JPH08203992A - 半導体ウェハキャリヤ - Google Patents
半導体ウェハキャリヤInfo
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- JPH08203992A JPH08203992A JP7010789A JP1078995A JPH08203992A JP H08203992 A JPH08203992 A JP H08203992A JP 7010789 A JP7010789 A JP 7010789A JP 1078995 A JP1078995 A JP 1078995A JP H08203992 A JPH08203992 A JP H08203992A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体ウェハのエッチングや洗浄等のウエッ
ト処理で使用される処理液の流れを良くし、良質な処理
済ウェハが提供可能な半導体ウェハキャリヤを提供する
ことを目的としている。 【構成】 本発明は、半導体ウェハのエッチング処理や
洗浄処理等を行う際に用いられる、半導体ウェハキャリ
であって、ウェハ倒れ防止棒３に設けられた、ウェハ４
の倒れを防止するための溝６の下部に、前記処理液を効
率良く流すための貫通穴７を前記ウェハ倒れ防止棒３の
長手方向に対して垂直、かつ、溝６と同じ方向に設けた
ことを特徴としている。 【効果】 半導体ウェハのエッチングや洗浄等のウエッ
ト処理において、処理液を確実に、かつ、効率良く流す
ことができ、上質な処理済半導体ウエハが提供可能な半
導体ウェハキャリヤを提供するこたができる。
ト処理で使用される処理液の流れを良くし、良質な処理
済ウェハが提供可能な半導体ウェハキャリヤを提供する
ことを目的としている。 【構成】 本発明は、半導体ウェハのエッチング処理や
洗浄処理等を行う際に用いられる、半導体ウェハキャリ
であって、ウェハ倒れ防止棒３に設けられた、ウェハ４
の倒れを防止するための溝６の下部に、前記処理液を効
率良く流すための貫通穴７を前記ウェハ倒れ防止棒３の
長手方向に対して垂直、かつ、溝６と同じ方向に設けた
ことを特徴としている。 【効果】 半導体ウェハのエッチングや洗浄等のウエッ
ト処理において、処理液を確実に、かつ、効率良く流す
ことができ、上質な処理済半導体ウエハが提供可能な半
導体ウェハキャリヤを提供するこたができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェハの保持装
置に係わり、特に多数枚のウェハを同時にエッチングや
洗浄等のウエット処理を行なう際に使用される、半導体
ウェハの保持装置に関するものである。
置に係わり、特に多数枚のウェハを同時にエッチングや
洗浄等のウエット処理を行なう際に使用される、半導体
ウェハの保持装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体ウェハ（以下、単にウェ
ハと呼ぶ）の製造過程でエッチングや洗浄等のウエット
処理を行なう場合において、ウェハを一枚毎にたてか
け、かつ、多数枚収納させる半導体ウェハキャリヤ（以
下、単にキャリヤと呼ぶ）が用いられている。
ハと呼ぶ）の製造過程でエッチングや洗浄等のウエット
処理を行なう場合において、ウェハを一枚毎にたてか
け、かつ、多数枚収納させる半導体ウェハキャリヤ（以
下、単にキャリヤと呼ぶ）が用いられている。
【０００３】その構造は、２つの側面保持材に両端を同
じ高さで平行に取り付けられた２本のウェハ支持棒と、
その内側に前記ウェハ支持棒と平行、かつ、下部に両端
を取り付けられた少なくとも１本のウェハ倒れ防止棒か
ら成る。２本のウェハ支持棒には所定の間隔のピッチで
多数枚のウェハを１枚毎に保持する溝が設けられてお
り、その溝において、ウェハの荷重を２点で支承するも
のである。また、同じ間隔のピッチでウェハ倒れ防止棒
