JPH08211202A - 撥水撥油性超微粒子を有する光透過板およびその製造方法 - Google Patents
撥水撥油性超微粒子を有する光透過板およびその製造方法Info
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- JPH08211202A JPH08211202A JP7019122A JP1912295A JPH08211202A JP H08211202 A JPH08211202 A JP H08211202A JP 7019122 A JP7019122 A JP 7019122A JP 1912295 A JP1912295 A JP 1912295A JP H08211202 A JPH08211202 A JP H08211202A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温加熱処理が不要で且つ低コストで製造で
き、さらに汚れが付きにくい光透過板を提供する。 【構成】 基板１上に、多数のＳｎＯ2超微粒子６から
なる帯電防止膜が形成され、更にその帯電防止膜上に、
多数のＳｉＯ2超微粒子５からなる反射防止膜が形成さ
れている。そして、ＳｉＯ2超微粒子５の表面には撥水
撥油処理層８が形成されている。撥水撥油処理層８は、
ＳｉＯ2超微粒子５表面にフッ素含有のシラン化合物を
複合させることにより構成されている。また、ＳｉＯ2
超微粒子５とＳｎＯ2超微粒子６はバインダ７によって
結合されている。
き、さらに汚れが付きにくい光透過板を提供する。 【構成】 基板１上に、多数のＳｎＯ2超微粒子６から
なる帯電防止膜が形成され、更にその帯電防止膜上に、
多数のＳｉＯ2超微粒子５からなる反射防止膜が形成さ
れている。そして、ＳｉＯ2超微粒子５の表面には撥水
撥油処理層８が形成されている。撥水撥油処理層８は、
ＳｉＯ2超微粒子５表面にフッ素含有のシラン化合物を
複合させることにより構成されている。また、ＳｉＯ2
超微粒子５とＳｎＯ2超微粒子６はバインダ７によって
結合されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子材料、光学材料、
半導体材料、自動車の窓、計器類の保護板等に用いら
れ、特に、反射防止および帯電防止のための撥水撥油性
超微粒子を有する光透過板、およびその製造方法に関す
るものである。
半導体材料、自動車の窓、計器類の保護板等に用いら
れ、特に、反射防止および帯電防止のための撥水撥油性
超微粒子を有する光透過板、およびその製造方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】反射防止膜は古くから研究されており、
例えば、ＣＲＴ表面の反射光を低減するための反射防止
フィルタ等に用いられている。反射防止膜には様々なも
のが考えられているが、現在では主に多層膜と不均質膜
が利用されている。
例えば、ＣＲＴ表面の反射光を低減するための反射防止
フィルタ等に用いられている。反射防止膜には様々なも
のが考えられているが、現在では主に多層膜と不均質膜
が利用されている。
【０００３】多層膜は透明性板表面に低屈折率物質と高
屈折率物質とを少なくとも３層積層した構造であり、そ
の反射防止効果は各層間での光学的干渉作用が総合的に
影響し合って決まるものである。多層膜に関しては、フ
ィジックス・オブ・シン・フィルム，２号（１９６４
年）の第２４３項〜第２８４項に論じられている。
屈折率物質とを少なくとも３層積層した構造であり、そ
の反射防止効果は各層間での光学的干渉作用が総合的に
影響し合って決まるものである。多層膜に関しては、フ
ィジックス・オブ・シン・フィルム，２号（１９６４
年）の第２４３項〜第２８４項に論じられている。
【０００４】また、不均質膜は膜厚方向に屈折率分布を
持つものであり、膜の平均屈折率が基板ガラスよりも低
い場合に反射防止膜となる。不均質膜は透明性板表面を
多孔質化したものが一般的である。多孔質化する技術に
関しては、ガラス表面に島状の金属蒸着膜を形成後、ス
パッタエッチングにより微細な凹凸を形成して不均質膜
を作り、反射率を低減する方法がアプライド・フィジッ
クス・レター，３６号（１９８０年）の第７２７項〜第
７３０項において論じられている。また、ソーダガラス
をＳｉＯ2過飽和のＨ2ＳｉＦ6溶液に浸漬し、表面を多
孔質化して反射率を低減する方法がソーラ・エネルギ
ー，６号（１９８０年）の第２８項〜第３４項において
論じられている。
持つものであり、膜の平均屈折率が基板ガラスよりも低
い場合に反射防止膜となる。不均質膜は透明性板表面を
多孔質化したものが一般的である。多孔質化する技術に
関しては、ガラス表面に島状の金属蒸着膜を形成後、ス
パッタエッチングにより微細な凹凸を形成して不均質膜
を作り、反射率を低減する方法がアプライド・フィジッ
クス・レター，３６号（１９８０年）の第７２７項〜第
７３０項において論じられている。また、ソーダガラス
をＳｉＯ2過飽和のＨ2ＳｉＦ6溶液に浸漬し、表面を多
孔質化して反射率を低減する方法がソーラ・エネルギ
ー，６号（１９８０年）の第２８項〜第３４項において
論じられている。
【０００５】また、ガラス基板上に反射防止膜を形成す
る方法の一例として、特開平４−３３４８５２号公報に
示されるように、２層以上の光学薄膜を形成し、その上
に微粒子を積層させて最外層の光学薄膜を腐食して凹凸
を形成することで、光学薄膜の干渉効果と凹凸による光
の拡散効果によって反射を低減するものが知られてい
る。さらに、特開平５−８８００１号公報に示されるよ
うに、エチルシリケートのアルコール溶液に、被覆した
酸化珪素や酸化アルミニウムの粒子を混合し、塗布を行
い粒子を除去することで凹凸膜を得て、薄膜−空気間の
体積比の変化により低反射特性を得るものも知られてい
る。
る方法の一例として、特開平４−３３４８５２号公報に
示されるように、２層以上の光学薄膜を形成し、その上
に微粒子を積層させて最外層の光学薄膜を腐食して凹凸
を形成することで、光学薄膜の干渉効果と凹凸による光
の拡散効果によって反射を低減するものが知られてい
る。さらに、特開平５−８８００１号公報に示されるよ
うに、エチルシリケートのアルコール溶液に、被覆した
酸化珪素や酸化アルミニウムの粒子を混合し、塗布を行
い粒子を除去することで凹凸膜を得て、薄膜−空気間の
体積比の変化により低反射特性を得るものも知られてい
る。
【０００６】ところで、上記多層蒸着する方法は、基板
にプラスチックを使用した場合、各層間の熱収縮の違い
によりクラックが入りやすく、大面積に適用するには製
造コストが高くなる問題があった。また、特開平４−３
３４８５２号公報や特開平５−８８００１号公報に示す
方法では、１５０℃以上の加熱処理が必要であり、プラ
スチックなどには適用が困難であった。しかも、一般的
な反射防止膜の場合は油成分等の汚れが付着した際に、
その汚れを容易に除去できず、反射防止効果が損なわれ
ることも問題であった。
にプラスチックを使用した場合、各層間の熱収縮の違い
によりクラックが入りやすく、大面積に適用するには製
