JPH08206501A - 排ガス浄化用触媒及びその製造方法並びにこれを用いた排ガス浄化装置 - Google Patents
排ガス浄化用触媒及びその製造方法並びにこれを用いた排ガス浄化装置Info
- Publication number
- JPH08206501A JPH08206501A JP7017896A JP1789695A JPH08206501A JP H08206501 A JPH08206501 A JP H08206501A JP 7017896 A JP7017896 A JP 7017896A JP 1789695 A JP1789695 A JP 1789695A JP H08206501 A JPH08206501 A JP H08206501A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- catalyst
- ceo
- group
- nox
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 水の存在下においても、軽油等の還元剤を供
給することにより、安定してかつ高い効率で排ガスに含
まれるNOxを低減する。特にN2Oを生成することな
く広い温度範囲で排ガス中のNOxを低減する。 【構成】 CeO2のみからなる酸化物又はCeO2に加
えて更にZrO2,TiO2,SiO2及びAl2O3から
なる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物を含む複
合酸化物にPt,Pd,Rh及Irからなる群より選ば
れた1種又は2種以上の貴金属が0.01〜5重量%担
持される。
給することにより、安定してかつ高い効率で排ガスに含
まれるNOxを低減する。特にN2Oを生成することな
く広い温度範囲で排ガス中のNOxを低減する。 【構成】 CeO2のみからなる酸化物又はCeO2に加
えて更にZrO2,TiO2,SiO2及びAl2O3から
なる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物を含む複
合酸化物にPt,Pd,Rh及Irからなる群より選ば
れた1種又は2種以上の貴金属が0.01〜5重量%担
持される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車のエンジンの排
ガスに含まれる窒素酸化物(以下、NOxという)を低
減する触媒及びその製造方法に関する。更に詳しくは排
ガス浄化用触媒及びその製造方法並びにこれを用いた排
ガス浄化装置に関するものである。
ガスに含まれる窒素酸化物(以下、NOxという)を低
減する触媒及びその製造方法に関する。更に詳しくは排
ガス浄化用触媒及びその製造方法並びにこれを用いた排
ガス浄化装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種のNOxを低減するモノリス触媒
として、銅イオン交換ゼオライト触媒が知られている。
この銅イオン交換ゼオライト触媒上で酸素と炭化水素が
存在すると、主として300〜500℃の温度範囲でN
Oxの選択還元が高効率で触媒的に進行し、ディーゼル
エンジン、希薄燃焼方式ガソリンエンジン等の排ガス浄
化が可能になる。この銅イオン交換ゼオライト触媒はN
a型のZSM−5ゼオライトのNaイオンをCuイオン
とイオン交換した物質である。従来、銅イオン交換ゼオ
ライト触媒はコージェライト等のセラミックスで作られ
たモノリス担体の表面にCu−ZSM−5ゼオライトを
コーティングさせて構成される。
として、銅イオン交換ゼオライト触媒が知られている。
この銅イオン交換ゼオライト触媒上で酸素と炭化水素が
存在すると、主として300〜500℃の温度範囲でN
Oxの選択還元が高効率で触媒的に進行し、ディーゼル
エンジン、希薄燃焼方式ガソリンエンジン等の排ガス浄
化が可能になる。この銅イオン交換ゼオライト触媒はN
a型のZSM−5ゼオライトのNaイオンをCuイオン
とイオン交換した物質である。従来、銅イオン交換ゼオ
ライト触媒はコージェライト等のセラミックスで作られ
たモノリス担体の表面にCu−ZSM−5ゼオライトを
コーティングさせて構成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の銅
イオン交換ゼオライト触媒は高いNOxの選択還元機能
がある反面、分子構造上、水が存在すると水分を吸着
し、NOxの選択還元機能が低下する不具合があった。
一方、Pt−Al2O3触媒は高熱の雰囲気下でも、或い
は水、SO2が存在しても高い活性を有する特長がある
反面、N2Oを生成する問題点と、活性を示す温度範囲
が比較的狭い不具合があった。このPt−Al2O3触媒
はセラミックスモノリス担体の表面に形成されたAl2
O3層にPtが数重量%担持された排ガス浄化用触媒で
ある。
イオン交換ゼオライト触媒は高いNOxの選択還元機能
がある反面、分子構造上、水が存在すると水分を吸着
し、NOxの選択還元機能が低下する不具合があった。
一方、Pt−Al2O3触媒は高熱の雰囲気下でも、或い
は水、SO2が存在しても高い活性を有する特長がある
反面、N2Oを生成する問題点と、活性を示す温度範囲
が比較的狭い不具合があった。このPt−Al2O3触媒
はセラミックスモノリス担体の表面に形成されたAl2
O3層にPtが数重量%担持された排ガス浄化用触媒で
ある。
【0004】本発明の目的は、水の存在下においても、
軽油等の還元剤を供給することにより、安定してかつ高
い効率で排ガスに含まれるNOxを低減し得る排ガス浄
化用触媒及びその製造方法を提供することにある。本発
