JPH08217427A - オキシ塩化燐の精製方法 - Google Patents
オキシ塩化燐の精製方法Info
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- JPH08217427A JPH08217427A JP4143795A JP4143795A JPH08217427A JP H08217427 A JPH08217427 A JP H08217427A JP 4143795 A JP4143795 A JP 4143795A JP 4143795 A JP4143795 A JP 4143795A JP H08217427 A JPH08217427 A JP H08217427A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 黄燐に塩素ガスと酸素ガスを吹き込むオキシ
塩化燐の製造において、不純物をオゾンガス処理により
除去することを特徴とするオキシ塩化燐の精製方法。 【効果】 本発明の精製方法は蒸留などの化学工学的な
分離操作をすることなく容易に不純物を除去し、高品位
のオキシ塩化燐を得ることができる。
塩化燐の製造において、不純物をオゾンガス処理により
除去することを特徴とするオキシ塩化燐の精製方法。 【効果】 本発明の精製方法は蒸留などの化学工学的な
分離操作をすることなく容易に不純物を除去し、高品位
のオキシ塩化燐を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はオキシ塩化燐の製造にお
いて原料黄燐中の不純物、特に含有硫黄や砒素等から副
生する不純物にオゾンガスを吹き込んで処理して除去す
る方法に関する。
いて原料黄燐中の不純物、特に含有硫黄や砒素等から副
生する不純物にオゾンガスを吹き込んで処理して除去す
る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】オキシ塩化燐は一般的に黄燐に塩素ガス
と酸素ガスを吹き込んで製造するが、原料黄燐中の不純
物から副生する不純物が製品中に混入するため、精製方
法は重要な問題である。
と酸素ガスを吹き込んで製造するが、原料黄燐中の不純
物から副生する不純物が製品中に混入するため、精製方
法は重要な問題である。
【０００３】従来、オキシ塩化燐の精製方法は低沸物を
ストリップして分離する方法や還流比をとって精留する
方法等が一般的に行われている。しかし、この様な方法
は比較的不純物の含有量が多いときは有効であるが、含
有量が少ない場合にあまり効果がない欠点があった。
ストリップして分離する方法や還流比をとって精留する
方法等が一般的に行われている。しかし、この様な方法
は比較的不純物の含有量が多いときは有効であるが、含
有量が少ない場合にあまり効果がない欠点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は精製方法に
ついて種々検討し、オキシ塩化燐中へオゾンガスを吹き
込むことによって不純物、特にオキシ塩化燐製造の一原
料である黄燐中の硫黄等から副生するＰＳＣｌ3 等が除
去できることを見出し本発明を完成するに至った。
ついて種々検討し、オキシ塩化燐中へオゾンガスを吹き
込むことによって不純物、特にオキシ塩化燐製造の一原
料である黄燐中の硫黄等から副生するＰＳＣｌ3 等が除
去できることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００５】即ち、本発明は黄燐に塩素ガスと酸素ガス
を吹き込むオキシ塩化燐の製造において不純物をオゾン
ガスで処理して除去することを特徴とするオキシ塩化燐
の精製方法である。
を吹き込むオキシ塩化燐の製造において不純物をオゾン
ガスで処理して除去することを特徴とするオキシ塩化燐
の精製方法である。
【０００６】本発明を遂行するには使用されるオゾンガ
スはオゾン発生装置で発生させＰＳＣｌ3 等を含むオキ
シ塩化燐中に吹き込まれる。オゾンガスの濃度は特に限
定されないが、１〜７０ｇ／ｍ3 、好ましくは１０〜６
０ｇ／ｍ3 である。余り高濃度の場合、材料、特に樹脂
系材質は使用できないこと、漏洩した場合に人体に危険
等の問題があり、また、オキシ塩化燐の二量体であるＰ
2 Ｏ3 Ｃｌ4 の副生量が増加するので好ましくない。オ
ゾンガスの濃度が薄くても反応には問題ないが、ガス量
が多くなりガスに伴って逃げるオキシ塩化燐を捕集する
ため大型の冷却装置が必要となり経済的に好ましくな
い。反応は常温でもよいがオキシ塩化燐の沸点または沸
点近辺でオゾンガスを導入する方が好ましい。オゾンガ
スの導入量はＳの含有量の２〜４倍モルの使用で充分で
ある。導入量がこれより多くても反応に影響ないが経済
的に有用でない。
スはオゾン発生装置で発生させＰＳＣｌ3 等を含むオキ
シ塩化燐中に吹き込まれる。オゾンガスの濃度は特に限
定されないが、１〜７０ｇ／ｍ3 、好ましくは１０〜６