造コストが高くなる問題があった。また、特開平４−３
３４８５２号公報や特開平５−８８００１号公報に示す
方法では、１５０℃以上の加熱処理が必要であり、プラ
スチックなどには適用が困難であった。しかも、一般的
な反射防止膜の場合は油成分等の汚れが付着した際に、
その汚れを容易に除去できず、反射防止効果が損なわれ
ることも問題であった。
【０００７】そこで、これらの問題点を解決する方法と
して、特開平３−２３４９３号公報（以下、従来例１と
いう）に示されるように、フルオロアルキルシランとＳ
ｉアルコキシドを混合し、これを屈折率１.６以上の薄
膜上に形成することで、汚れを付きにくくした反射防止
ガラスが提案されている。また特開平５−３３０８５６
号公報（以下、従来例２という）には、屈折率の異なる
三層の薄膜をゾルゲル法により形成し、最外層にフッ素
化合物を塗り広げ乾燥することで、薄膜の干渉効果によ
って反射を防止するとともに、フッ素化合物が有する撥
水撥油性により汚れを付きにくくしたものも提案されて
いる。
して、特開平３−２３４９３号公報（以下、従来例１と
いう）に示されるように、フルオロアルキルシランとＳ
ｉアルコキシドを混合し、これを屈折率１.６以上の薄
膜上に形成することで、汚れを付きにくくした反射防止
ガラスが提案されている。また特開平５−３３０８５６
号公報（以下、従来例２という）には、屈折率の異なる
三層の薄膜をゾルゲル法により形成し、最外層にフッ素
化合物を塗り広げ乾燥することで、薄膜の干渉効果によ
って反射を防止するとともに、フッ素化合物が有する撥
水撥油性により汚れを付きにくくしたものも提案されて
いる。
【０００８】さらに、本発明者らは、これまでに特願平
５−９２６５１号（以下、従来例３という）に示される
ように、アルコールに比較的単分散した酸化物超微粒子
を透明基板の表面に直接膜状に単粒子層被覆（これが超
微粒子膜である）することにより、空気−超微粒子−基
板間での体積の変化による屈折率の連続変化によって反
射防止効果を得る反射防止膜・帯電防止膜及びその形成
方法を提案した。この発明においては汚れの付着を困難
にする方法として、超微粒子膜上にフッ素化合物を結合
させることで汚れの付着に関する問題を解決しており、
汚れの付着及び除去にフッ素化合物が優れた効果を有す
ることを明らかにしている。
５−９２６５１号（以下、従来例３という）に示される
ように、アルコールに比較的単分散した酸化物超微粒子
を透明基板の表面に直接膜状に単粒子層被覆（これが超
微粒子膜である）することにより、空気−超微粒子−基
板間での体積の変化による屈折率の連続変化によって反
射防止効果を得る反射防止膜・帯電防止膜及びその形成
方法を提案した。この発明においては汚れの付着を困難
にする方法として、超微粒子膜上にフッ素化合物を結合
させることで汚れの付着に関する問題を解決しており、
汚れの付着及び除去にフッ素化合物が優れた効果を有す
ることを明らかにしている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術のうち従来例１および従来例２では、汚れを付
きにくくする点では効果はあるが、反射防止の効果が不
十分であるとともに製造工程が増加するといった問題が
ある。また、上記従来例３では、超微粒子膜上に更にフ
ッ素化合物を結合させているため、この場合も、製造工
程が増加する問題がある。
従来技術のうち従来例１および従来例２では、汚れを付
きにくくする点では効果はあるが、反射防止の効果が不
十分であるとともに製造工程が増加するといった問題が
ある。また、上記従来例３では、超微粒子膜上に更にフ
ッ素化合物を結合させているため、この場合も、製造工
程が増加する問題がある。
【００１０】本発明の目的は、高温加熱処理の必要がな
く、かつ低コストで製造でき、さらに汚れが付きにくい
光透過板、およびその製造方法を提供することである。
く、かつ低コストで製造でき、さらに汚れが付きにくい
光透過板、およびその製造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、透明基板と、その透明基板上に形成され
た反射防止膜とを備え、前記反射防止膜は単粒子層配列
された多数の反射防止超微粒子からなり、その反射防止
超微粒子の表面にはフッ素含有のシラン化合物が複合さ
れ、かつ前記透明基板と前記反射防止超微粒子とはバイ
ンダにより結合されていることを特徴とするものであ
る。
に、本発明は、透明基板と、その透明基板上に形成され
た反射防止膜とを備え、前記反射防止膜は単粒子層配列
された多数の反射防止超微粒子からなり、その反射防止
超微粒子の表面にはフッ素含有のシラン化合物が複合さ
れ、かつ前記透明基板と前記反射防止超微粒子とはバイ
ンダにより結合されていることを特徴とするものであ
る。
【００１２】また、本発明は、透明基板と、その透明基
板上に形成された帯電防止膜と、その帯電防止膜上に形
成された反射防止膜とを備え、前記帯電防止膜は帯電防
止機能を有する多数の帯電防止超微粒子からなるととも
に、前記反射防止膜は単粒子層配列された多数の反射防
止超微粒子からなり、その反射防止超微粒子の表面には
フッ素含有のシラン化合物が複合され、かつ前記帯電防
止膜と前記反射防止超微粒子とはバインダにより結合さ
れていることを特徴とするものである。
板上に形成された帯電防止膜と、その帯電防止膜上に形
成された反射防止膜とを備え、前記帯電防止膜は帯電防
止機能を有する多数の帯電防止超微粒子からなるととも
に、前記反射防止膜は単粒子層配列された多数の反射防
止超微粒子からなり、その反射防止超微粒子の表面には
フッ素含有のシラン化合物が複合され、かつ前記帯電防
止膜と前記反射防止超微粒子とはバインダにより結合さ
れていることを特徴とするものである。
【００１３】上記光透過板は、液晶表示板や、フェイス
パネルとしてブラウン管などに搭載することができる。
また、本発明の超微粒子分散液は、フッ素含有のシラン
化合物が複合した多数の超微粒子が、溶液中に分散した
ものである。さらに、本発明の撥水撥油性超微粒子を有
する光透過板の製造方法は、フッ素含有のシラン化合物
が複合した多数の超微粒子を溶液中に分散させ、且つそ
の前記溶液中にバインダ成分を加えて超微粒子分散液を
作成する一方、酸、アルカリ、中性洗剤等で洗浄された
透明基板の表面に、ディップコート、スピンコート、バ
ーコート、ロールコート、ドクターコート、スプレーコ
ート等の塗布法によって前記超微粒子分散液を塗布する
ことにより、前記バインダで結合された超微粒子を前記
透明基板上に単粒子層配列させることである。
パネルとしてブラウン管などに搭載することができる。
また、本発明の超微粒子分散液は、フッ素含有のシラン
化合物が複合した多数の超微粒子が、溶液中に分散した
ものである。さらに、本発明の撥水撥油性超微粒子を有
する光透過板の製造方法は、フッ素含有のシラン化合物
が複合した多数の超微粒子を溶液中に分散させ、且つそ
の前記溶液中にバインダ成分を加えて超微粒子分散液を
作成する一方、酸、アルカリ、中性洗剤等で洗浄された