明の別の目的は、N2Oを生成することなく広い温度範
囲で排ガス中のNOxを低減する排ガス浄化用触媒及び
その製造方法並びにこれを用いた排ガス浄化装置を提供
することにある。
軽油等の還元剤を供給することにより、安定してかつ高
い効率で排ガスに含まれるNOxを低減し得る排ガス浄
化用触媒及びその製造方法を提供することにある。本発
明の別の目的は、N2Oを生成することなく広い温度範
囲で排ガス中のNOxを低減する排ガス浄化用触媒及び
その製造方法並びにこれを用いた排ガス浄化装置を提供
することにある。
【0005】
(a) 排ガス浄化用触媒 本発明の第1の排ガス浄化用触媒は、CeO2のみから
なる酸化物又はCeO2に加えて更にZrO2,Ti
O2,SiO2及びAl2O3からなる群より選ばれた1種
又は2種以上の酸化物を含む複合酸化物にPt,Pd,
Rh及Irからなる群より選ばれた1種又は2種以上の
貴金属が0.01〜5重量%担持されたものである。本
発明の第2の排ガス浄化用触媒は、図1に示すようにセ
ラミックス又はメタルからなるモノリス担体11の表面
にCeO2のみからなる酸化物の層12又はCeO2に加
えて更にZrO2,TiO2,SiO2及びAl2O3から
なる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物を含む複
合酸化物の層が形成され、酸化物層12にPt,Pd,
Rh及Irからなる群より選ばれた1種又は2種以上の
貴金属が0.01〜5重量%担持されたモノリス触媒で
ある。本発明の第3の排ガス浄化用触媒は、CeO2の
みからなる酸化物又はCeO2に加えて更にZrO2,T
iO2,SiO2及びAl2O3からなる群より選ばれた1
種又は2種以上の酸化物を含む複合酸化物を焼結してな
るペレット担体にPt,Pd,Rh及Irからなる群よ
り選ばれた1種又は2種以上の貴金属が0.01〜5重
量%担持されたペレット触媒である。
なる酸化物又はCeO2に加えて更にZrO2,Ti
O2,SiO2及びAl2O3からなる群より選ばれた1種
又は2種以上の酸化物を含む複合酸化物にPt,Pd,
Rh及Irからなる群より選ばれた1種又は2種以上の
貴金属が0.01〜5重量%担持されたものである。本
発明の第2の排ガス浄化用触媒は、図1に示すようにセ
ラミックス又はメタルからなるモノリス担体11の表面
にCeO2のみからなる酸化物の層12又はCeO2に加
えて更にZrO2,TiO2,SiO2及びAl2O3から
なる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物を含む複
合酸化物の層が形成され、酸化物層12にPt,Pd,
Rh及Irからなる群より選ばれた1種又は2種以上の
貴金属が0.01〜5重量%担持されたモノリス触媒で
ある。本発明の第3の排ガス浄化用触媒は、CeO2の
みからなる酸化物又はCeO2に加えて更にZrO2,T
iO2,SiO2及びAl2O3からなる群より選ばれた1
種又は2種以上の酸化物を含む複合酸化物を焼結してな
るペレット担体にPt,Pd,Rh及Irからなる群よ
り選ばれた1種又は2種以上の貴金属が0.01〜5重
量%担持されたペレット触媒である。
【0006】(b) 排ガス浄化用触媒の製造方法 本発明の第1の排ガス浄化用触媒の製造方法は、CeO
2粉末とバインダと水とを混合してスラリーを調製する
工程と、セラミックス又はメタルからなるモノリス担体
を上記スラリーに浸漬する工程と、このスラリーに浸漬
したモノリス担体を乾燥し焼成する工程と、焼成したモ
ノリス担体をPt,Pd,Rh又はIrのいずれかの金
属塩水溶液に浸漬する工程と、この浸漬物を乾燥し還元
雰囲気で焼成する工程とを含む方法である。
2粉末とバインダと水とを混合してスラリーを調製する
工程と、セラミックス又はメタルからなるモノリス担体
を上記スラリーに浸漬する工程と、このスラリーに浸漬
したモノリス担体を乾燥し焼成する工程と、焼成したモ
ノリス担体をPt,Pd,Rh又はIrのいずれかの金
属塩水溶液に浸漬する工程と、この浸漬物を乾燥し還元
雰囲気で焼成する工程とを含む方法である。
【0007】本発明の第1の製造方法では、少なくとも
CeO2粉末を含む酸化物粉末を用いてウオッシュコー
ト用のスラリーを作り、このスラリーを公知のセラミッ
クス又はメタルからなるモノリス担体の表面にコーティ
ングして焼成し、このコーティング層にPt,Pd,R
h又はIrの金属を1種又は2種以上担持する。セラミ
ックモノリス担体にはコージェライト、アルミナ等から
作られたハニカム状の担体が、メタルモノリス担体には
Fe−Cr−Al系合金から作られた担体が例示され
る。メタル担体は波形の金属箔と平らな金属箔とを交互
に積層した後、筒状に成形される。スラリーは少なくと
もCeO2粉末を含む酸化物粉末とシリカゾル、アルミ
ナゾル、ポリビニルアルコール(PVA)のようなバイ
ンダと水とを混合して調製される。モノリス担体をこの
スラリーに十分に浸漬した後、このスラリーに浸漬した
モノリス担体を大気圧下、乾燥し、500〜800℃で
1〜10時間焼成する。次いで、焼成したモノリス担体
に塩化白金酸水溶液、ジニトロジアミノ白金水溶液、硝
酸ロジウム水溶液、硝酸パラジウム水溶液又は塩化イリ
ジウム水溶液のような貴金属塩水溶液を含浸し、乾燥し
た後、この含浸物を還元雰囲気、例えば水素ガス中、5
00〜700℃で1〜3時間焼成する。貴金属塩水溶液
中の上記貴金属の含有量又はこの水溶液の濃度は、焼成
後の触媒に上記貴金属が0.01〜5重量%の範囲に担
持するように決められるが、この担持量は0.1〜3重
量%が好ましく、1〜2重量%が更に好ましい。
CeO2粉末を含む酸化物粉末を用いてウオッシュコー