０ｇ／ｍ3 である。余り高濃度の場合、材料、特に樹脂
系材質は使用できないこと、漏洩した場合に人体に危険
等の問題があり、また、オキシ塩化燐の二量体であるＰ
2 Ｏ3 Ｃｌ4 の副生量が増加するので好ましくない。オ
ゾンガスの濃度が薄くても反応には問題ないが、ガス量
が多くなりガスに伴って逃げるオキシ塩化燐を捕集する
ため大型の冷却装置が必要となり経済的に好ましくな
い。反応は常温でもよいがオキシ塩化燐の沸点または沸
点近辺でオゾンガスを導入する方が好ましい。オゾンガ
スの導入量はＳの含有量の２〜４倍モルの使用で充分で
ある。導入量がこれより多くても反応に影響ないが経済
的に有用でない。
【０００７】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明
する。 実施例１ ３００ｍｌ四頚フラスコにバリテール型コンデンサー、
温度計と攪拌翼をセットし更にオゾンガス吹き込み管を
セットした。次いでＰＳＣｌ3 を１０ｗｔ％含んでいる
オキシ塩化燐１０２．３ｇをフラスコに仕込み攪拌しな
がら加温し沸騰させた。次にオゾン発生装置を運転し吹
き込んだ。オゾンガス濃度は１．０５×１０-3ｍｏｌ／
リットルで５時間吹き込んだ。オゾン吹き込み量は０．
１５８ｍｏｌであった。反応液がガス同伴するのを防止
するため、−３０℃のブラインをコンデンサーに循環さ
せた。排ガスは２０％のＮａＯＨ溶液でトラップした。
反応終了後常温まで冷却したら極く少量の白色沈澱が析
出した。反応液の回収率は９９．７ｗｔ％であった。反
応液中の残存ＰＳＣｌ3 をＩＣＰ分析で確認したら０．
０２ｍｏｌ％であった。 実施例２ ３００ｍｌ四頚フラスコに実施例１と同様なセットを
し、ブライン冷却してコンデンサーを−２５℃に冷却し
た。一方、オゾン発生装置に酸素ガスを３０Ｎｌ／Ｈｒ
で流しオゾンガスを１．０×１０-3ｍｏｌ／リットルの
濃度になる様に調節した。一方、フラスコにＳとして７
５ｐｐｍを含んでいるオキシ塩化燐２９５．２ｇを仕込
んだ。加温し還流させてからパージさせておいたオゾン
ガスを吹き込んで３時間反応を行った。ガスの吹き込み
を中止し冷却してから全重量を計量した。回収率は９
９．３ｗｔ％であった。反応液の一部をサンプリングし
ＩＣＰ分析したら、Ｓ：１０ｐｐｍであった。また、Ｐ
2 Ｏ3 Ｃｌ4 が０．２ｍｏｌ％／ＰＯＣｌ3 副生してい
た。 実施例３ ３００ｍｌフラスコに実施例１と同様な反応方法で５．
１ｗｔ％のＰＳＣｌ3が含まれているオキシ塩化燐３０
１．２ｇを仕込んだ。酸素流量３０Ｎｌ／Ｈｒ、オゾン
濃度１．１２×１０-3ｍｏｌ／リットルで４時間反応し
た。反応液の回収率は９８．６ｗｔ％であった。実施例
１と同様に後処理してＩＣＰ分析したらＰＳＣｌ3 濃度
は０．０８１ｗｔ％であった。また、Ｐ2 Ｏ3 Ｃｌ4 が
０．２ｍｏｌ％／ＰＯＣｌ3 副生していた。 実施例４ 実施例１と同様な反応装置を用いてＰＳＣｌ3 濃度が
４．８ｍｏｌ％オキシ塩化燐２２０ｇを仕込んだ。酸素
流量７５Ｎｌ／Ｈｒ、オゾン濃度５．１３ｍｏｌ／リッ
トルで５時間反応した。液重量回収率は９８．４ｗｔ％
であった。冷却後、反応液中のＰＳＣｌ3 濃度を測定し
たら未検出であった。また、副生物として０．６ｍｏｌ
％／ＰＯＣｌ3 のＰ2 Ｏ3 Ｃｌ4 がＮＭＲで確認され
た。 比較例１ オキシ塩化燐の反応液７１０ｇ（Ｓ：１０００ｐｐｍを
含む）を５００ｍｌナス型蒸留器に仕込み６段相当の精
留塔を用い、還流比４で７時間かけて留出させた。本流
分の一部をサンプリングしＩＣＰで分析したら、Ｓとし
て５６０ｐｐｍの値を得た。回収率：９８．２ｗｔ％。
する。 実施例１ ３００ｍｌ四頚フラスコにバリテール型コンデンサー、
温度計と攪拌翼をセットし更にオゾンガス吹き込み管を
セットした。次いでＰＳＣｌ3 を１０ｗｔ％含んでいる
オキシ塩化燐１０２．３ｇをフラスコに仕込み攪拌しな
がら加温し沸騰させた。次にオゾン発生装置を運転し吹
き込んだ。オゾンガス濃度は１．０５×１０-3ｍｏｌ／
リットルで５時間吹き込んだ。オゾン吹き込み量は０．
１５８ｍｏｌであった。反応液がガス同伴するのを防止
するため、−３０℃のブラインをコンデンサーに循環さ
せた。排ガスは２０％のＮａＯＨ溶液でトラップした。
反応終了後常温まで冷却したら極く少量の白色沈澱が析
出した。反応液の回収率は９９．７ｗｔ％であった。反
応液中の残存ＰＳＣｌ3 をＩＣＰ分析で確認したら０．
０２ｍｏｌ％であった。 実施例２ ３００ｍｌ四頚フラスコに実施例１と同様なセットを
し、ブライン冷却してコンデンサーを−２５℃に冷却し
た。一方、オゾン発生装置に酸素ガスを３０Ｎｌ／Ｈｒ
で流しオゾンガスを１．０×１０-3ｍｏｌ／リットルの
濃度になる様に調節した。一方、フラスコにＳとして７
５ｐｐｍを含んでいるオキシ塩化燐２９５．２ｇを仕込
んだ。加温し還流させてからパージさせておいたオゾン
ガスを吹き込んで３時間反応を行った。ガスの吹き込み
を中止し冷却してから全重量を計量した。回収率は９