透明基板の表面に、ディップコート、スピンコート、バ
ーコート、ロールコート、ドクターコート、スプレーコ
ート等の塗布法によって前記超微粒子分散液を塗布する
ことにより、前記バインダで結合された超微粒子を前記
透明基板上に単粒子層配列させることである。
【００１４】
【作用】上記構成によれば、反射防止膜が単粒子層配列
された多数の反射防止超微粒子からなり、その反射防止
超微粒子の表面にはフッ素含有のシラン化合物が複合さ
れているので、このフッ素化合物の作用によって、光学
特性や外観の劣化の原因となる光透過板への汚れの付着
を困難にし、汚れが付着した場合にもそれを容易に除去
することができる。また、汚れを払拭する際の摩擦も低
減し、長期間にわたり優れた光学特性を持続でき、広く
各分野で有用なものとなる。
された多数の反射防止超微粒子からなり、その反射防止
超微粒子の表面にはフッ素含有のシラン化合物が複合さ
れているので、このフッ素化合物の作用によって、光学
特性や外観の劣化の原因となる光透過板への汚れの付着
を困難にし、汚れが付着した場合にもそれを容易に除去
することができる。また、汚れを払拭する際の摩擦も低
減し、長期間にわたり優れた光学特性を持続でき、広く
各分野で有用なものとなる。
【００１５】
【実施例】先ず、本発明の構成要件について分説する。 （超微粒子）ここで超微粒子とは、サブミクロンオーダ
ーの粒径を持つものを総称して超微粒子とよんでいる。
本発明に用いる超微粒子としては、透明性、透光性に支
障の無いかぎり特に限定はされない。代表的な機能は帯
電防止、反射防止である。帯電防止のための超微粒子の
平均粒径としては１０ｎｍ以下のものがよく、反射防止
のための超微粒子の平均粒径としては３０〜２００ｎｍ
のものがよい。
ーの粒径を持つものを総称して超微粒子とよんでいる。
本発明に用いる超微粒子としては、透明性、透光性に支
障の無いかぎり特に限定はされない。代表的な機能は帯
電防止、反射防止である。帯電防止のための超微粒子の
平均粒径としては１０ｎｍ以下のものがよく、反射防止
のための超微粒子の平均粒径としては３０〜２００ｎｍ
のものがよい。
【００１６】帯電防止超微粒子としては、ＳｎＯ2（二
酸化スズ）、ＳｎＯ2＋Ｓｂ2Ｏ3（酸化アンチモン）、
Ｉｎ2Ｏ3（酸化インジウム）、Ｉｎ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3のい
ずれかがよく、また反射防止超微粒子としては、ＳｉＯ
2（二酸化ケイ素）、Ｍｇ2Ｆ2（フッ化マグネシウム）
のいずれかがよい。帯電防止用超微粒子や反射防止用の
超微粒子はそれぞれ２種以上併用してもかまわない。
酸化スズ）、ＳｎＯ2＋Ｓｂ2Ｏ3（酸化アンチモン）、
Ｉｎ2Ｏ3（酸化インジウム）、Ｉｎ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3のい
ずれかがよく、また反射防止超微粒子としては、ＳｉＯ
2（二酸化ケイ素）、Ｍｇ2Ｆ2（フッ化マグネシウム）
のいずれかがよい。帯電防止用超微粒子や反射防止用の
超微粒子はそれぞれ２種以上併用してもかまわない。
【００１７】帯電防止機能を有する超微粒子の平均粒径
は２０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下がよい。２０
ｎｍよりも大きい粒径では、帯電防止膜上に形成する反
射防止膜が一様に形成し難くなり、光学特性に影響する
ためである。一方、反射防止機能を有する超微粒子の平
均粒径は３０〜２００ｎｍが望ましい。ＳｉＯ2の場合
３０ｎｍより小さな粒径では形成された膜の表面が平坦
になり過ぎて十分な反射防止効果が得られない恐れがあ
り、一方、２００ｎｍより大きな粒径では反射防止効果
は得られるが、拡散反射が大きくなり、その結果、膜が
白濁すると同時に解像度が低下する恐れがあるからであ
る。したがって、反射防止用超微粒子の粒径は３０〜２
００ｎｍが望ましい。
は２０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下がよい。２０
ｎｍよりも大きい粒径では、帯電防止膜上に形成する反
射防止膜が一様に形成し難くなり、光学特性に影響する
ためである。一方、反射防止機能を有する超微粒子の平
均粒径は３０〜２００ｎｍが望ましい。ＳｉＯ2の場合
３０ｎｍより小さな粒径では形成された膜の表面が平坦
になり過ぎて十分な反射防止効果が得られない恐れがあ
り、一方、２００ｎｍより大きな粒径では反射防止効果
は得られるが、拡散反射が大きくなり、その結果、膜が
白濁すると同時に解像度が低下する恐れがあるからであ
る。したがって、反射防止用超微粒子の粒径は３０〜２
００ｎｍが望ましい。
【００１８】（超微粒子膜形成基板）超微粒子膜形成基
板としては、ガラス、プラスチック、金属、プラスチッ
クフィルム等が挙げられるが、取り扱いの容易な点から
以下に示す実施例ではガラスとプラスチックフィルムを
用いた。超微粒子膜形成面は基板の片面でも両面でも差
し支えないが、超微粒子膜を形成する前にアルカリや酸
及び中性洗剤により、洗浄前処理を行うことが好まし
い。プラスチックの場合はプラズマ処理等の表面改質処
理を施し、ハードコート処理を行っておくことが好まし
い。
板としては、ガラス、プラスチック、金属、プラスチッ
クフィルム等が挙げられるが、取り扱いの容易な点から
以下に示す実施例ではガラスとプラスチックフィルムを
用いた。超微粒子膜形成面は基板の片面でも両面でも差
し支えないが、超微粒子膜を形成する前にアルカリや酸
及び中性洗剤により、洗浄前処理を行うことが好まし
い。プラスチックの場合はプラズマ処理等の表面改質処
理を施し、ハードコート処理を行っておくことが好まし
い。
【００１９】（超微粒子膜形成方法）超微粒子膜の形成
方法は、コストの点から、ディップコーティング法、ス
プレーコート法、スピンコート法、バーコート法、ドク
ターコート法、グラビアコート法等の塗布法を用いるこ
とが望ましい。
方法は、コストの点から、ディップコーティング法、ス
プレーコート法、スピンコート法、バーコート法、ドク
ターコート法、グラビアコート法等の塗布法を用いるこ
とが望ましい。
【００２０】ディップコーティング法を行なう場合は、
フッ素化合物により複合した超微粒子とバインダを混合
した塗布液を容器内に充たし、超微粒子膜形成用基板を
浸漬した後、容器内部の液を下降させるか、或いは容器
内に基板を設置して塗布液を徐々に充たした後、基板を
引き上げても良い。このディップコーティング法は、表
面形状が複雑なものや大面積の物品にも適している。
フッ素化合物により複合した超微粒子とバインダを混合
した塗布液を容器内に充たし、超微粒子膜形成用基板を
浸漬した後、容器内部の液を下降させるか、或いは容器
内に基板を設置して塗布液を徐々に充たした後、基板を
引き上げても良い。このディップコーティング法は、表
面形状が複雑なものや大面積の物品にも適している。
【００２１】スプレーコート法の場合は、フッ素化合物
と混合した超微粒子及びバインダを混合した塗布液を容