ト用のスラリーを作り、このスラリーを公知のセラミッ
クス又はメタルからなるモノリス担体の表面にコーティ
ングして焼成し、このコーティング層にPt,Pd,R
h又はIrの金属を1種又は2種以上担持する。セラミ
ックモノリス担体にはコージェライト、アルミナ等から
作られたハニカム状の担体が、メタルモノリス担体には
Fe−Cr−Al系合金から作られた担体が例示され
る。メタル担体は波形の金属箔と平らな金属箔とを交互
に積層した後、筒状に成形される。スラリーは少なくと
もCeO2粉末を含む酸化物粉末とシリカゾル、アルミ
ナゾル、ポリビニルアルコール(PVA)のようなバイ
ンダと水とを混合して調製される。モノリス担体をこの
スラリーに十分に浸漬した後、このスラリーに浸漬した
モノリス担体を大気圧下、乾燥し、500〜800℃で
1〜10時間焼成する。次いで、焼成したモノリス担体
に塩化白金酸水溶液、ジニトロジアミノ白金水溶液、硝
酸ロジウム水溶液、硝酸パラジウム水溶液又は塩化イリ
ジウム水溶液のような貴金属塩水溶液を含浸し、乾燥し
た後、この含浸物を還元雰囲気、例えば水素ガス中、5
00〜700℃で1〜3時間焼成する。貴金属塩水溶液
中の上記貴金属の含有量又はこの水溶液の濃度は、焼成
後の触媒に上記貴金属が0.01〜5重量%の範囲に担
持するように決められるが、この担持量は0.1〜3重
量%が好ましく、1〜2重量%が更に好ましい。
【0008】本発明の第2の製造方法では、CeO2粉
末をバインダ及び水とともに混練し、この混練物を所定
の形状に成形した後、この成形体を乾燥し焼成してモノ
リス担体を作り、この焼結体のモノリス担体をPt,P
d,Rh又はIrのいずれかの貴金属塩水溶液に浸漬し
て乾燥焼成する。バインダとしてはカオリン、タルク、
硝酸アルミニウム及びシリカゾル等からなる群から選ば
れた1種又は2種以上のバインダを挙げることができ
る。また成形助剤としてポリビニルアルコール(PV
A)、プロピレングリコール、メチルセルロース(M
C)、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ポリエ
チレングリコール(PEG)等からなる群より選ばれた
1種又は2種以上の成形助剤を挙げることができる。更
に成形性と成形体の強度を高めるために、混練物の固形
分を100重量%とするとき、混練物はCeO2粉末を
70〜90重量%、バインダを10〜30重量%含有す
ることが好ましい。
末をバインダ及び水とともに混練し、この混練物を所定
の形状に成形した後、この成形体を乾燥し焼成してモノ
リス担体を作り、この焼結体のモノリス担体をPt,P
d,Rh又はIrのいずれかの貴金属塩水溶液に浸漬し
て乾燥焼成する。バインダとしてはカオリン、タルク、
硝酸アルミニウム及びシリカゾル等からなる群から選ば
れた1種又は2種以上のバインダを挙げることができ
る。また成形助剤としてポリビニルアルコール(PV
A)、プロピレングリコール、メチルセルロース(M
C)、カルボキシメチルセルロース(CMC)、ポリエ
チレングリコール(PEG)等からなる群より選ばれた
1種又は2種以上の成形助剤を挙げることができる。更
に成形性と成形体の強度を高めるために、混練物の固形
分を100重量%とするとき、混練物はCeO2粉末を
70〜90重量%、バインダを10〜30重量%含有す
ることが好ましい。
【0009】混練は各成分が均一に混合するように混練
機により行われる。混練物の成形は、押出し成形機を用
いて成形体が排ガスの流れる方向に正方形、三角形、六
角形等の規則正しい通孔が多数あいたハニカム状になる
ように行われる。また混練物の成形はペレット状になる
ように行うこともできる。成形体は大気圧下、乾燥した
後、大気圧下、500〜800℃で1〜5時間焼成さ
れ、モノリス担体が作られる。この焼結体のモノリス担
体を更に第1の製造方法と同じ塩化白金酸水溶液、ジニ
トロジアミノ白金水溶液、塩化ロジウム水溶液、塩化パ
ラジウム水溶液又は塩化イリジウム水溶液等の貴金属塩
水溶液に浸漬し、この浸漬物を第1の製造方法と同様に
して乾燥し焼成することによりPt,Pd,Rh又はI
rを担持させる。貴金属塩水溶液中の上記貴金属の含有
量又はこの水溶液の濃度は、第1の製造方法と同じであ
る。
機により行われる。混練物の成形は、押出し成形機を用
いて成形体が排ガスの流れる方向に正方形、三角形、六
角形等の規則正しい通孔が多数あいたハニカム状になる
ように行われる。また混練物の成形はペレット状になる
ように行うこともできる。成形体は大気圧下、乾燥した
後、大気圧下、500〜800℃で1〜5時間焼成さ
れ、モノリス担体が作られる。この焼結体のモノリス担
体を更に第1の製造方法と同じ塩化白金酸水溶液、ジニ
トロジアミノ白金水溶液、塩化ロジウム水溶液、塩化パ
ラジウム水溶液又は塩化イリジウム水溶液等の貴金属塩
水溶液に浸漬し、この浸漬物を第1の製造方法と同様に
して乾燥し焼成することによりPt,Pd,Rh又はI
rを担持させる。貴金属塩水溶液中の上記貴金属の含有
量又はこの水溶液の濃度は、第1の製造方法と同じであ
る。
【0010】なお、第1及び第2の製造方法ともPt,
Pd,Rh又はIrの貴金属を2種以上担持させるとき
には、2種以上の貴金属塩水溶液を混合してこの混合液
にモノリス担体を浸漬して乾燥した後、還元雰囲気で焼
成してもよいが、最初に第1の貴金属塩水溶液にモノリ
ス担体を浸漬して乾燥させ、還元雰囲気で焼成した後、
このモノリス担体を第2の貴金属塩水溶液に浸漬して乾
燥させ、還元雰囲気で焼成することが好ましい。
Pd,Rh又はIrの貴金属を2種以上担持させるとき
には、2種以上の貴金属塩水溶液を混合してこの混合液
にモノリス担体を浸漬して乾燥した後、還元雰囲気で焼