にはウェハの倒れを防止するための溝が設けられてお
り、その溝において、ウェハの揺動、ガタつき及び倒れ
を防止し、通常、ウェハの荷重そのものを支承すること
はない構造となっている。これは、ウェハ倒れ防止棒の
溝でウェハの荷重を支承すると、２本のウェハ支持棒の
溝でウェハが浮き上がり、ガタつきや揺動が生じる虞れ
があるからである。特に、ウェハの外形にはわずかなが
ら公差があり、この公差を吸収するためにもウェハ倒れ
防止棒の溝において、ウェハは浮上した状態とし、単に
ウェハの軸方向の振れを規制するのみの構造となってい
るものである。側面保持材やウェハ支持棒、ウェハ倒れ
防止棒に用いられる材料としては化学的に安定な石英や
フッ素樹脂が知られている。
じ高さで平行に取り付けられた２本のウェハ支持棒と、
その内側に前記ウェハ支持棒と平行、かつ、下部に両端
を取り付けられた少なくとも１本のウェハ倒れ防止棒か
ら成る。２本のウェハ支持棒には所定の間隔のピッチで
多数枚のウェハを１枚毎に保持する溝が設けられてお
り、その溝において、ウェハの荷重を２点で支承するも
のである。また、同じ間隔のピッチでウェハ倒れ防止棒
にはウェハの倒れを防止するための溝が設けられてお
り、その溝において、ウェハの揺動、ガタつき及び倒れ
を防止し、通常、ウェハの荷重そのものを支承すること
はない構造となっている。これは、ウェハ倒れ防止棒の
溝でウェハの荷重を支承すると、２本のウェハ支持棒の
溝でウェハが浮き上がり、ガタつきや揺動が生じる虞れ
があるからである。特に、ウェハの外形にはわずかなが
ら公差があり、この公差を吸収するためにもウェハ倒れ
防止棒の溝において、ウェハは浮上した状態とし、単に
ウェハの軸方向の振れを規制するのみの構造となってい
るものである。側面保持材やウェハ支持棒、ウェハ倒れ
防止棒に用いられる材料としては化学的に安定な石英や
フッ素樹脂が知られている。
【０００４】この種の従来のキャリヤの一例として、ウ
ェハ倒れ防止棒が最小数の１本であるものを図７及び図
７のＩ−Ｉ線断面図である図８と、図８中に示す矢視図
Ｊ、ＫおよびＬを参照して説明する。なお図７はキャリ
ヤの上面図である。
ェハ倒れ防止棒が最小数の１本であるものを図７及び図
７のＩ−Ｉ線断面図である図８と、図８中に示す矢視図
Ｊ、ＫおよびＬを参照して説明する。なお図７はキャリ
ヤの上面図である。
【０００５】ウェハ支持棒１２には、長手方向に所定の
間隔のピッチにて多数設けられたＶ字状の溝１５が設け
られており、かつ、ウェハ倒れ防止棒１３にも、長手方
向にウェハ支持棒１２と同じ間隔のピッチにて多数設け
られたＹ字状の溝１６が設けられている。ウェハ１４は
長手方向に前記所定の間隔のピッチにて多数枚立て掛け
られて収納される。矢視図Ｊ、Ｋはウェハ支持棒１２に
設けられたＶ字状の溝形状を示すものであり、矢視図Ｌ
はウェハ倒れ防止棒１３に設けられたＹ字状の溝形状を
示すものである。
間隔のピッチにて多数設けられたＶ字状の溝１５が設け
られており、かつ、ウェハ倒れ防止棒１３にも、長手方
向にウェハ支持棒１２と同じ間隔のピッチにて多数設け
られたＹ字状の溝１６が設けられている。ウェハ１４は
長手方向に前記所定の間隔のピッチにて多数枚立て掛け
られて収納される。矢視図Ｊ、Ｋはウェハ支持棒１２に
設けられたＶ字状の溝形状を示すものであり、矢視図Ｌ
はウェハ倒れ防止棒１３に設けられたＹ字状の溝形状を
示すものである。
【０００６】２本のウェハ支持棒１２に設けられている
Ｖ字状の溝１５は、ウェハ１４の外周縁部をその２か所
で保持する機能を有し、ウェハ倒れ防止棒１３に設けら
れているＹ字状の溝１６は、矢視図Ｌで示すように、ウ
ェハ１４を溝１６にくわえこみ、ウェハが倒れないよう
になされたものである。
Ｖ字状の溝１５は、ウェハ１４の外周縁部をその２か所
で保持する機能を有し、ウェハ倒れ防止棒１３に設けら
れているＹ字状の溝１６は、矢視図Ｌで示すように、ウ
ェハ１４を溝１６にくわえこみ、ウェハが倒れないよう