器内に満たし、容器内に空気等により圧力を供給するこ
とによってノズルより塗布液を吐出させ、超微粒子膜を
形成する。また静電塗布等でも構わない。
と混合した超微粒子及びバインダを混合した塗布液を容
器内に満たし、容器内に空気等により圧力を供給するこ
とによってノズルより塗布液を吐出させ、超微粒子膜を
形成する。また静電塗布等でも構わない。
【００２２】スピンコートの場合は、基板を一定速度で
回転させ、その基板中央部に前記と同様の塗布液を滴下
する。この方法は超微粒子膜を片面のみに塗布形成する
場合にスプレーコート法とともに適している。基材にプ
ラスチックフィルムを使用する場合は、グラビアコート
法やバーコート法が、連続的に塗膜を形成できるので適
している。
回転させ、その基板中央部に前記と同様の塗布液を滴下
する。この方法は超微粒子膜を片面のみに塗布形成する
場合にスプレーコート法とともに適している。基材にプ
ラスチックフィルムを使用する場合は、グラビアコート
法やバーコート法が、連続的に塗膜を形成できるので適
している。
【００２３】塗布後の超微粒子膜の硬化方法としては、
熱風、紫外線、赤外線等で行うことが可能である。加熱
温度は塗布する基板によって決定されるが、基板が樹脂
の場合、５０〜１００℃、ガラスの場合１００〜４００
℃で乾燥する。４００℃以上では、フッ素化合物が分解
してしまう恐れが有るからである。
熱風、紫外線、赤外線等で行うことが可能である。加熱
温度は塗布する基板によって決定されるが、基板が樹脂
の場合、５０〜１００℃、ガラスの場合１００〜４００
℃で乾燥する。４００℃以上では、フッ素化合物が分解
してしまう恐れが有るからである。
【００２４】バインダに紫外線硬化樹脂を使用する場合
は、紫外線を水銀ランプ等により照射し硬化させる。
は、紫外線を水銀ランプ等により照射し硬化させる。
【００２５】（塗布溶液）本発明の超微粒子膜の形成に
は、所定の超微粒子に撥水撥油処理剤とバインダを加え
た塗布溶液を用いる。溶媒にはアルコール、ケトン、エ
ステル、エーテル、炭化水素やアルコールの可溶な溶剤
を使用する。アルコールとしては、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、アリルアル
コール、エチレングリコール、グリセリン、シクロヘキ
サノール、ベンジルアルコール等が挙げられるがこれに
限定されるものではなく、これらを二種類以上混合して
も差し支えない。
は、所定の超微粒子に撥水撥油処理剤とバインダを加え
た塗布溶液を用いる。溶媒にはアルコール、ケトン、エ
ステル、エーテル、炭化水素やアルコールの可溶な溶剤
を使用する。アルコールとしては、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、アリルアル
コール、エチレングリコール、グリセリン、シクロヘキ
サノール、ベンジルアルコール等が挙げられるがこれに
限定されるものではなく、これらを二種類以上混合して
も差し支えない。
【００２６】基板がガラスなどのように表面に水酸基を
有するときは、バインダとしてＳｉ（ＯＲ）4（Ｒはア
ルキル基）を使用する。Ｓｉ（ＯＲ）4が分解するため
に水及び触媒として酸などを加えて塗布溶液を調整す
る。この溶液に帯電防止機能を有する超微粒子としてＳ
ｎＯ2超微粒子、反射防止機能を有する超微粒子として
ＳｉＯ2をそれぞれ混合する。ＳｉＯ2超微粒子混合溶液
には、バインダを混合する前に撥水撥油処理剤をＳｉＯ
2超微粒子と混合する。また、ＳｎＯ2超微粒子とＳｉＯ
2超微粒子を混合して、そこに撥水撥油処理剤を混合し
ても差し支えない。
有するときは、バインダとしてＳｉ（ＯＲ）4（Ｒはア
ルキル基）を使用する。Ｓｉ（ＯＲ）4が分解するため
に水及び触媒として酸などを加えて塗布溶液を調整す
る。この溶液に帯電防止機能を有する超微粒子としてＳ
ｎＯ2超微粒子、反射防止機能を有する超微粒子として
ＳｉＯ2をそれぞれ混合する。ＳｉＯ2超微粒子混合溶液
には、バインダを混合する前に撥水撥油処理剤をＳｉＯ
2超微粒子と混合する。また、ＳｎＯ2超微粒子とＳｉＯ
2超微粒子を混合して、そこに撥水撥油処理剤を混合し
ても差し支えない。
【００２７】さらに、ＳｎＯ2超微粒子に帯電防止効果
を高めるために、周期律表第II族および第III族金属の
塩を添加しても良い。代表的な例としてはアルミニウム
の塩酸塩や硝酸塩、硫酸塩及びカルボン酸塩が挙げられ
る。また、基板表面に水酸基が存在しない場合は、シラ
ンカップリング剤等を添加しておくのが好ましい。バイ
ンダに紫外線硬化樹脂を使用しても差し支えない。
を高めるために、周期律表第II族および第III族金属の
塩を添加しても良い。代表的な例としてはアルミニウム
の塩酸塩や硝酸塩、硫酸塩及びカルボン酸塩が挙げられ
る。また、基板表面に水酸基が存在しない場合は、シラ
ンカップリング剤等を添加しておくのが好ましい。バイ
ンダに紫外線硬化樹脂を使用しても差し支えない。
【００２８】塗布溶液の混合方法としては、バインダと
して、まずエチルシリケート［Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4］を
エタノールに溶解し、さらに加水分解のための水と、触
媒としての硝酸とを添加してエチルシリケートの固形分
を０.５〜１.０％に調整した溶液を作る。反射防止用の
塗布液にはエタノールに分散した、ほぼ球形のＳｉＯ2
超微粒子を重量％で４％に調整し、撥水撥油処理剤をバ
インダの固形分に対して０.０１〜０.５ｍｏｌ添加す
る。このとき、撥水撥油処理剤の添加量が０.０１ｍｏ
ｌ以下では撥水撥油効果が得がたく、０.５ｍｏｌ以上
では塗膜の均一性が失われるためである。この溶液にバ
インダを添加し十分に混合する。
して、まずエチルシリケート［Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4］を
エタノールに溶解し、さらに加水分解のための水と、触
媒としての硝酸とを添加してエチルシリケートの固形分
を０.５〜１.０％に調整した溶液を作る。反射防止用の
塗布液にはエタノールに分散した、ほぼ球形のＳｉＯ2
超微粒子を重量％で４％に調整し、撥水撥油処理剤をバ
インダの固形分に対して０.０１〜０.５ｍｏｌ添加す
る。このとき、撥水撥油処理剤の添加量が０.０１ｍｏ
ｌ以下では撥水撥油効果が得がたく、０.５ｍｏｌ以上
では塗膜の均一性が失われるためである。この溶液にバ
インダを添加し十分に混合する。
【００２９】一方帯電防止用の塗布液には、エタノール
に平均粒径１０ｎｍ以下のＳｎＯ2超微粒子を重量％で
約２％添加し、前記バインダを添加し、十分に混合す
る。このとき各々の溶液に超微粒子及びバインダが十分
分散するように溶液のｐＨを調整する。またこの溶液に
高沸点溶媒として、エチレングリコール、メチルセロソ
ルブ、ジアセトンアルコール等を添加しても差し支えな
い。
に平均粒径１０ｎｍ以下のＳｎＯ2超微粒子を重量％で
約２％添加し、前記バインダを添加し、十分に混合す
る。このとき各々の溶液に超微粒子及びバインダが十分
分散するように溶液のｐＨを調整する。またこの溶液に