成してもよいが、最初に第1の貴金属塩水溶液にモノリ
ス担体を浸漬して乾燥させ、還元雰囲気で焼成した後、
このモノリス担体を第2の貴金属塩水溶液に浸漬して乾
燥させ、還元雰囲気で焼成することが好ましい。
【0011】(c) 排ガス浄化装置 図4に示すように、本発明の排ガス浄化装置は、エンジ
ン15の排気管17に設けられたNOx触媒21と、こ
のNOx触媒21の排ガス上流側に設けられNOx触媒
21に向けて炭化水素系還元剤29を噴射可能な噴射ノ
ズル18と、この噴射ノズル18に還元剤29を供給す
る還元剤供給手段25とを備え、上記NOx触媒21が
排ガス上流側の前段に配置された上記第2の排ガス浄化
用触媒21aと、排ガス下流側の後段に配置されセラミ
ックス又はメタルからなるモノリス担体の表面に形成さ
れたAl2O3層にPt,Pd,Rh及Irからなる群よ
り選ばれた1種又は2種以上の貴金属が0.01〜5重
量%担持された排ガス浄化用触媒21bとにより構成さ
れたことを特徴とする。
ン15の排気管17に設けられたNOx触媒21と、こ
のNOx触媒21の排ガス上流側に設けられNOx触媒
21に向けて炭化水素系還元剤29を噴射可能な噴射ノ
ズル18と、この噴射ノズル18に還元剤29を供給す
る還元剤供給手段25とを備え、上記NOx触媒21が
排ガス上流側の前段に配置された上記第2の排ガス浄化
用触媒21aと、排ガス下流側の後段に配置されセラミ
ックス又はメタルからなるモノリス担体の表面に形成さ
れたAl2O3層にPt,Pd,Rh及Irからなる群よ
り選ばれた1種又は2種以上の貴金属が0.01〜5重
量%担持された排ガス浄化用触媒21bとにより構成さ
れたことを特徴とする。
【0012】
【作用】第1〜第3の触媒では、Pt,Pd,Rh又は
Irを担持したCeO2ではPt等の貴金属に結合する
酸素がCeO2の方に比較的速やかに移動してPt等の
貴金属の活性を長く持続するので、NOと炭化水素及び
酸素の存在下でNOxを高効率に低減できる。また上記
CeO2は高温の排ガスに対しても、水の存在下におい
ても触媒の変化が少なく、N2Oを生成することが少な
く高い効率で排ガスに含まれるNOxを低減することが
できる。
Irを担持したCeO2ではPt等の貴金属に結合する
酸素がCeO2の方に比較的速やかに移動してPt等の
貴金属の活性を長く持続するので、NOと炭化水素及び
酸素の存在下でNOxを高効率に低減できる。また上記
CeO2は高温の排ガスに対しても、水の存在下におい
ても触媒の変化が少なく、N2Oを生成することが少な
く高い効率で排ガスに含まれるNOxを低減することが
できる。
【0013】
【実施例】次に本発明の実施例を図面に基づいて詳しく
説明する。本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。 <実施例1>Pt−CeO2モノリス触媒を作製した。
即ち、CeO2粉末とシリカゾルと水とを均一に混合し
てウオッシュコート用のスラリーを調製した。コージェ
ライトからなるハニカム状のモノリス担体11をこのス
ラリーに十分に浸漬した後、このスラリーに浸漬したモ
ノリス担体11を乾燥し、大気圧下、700℃で3時間
焼成した。モノリス担体11の表面にCeO2層12が
形成された。次いで、CeO2層12が形成されたモノ
リス担体11を塩化白金酸水溶液(塩化白金酸濃度2重
量%)に浸漬し、乾燥した後、この浸漬物を還元雰囲
気、例えば水素ガス中、500℃で3時間焼成してモノ
リス触媒10を得た。CeO2層12には1重量%のP
tが担持された。
説明する。本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。 <実施例1>Pt−CeO2モノリス触媒を作製した。
即ち、CeO2粉末とシリカゾルと水とを均一に混合し
てウオッシュコート用のスラリーを調製した。コージェ
ライトからなるハニカム状のモノリス担体11をこのス
ラリーに十分に浸漬した後、このスラリーに浸漬したモ
ノリス担体11を乾燥し、大気圧下、700℃で3時間
焼成した。モノリス担体11の表面にCeO2層12が
形成された。次いで、CeO2層12が形成されたモノ
リス担体11を塩化白金酸水溶液(塩化白金酸濃度2重
量%)に浸漬し、乾燥した後、この浸漬物を還元雰囲
気、例えば水素ガス中、500℃で3時間焼成してモノ
リス触媒10を得た。CeO2層12には1重量%のP
tが担持された。
【0014】<比較例1>Pt−Al2O3モノリス触媒
を作製した。即ち、実施例1のCeO2粉末の代わりに
γ−Al2O3粉末を用いた以外は、実施例1と同様にし
てモノリス触媒を得た。
を作製した。即ち、実施例1のCeO2粉末の代わりに
γ−Al2O3粉末を用いた以外は、実施例1と同様にし
てモノリス触媒を得た。
【0015】<評価試験>実施例1及び比較例1のモノ
リス触媒について、次のディーゼルエンジンの排ガスに
シミュレートした模擬ガスを触媒反応管に導入しNOx
還元を行い、NOxの低減率を調べた。試験ガスは、N
Oを1000ppm、SO2を20ppm、及びO2を1
0%それぞれ含む模擬ガスを用いた。また還元剤として
1360ppmのプロピレンを添加した。試験ガスは電
気炉により、150℃、200℃、225℃、250
℃、300℃、350℃、400℃及び450℃の各温
度にコントロールされ、この各温度におけるNOxの低
減率を20000hr-1の空間速度(SV)で測定し
た。その結果を図2に示す。NOx低減率はモノリス触
媒を通過する前のNOx濃度をC1、通過後のNOx濃
度をC2とするとき、次式により求めた。 NOx低減率={(C1−C2)/C1}×100(%) … (1) 図2から明らかなように、比較例1のモノリス触媒のN
