
２に被着形成される強磁性金属薄膜１０３は、磁気テー
プ対接面から見たときに、一直線状に連なっており、磁
気コア半体１０１，１０２の突き合わせ面１１０に対し
てθなる角度で傾斜している。

【０００７】上記磁気コア半体１０１，１０２の接合面
にはトラック幅を規制するための第２の切溝１０１ｂ，
１０２ｂが設けられ、この溝１０１ｂ，１０２ｂに臨む
強磁性酸化物とこれに対向する強磁性金属薄膜１０３と
の距離を確保するとともに、この溝の対称バランスによ
って加工時の強磁性酸化物に対するストレスを小さなも
のとなし、磁気コア半体１０１，１０２のマイクロクラ
ックの発生を防止するようになっている。

【０００８】また、上記磁気ギャップｇの形成面近傍、
すなわち磁気テープ対接面における磁気ギャップｇの両
側部には、トラック幅を規制し上記強磁性金属薄膜１０
３の摩耗を防止するための非磁性材１０４，１０５が溶
融充填されている。

【０００９】なお、この種の狭トラック磁気ヘッドの製
造方法は、例えば本出願人の出願に係わる特開昭６１−
１０５７１０号明細書に提案されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】前述したように、かか
る磁気ヘッドに用いられる材料には高い飽和磁束密度Ｂ
ｓが要求されていることから、磁気ギャップｇを形成す
る材料には強磁性金属薄膜が使用され、強磁性金属薄膜
を形成する基板には磁性フェライトがもちいられてい
る。このような材料構成とすることにより、磁気信号記
録時において強磁性金属薄膜と磁性フェライトから流入
する磁束の合計がギャップ部に合流するため、磁性フェ
ライトの飽和磁束密度Ｂｓ以上のギャップ中磁界が得ら
れ、高い抗磁力を有する磁気記録媒体に対しても磁気信
号を記録することが可能となる。

【００１１】このような磁気ヘッドにおいては、強磁性
金属薄膜同士の接合面が磁気ギャップｇを形成している
ため、この強磁性金属薄膜同士の接合面を通過できる磁
束量が、磁気ヘッドの漏れ磁界の強さを決めることにな
る。しかし、強磁性金属薄膜は、磁気コア接合面とはθ
なる傾斜角度を有するため、磁気ギャップｇ近傍におい
て強磁性金属薄膜形成面から垂直方向に測定した強磁性
金属薄膜の厚さｔはギャプ接合長Ｌより小となってい
る。すなわち、磁気ギャップｇを形成している面の面積
より、強磁性金属薄膜の磁路断面積の方が小さいので、
磁気ギャップｇにおける飽和磁界に達する前に磁路にお
いて飽和磁界に達してしまう。

【００１２】特に、ギャップ接合長Ｌが小さい、換言す
るならばトラック幅Ｔｗが小さい磁気ヘッドにおいて
は、上記傾向が顕著に現れ、記録効率が低下してしまう
という問題があった。

【００１３】そこで本発明は、かかる従来の実情を鑑み
て提案されたものであり、狭トラック幅化が図られた磁
気ヘッドにおいても、強磁性金属薄膜が有する高い飽和
磁束密度Ｂｓを十分に発揮できる構造を有する磁気ヘッ
ドを提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、上述の目的を
達成するために提案されたものであり、一対のコア半体
の互いの突き合わせ面に臨んで斜面を有する溝が設けら
れ、該斜面に形成された強磁性金属薄膜の端面が互いに
突き合わされて両者間に磁気ギャップｇが形成されてな
る磁気ヘッドにおいて、上記斜面から垂直方向に測定し
た上記強磁性金属薄膜の厚さｔが、磁気ギャップｇ近傍
においてギャップ接合長Ｌより大であるものである。