になされたものである。
【０００７】しかしながら、上記キャリヤでは、ウェハ
倒れ防止棒１３に設けられたＹ字状の溝１６とウェハ１
４との隙間が狭いため、ウェハ１４のエッチングや洗浄
等のウエット処理において用いられる処理液が、処理液
の入った処理槽内でキャリヤの揺動により流れる時、ウ
ェハ倒れ防止棒１３に設けられたＹ字状の溝１６とウェ
ハ１４との隙間では処理液の流れが悪く、十分なエッチ
ングや洗浄等のウエット処理の処理効果を得ることがで
きない。また処理後においても、ウェハ倒れ防止棒１３
に設けられたＹ字状の溝１６とウェハ１４との隙間を処
理液が流れず残留してしまい、良質なウェハが得られな
いと言う不具合があった。特に、この不具合は粘度の高
い処理液を用いる場合に顕著となり、不都合であった。
これは、ウェハ倒れ防止棒１３に設けられたＹ字状の溝
１６が前記ウェハ１４の倒れ防止のため、溝１６の幅を
狭くしなければならない事による。
倒れ防止棒１３に設けられたＹ字状の溝１６とウェハ１
４との隙間が狭いため、ウェハ１４のエッチングや洗浄
等のウエット処理において用いられる処理液が、処理液
の入った処理槽内でキャリヤの揺動により流れる時、ウ
ェハ倒れ防止棒１３に設けられたＹ字状の溝１６とウェ
ハ１４との隙間では処理液の流れが悪く、十分なエッチ
ングや洗浄等のウエット処理の処理効果を得ることがで
きない。また処理後においても、ウェハ倒れ防止棒１３
に設けられたＹ字状の溝１６とウェハ１４との隙間を処
理液が流れず残留してしまい、良質なウェハが得られな
いと言う不具合があった。特に、この不具合は粘度の高
い処理液を用いる場合に顕著となり、不都合であった。
これは、ウェハ倒れ防止棒１３に設けられたＹ字状の溝
１６が前記ウェハ１４の倒れ防止のため、溝１６の幅を
狭くしなければならない事による。
【０００８】また、更に従来のキャリヤでウェハのエッ
チングや洗浄等のウエット処理において用いられる処理
液の流れを考慮したものとして、特開平６−３３４０２
５号公報が知られている。その実施例の構造について
は、キャリヤの上面図である図７のＩ−Ｉ線断面図、図
８と同様となる図９に示し、これを参照し、説明する。
チングや洗浄等のウエット処理において用いられる処理
液の流れを考慮したものとして、特開平６−３３４０２
５号公報が知られている。その実施例の構造について
は、キャリヤの上面図である図７のＩ−Ｉ線断面図、図
８と同様となる図９に示し、これを参照し、説明する。
【０００９】この構造では、ウェハ支持棒はウェハ倒れ
防止棒と同じ形状であるので、ここでは３本共ウェハ支
持棒の呼称とする。ウェハ１４ａは、その外周縁部を３
本のウェハ支持棒１２ａの長手方向に所定の間隔のピッ
チに設けられた溝で保持され、かつ、ウェハ１４ａが倒
れないようになされている。そして、３本のウェハ支持
棒１２ａがウェハ１４ａの外周縁部と接する溝の断面形
状を円弧状１２ｂのように形成することにより、前記ウ
ェハ１４ａのエッチングや洗浄等のウエット処理におい
て用いられる処理液の流れを良くすることを特徴として
いる。
防止棒と同じ形状であるので、ここでは３本共ウェハ支
持棒の呼称とする。ウェハ１４ａは、その外周縁部を３
本のウェハ支持棒１２ａの長手方向に所定の間隔のピッ
チに設けられた溝で保持され、かつ、ウェハ１４ａが倒
れないようになされている。そして、３本のウェハ支持
棒１２ａがウェハ１４ａの外周縁部と接する溝の断面形
状を円弧状１２ｂのように形成することにより、前記ウ
ェハ１４ａのエッチングや洗浄等のウエット処理におい
て用いられる処理液の流れを良くすることを特徴として
いる。
【００１０】しかしながら、３本のウェハ支持棒１２ａ
に設けられた溝は、ウェハ１４ａが倒れないようにする
ため、矢視図Ｍからも明らかなように、ウェハ１４ａの
外周縁部とウェハ支持棒１２ｂ部の溝との隙間は狭くせ
ざるを得ない。そのため、処理液の入った処理槽内でキ