Ox低減率が225℃で約60%であったのに対して、
実施例1の触媒のNOx低減率は300℃で約50%の
値を示した。特に、比較例1のモノリス触媒は活性を示
す温度範囲が比較的狭いのに対して、実施例1のモノリ
ス触媒は高温側で高いNOx低減率を示した。
リス触媒について、次のディーゼルエンジンの排ガスに
シミュレートした模擬ガスを触媒反応管に導入しNOx
還元を行い、NOxの低減率を調べた。試験ガスは、N
Oを1000ppm、SO2を20ppm、及びO2を1
0%それぞれ含む模擬ガスを用いた。また還元剤として
1360ppmのプロピレンを添加した。試験ガスは電
気炉により、150℃、200℃、225℃、250
℃、300℃、350℃、400℃及び450℃の各温
度にコントロールされ、この各温度におけるNOxの低
減率を20000hr-1の空間速度(SV)で測定し
た。その結果を図2に示す。NOx低減率はモノリス触
媒を通過する前のNOx濃度をC1、通過後のNOx濃
度をC2とするとき、次式により求めた。 NOx低減率={(C1−C2)/C1}×100(%) … (1) 図2から明らかなように、比較例1のモノリス触媒のN
Ox低減率が225℃で約60%であったのに対して、
実施例1の触媒のNOx低減率は300℃で約50%の
値を示した。特に、比較例1のモノリス触媒は活性を示
す温度範囲が比較的狭いのに対して、実施例1のモノリ
ス触媒は高温側で高いNOx低減率を示した。
【0016】また、上記と同一の試験ガス(NOを10
00ppm含む)を用いて実施例1及び比較例1のモノ
リス触媒がNOをN2Oに転化する率を調べた。その結
果を図3に示す。図3から明らかなように比較例1のモ
ノリス触媒が最大で42%もNOをN2Oに転化するの
に対して実施例1のモノリス触媒はN2Oの生成を10
%以下に抑えることができた。
00ppm含む)を用いて実施例1及び比較例1のモノ
リス触媒がNOをN2Oに転化する率を調べた。その結
果を図3に示す。図3から明らかなように比較例1のモ
ノリス触媒が最大で42%もNOをN2Oに転化するの
に対して実施例1のモノリス触媒はN2Oの生成を10
%以下に抑えることができた。
【0017】<実施例2>図4に示すように、ディーゼ
ルエンジン15の排気マニホルド16には排気管17が
接続される。この排気管17の途中にはエンジン側から
噴射ノズル18を収容した還元剤噴射室19とNOx触
媒21を収容したNOx触媒室22がこの順に設けられ
る。この例ではNOx触媒21は排ガス上流側の前段に
実施例1のPt−CeO2モノリス触媒21aが配置さ
れ、排ガス下流側の後段に比較例1のPt−Al2O3モ
ノリス触媒21bが配置される。噴射ノズル18はNO
x触媒21に向けて設けられる。NOx触媒21と噴射
ノズル18の間にはNOx触媒に流入する排気温を検出
する温度センサ23が設けられる。24はマフラーであ
る。
ルエンジン15の排気マニホルド16には排気管17が
接続される。この排気管17の途中にはエンジン側から
噴射ノズル18を収容した還元剤噴射室19とNOx触
媒21を収容したNOx触媒室22がこの順に設けられ
る。この例ではNOx触媒21は排ガス上流側の前段に
実施例1のPt−CeO2モノリス触媒21aが配置さ
れ、排ガス下流側の後段に比較例1のPt−Al2O3モ
ノリス触媒21bが配置される。噴射ノズル18はNO
x触媒21に向けて設けられる。NOx触媒21と噴射
ノズル18の間にはNOx触媒に流入する排気温を検出
する温度センサ23が設けられる。24はマフラーであ
る。
【0018】噴射ノズル18には還元剤供給手段25に
より炭化水素系還元剤29が供給される。即ち噴射ノズ
ル18には液送管26が接続され、この液送管26は三
方切換弁27及び圧送ポンプ28を介して還元剤29が
入った貯蔵タンク31に配管される。この例では炭化水
素系還元剤29は軽油である。切換弁27には更にタン
ク31に配管された戻り管32が接続される。切換弁2
7は作動時のみ噴射ノズル18に還元剤を供給し、不作
動時には圧送された還元剤を戻り管32に戻すように切
換わる。切換弁27及び圧送ポンプ28にはコントロー
ラ33の制御出力が接続され、このコントローラ33の
制御入力にはエンジン15の回転速度を検出する回転セ
ンサ34と、エンジン15の負荷を検出する負荷センサ
35と、前述した温度センサ23が接続される。コント
ローラ33には図示しないメモリを備える。このメモリ
にはエンジンの回転速度、負荷及び排気温度に応じて噴
射ノズル18からNOx触媒21に噴射すべき炭化水素
系還元剤29の量が予めマップとして記憶されている。
より炭化水素系還元剤29が供給される。即ち噴射ノズ
ル18には液送管26が接続され、この液送管26は三
方切換弁27及び圧送ポンプ28を介して還元剤29が
入った貯蔵タンク31に配管される。この例では炭化水
素系還元剤29は軽油である。切換弁27には更にタン
ク31に配管された戻り管32が接続される。切換弁2
7は作動時のみ噴射ノズル18に還元剤を供給し、不作
動時には圧送された還元剤を戻り管32に戻すように切
換わる。切換弁27及び圧送ポンプ28にはコントロー
ラ33の制御出力が接続され、このコントローラ33の
制御入力にはエンジン15の回転速度を検出する回転セ
ンサ34と、エンジン15の負荷を検出する負荷センサ
35と、前述した温度センサ23が接続される。コント
ローラ33には図示しないメモリを備える。このメモリ
にはエンジンの回転速度、負荷及び排気温度に応じて噴
射ノズル18からNOx触媒21に噴射すべき炭化水素
系還元剤29の量が予めマップとして記憶されている。
【0019】このような構成の排ガス浄化装置では、先