【００１５】また、本発明においては、上記ギャップ接
合長Ｌが１５μｍ以下であることが好ましい。

【００１６】

【作用】上記強磁性金属薄膜の厚さｔをギャップ接合長
Ｌより大とすると、磁気ギャップｇ近傍の強磁性金属薄
膜の磁路断面積が、磁気ギャップｇを形成する面（強磁
性金属薄膜の突き合わせ面）の面積より大きくなる。し
たがって、磁気ギャップｇ形成面において飽和磁界に達
する前に、磁路において飽和磁界に達してしまうことが
ない。したがって、磁気ギャップｇにおいて、大きな漏
れ磁界を発生させることができ、磁気ヘッドの記録効率
の向上を図ることができる。

【００１７】特に、ギャップ接合長Ｌが小さい、換言す
るならばトラック幅Ｔｗの小さい磁気ヘッドの記録効率
を向上させるのに効果的である。

【００１８】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１９】先ず、本発明による磁気ヘッドの一構成例
を説明する。この磁気ヘッドは、図１にその拡大斜視図
を示し、図２に更にその一部の拡大正面図を示すよう
に、一対の磁気コア半体１及び２が強磁性酸化物、例え
ば単結晶フェライトで形成され、これら磁気コア半体
１，２の接合面を斜めに切り欠いた強磁性金属薄膜形成
面１ａ，２ａには、フロントギャップ形成面からバック
ギャップ形成面に至るまで連続して、ＦｅＡｌＳｉ系合
金（センダスト）等の飽和磁束密度Ｂｓの高い強磁性金
属薄膜３がｔなる厚さに被着形成されている。

【００２０】そして、これら一対の磁気コア半体１，２
をＳｉＯ₂等のギャップ材を介して突き合わせ、上記強
磁性金属薄膜３の当接面が、ギャップ接合長Ｌ，トラッ
ク幅Ｔｗの磁気ギャップｇとなるように構成されてい
る。また、上記磁気コア半体１，２の突き合わせ面に
は、当該磁気ギャップｇのデプスを規制するとともにコ
イル８を巻回させるための巻線溝６，７が形成されてい
る。

【００２１】ここで、上記各磁気コア半体１，２に被着
形成される強磁性金属薄膜３は、磁気テープ摺接面から
見たときに、略一直線状に連なっており、磁気コア半体
１，２の突き合わせ面１０に対してθなる角度で傾斜し
ている。

【００２２】上記磁気コア半体１，２の接合面には、ト
ラック幅を規制するための第２の切溝１ｂ，２ｂが設け
られている。この第２の切溝１ｂ，２ｂは、強磁性金属
薄膜３が被着形成された強磁性金属薄膜形成面１ａ，２
ａの一側縁と若干オーバーラップするように形成されて
いるため、突き合わせ面１０近傍においては、強磁性金
属薄膜３の厚さはｔより小さくなっている。したがっ
て、図１５，１６で示されるような従来型の磁気ヘッド
においては、ギャップ接合長Ｌはｔより大であったのに
対し、本発明の磁気ヘッドのギャップ接合長Ｌはｔより
小とすることが可能である。

【００２３】なお、上記切溝１ｂ，２ｂは、上記非磁性
材５と強磁性酸化物との界面の形状が屈曲する如く形成
されているが、たとえば磁気ヘッドを磁気テープ対接面
から見たときに上記界面の形状が略円弧状となるような
曲面をもって切削加工してもよい。上記切溝１ｂ，２ｂ
を設けることによって、この切溝１ｂ，２ｂに臨む強磁
性酸化物とこれに対向する強磁性金属薄膜３との距離を
確保するとともに、この溝の対称バランスによって加工
時の強磁性酸化物に対するストレスを小さなものとな
し、磁気コア半体１，２のマイクロクラックの発生を防
止することができる。

【００２４】そして、上記強磁性金属薄膜３が形成され
ている溝と上記切溝１ｂ，２ｂとにはそれぞれ非磁性材
４，５が充填されることにより、磁気ギャップｇの形成
面近傍、すなわち磁気テープ対接面における磁気ギャッ
プｇの両側部においてトラック幅Ｔｗを規制するととも
に、上記強磁性金属薄膜３の摩耗を防止している。