高沸点溶媒として、エチレングリコール、メチルセロソ
ルブ、ジアセトンアルコール等を添加しても差し支えな
い。
【００３０】（撥水撥油処理剤）撥水撥油処理剤として
は、クロルシラン化合物、アルコキシシラン化合物、フ
ルオロアルキルシラン化合物の少なくとも一種以上が含
有された処理剤を用いる。上記クロルシラン化合物とし
ては、例えばCH3SiCl3、(CH3)HSiCl2、(CH3)2SiCl2、(C
H3)3SiCl等が挙げられる。また、アルコキシシラン化合
物としては、例えば、CH3SiOCH3、(CH3)2Si(OCH3)2、CH
3Si(OC2H5)2、(CH3)2Si(OC2H5)2等が挙げられる。また
フルオロアルキルシラン化合物としては、例えば、CF3C
H2CH2Si(OCH3)3、CF3CH2CH2SiCl3、CF3(CF2)7CH2CH2SiC
H3Cl2、CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3、およびCF3(CF2)7CH
2CH2Si(OCH3)3等が挙げられる。
は、クロルシラン化合物、アルコキシシラン化合物、フ
ルオロアルキルシラン化合物の少なくとも一種以上が含
有された処理剤を用いる。上記クロルシラン化合物とし
ては、例えばCH3SiCl3、(CH3)HSiCl2、(CH3)2SiCl2、(C
H3)3SiCl等が挙げられる。また、アルコキシシラン化合
物としては、例えば、CH3SiOCH3、(CH3)2Si(OCH3)2、CH
3Si(OC2H5)2、(CH3)2Si(OC2H5)2等が挙げられる。また
フルオロアルキルシラン化合物としては、例えば、CF3C
H2CH2Si(OCH3)3、CF3CH2CH2SiCl3、CF3(CF2)7CH2CH2SiC
H3Cl2、CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3、およびCF3(CF2)7CH
2CH2Si(OCH3)3等が挙げられる。
【００３１】次に、本発明の実施例を図面に従って説明
する。 （第１実施例）まず、帯電防止膜形成用超微粒子として
平均粒径１０ｎｍ以下のＳｎＯ2超微粒子をエタノール
に重量％で２％分散させ、バインダとしてエチルシリケ
ートの固形分を０.７％に調整したエタノール溶液を混
合し、さらにこの溶液に０.１ＮのＨＮＯ3を微量添加し
て、ｐＨを弱酸性に調整する。超微粒子が十分に分散し
た後に、この溶液を図１に示すディップコーティング法
により基板に膜形成を行う。
する。 （第１実施例）まず、帯電防止膜形成用超微粒子として
平均粒径１０ｎｍ以下のＳｎＯ2超微粒子をエタノール
に重量％で２％分散させ、バインダとしてエチルシリケ
ートの固形分を０.７％に調整したエタノール溶液を混
合し、さらにこの溶液に０.１ＮのＨＮＯ3を微量添加し
て、ｐＨを弱酸性に調整する。超微粒子が十分に分散し
た後に、この溶液を図１に示すディップコーティング法
により基板に膜形成を行う。
【００３２】基板１にはソーダライムガラスを用い、こ
れを４０℃の１０重量％ＫＯＨ水溶液へ浸漬洗浄、純水
洗浄して乾燥した後に、基板１の片面をマスキングテー
プにより被覆し、塗布浴槽２内に充たしたＳｎＯ2超微
粒子の分散した溶液３に浸漬させた。そして、この状態
でポンプ４を用いて溶液３を下降速度約１０ｍｍ／ｓで
塗布浴槽２から排出した。この段階でガラス基板１の表
面にＳｎＯ2超微粒子膜が塗布形成されている。
れを４０℃の１０重量％ＫＯＨ水溶液へ浸漬洗浄、純水
洗浄して乾燥した後に、基板１の片面をマスキングテー
プにより被覆し、塗布浴槽２内に充たしたＳｎＯ2超微
粒子の分散した溶液３に浸漬させた。そして、この状態
でポンプ４を用いて溶液３を下降速度約１０ｍｍ／ｓで
塗布浴槽２から排出した。この段階でガラス基板１の表
面にＳｎＯ2超微粒子膜が塗布形成されている。
【００３３】この帯電防止膜上に、平均粒径１２０ｎｍ
のＳｉＯ2超微粒子をエタノールに重量％で４％分散さ
せて、撥水撥油処理剤として CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)
3を０.０１〜０.１ｍｏｌの範囲で徐々に添加する。超
微粒子と撥水撥油処理剤を十分撹拌した後に、エチルシ
リケートの固形分を重量％で０.７％に調整したエタノ
ール溶液を添加する。さらにこの溶液にＨ2Ｏ及び０.１
ＮのＨＮＯ3を微量添加し、ｐＨを中性から弱酸性に調
整する。このＳｉＯ2超微粒子、撥水撥油処理剤及びバ
インダの分散溶液を塗布浴槽内に充たし、帯電防止膜を
形成した基板を浸漬し、ポンプを用いて溶液を下降速度
２ｍｍ／ｓで塗布浴槽から排出した。この段階で帯電防
止膜上にＳｉＯ2超微粒子が塗布されている。
のＳｉＯ2超微粒子をエタノールに重量％で４％分散さ
せて、撥水撥油処理剤として CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)
3を０.０１〜０.１ｍｏｌの範囲で徐々に添加する。超
微粒子と撥水撥油処理剤を十分撹拌した後に、エチルシ
リケートの固形分を重量％で０.７％に調整したエタノ
ール溶液を添加する。さらにこの溶液にＨ2Ｏ及び０.１
ＮのＨＮＯ3を微量添加し、ｐＨを中性から弱酸性に調
整する。このＳｉＯ2超微粒子、撥水撥油処理剤及びバ
インダの分散溶液を塗布浴槽内に充たし、帯電防止膜を
形成した基板を浸漬し、ポンプを用いて溶液を下降速度
２ｍｍ／ｓで塗布浴槽から排出した。この段階で帯電防
止膜上にＳｉＯ2超微粒子が塗布されている。
【００３４】形成した膜は、炉中２００℃で３０分間焼
成した。この時に余分な溶剤は蒸発し、フッ素化合物が
ＳｉＯ2超微粒子及びバインダ表面に結合する。また溶
液に添加したＳｉＯ2超微粒子は、エチルシリケートが
分解してできたＳｉＯ2がバインダの役目を果たすの
で、お互いに強固に接着されると同時に、基板表面とも
強固に接着固定される。また帯電防止膜のＳｎＯ2超微
粒子が反射防止膜のＳｉＯ2超微粒子下部に凝集するこ
とによってより強固な膜となる。
成した。この時に余分な溶剤は蒸発し、フッ素化合物が
ＳｉＯ2超微粒子及びバインダ表面に結合する。また溶
液に添加したＳｉＯ2超微粒子は、エチルシリケートが
分解してできたＳｉＯ2がバインダの役目を果たすの
で、お互いに強固に接着されると同時に、基板表面とも
強固に接着固定される。また帯電防止膜のＳｎＯ2超微
粒子が反射防止膜のＳｉＯ2超微粒子下部に凝集するこ
とによってより強固な膜となる。
【００３５】このようにして形成した超微粒子膜を備え
る基板の一部断面斜視図を図２に示す。また、拡大断面
図を図３に示す。図２および図３において、１は基板、
５はＳｉＯ2超微粒子、６はＳｎＯ2超微粒子、７はバイ
ンダ、８はＳｉＯ2超微粒子５の表面に形成された撥水
撥油処理層である。上記方法により、基板１の表面に強
固に接着したＳｉＯ2超微粒子５による均一な連続した
微細凹凸を形成することができ、同時に撥水撥油効果を
持たせることができる。
る基板の一部断面斜視図を図２に示す。また、拡大断面