ずエンジン15の運転状態について、アイドル状態或い
は始動時等の排気温が約180℃以下の低温状態のいず
れかであることを回転センサ34、負荷センサ35又は
温度センサ23のいずれか1つ又は2つ以上のセンサが
検出すると、コントローラ33は圧送ポンプ28及び切
換弁27を不作動にし、噴射ノズル18から還元剤29
を噴射しない。エンジン15の運転が続けられ、排気温
が例えば約180℃〜約450℃に上昇し、中負荷状態
になると、コントローラ33は切換弁27及び圧送ポン
プ28を作動させ、噴射ノズル18から炭化水素系還元
剤29を噴射する。
ずエンジン15の運転状態について、アイドル状態或い
は始動時等の排気温が約180℃以下の低温状態のいず
れかであることを回転センサ34、負荷センサ35又は
温度センサ23のいずれか1つ又は2つ以上のセンサが
検出すると、コントローラ33は圧送ポンプ28及び切
換弁27を不作動にし、噴射ノズル18から還元剤29
を噴射しない。エンジン15の運転が続けられ、排気温
が例えば約180℃〜約450℃に上昇し、中負荷状態
になると、コントローラ33は切換弁27及び圧送ポン
プ28を作動させ、噴射ノズル18から炭化水素系還元
剤29を噴射する。
【0020】図5に示すように、前段にPt−CeO2
モノリス触媒21aを、後段にPt−Al2O3モノリス
触媒21bをそれぞれ配置することにより、180〜4
50℃の広い温度範囲でNOxを低減することができ
る。図5において比較例2はNOx触媒がPt−Al2
O3モノリス触媒21bのみで構成された特性図であ
る。
モノリス触媒21aを、後段にPt−Al2O3モノリス
触媒21bをそれぞれ配置することにより、180〜4
50℃の広い温度範囲でNOxを低減することができ
る。図5において比較例2はNOx触媒がPt−Al2
O3モノリス触媒21bのみで構成された特性図であ
る。
【0021】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、少
なくともCeO2を含む酸化物により形成されたモノリ
ス担体もしくはペレット担体、又は上記酸化物層がコー
ティングされたセラミック担体もしくはメタル担体はC
eO2の表面にPt,Pd,Rh又はIrを担持してい
るため、Pt等の貴金属に結合する酸素がCeO2の方
に比較的速やかに移動してPt等の貴金属の活性を長く
持続する。この結果、NOと炭化水素及び酸素の存在下
でNOxを高効率に低減できる。また上記CeO2は高
温の排ガスに対しても、水の存在下においても触媒の変
化が少なく高い効率で排ガスに含まれるNOxを低減す
る優れた効果がある。また、貴金属を担持した本発明の
CeO2触媒と従来のAl2O3触媒とにより2段のNO
x触媒を構成すると、より一層広い温度範囲でNOxを
低減できる優れた効果を奏する。
なくともCeO2を含む酸化物により形成されたモノリ
ス担体もしくはペレット担体、又は上記酸化物層がコー
ティングされたセラミック担体もしくはメタル担体はC
eO2の表面にPt,Pd,Rh又はIrを担持してい
るため、Pt等の貴金属に結合する酸素がCeO2の方
に比較的速やかに移動してPt等の貴金属の活性を長く
持続する。この結果、NOと炭化水素及び酸素の存在下
でNOxを高効率に低減できる。また上記CeO2は高
温の排ガスに対しても、水の存在下においても触媒の変
化が少なく高い効率で排ガスに含まれるNOxを低減す
る優れた効果がある。また、貴金属を担持した本発明の
CeO2触媒と従来のAl2O3触媒とにより2段のNO
x触媒を構成すると、より一層広い温度範囲でNOxを
低減できる優れた効果を奏する。
【図1】本発明の実施例1の排ガスを浄化する触媒の構
成図。
成図。
【図2】本発明の実施例1及び比較例1の触媒のNOx
低減率の触媒入口温度による変化を示す図。
低減率の触媒入口温度による変化を示す図。
【図3】本発明の実施例1及び比較例1の触媒のN2O
転化率の触媒入口温度による変化を示す図。
転化率の触媒入口温度による変化を示す図。
【図4】本発明の実施例2の排ガス浄化装置の構成図。
【図5】本発明の実施例2及び比較例2の触媒のNOx
低減率の触媒入口温度による変化を示す図。
低減率の触媒入口温度による変化を示す図。
10 モノリス触媒(触媒) 11 モノリス担体 12 CeO2層(酸化物層) 15 エンジン 17 排気管 18 噴射ノズル 21 NOx触媒 21a Pt−CeO2モノリス触媒(排ガス浄化用触
媒) 21b Pt−Al2O3モノリス触媒(排ガス浄化用触
媒) 25 還元剤供給手段 29 炭化水素系還元剤
媒) 21b Pt−Al2O3モノリス触媒(排ガス浄化用触
媒) 25 還元剤供給手段 29 炭化水素系還元剤
Claims (6)
- 【請求項1】 CeO2のみからなる酸化物又はCeO2
に加えて更にZrO2,TiO2,SiO2及びAl2O3
からなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物を含
む複合酸化物にPt,Pd,Rh及Irからなる群より
選ばれた1種又は2種以上の貴金属が0.01〜5重量
%担持された排ガス浄化用触媒。 - 【請求項2】 セラミックス又はメタルからなるモノリ
ス担体(11)の表面にCeO2のみからなる酸化物の層(1
2)又はCeO2に加えて更にZrO2,TiO2,SiO2
及びAl2O3からなる群より選ばれた1種又は2種以上
の酸化物を含む複合酸化物の層が形成され、前記酸化物
層(12)にPt,Pd,Rh及Irからなる群より選ばれ
た1種又は2種以上の貴金属が0.01〜5重量%担持
された排ガス浄化用触媒。 - 【請求項3】 CeO2のみからなる酸化物又はCeO2