【００２５】一方、上記強磁性金属薄膜形成面１ａ，２
ａと突き合わせ面１０とがなす角θは、２０°〜８０°
の範囲内に設定することが好ましい。この傾斜角θが２
０°以下であると隣接トラックからのクロストークが大
きくなってしまう。また、θ＝９０°にした場合は、耐
摩耗性が劣ることから８０°程度以下とするのが良い。
なお、本実施例においては、θ＝４０゜とした。

【００２６】さらに、上記磁気ヘッドの製造方法を図３
〜図８を参照して説明する。まず、磁性基板２０を用意
する。本実施例においては、この磁性基板２０として、
単結晶フェライトを用いたが、多結晶フェライト基板，
単結晶フェライトと多結晶フェライトの接合基板，面指
数の異なる単結晶基板同士の接合基板等を用いてもよ
い。また、結晶化ガラスや非磁性酸化物等の非磁性基板
も使用可能である。

【００２７】そして、図３に示すように、上記磁性基板
２０の上面２０ａ、すなわち磁気コア半体突き合わせ時
の接合面に、回転砥石等により断面略Ｖ字状の第１の切
溝２１を全体に亘って複数平行に形成し、強磁性金属薄
膜形成面２１ａを形成する。なお、上記強磁性金属薄膜
形成面２１ａは、磁気コア同士の突き合わせ面に相当す
る上記磁性基板２０の上面２０ａと所定の角度θで傾斜
するように斜面として形成され、その角度θは４０°と
した。

【００２８】次に、図４に示すように、上記磁性基板２
０の全面に亘って強磁性金属薄膜２３を被着形成した。
本実施例においては、ＦｅＡｌＳｉ系合金（センダス
ト）をｔなる厚さに被着形成したが、高透磁率、高飽和
磁束密度の金属、例えば上記センダストや、これにＯ，
Ｎ，Ｔｉを含有させた合金の薄膜、或いはＦｅＲｕＧａ
Ｓｉ系合金や、これにＯ，Ｎを含有させた結晶質磁性
膜、その他、Ｆｅ系微結晶膜やＣｏ系微結晶膜、軟磁性
アモルファス、さらに窒化系もしくは炭化系等の軟磁性
材料よりなる金属薄膜が使用可能であり、これらは物理
的蒸着法、例えばマグネトロン型スパッタリング法によ
って形成すればよい。

【００２９】なお、磁性基板２０に強磁性金属薄膜２３
を形成する前に、磁性基板２０と強磁性金属薄膜２３間
の化学反応の防止や付着力改善のためにＣｒ等を予め形
成しておくことも有効である。また、上記強磁性金属薄
膜２３の形成後、表面の酸化防止のためにＣｒやＳｉＯ
₂等を形成しても良い。

【００３０】そして、以上のようにして強磁性金属薄膜
２３を成膜した後、図５に示すように、金属薄膜２３が
被着形成された第１の切溝２１内に、非磁性材２４を充
填した後、上記磁性基板２０の上面２０ａを平面研磨
し、その上面２０ａ上の余分な金属薄膜２３を除去す
る。さらに、平滑度良く面出しを行い、上記磁性基板２
０の上面２０ａに上記強磁性金属薄膜形成面２１ａ上に
被着される強磁性金属薄膜２３の端面を露出させる。

【００３１】さらに、図６に示すように、上記強磁性金
属薄膜２３が被着形成された強磁性金属薄膜形成面２１
ａに隣接して、上記第１の切溝２１の一側縁と若干オー
バーラップさせて第１の切溝２１と平行に第２の切溝２
５を切削加工し、上記磁性基板２０の上面２０ａに対し
て鏡面加工を施す。この結果、上記強磁性金属薄膜２３
のみにより磁気ギャップｇが構成され、トラック幅Ｔｗ
が規制されることとなる。