図を図３に示す。図２および図３において、１は基板、
５はＳｉＯ2超微粒子、６はＳｎＯ2超微粒子、７はバイ
ンダ、８はＳｉＯ2超微粒子５の表面に形成された撥水
撥油処理層である。上記方法により、基板１の表面に強
固に接着したＳｉＯ2超微粒子５による均一な連続した
微細凹凸を形成することができ、同時に撥水撥油効果を
持たせることができる。
【００３６】このようにしてガラス基板上に形成した超
微粒子膜の光学特性は、未処理基板に較べ大幅に向上し
ている。透過率は未処理ガラスの場合９１％（空気リフ
ァレンス）であるが、本方法では反射を低減した分向上
し、９３〜９４％の透過率が得られた。また入射角５度
の光に対する反射率は、未処理ガラスの４.５％に対し
０.４％と１／１０以下に低減した。膜の導電性に関し
ては、約３×１０8Ω／cm2であった。
微粒子膜の光学特性は、未処理基板に較べ大幅に向上し
ている。透過率は未処理ガラスの場合９１％（空気リフ
ァレンス）であるが、本方法では反射を低減した分向上
し、９３〜９４％の透過率が得られた。また入射角５度
の光に対する反射率は、未処理ガラスの４.５％に対し
０.４％と１／１０以下に低減した。膜の導電性に関し
ては、約３×１０8Ω／cm2であった。
【００３７】また撥水撥油効果に対しては、水に対する
静的接触角約１２３度であり、指紋等の汚れの付着に対
してはエタノールを含ませたベンコット（旭化成製）に
よって容易に払拭可能であった。なお、ガラス基板の両
面へ上述した超微粒子膜を形成した場合にも同様の特性
の膜が得られた。
静的接触角約１２３度であり、指紋等の汚れの付着に対
してはエタノールを含ませたベンコット（旭化成製）に
よって容易に払拭可能であった。なお、ガラス基板の両
面へ上述した超微粒子膜を形成した場合にも同様の特性
の膜が得られた。
【００３８】（第２実施例）第１実施例と同様の方法
で、ソーダライムガラス基板（片面）上にＳｎＯ2超微
粒子による帯電防止膜を形成し、この膜上に平均粒径１
２０ｎｍのＳｉＯ2超微粒子をエタノールに重量％で４
％、エチルシリケートの固形分を重量％で０.７％、Ｈ2
Ｏ、および０.１ＮのＨＣｌを微量添加した後に、撥水
撥油処理剤としてCF3(CF2)7CH2CH2SiCl7を０.１ｍｏｌ
添加し、超微粒子、バインダと撥水撥油処理剤を十分撹
拌した溶液を用いて、図４に示すディッピング法により
膜を形成した。
で、ソーダライムガラス基板（片面）上にＳｎＯ2超微
粒子による帯電防止膜を形成し、この膜上に平均粒径１
２０ｎｍのＳｉＯ2超微粒子をエタノールに重量％で４
％、エチルシリケートの固形分を重量％で０.７％、Ｈ2
Ｏ、および０.１ＮのＨＣｌを微量添加した後に、撥水
撥油処理剤としてCF3(CF2)7CH2CH2SiCl7を０.１ｍｏｌ
添加し、超微粒子、バインダと撥水撥油処理剤を十分撹
拌した溶液を用いて、図４に示すディッピング法により
膜を形成した。
【００３９】図４において、２は塗布浴槽であり、この
中にＳｉＯ2超微粒子、撥水撥油処理剤及びバインダの
分散した溶液９を充たし、帯電防止膜を形成したガラス
基板１０を浸漬して、モータ１１を用いて基板１０の移
動速度が２ｍｍ／ｓとなるよう糸１２を巻きとる。この
段階で帯電防止膜上にＳｉＯ2超微粒子が膜状に形成さ
れている。これを炉中１５０℃で３０分間乾燥した。
中にＳｉＯ2超微粒子、撥水撥油処理剤及びバインダの
分散した溶液９を充たし、帯電防止膜を形成したガラス
基板１０を浸漬して、モータ１１を用いて基板１０の移
動速度が２ｍｍ／ｓとなるよう糸１２を巻きとる。この
段階で帯電防止膜上にＳｉＯ2超微粒子が膜状に形成さ
れている。これを炉中１５０℃で３０分間乾燥した。
【００４０】この場合においても、入射角５度の光に対
する反射率は未処理ガラスの４.５％に対し０.４％と第
１実施例とほぼ同等の膜を形成できた。また水に対する
静的接触角は約１２５度であり、指紋等の汚れの付着に
対してもエタノールを含ませたベンコット（旭化成製）
によって容易に払拭可能であった。
する反射率は未処理ガラスの４.５％に対し０.４％と第
１実施例とほぼ同等の膜を形成できた。また水に対する
静的接触角は約１２５度であり、指紋等の汚れの付着に
対してもエタノールを含ませたベンコット（旭化成製）
によって容易に払拭可能であった。
【００４１】（第３実施例）基板にセルロースフィルム
を用いアルカリ，純水により洗浄し、乾燥したセルロー
スフィルムを使用して、図５に示すバーコート法によっ
て塗膜をフィルムに形成した。
を用いアルカリ，純水により洗浄し、乾燥したセルロー
スフィルムを使用して、図５に示すバーコート法によっ
て塗膜をフィルムに形成した。
【００４２】図５において、１３はメイヤーバー（ R.
D.Specialities,USA製 ），ロッドＮｏ.６であり、１４
はセルロースフィルムである。まずメイヤーバー１３と
セルロースフィルム１４を接触させ、メイヤーバー１３
のフィルム進行方向の反対側に、第１実施例と同様のＳ
ｎＯ2超微粒子とバインダの分散した溶液３を滴下し、
フィルムを約５ｍ／ｍｉｎの速度で移動させる。この段
階でＳｎＯ2超微粒子膜６が形成されている。
D.Specialities,USA製 ），ロッドＮｏ.６であり、１４
はセルロースフィルムである。まずメイヤーバー１３と
セルロースフィルム１４を接触させ、メイヤーバー１３
のフィルム進行方向の反対側に、第１実施例と同様のＳ
ｎＯ2超微粒子とバインダの分散した溶液３を滴下し、
フィルムを約５ｍ／ｍｉｎの速度で移動させる。この段
階でＳｎＯ2超微粒子膜６が形成されている。
【００４３】そして、そのＳｎＯ2超微粒子膜６上に、
平均粒径８０ｎｍのＳｉＯ2超微粒子をエタノールに重
量％で４％分散し、０.１ＮのＨＣｌを微量添加した後
に、撥水撥油処理剤としてCF3(CF2)7CH2CH2SiCl7を０.
１ｍｏｌ添加する。超微粒子と撥水撥油処理剤を十分撹
拌した後にエチルシリケートの固形分を重量％で０.７
％混合し、メイヤーバー，ロッドＮｏ.３によってＳｎ
Ｏ2超微粒子膜と同様の方法で塗布を行い、８０℃の炉
中で３０分間乾燥を行った。
平均粒径８０ｎｍのＳｉＯ2超微粒子をエタノールに重
量％で４％分散し、０.１ＮのＨＣｌを微量添加した後
に、撥水撥油処理剤としてCF3(CF2)7CH2CH2SiCl7を０.
１ｍｏｌ添加する。超微粒子と撥水撥油処理剤を十分撹
拌した後にエチルシリケートの固形分を重量％で０.７
％混合し、メイヤーバー，ロッドＮｏ.３によってＳｎ
Ｏ2超微粒子膜と同様の方法で塗布を行い、８０℃の炉
中で３０分間乾燥を行った。
【００４４】この方法においても、入射角５度の光に対
する反射率は未処理の４.６％に対し約０.３％であり、
十分な反射防止効果が得られた。また水に対する静的接
触角は約１２０度であり、指紋等の汚れの付着に対して
もエタノールを含ませたベンコット（旭化成製）よって
容易に払拭可能であった。
する反射率は未処理の４.６％に対し約０.３％であり、
十分な反射防止効果が得られた。また水に対する静的接
触角は約１２０度であり、指紋等の汚れの付着に対して
もエタノールを含ませたベンコット（旭化成製）よって