に加えて更にZrO2,TiO2,SiO2及びAl2O3
からなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物を含
む複合酸化物を焼結してなるペレット担体にPt,P
d,Rh及Irからなる群より選ばれた1種又は2種以
上の貴金属が0.01〜5重量%担持された排ガス浄化
用触媒。 - 【請求項4】 CeO2粉末とバインダと水とを混合し
てスラリーを調製する工程と、 セラミックス又はメタルからなるモノリス担体を前記ス
ラリーに浸漬する工程と、 前記スラリーに浸漬したモノリス担体を乾燥し焼成する
工程と、 前記焼成したモノリス担体をPt,Pd,Rh又はIr
のいずれかの金属塩水溶液に浸漬する工程と、 前記浸漬物を乾燥し還元雰囲気で焼成する工程とを含む
排ガス浄化用触媒の製造方法。 - 【請求項5】 CeO2粉末とバインダと水とを混練す
る工程と、 前記混練物を所定の形状に成形する工程と、 前記成形物を乾燥し焼成する工程と、 前記成形物を焼成した焼結体をPt,Pd,Rh又はI
rのいずれかの金属塩水溶液に浸漬する工程と、 前記浸漬物を乾燥し還元雰囲気で焼成する工程とを含む
排ガス浄化用触媒の製造方法。 - 【請求項6】 エンジン(15)の排気管(17)に設けられた
NOx触媒(21)と、 前記NOx触媒(21)の排ガス上流側に設けられ前記NO
x触媒(21)に向けて炭化水素系還元剤(29)を噴射可能な
噴射ノズル(18)と、 前記噴射ノズル(18)に前記還元剤(29)を供給する還元剤
供給手段(25)とを備えた排ガス浄化装置において、 前記NOx触媒(21)は排ガス上流側の前段に配置された
請求項2記載の排ガス浄化用触媒(21a)と、排ガス下流
側の後段に配置されセラミックス又はメタルからなるモ
ノリス担体の表面に形成されたAl2O3層にPt,P
d,Rh及Irからなる群より選ばれた1種又は2種以
上の貴金属が0.01〜5重量%担持された排ガス浄化
用触媒(21b)とにより構成されたことを特徴とする排ガ
ス浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7017896A JPH08206501A (ja) | 1995-02-06 | 1995-02-06 | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法並びにこれを用いた排ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7017896A JPH08206501A (ja) | 1995-02-06 | 1995-02-06 | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法並びにこれを用いた排ガス浄化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08206501A true JPH08206501A (ja) | 1996-08-13 |
Family
ID=11956499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7017896A Pending JPH08206501A (ja) | 1995-02-06 | 1995-02-06 | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法並びにこれを用いた排ガス浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08206501A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1077806C (zh) * | 1996-10-04 | 2002-01-16 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 负载贵金属微粒的大气净化催化剂及制法 |
| WO2006060143A3 (en) * | 2004-11-30 | 2006-09-14 | Corning Inc | Method of making a fuel cell device assembly and frame |
| JP2009255034A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-11-05 | Ibiden Co Ltd | ハニカム構造体および排ガス処理装置 |
| JP2009255029A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-11-05 | Ibiden Co Ltd | ハニカム構造体 |
| JP2013241859A (ja) * | 2012-05-18 | 2013-12-05 | Isuzu Motors Ltd | 排気ガス浄化システム及び排気ガス浄化方法 |
| CN112221494A (zh) * | 2020-11-11 | 2021-01-15 | 中自环保科技股份有限公司 | 一种适用于汽油车尾气净化的含Pt催化剂及其制备方法 |
| CN118847097A (zh) * | 2024-05-15 | 2024-10-29 | 华东理工大学 | 用于被动氮氧化物吸附的棒状Pd/CeO2催化剂及其制备方法和应用 |
-
1995