【００３２】このとき、第２の切溝２５と第１の切溝２
１のオーバーラップする量、すなわち強磁性金属薄膜２
３の切り欠かれる量を調節することによって、さらに
は、磁性基板２０の上面２０ａの面出しによって、ギャ
ップ接合長Ｌを所望の大きさに規制することが可能とな
るが、本発明においては、Ｌ＜ｔとなるように作成し
た。

【００３３】なお、この第２の切溝２５の溝形状として
は、単なるＶ字状であっても良いが、例えば断面多角形
状や半円形状とし、この切溝２５の内壁面を２段階或い
はそれ以上に屈曲した形状とすることにより、強磁性酸
化物と強磁性金属薄膜との距離をある程度確保すること
ができる。このような溝形状とすることにより、長波長
成分の信号を再生することによるクロストーク成分を低
減することができ、さらに、トラック幅規制溝部の端面
がそれぞれ磁気ギャップのアジマス角と異なる方向で傾
斜されるので、隣接トラックあるいは隣々接トラックか
らのクロストークが減少される。

【００３４】さらにまた、上記強磁性金属薄膜形成面２
１ａ上に強磁性金属薄膜２３を被着形成した後、トラッ
ク幅を規制するための第２の切溝２５を形成するという
工程となっているため、この第２の切溝２５の切削位置
を調節することによりトラック幅を精度良く規制するこ
とが可能となり、強磁性金属薄膜のみで構成された磁気
ギャップ部から最短距離を通って強磁性酸化物に磁束を
通す形状の磁気ヘッドを歩留り良く製造できるととも
に、出力も大きくなり、生産性や信頼性、製造コストの
点で有利である。

【００３５】そして、図７に示すように、上記磁性基板
２０に対して、上記第１の切溝２１及び第２の切溝２５
と直交する方向に溝加工を施し、複数の巻線溝２６、及
び接合の際にガラス棒を挿入するためのＨ溝２７を形成
する。そして、上記磁性基板２０を切断することによっ
てコアブロック２９を切り出す。

【００３６】続いて、図８に示すように、一対のコアブ
ロック２９を対向させ、ギャップスペーサを介して、上
記強磁性金属薄膜２３同士が突き合わされるように接合
配置する。そして、これらコアブロック２９をガラスに
より融着すると同時に、上記第２の切溝２５内に上記非
磁性材２８を充填する。

【００３７】なお、上記ギャップスペーサとしては、Ｓ
ｉＯ₂，ＺｒＯ₂，Ｔａ₂Ｏ₅，Ｃｒ等が使用される。
また、この製造工程において、上記第２の切溝２５への
非磁性材２８の充填は、コアブロック２９同士の融着と
同時でなく、例えば図６の工程で予め第２の切溝２５内
に非磁性材２８を充填し、図８に示す工程ではガラス融
着のみとしてもよい。

【００３８】そして、磁気テープ摺接面を円筒研磨した
後、図８中Ａ−Ａ線及びＡ’−Ａ’線の位置でスライシ
ング加工し、複数個のヘッドチップを切り出して図１及
び図２に示すような磁気ヘッドを完成する。なお、この
とき、接合したコアブロック２９に対するスライシング
の方向を突き合わせ面に対して傾斜させ、アジマス記録
用の磁気ヘッドとした。

【００３９】このように形成された磁気ヘッドは、その
強磁性金属薄膜３と強磁性酸化物との接合面即ち強磁性
金属薄膜形成面１ａ又は２ａ、更に、強磁性金属薄膜３
と非磁性材４又は５との接合面による疑似ギャップが作
動磁気ギャップｇのギャップ面と非平行に形成されるこ
とからアジマス損が大となり、この疑似ギャップによる
実質的影響を回避できるというものである。

【００４０】尚、上述の実施例においては、コア半体
１，２を磁性体によって構成した場合であるが、結晶化
ガラス、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム等の非磁
性体によって構成するときは、図１においてギャップデ
プス規制する巻線溝６，７が強磁性金属薄膜３を横切る
ことのない深さに選定し、強磁性金属薄膜３がバックギ
ャップにまで延在して作動磁気ギャップｇを含む閉磁路
とすることが必須となる。