ャリヤが揺動される時、ウェハ支持棒１２ｂ部の溝とウ
ェハ１４ａ外周縁部との隙間では処理液の流れが悪く、
十分なエッチングや洗浄等のウエット処理の処理効果を
得ることができない。また、処理後においても、ウェハ
支持棒１２ｂ部の溝とウェハ１４ａ外周縁部との隙間で
は処理液が流れず残留してしまい、良質なウェハが得ら
れないと言う不具合があった。特に、この不具合は粘度
の高い処理液を用いる場合においては顕著となり、不都
合であった。よって、良質な半導体ウェハを得ることが
困難となる。
に設けられた溝は、ウェハ１４ａが倒れないようにする
ため、矢視図Ｍからも明らかなように、ウェハ１４ａの
外周縁部とウェハ支持棒１２ｂ部の溝との隙間は狭くせ
ざるを得ない。そのため、処理液の入った処理槽内でキ
ャリヤが揺動される時、ウェハ支持棒１２ｂ部の溝とウ
ェハ１４ａ外周縁部との隙間では処理液の流れが悪く、
十分なエッチングや洗浄等のウエット処理の処理効果を
得ることができない。また、処理後においても、ウェハ
支持棒１２ｂ部の溝とウェハ１４ａ外周縁部との隙間で
は処理液が流れず残留してしまい、良質なウェハが得ら
れないと言う不具合があった。特に、この不具合は粘度
の高い処理液を用いる場合においては顕著となり、不都
合であった。よって、良質な半導体ウェハを得ることが
困難となる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、キャリヤに
おいて、ウェハの外周縁部と接する２本のウェハ支持棒
に設けられるウェハを保持するための溝、及びその内側
にある少なくとも１本のウェハ倒れ防止棒に設けられる
ウェハの倒れを防止するための溝において、エッチング
や洗浄等のウエット処理で使用される処理液の流れを良
くする溝の形状を提案し、良質なウェハを得るためのキ
ャリヤを提供することを目的としている。
おいて、ウェハの外周縁部と接する２本のウェハ支持棒
に設けられるウェハを保持するための溝、及びその内側
にある少なくとも１本のウェハ倒れ防止棒に設けられる
ウェハの倒れを防止するための溝において、エッチング
や洗浄等のウエット処理で使用される処理液の流れを良
くする溝の形状を提案し、良質なウェハを得るためのキ
ャリヤを提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明はキャリヤにおいて、ウェハ倒れ防止棒に設
けられるウェハの倒れを防止するための溝の下部に、エ
ッチングや洗浄等のウエット処理に用いられる処理液を
確実、かつ、効率良く流すための貫通した穴をウェハ倒
れ防止棒の長手方向に対して直角、かつ、ウェハ倒れ防
止棒に設けられた溝と同じ方向に設けたことを特徴とす
る。さらに他の手段として、ウェハの外周縁部と接する
２本のウェハ支持棒に設けられるウェハを保持するため
の溝、及びその内側にある少なくとも１本のウェハ倒れ
防止棒に設けられるウェハの倒れを防止するための溝の
下部に、エッチングや洗浄等のウエット処理に用いられ
る処理液を確実、かつ、効率良く流すための貫通した穴
をウェハ支持棒及びウェハ倒れ防止棒の長手方向に直角
で、かつ、溝と同じ方向に設けたことを特徴としてい
る。
め、本発明はキャリヤにおいて、ウェハ倒れ防止棒に設
けられるウェハの倒れを防止するための溝の下部に、エ
ッチングや洗浄等のウエット処理に用いられる処理液を
確実、かつ、効率良く流すための貫通した穴をウェハ倒
れ防止棒の長手方向に対して直角、かつ、ウェハ倒れ防
止棒に設けられた溝と同じ方向に設けたことを特徴とす
る。さらに他の手段として、ウェハの外周縁部と接する
２本のウェハ支持棒に設けられるウェハを保持するため
の溝、及びその内側にある少なくとも１本のウェハ倒れ
防止棒に設けられるウェハの倒れを防止するための溝の
下部に、エッチングや洗浄等のウエット処理に用いられ
る処理液を確実、かつ、効率良く流すための貫通した穴
をウェハ支持棒及びウェハ倒れ防止棒の長手方向に直角