容易に払拭可能であった。
【００４５】（第４実施例）第１実施例のＳｉＯ2超微
粒子の平均粒径を３０ｎｍに変更した場合を第４実施例
とした。その他は第１実施例と同様である。図６に得ら
れた膜の斜視図を示す。平均粒径１２０ｎｍのＳｉＯ2
超微粒子を使用した場合に対し、粒子が複数層状に形成
された。しかし、この場合においても光の透過率は９４
％であり、入射角５度の光に対する反射率は０.５％で
あった。また汚れに対しては粒子径が小さいことで表面
の凹凸もより微細なものとなり、指紋等の汚れは呼気吹
き付け後トレシー（東レ製）により容易に払拭可能であ
った。
粒子の平均粒径を３０ｎｍに変更した場合を第４実施例
とした。その他は第１実施例と同様である。図６に得ら
れた膜の斜視図を示す。平均粒径１２０ｎｍのＳｉＯ2
超微粒子を使用した場合に対し、粒子が複数層状に形成
された。しかし、この場合においても光の透過率は９４
％であり、入射角５度の光に対する反射率は０.５％で
あった。また汚れに対しては粒子径が小さいことで表面
の凹凸もより微細なものとなり、指紋等の汚れは呼気吹
き付け後トレシー（東レ製）により容易に払拭可能であ
った。
【００４６】（第５実施例）以下に、複合粒子としてＳ
ｉＯ2超微粒子をエッチングのマスク材に利用した場合
の一実施例を示す。まず超微粒子へのフッ素化合物複合
手順を示す。エタノールに重量％で約２０％分散した平
均粒径３００ｎｍのＳｉＯ2超微粒子溶液に、プロピレ
ングリコールを使用してＳｉＯ2超微粒子の濃度を重量
％で約０.２％に調整し、この溶液に撥水撥油処理剤と
してCF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3を重量％で約０.２％添
加混合し十分撹拌した後に、加水分解のための０.１Ｎ
の塩酸を微量添加しさらに撹拌する。この液を図７に示
すスプレーコート法にてＳｉＯ2超微粒子を磁気ディス
クへ塗布を行い、ＳｉＯ2超微粒子によるマスクを形成
する。
ｉＯ2超微粒子をエッチングのマスク材に利用した場合
の一実施例を示す。まず超微粒子へのフッ素化合物複合
手順を示す。エタノールに重量％で約２０％分散した平
均粒径３００ｎｍのＳｉＯ2超微粒子溶液に、プロピレ
ングリコールを使用してＳｉＯ2超微粒子の濃度を重量
％で約０.２％に調整し、この溶液に撥水撥油処理剤と
してCF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3を重量％で約０.２％添
加混合し十分撹拌した後に、加水分解のための０.１Ｎ
の塩酸を微量添加しさらに撹拌する。この液を図７に示
すスプレーコート法にてＳｉＯ2超微粒子を磁気ディス
クへ塗布を行い、ＳｉＯ2超微粒子によるマスクを形成
する。
【００４７】まず濃度を調整して撥水撥油処理剤と混合
したＳｉＯ2超微粒子分散液１９を容器２０内に充た
し、ポンプ２１により分散液１９をノズル２２へ供給し
て、ノズル２２よりＳｉＯ2超微粒子の噴霧を行う。こ
の時ノズル２２とディスク２４間に設置された高電圧発
生機２３によってＳｉＯ2超微粒子に電荷の付加を行
い、アース２５されたディスク２４へＳｉＯ2超微粒子
が疎らに塗布される。
したＳｉＯ2超微粒子分散液１９を容器２０内に充た
し、ポンプ２１により分散液１９をノズル２２へ供給し
て、ノズル２２よりＳｉＯ2超微粒子の噴霧を行う。こ
の時ノズル２２とディスク２４間に設置された高電圧発
生機２３によってＳｉＯ2超微粒子に電荷の付加を行
い、アース２５されたディスク２４へＳｉＯ2超微粒子
が疎らに塗布される。
【００４８】ＳｉＯ2超微粒子の塗布されたディスク２
４の拡大断面模式図を図８に示す。図において、２６は
フッ素化合物を複合したＳｉＯ2超微粒子であり、２４
は磁気ディスクである。このＳｉＯ2超微粒子２６をマ
スク材として、図９に示すように酸素エッチングを行
い、ディスク表面に微細な凹凸を形成する。この時、エ
ッチングの時間を任意に設定することで、凹凸の高さを
制御できる。
４の拡大断面模式図を図８に示す。図において、２６は
フッ素化合物を複合したＳｉＯ2超微粒子であり、２４
は磁気ディスクである。このＳｉＯ2超微粒子２６をマ
スク材として、図９に示すように酸素エッチングを行
い、ディスク表面に微細な凹凸を形成する。この時、エ
ッチングの時間を任意に設定することで、凹凸の高さを
制御できる。
【００４９】エッチング終了後、図１０に示すように、
純水洗浄等によってＳｉＯ2超微粒子２６を完全に除去
する。ＳｉＯ2超微粒子２６には、表面にフッ素化合物
を複合しているので、表面エネルギーが低減され粒子の
除去を容易にすることができる。このようにして、微細
な凹凸を形成した磁気ディスクは塵埃掻き取り効果が得
られ、さらに表面に潤滑膜を形成することで、今後の高
密度記録化に伴うヘッド浮上量の低下に十分対応可能な
ものとなる。
純水洗浄等によってＳｉＯ2超微粒子２６を完全に除去
する。ＳｉＯ2超微粒子２６には、表面にフッ素化合物
を複合しているので、表面エネルギーが低減され粒子の
除去を容易にすることができる。このようにして、微細
な凹凸を形成した磁気ディスクは塵埃掻き取り効果が得
られ、さらに表面に潤滑膜を形成することで、今後の高
密度記録化に伴うヘッド浮上量の低下に十分対応可能な
ものとなる。
【００５０】（第６実施例）第６実施例は、第３実施例
のセルロースフィルムを三酢酸セルロース、形状をロー
ル状にして導電性膜と反射防止膜を連続的に形成可能と
したものである。各塗布液は第３実施例と同様である。
フィルムの前処理及び膜形成工程は、図１１に示すよう
に三酢酸セルロースフィルム３４を前処理として水酸化
カリウム水溶液３０への浸漬処理を行い、純水３１によ
りフィルム表面のアルカリを洗浄して、窒素ブロー３２
によってフィルムを乾燥し前処理工程を終了する。次
に、ロッドＮｏ.６のメイヤーバー１３を用いてＳｎＯ2
超微粒子を含有した塗布液３をフィルム３４上に連続的
に供給し、塗布液がメイヤーバー１３を通過した時に平
滑化され膜状に形成され、次にフッ素化合物を複合化し
たＳｎＯ2超微粒子を含有した塗布液２８をロッドＮｏ.
３のメイヤーバー２７によって反射防止膜の形成を行
い、熱風炉３３によって膜を焼成し、帯電防止性、反射
防止性及び撥水撥油性を有する三酢酸セルロースフィル
ム２９となる。
のセルロースフィルムを三酢酸セルロース、形状をロー
ル状にして導電性膜と反射防止膜を連続的に形成可能と
したものである。各塗布液は第３実施例と同様である。
フィルムの前処理及び膜形成工程は、図１１に示すよう
に三酢酸セルロースフィルム３４を前処理として水酸化
カリウム水溶液３０への浸漬処理を行い、純水３１によ
りフィルム表面のアルカリを洗浄して、窒素ブロー３２
によってフィルムを乾燥し前処理工程を終了する。次
に、ロッドＮｏ.６のメイヤーバー１３を用いてＳｎＯ2
超微粒子を含有した塗布液３をフィルム３４上に連続的
に供給し、塗布液がメイヤーバー１３を通過した時に平
滑化され膜状に形成され、次にフッ素化合物を複合化し
たＳｎＯ2超微粒子を含有した塗布液２８をロッドＮｏ.