【００４１】また、図１に示した磁気ヘッドにおいて
は、両コア半体１，２の互いの対向方向にそれぞれ巻線
溝６，７を形成するようにしたが、一方にのみこの溝
６，７の形成を行うようにした構成をとる磁気ヘッド
等、上述した例に限らず種々の変形変更がなされた磁気
ヘッドに本発明を適用することができる。

【００４２】実験１ここで、上述のような本発明の磁気ヘッドを従来の磁気
ヘッドと比較するために次のような実験を行った。

【００４３】先ず、上述した構造の磁気ヘッドについ
て、ギャップ接合長Ｌ＝１０μｍに設定し、強磁性金属
薄膜の厚さｔを種々に変化させた場合の磁気ギャップ部
における飽和磁界の大きさをシュミレーションにより計
算した。同様にして、Ｌ＝１５μｍ，Ｌ＝２０μｍに設
定し、強磁性金属薄膜の厚さｔを種々に変化させた場合
についても磁気ギャップｇ近傍における飽和磁界の大き
さをシュミレーションにより計算した。なお、強磁性金
属薄膜の飽和磁束密度Ｂｓは１．０Ｔとした。

【００４４】図９にＬ＝１０μｍとした磁気ヘッドにつ
いて、磁気ギャップｇ近傍における強磁性金属薄膜の厚
さｔと磁気ギャップｇを通過できる最大の磁界（見かけ
上の磁気ギャップｇの飽和磁界）との関係を調べた結果
を示す。同じく、図１０はＬ＝１５μｍとした磁気ヘッ
ド、図１１はＬ＝２０μｍとした磁気ヘッドについて、
磁気ギャップｇ近傍における強磁性金属薄膜の厚さｔと
見かけ上の磁気ギャップｇの飽和磁界との関係である。

【００４５】図９，１０，１１より、強磁性金属薄膜の
厚さｔが小さいものほど、磁気ギャップｇを通過できる
磁界も小さく、磁気ギャップｇを本来通過できるはずの
飽和磁界より小さい値となってしまっていることがわか
る。図９，１０，１１を比較すると、ギャップ接合長Ｌ
が小さい磁気ヘッドほど、強磁性金属薄膜の厚さｔの減
少にともなう飽和磁界の低下の度合が著しい。

【００４６】これより、ギャップ接合長Ｌが小さい、換
言するならばトラック幅Ｔｗが小さい磁気ヘッドにおい
て、磁気ギャップｇに大きな磁界を通過させるために
は、ｔをできるだけ大きく、少なくともｔ＞Ｌとするこ
とが必要であることがわかる。

【００４７】実験２次に、ｔ＞Ｌとした磁気ヘッドの入出力特性について調
べることにする。

【００４８】先ず、本実施例において説明した方法に従
って、表１に示されるようなギャップ接合長Ｌ、磁気ギ
ャップｇ近傍における強磁性金属薄膜の厚さｔを有する
磁気ヘッド（磁気ヘッドＡ〜Ｆ）を作成した。

【００４９】

【表１】

【００５０】図１２は磁気ヘッドＡと磁気ヘッドＢにつ
いて入出力特性をそれぞれ示したものであり、図１３は
磁気ヘッドＣと磁気ヘッドＤについて、図１４は磁気ヘ
ッドＥと磁気ヘッドＦについて入出力特性をそれぞれ示
したものである。

【００５１】図１２，１３，１４より、ｔ＞Ｌである磁
気ヘッド（磁気ヘッドＢ，Ｄ，Ｆ）の方が、ｔ＜Ｌであ
る磁気ヘッド（磁気ヘッドＡ，Ｃ，Ｄ）より優れた入出
力特性を有することがわかる。特に、図１２，１３で
は、強磁性金属薄膜の厚さｔをギャップ接合長Ｌより大
きくすることによる効果が大きい。これより、ギャップ
接合長Ｌが１５μｍ以下の磁気ヘッドにおいては、強磁
性金属薄膜の厚さｔをギャップ接合長Ｌより大きくする
ことが好ましいことがわかる。