で、かつ、溝と同じ方向に設けたことを特徴としてい
る。
【００１３】
【作用】従って、本発明により、キャリヤに収納された
多数枚のウェハは、その外周縁部とウェハ支持棒に設け
られたウェハを支持するための溝、及びウェハ倒れ防止
棒に設けられたウェハの倒れを防止するための溝を設け
ることにより、エッチングや洗浄等のウエット処理に用
いられる処理液を確実に、かつ、効率良く流すことがで
き、良質な処理済ウェハを提供することができる。特
に、粘度の高い処理液を用いる場合において有効であ
る。
多数枚のウェハは、その外周縁部とウェハ支持棒に設け
られたウェハを支持するための溝、及びウェハ倒れ防止
棒に設けられたウェハの倒れを防止するための溝を設け
ることにより、エッチングや洗浄等のウエット処理に用
いられる処理液を確実に、かつ、効率良く流すことがで
き、良質な処理済ウェハを提供することができる。特
に、粘度の高い処理液を用いる場合において有効であ
る。
【００１４】
実施例１ 本実施例は、請求項１について、ウェハ倒れ防止棒が最
小数である１本のもので説明するものである。以下、図
１及び図１のＡ−Ａ線断面図である図２と、図２中に示
す矢視図Ｂ、ＣおよびＤ、そして処理液の流れを説明す
るための図３を参照して説明する。
小数である１本のもので説明するものである。以下、図
１及び図１のＡ−Ａ線断面図である図２と、図２中に示
す矢視図Ｂ、ＣおよびＤ、そして処理液の流れを説明す
るための図３を参照して説明する。
【００１５】図１はキャリヤの上面図である。キャリヤ
は２本の平行なウェハ支持棒２と、その内側にあり、か
つ、２本のウェハ支持棒より下部にあり、さらに、平行
である１本のウェハ倒れ防止棒３の両端を２つの側面保
持材１で保持され構成されている。そして、ウェハ支持
棒２及びウェハ倒れ防止棒３には、その長手方向に所定
の間隔のピッチで多数枚のウェハを１枚毎にたてかける
ための溝が設けられており、ウェハ４は、その外周縁部
を２本のウェハ支持棒２の二箇所の溝５で保持され、ウ
ェハ倒れ防止棒３の溝６で倒れない様になされている。
側面保持材やウェハ支持棒，ウェハ倒れ防止棒に用いら
れる材料としては化学的に安定な石英やフッ素樹脂が知
られている。
は２本の平行なウェハ支持棒２と、その内側にあり、か
つ、２本のウェハ支持棒より下部にあり、さらに、平行
である１本のウェハ倒れ防止棒３の両端を２つの側面保
持材１で保持され構成されている。そして、ウェハ支持
棒２及びウェハ倒れ防止棒３には、その長手方向に所定
の間隔のピッチで多数枚のウェハを１枚毎にたてかける
ための溝が設けられており、ウェハ４は、その外周縁部
を２本のウェハ支持棒２の二箇所の溝５で保持され、ウ
ェハ倒れ防止棒３の溝６で倒れない様になされている。
側面保持材やウェハ支持棒，ウェハ倒れ防止棒に用いら
れる材料としては化学的に安定な石英やフッ素樹脂が知
られている。
【００１６】ウェハ支持棒２に設けられた溝の形状は、
矢視図Ｂ、Ｃの溝５で示すようにＶ字状であり、ウェハ
倒れ防止棒３に設けられた溝の形状は、矢視図Ｄの溝６
で示すように、上部がＹ字状であり、下部がウェハ倒れ
防止棒３の長手方向に対して直角で溝と同じ方向にあけ
られた略円形の貫通穴７となっている。前述したよう
に、溝６はウェハ４が倒れないようにするため、ウェハ
４との隙間が狭く構成されている。しかしながら、貫通
穴７を設けることにより、エッチングや洗浄等のウエッ
ト処理に用いられる処理液は、処理液の入った処理槽内
でキャリヤが揺動される時や、処理後において、ウェハ
４とウェハ倒れ防止棒３に設けられた溝６の隙間を貫通
穴７との間で図３で示す矢印の方向に確実、かつ、効率
良く流れることになる。これは、処理液の粘度が高い場
合においては特に有効である。本実施例では、ウェハ倒
れ防止棒３に設けられた貫通穴７の形状を略円形とした
が、これに限定するものではなく、四角形等の略角形で
あっても支障があるものではない。また、ウェハ倒れ防