３のメイヤーバー２７によって反射防止膜の形成を行
い、熱風炉３３によって膜を焼成し、帯電防止性、反射
防止性及び撥水撥油性を有する三酢酸セルロースフィル
ム２９となる。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
反射防止超微粒子の表面がフッ素含有のシラン化合物で
複合されているので、反射防止膜が撥水及び撥油の特性
を有するようになり、耐汚れ性や耐擦傷性を向上させる
ことができる。
反射防止超微粒子の表面がフッ素含有のシラン化合物で
複合されているので、反射防止膜が撥水及び撥油の特性
を有するようになり、耐汚れ性や耐擦傷性を向上させる
ことができる。
【００５２】また、反射防止膜の上に更に膜を形成する
必要がないので、製造工程の増加と行った問題も生じる
ことがなく、コスト的にも非常に有利である。さらに、
１５０℃以上に加熱処理することがないので、透明基板
がプラスチックであっても適用可能である。
必要がないので、製造工程の増加と行った問題も生じる
ことがなく、コスト的にも非常に有利である。さらに、
１５０℃以上に加熱処理することがないので、透明基板
がプラスチックであっても適用可能である。
【図１】本発明の第１実施例に係るディッピング方法の
説明図である。
説明図である。
【図２】ガラス基板上に形成した超微粒子膜の断面斜視
図である。
図である。
【図３】ガラス基板上に形成した超微粒子膜の断面模式
図である。
図である。
【図４】本発明の第２実施例に係るディッピング方法の
説明図である。
説明図である。
【図５】本発明の第３実施例に係るバーコート法の説明
図である。
図である。
【図６】本発明の第４実施例によりガラス基板上に形成
した超微粒子膜の断面斜視図である。
した超微粒子膜の断面斜視図である。
【図７】本発明の第５実施例に係るスプレーコート法の
説明図である。
説明図である。
【図８】超微粒子をマスク材としてスプレー塗布した場
合の断面模式図である。
合の断面模式図である。
【図９】図８の超微粒子をマスク材としてエッチングし
た後の断面模式図である。
た後の断面模式図である。
【図１０】図９の超微粒子を除去した場合の断面模式図
である。
である。
【図１１】本発明の第６実施例に係り、ロール状フィル
ムへバーコート法を適用した場合の説明図である。
ムへバーコート法を適用した場合の説明図である。
１ ガラス基板 ２ 塗布浴槽 ３ ＳｎＯ2超微粒子，バインダ混合溶液 ４ ポンプ ５ ＳｉＯ2超微粒子 ６ ＳｎＯ2超微粒子膜 ７ バインダ ８ 撥水撥油層 ９ ＳｉＯ2超微粒子，撥水撥油処理剤及びバインダ混
合溶液 １０ 帯電防止膜形成ガラス基板 １１ モータ １２ 糸 １３ メイヤーバー １４ フィルム １９ 超微粒子分散液 ２０ 容器 ２１ ポンプ ２２ ノズル ２３ 高電圧発生機 ２４ 磁気ディスク ２５ アース ２６ フッ素化合物を複合した超微粒子 ２７ メイヤーバーＮｏ.３ ２８ ＳｉＯ2超微粒子，撥水撥油処理剤及びバインダ
混合溶液 ２９ 帯電防止及び反射防止膜を形成したフィルム ３０ ＫＯＨ水溶液 ３１ 純水 ３２ 窒素ブロー ３３ 熱風炉 ３４ 三酢酸セルロースフィルム
合溶液 １０ 帯電防止膜形成ガラス基板 １１ モータ １２ 糸 １３ メイヤーバー １４ フィルム １９ 超微粒子分散液 ２０ 容器 ２１ ポンプ ２２ ノズル ２３ 高電圧発生機 ２４ 磁気ディスク ２５ アース ２６ フッ素化合物を複合した超微粒子 ２７ メイヤーバーＮｏ.３ ２８ ＳｉＯ2超微粒子，撥水撥油処理剤及びバインダ
混合溶液 ２９ 帯電防止及び反射防止膜を形成したフィルム ３０ ＫＯＨ水溶液 ３１ 純水 ３２ 窒素ブロー ３３ 熱風炉 ３４ 三酢酸セルロースフィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 3/18 １０４
Claims (15)
- 【請求項１】 透明基板と、その透明基板上に形成され
た反射防止膜とを備え、前記反射防止膜は単粒子層配列
された多数の反射防止超微粒子からなり、その反射防止
超微粒子の表面にはフッ素含有のシラン化合物が複合さ
れ、かつ前記透明基板と前記反射防止超微粒子とはバイ
ンダにより結合されていることを特徴とする撥水撥油性
超微粒子を有する光透過板。 - 【請求項２】 透明基板と、その透明基板上に形成され
た帯電防止膜と、その帯電防止膜上に形成された反射防
止膜とを備え、前記帯電防止膜は帯電防止機能を有する
多数の帯電防止超微粒子からなるとともに、前記反射防
止膜は単粒子層配列された多数の反射防止超微粒子から
なり、その反射防止超微粒子の表面にはフッ素含有のシ
ラン化合物が複合され、かつ前記帯電防止超微粒子と前
記反射防止超微粒子とはバインダにより結合されている
ことを特徴とする撥水撥油性超微粒子を有する光透過
板。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の撥水撥油性超微粒
子を有する光透過板において、 前記シラン化合物は、クロルシラン化合物、アルコキシ
シラン化合物およびフルオロアルキルシラン化合物のう
ちの少なくとも１つであることを特徴とする撥水撥油性
超微粒子を有する光透過板。 - 【請求項４】 請求項１又は２記載の撥水撥油性超微粒
子を有する光透過板において、 前記反射防止超微粒子は、ＳｉＯ2およびＭｇＦ2のうち
少なくとも１つであることを特徴とする撥水撥油性超微
粒子を有する光透過板。 - 【請求項５】 請求項１，２又は４記載の撥水撥油性超
微粒子を有する光透過板において、 前記反射防止超微粒子は、平均粒径が３０ｎｍ〜２００
ｎｍであることを特徴とする撥水撥油性超微粒子を有す
る光透過板。 - 【請求項６】 請求項２記載の撥水撥油性超微粒子を有
する光透過板において、 前記帯電防止超微粒子は、ＳｎＯ2、ＳｎＯ2＋Ｓｂ
2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、およびＩｎ2Ｏ3＋Ｓｂ2Ｏ3のうちの少
なくとも１つであることを特徴とする撥水撥油性超微粒
子を有する光透過板。 - 【請求項７】 請求項２又は６記載の撥水撥油性超微粒
子を有する光透過板において、 前記帯電防止超微粒子は、平均粒径が１０ｎｍ以下であ
ることを特徴とする撥水撥油性超微粒子を有する光透過
板。 - 【請求項８】 請求項６記載の撥水撥油性超微粒子を有
する光透過板において、 前記帯電防止超微粒子に、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2またはＴｉ
Ｏ2＋ＺｒＯ2の酸化物超微粒子を添加混合することによ
り、可視光を透過し赤外線を反射する構成としたことを
特徴とする撥水撥油性超微粒子を有する光透過板。 - 【請求項９】 請求項１又は２記載の撥水撥油性超微粒
子を有する光透過板において、 前記バインダの屈折率は、前記透明基板の屈折率より小
さいことを特徴とする撥水撥油性超微粒子を有する光透
過板。 - 【請求項１０】 請求項１，２又は９記載の撥水撥油性
超微粒子を有する光透過板において、 前記透明基板が表面に水酸基を有するか、表面処理によ
って水酸基を導入できるときは、前記バインダは、アル
キル基をＲで表せば、Ｓi(ＯＲ)4であることを特徴とす
る撥水撥油性超微粒子を有する光透過板。 - 【請求項１１】 請求項１又は２記載の撥水撥油性超微
粒子を有する光透過板において、 前記透明基板は、ガラス、プラスチックまたは金属であ
ることを特徴とする撥水撥油性超微粒子を有する光透過
板。 - 【請求項１２】 請求項１〜１１のいずれかに記載の光
透過板を搭載したことを特徴とする液晶表示板。 - 【請求項１３】 請求項１〜１１のいずれかに記載の光
透過板を、フェイスパネルとして搭載したことを特徴と
するブラウン管。 - 【請求項１４】 フッ素含有のシラン化合物が複合した
多数の撥水撥油性超微粒子が、溶液中に分散した超微粒
子分散液。 - 【請求項１５】 フッ素含有のシラン化合物が複合した
多数の撥水撥油性超微粒子を溶液中に分散させ、且つそ
の前記溶液中にバインダ成分を加えて超微粒子分散液を
作成する一方、酸、アルカリ、中性洗剤等で洗浄された
透明基板の表面に、ディップコート、スピンコート、バ
ーコート、ロールコート、ドクターコート、スプレーコ
ート等の塗布法によって前記超微粒子分散液を塗布する
ことにより、前記バインダで結合された前記撥水撥油性
超微粒子を前記透明基板上に単粒子層配列させることを
特徴とする撥水撥油性超微粒子を有する光透過板の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7019122A JPH08211202A (ja) | 1995-02-07 | 1995-02-07 | 撥水撥油性超微粒子を有する光透過板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7019122A JPH08211202A (ja) | 1995-02-07 | 1995-02-07 | 撥水撥油性超微粒子を有する光透過板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08211202A true JPH08211202A (ja) | 1996-08-20 |
Family
ID=11990672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7019122A Pending JPH08211202A (ja) | 1995-02-07 | 1995-02-07 | 撥水撥油性超微粒子を有する光透過板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08211202A (ja) |
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-
1995
- 1995-02-07 JP JP7019122A patent/JPH08211202A/ja active Pending
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