- 1995-02-06 JP JP7017896A patent/JPH08206501A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1077806C (zh) * | 1996-10-04 | 2002-01-16 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 负载贵金属微粒的大气净化催化剂及制法 |
| WO2006060143A3 (en) * | 2004-11-30 | 2006-09-14 | Corning Inc | Method of making a fuel cell device assembly and frame |
| US7416760B2 (en) * | 2004-11-30 | 2008-08-26 | Corning Incorporated | Method of making a fuel cell device assembly and frame |
| JP2009255034A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-11-05 | Ibiden Co Ltd | ハニカム構造体および排ガス処理装置 |
| JP2009255029A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-11-05 | Ibiden Co Ltd | ハニカム構造体 |
| JP2013241859A (ja) * | 2012-05-18 | 2013-12-05 | Isuzu Motors Ltd | 排気ガス浄化システム及び排気ガス浄化方法 |
| US9394820B2 (en) | 2012-05-18 | 2016-07-19 | Isuzu Motors Limited | Exhaust gas purification system and method for purifying exhaust gas |
| CN112221494A (zh) * | 2020-11-11 | 2021-01-15 | 中自环保科技股份有限公司 | 一种适用于汽油车尾气净化的含Pt催化剂及其制备方法 |
| CN112221494B (zh) * | 2020-11-11 | 2023-10-20 | 中自环保科技股份有限公司 | 一种适用于汽油车尾气净化的含Pt催化剂及其制备方法 |
| CN118847097A (zh) * | 2024-05-15 | 2024-10-29 | 华东理工大学 | 用于被动氮氧化物吸附的棒状Pd/CeO2催化剂及其制备方法和应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7125391B2 (ja) | 排ガス処理のための骨格外の鉄及び/又はマンガンを有するlta触媒 | |
| JP5770409B2 (ja) | 排ガス浄化装置 | |
| KR102651643B1 (ko) | 비금속으로 도핑된 산화 지르코늄 촉매 지지 물질 | |
| EP2113296A2 (en) | Exhaust gas purification method using selective reduction catalyst | |
| EP3689457B1 (en) | Exhaust-gas purifying catalyst | |
| WO2010010747A1 (ja) | 排気ガス浄化触媒装置、並びに排気ガス浄化方法 | |
| JPH04193345A (ja) | 排気ガス浄化方法 | |
| CN112808279B (zh) | 排气净化用催化剂 | |
| JPH11276907A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| JPH08150339A (ja) | 排ガスを浄化する触媒及びその製造方法 | |
| JPH10118457A (ja) | 内燃機関用排気ガス浄化装置 | |
| JP3591667B2 (ja) | 排ガス浄化用NOx触媒及びその製造方法 | |
| JPH06246159A (ja) | ガスエンジン排ガス浄化用三元触媒及びガスエンジン排ガスの浄化方法 | |
| JPH08150335A (ja) | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| JP3447513B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒および排気ガス浄化方法 | |
| JP2003343252A (ja) | 排気ガス浄化システム | |
| JP2023135093A (ja) | 排ガス浄化用触媒の製造方法 | |
| JPH08168650A (ja) | 排ガス浄化材及び排ガス浄化方法 | |
| WO2024150563A1 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JPH08309189A (ja) | 排ガス浄化材及び排ガス浄化方法 | |
| JP3209386B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| JPH09141057A (ja) | 排ガス浄化法 | |
| JPH0970536A (ja) | 排ガス浄化材及び排ガス浄化方法 | |
| JPH08281105A (ja) | 燃焼排ガス浄化触媒 | |
| JPH1052640A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20031120 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040331 |