止棒３の数も１本で説明したが、それ以上の本数であっ
ても支障はない。
矢視図Ｂ、Ｃの溝５で示すようにＶ字状であり、ウェハ
倒れ防止棒３に設けられた溝の形状は、矢視図Ｄの溝６
で示すように、上部がＹ字状であり、下部がウェハ倒れ
防止棒３の長手方向に対して直角で溝と同じ方向にあけ
られた略円形の貫通穴７となっている。前述したよう
に、溝６はウェハ４が倒れないようにするため、ウェハ
４との隙間が狭く構成されている。しかしながら、貫通
穴７を設けることにより、エッチングや洗浄等のウエッ
ト処理に用いられる処理液は、処理液の入った処理槽内
でキャリヤが揺動される時や、処理後において、ウェハ
４とウェハ倒れ防止棒３に設けられた溝６の隙間を貫通
穴７との間で図３で示す矢印の方向に確実、かつ、効率
良く流れることになる。これは、処理液の粘度が高い場
合においては特に有効である。本実施例では、ウェハ倒
れ防止棒３に設けられた貫通穴７の形状を略円形とした
が、これに限定するものではなく、四角形等の略角形で
あっても支障があるものではない。また、ウェハ倒れ防
止棒３の数も１本で説明したが、それ以上の本数であっ
ても支障はない。
【００１７】実施例２ 本実施例は、請求項２について、ウェハ倒れ防止棒が最
小数の１本のもので説明するものである。以下、図４及
び図４のＥ−Ｅ線断面図である図５と、図５中に示す矢
視図Ｆ、ＧおよびＨ、そして処理液の流れを説明するた
めの図３、図６を参照して説明する。また本実施例は、
実施例１におけるキャリヤと同じ構造をなしているの
で、構成要素には実施例１と同様の参照番号を付し、説
明は省略するものとする。
小数の１本のもので説明するものである。以下、図４及
び図４のＥ−Ｅ線断面図である図５と、図５中に示す矢
視図Ｆ、ＧおよびＨ、そして処理液の流れを説明するた
めの図３、図６を参照して説明する。また本実施例は、
実施例１におけるキャリヤと同じ構造をなしているの
で、構成要素には実施例１と同様の参照番号を付し、説
明は省略するものとする。
【００１８】本実施例は、２本のウェハ支持棒２に設け
られた溝が、矢視図Ｆ、Ｇで示すように、上部がＶ字状
であり、下部に支持棒２の長手方向に対して直角で溝と
同じ方向にあけられた略円形の貫通穴７を設けたもので
あり、そして１本のウェハ倒れ防止棒３には矢視図Ｈで
示すように、上部がＹ字状であり、下部にウェハ倒れ防
止棒３の長手方向に対して直角で溝と同じ方向にあけら
れた略円形の貫通穴７を設けたことを特徴としている。
多数枚のウェハを同時にエッチングや洗浄等のウエット
処理の際に用いられる処理液は、処理液の入った処理槽
内でキャリヤが揺動される時や、処理後において、ウェ
ハ４とウェハ支持棒２に設けられた溝５及び、ウェハ倒
れ防止棒３に設けられた溝６の隙間を貫通穴７との間で
図６、図３の矢印の方向に確実、かつ、効率良く流れる
ことになる。これは、処理液の粘度が高い場合において
は特に有効である。本実施例では、ウェハ支持棒２とウ
ェハ倒れ防止棒３に設けられた貫通穴７の形状を略円形
としたが、これに限定するものではなく、四角形等の略
角形であっても支障があるものではない。また、ウェハ
倒れ防止棒３の数も１本で説明したが、それ以上の本数
であっても支障はない。
られた溝が、矢視図Ｆ、Ｇで示すように、上部がＶ字状
であり、下部に支持棒２の長手方向に対して直角で溝と
同じ方向にあけられた略円形の貫通穴７を設けたもので
あり、そして１本のウェハ倒れ防止棒３には矢視図Ｈで
示すように、上部がＹ字状であり、下部にウェハ倒れ防
止棒３の長手方向に対して直角で溝と同じ方向にあけら
れた略円形の貫通穴７を設けたことを特徴としている。
多数枚のウェハを同時にエッチングや洗浄等のウエット
処理の際に用いられる処理液は、処理液の入った処理槽
内でキャリヤが揺動される時や、処理後において、ウェ
ハ４とウェハ支持棒２に設けられた溝５及び、ウェハ倒
れ防止棒３に設けられた溝６の隙間を貫通穴７との間で