９．３ｗｔ％であった。反応液の一部をサンプリングし
ＩＣＰ分析したら、Ｓ：１０ｐｐｍであった。また、Ｐ
2 Ｏ3 Ｃｌ4 が０．２ｍｏｌ％／ＰＯＣｌ3 副生してい
た。 実施例３ ３００ｍｌフラスコに実施例１と同様な反応方法で５．
１ｗｔ％のＰＳＣｌ3が含まれているオキシ塩化燐３０
１．２ｇを仕込んだ。酸素流量３０Ｎｌ／Ｈｒ、オゾン
濃度１．１２×１０-3ｍｏｌ／リットルで４時間反応し
た。反応液の回収率は９８．６ｗｔ％であった。実施例
１と同様に後処理してＩＣＰ分析したらＰＳＣｌ3 濃度
は０．０８１ｗｔ％であった。また、Ｐ2 Ｏ3 Ｃｌ4 が
０．２ｍｏｌ％／ＰＯＣｌ3 副生していた。 実施例４ 実施例１と同様な反応装置を用いてＰＳＣｌ3 濃度が
４．８ｍｏｌ％オキシ塩化燐２２０ｇを仕込んだ。酸素
流量７５Ｎｌ／Ｈｒ、オゾン濃度５．１３ｍｏｌ／リッ
トルで５時間反応した。液重量回収率は９８．４ｗｔ％
であった。冷却後、反応液中のＰＳＣｌ3 濃度を測定し
たら未検出であった。また、副生物として０．６ｍｏｌ
％／ＰＯＣｌ3 のＰ2 Ｏ3 Ｃｌ4 がＮＭＲで確認され
た。 比較例１ オキシ塩化燐の反応液７１０ｇ（Ｓ：１０００ｐｐｍを
含む）を５００ｍｌナス型蒸留器に仕込み６段相当の精
留塔を用い、還流比４で７時間かけて留出させた。本流
分の一部をサンプリングしＩＣＰで分析したら、Ｓとし
て５６０ｐｐｍの値を得た。回収率：９８．２ｗｔ％。
【０００８】
【発明の効果】本発明の精製方法は比較例からも明らか
な様に分離することが困難な不純物を蒸留などの化学工
学的な分離操作をすることなく容易に分離除去して高品
位のオキシ塩化燐をほぼ定量的に得ることができるので
工業的に非常に優れた方法である。
な様に分離することが困難な不純物を蒸留などの化学工
学的な分離操作をすることなく容易に分離除去して高品
位のオキシ塩化燐をほぼ定量的に得ることができるので
工業的に非常に優れた方法である。
Claims (2)
- 【請求項１】 黄燐に塩素ガスと酸素ガスを吹き込むオ
キシ塩化燐の製造において不純物をオゾンガスで処理し
て除去することを特徴とするオキシ塩化燐の精製方法。 - 【請求項２】 オゾンガスの濃度が１．０ｇ／ｍ3 〜７
０ｇ／ｍ3 である請求項１の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4143795A JPH08217427A (ja) | 1995-02-07 | 1995-02-07 | オキシ塩化燐の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4143795A JPH08217427A (ja) | 1995-02-07 | 1995-02-07 | オキシ塩化燐の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08217427A true JPH08217427A (ja) | 1996-08-27 |
Family
ID=12608359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4143795A Pending JPH08217427A (ja) | 1995-02-07 | 1995-02-07 | オキシ塩化燐の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08217427A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0891942A1 (de) * | 1997-07-15 | 1999-01-20 | Bayer Ag | Verfahren zur Reinigung von Phosphoroxychlorid |
| EP0900762A1 (de) * | 1997-09-03 | 1999-03-10 | DSM Chemie Linz GmbH | Verfahren zur Reinigung von Phosphoroxychlorid |
-
1995
- 1995-02-07 JP JP4143795A patent/JPH08217427A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0891942A1 (de) * | 1997-07-15 | 1999-01-20 | Bayer Ag | Verfahren zur Reinigung von Phosphoroxychlorid |
| EP0900762A1 (de) * | 1997-09-03 | 1999-03-10 | DSM Chemie Linz GmbH | Verfahren zur Reinigung von Phosphoroxychlorid |
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