【００５２】以上の実験より、同じギャップ接合長Ｌを
有する磁気ヘッドであれば、強磁性金属薄膜の厚さｔが
厚いものほど、飽和磁界が大きくなり、その結果入出力
特性にも優れた磁気ヘッドとなることがわかった。特
に、ギャップ接合長Ｌが１５μｍ以下である磁気ヘッド
においては、強磁性金属薄膜の厚さｔをギャップ接合長
Ｌより大きくすることによる効果が大きいことがわかっ
た。

【００５３】

【発明の効果】以上の説明から明かなように、本発明の
磁気ヘッドは強磁性金属薄膜が有する高い飽和磁束密度
Ｂｓを十分に発揮できる構造をとっているので、ギャッ
プ接合長Ｌが小さい、換言するならばトラック幅Ｔｗが
小さい磁気ヘッドにおいても、磁気ギャップ部の飽和磁
界が大きくなり、優れた記録効率を発揮する。したがっ
て、本発明を適用することにより、入出力特性に優れた
磁気ヘッドを提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの一構成例を示す斜視図で
ある。

【図２】本発明の磁気ヘッドの一構成例を示す正面図で
ある。

【図３】本発明の磁気ヘッドの製造工程を順に示すもの
であって、磁性基板に切り溝を設ける工程を示す斜視図
である。

【図４】強磁性金属薄膜を成膜する工程を示す斜視図で
ある。

【図５】非磁性材を充填する工程を示す斜視図である。

【図６】第２の切溝を設ける工程を示す斜視図である。

【図７】巻線溝とＨ溝を設ける工程を示す斜視図であ
る。

【図８】コアブロックを突き合わせて接合する工程を示
す斜視図である。

【図９】ギャップ接合長Ｌを１０μｍに設定した磁気ヘ
ッドの、磁気ギャップｇ近傍における金属磁性薄膜の厚
さｔと飽和磁界との関係を示す特性図である。

【図１０】ギャップ接合長Ｌを１５μｍに設定した磁気
ヘッドの、磁気ギャップｇ近傍における金属磁性薄膜の
厚さｔと飽和磁界との関係を示す特性図である。

【図１１】ギャップ接合長Ｌを２０μｍに設定した磁気
ヘッドの、磁気ギャップｇ近傍における金属磁性薄膜の
厚さｔと飽和磁界との関係を示す特性図である。

【図１２】磁気ヘッドＡと磁気ヘッドＢについて、記録
電流と相対出力の関係を示す特性図である。

【図１３】磁気ヘッドＣと磁気ヘッドＤについて、記録
電流と相対出力の関係を示す特性図である。

【図１４】磁気ヘッドＥと磁気ヘッドＦについて、記録
電流と相対出力の関係を示す特性図である。

【図１５】従来型の磁気ヘッドの一構成例を示す斜視図
である。

【図１６】従来型の磁気ヘッドの一構成例を示す正面図
である。

【符号の説明】

１，２・・・磁気コア半体１ａ，２ａ・・・強磁性金属薄膜形成面１ｂ，２ｂ・・・切溝３・・・強磁性金属薄膜４，５・・・非磁性材６，７・・・巻線溝８・・・コイル１０・・・突き合わせ面２０・・・磁性基板２１・・・切溝２１ａ・・・強磁性金属薄膜形成面２３・・・強磁性金属薄膜２４，２８・・・非磁性材２５・・・第２の切溝２９・・・コアブロック

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対のコア半体の互いの突き合わせ面に
臨んで斜面を有する溝が設けられ、該斜面に形成された
強磁性金属薄膜の端面が互いに突き合わされて両者間に
磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記斜面から垂直方向に測定した上記強磁性金属薄膜の
厚さが、磁気ギャップ近傍においてギャップ接合長より
大であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】ギャップ接合長が１５μｍ以下であるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。