図６、図３の矢印の方向に確実、かつ、効率良く流れる
ことになる。これは、処理液の粘度が高い場合において
は特に有効である。本実施例では、ウェハ支持棒２とウ
ェハ倒れ防止棒３に設けられた貫通穴７の形状を略円形
としたが、これに限定するものではなく、四角形等の略
角形であっても支障があるものではない。また、ウェハ
倒れ防止棒３の数も１本で説明したが、それ以上の本数
であっても支障はない。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よるウェハ倒れ防止棒、または請求項２の発明によるウ
ェハ支持棒及びウェハ倒れ防止棒に設けられたウェハ保
持用の溝やウェハの倒れを防止する溝の下部に、エッチ
ングや洗浄等のウエット処理に用いられる処理液を確
実、かつ、効率良く流すための貫通穴を設けることによ
り、ウェハに対する処理効果が向上し、上質な処理済ウ
ェハを提供することができる。また、処理効果が向上す
ることで、処理時間の短縮化も達成される。本発明は、
粘度の高い処理液を処理する場合、特に有効なものであ
る。
よるウェハ倒れ防止棒、または請求項２の発明によるウ
ェハ支持棒及びウェハ倒れ防止棒に設けられたウェハ保
持用の溝やウェハの倒れを防止する溝の下部に、エッチ
ングや洗浄等のウエット処理に用いられる処理液を確
実、かつ、効率良く流すための貫通穴を設けることによ
り、ウェハに対する処理効果が向上し、上質な処理済ウ
ェハを提供することができる。また、処理効果が向上す
ることで、処理時間の短縮化も達成される。本発明は、
粘度の高い処理液を処理する場合、特に有効なものであ
る。
【図１】 実施例１の半導体ウェハキャリヤの上面図で
ある。
ある。
【図２】 図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】 実施例１におけるウェハ支持棒３に設けられ
た溝での、処理液の流れ方を示した図である。
た溝での、処理液の流れ方を示した図である。
【図４】 実施例２の半導体ウェハキャリヤの上面図で
ある。
ある。
【図５】 図４のＥ−Ｅ線断面図である。
【図６】 実施例２におけるウェハ支持棒２設けられた
溝での、処理液の流れ方を示した図である。
溝での、処理液の流れ方を示した図である。
【図７】 従来の技術での半導体ウェハキャリヤの上面
図である。
図である。
【図８】 は図７のＩ−Ｉ線断面図である。
【図９】 別の従来の技術における実施例の半導体ウェ
ハキャリヤ断面図である。
ハキャリヤ断面図である。
１ 側面保持材 ２ ウェハ支持棒 ３ ウェハ倒れ防止棒 ４ ウェハ ５ 溝 ６ 溝 ７ 貫通穴 １１ 側面保持材 １１ａ 側面保持材 １２ ウェハ支持棒 １２ａ ウェハ支持棒 １２ｂ ウェハ支持棒の突出部 １３ ウェハ倒れ防止棒 １４ ウェハ １４ａ ウェハ １６ 溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/306
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェハを保持するための溝を有する２本
のウェハ支持棒と、前記２本のウェハ支持棒の内側、か
つ、下部に配置され、ウェハの倒れを防止するための溝
を有する少なくとも１本のウェハ倒れ防止棒と、前記ウ
ェハ支持棒と前記ウェハ倒れ防止棒の各々の両端を固定
する２つの側面保持材からなる半導体ウェハ保持装置で
あって、 前記ウェハ倒れ防止棒の溝の下部に、前記ウェハ倒れ防
止棒の長手方向に対して直角、かつ、前記溝と同じ方向
に貫通した穴を形成した事を特徴とする半導体ウェハキ
ャリヤ。 - 【請求項２】 ウェハを保持するための溝を有する２本
のウェハ支持棒と、前記２本のウェハ支持棒の内側、か
つ、下部に配置され、ウェハの倒れを防止するための溝
を有する少なくとも１本のウェハ倒れ防止棒と、前記ウ
ェハ支持棒と前記ウェハ倒れ防止棒の各々の両端を固定
する２つの側面保持材からなる半導体ウェハ保持装置で
あって、 前記ウェハ支持棒と前記ウェハ倒れ防止棒の溝の下部
に、前記ウェハ支持棒と前記ウェハ倒れ防止棒の長手方
向に対して直角、かつ、前記溝と同じ方向に貫通した穴
を形成した事を特徴とする半導体ウェハキャリヤ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7010789A JPH08203992A (ja) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | 半導体ウェハキャリヤ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7010789A JPH08203992A (ja) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | 半導体ウェハキャリヤ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08203992A true JPH08203992A (ja) | 1996-08-09 |
Family
ID=11760116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7010789A Pending JPH08203992A (ja) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | 半導体ウェハキャリヤ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08203992A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001033609A3 (en) * | 1999-10-29 | 2001-11-08 | Memc Electronic Materials | Apparatus for cleaning semiconductor wafers |
| WO2012002212A1 (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-05 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置の製造方法及びそれに用いられる基板カセット |
-
1995
- 1995-01-26 JP JP7010789A patent/JPH08203992A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001033609A3 (en) * | 1999-10-29 | 2001-11-08 | Memc Electronic Materials | Apparatus for cleaning semiconductor wafers |
| US6318389B1 (en) | 1999-10-29 | 2001-11-20 | Memc Electronic Materials, Inc. | Apparatus for cleaning semiconductor wafers |
| WO2012002212A1 (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-05 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置の製造方法及びそれに用いられる基板カセット |
| JP2012015135A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置の製造方法およびそれに用いられる基板カセット |
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