JPH08219982A - 化学分析装置及び反応キュベットに湿式検定を施す方法 - Google Patents
化学分析装置及び反応キュベットに湿式検定を施す方法Info
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Abstract
ベットが配置されていることを検出するセンサーを設け
た化学分析装置を提供する。 【解決手段】 化学分析装置における反応キュベットを
移送するコンベアは、1つより多いキュベットが運搬さ
れたかどうかを検知するセンサーを含んでいる。キュベ
ットは積層体から1度に1つが受け取られるため、セン
サーは、2つの積重ねられたキュベットが1つのキュベ
ットに代わってコンベア上に存在するかどうかを、所望
のキュベットの頂部より上方に突出する1つのキュベッ
トが存在するか存在しないかを検出することにより、決
定する。
Description
養器へのキュベットのコンベアに関し、詳細には1つよ
り多いキュベットが供給源から細菌培養器へと送られて
いるかどうかを検知することのできるキュベットの運搬
装置に関する。
特許第5,271,896号(第4図から第8図)と米
国特許第5,244,633号に示されるように、供給
源、例えば積層体からある種のコンベア上に落下させる
ことが知られている。しかし、これが行われている時1
つのキュベットだけが1度に分配されることが重要であ
る。
ベアの1つの部署に1つより多いキュベットが配置され
ていることを詳細に知らせる装置が必要とされていた。
が提供される。
よれば、選択された反応キュベットを分析装置のキュベ
ット分配部署から分配されたキュベットのための処理部
署に運ぶコンベアを具備する化学分析装置が提供され、
前記コンベアは、キュベットをコンベア上に保持しまた
キュベットをコンベアから解放する手段を含んでいる。
分析装置は、これがさらに、コンベア上に分配されたキ
ュベットの数が1つより多いかどうかを、選択されたキ
ュベットの頂端より上に突出するキュベットが存在する
か存在しないかを検知することによって、検出するセン
サーを含んでいる点において改良されている。
ュベットの数が零であるかどうかをコンベアの頂部の上
方を通過したエネルギーのビームを邪魔しないことを検
知することにより検出するセンサーを改良した分析装置
が提供される。
湿式検定のため分析装置の反応キュベットを提供する方
法が提供され、この方法は、(a)分析装置の内部に反
応キュベットの供給源を設ける段階と、(b)キュベッ
トを前記供給源から取出しコンベア上に移動させる段階
と、(c)取出されたキュベットをコンベアを動かすこ
とにより分析装置の他の部分に運ぶ段階と、(d)前記
段階(c)に関連して、1つのキュベットのみが前記段
階(b)によりコンベア上に移動されたかどうかを検出
する段階とを含んでいる。
ットを免疫学的検定のため好適な型の湿式検定分析装置
で処理するよう運搬し、キュベットがコンベアから落下
され光ビームにより検知される好適な実施態様について
記載される。さらに、本発明は(a)用いられる反応キ
ュベットの型、(b)用いられる湿式検定分析装置の
型、(c)キュベットで行われる検定の型式、(d)キ
ュベットがコンベアから解放されるかどうか、及び
(e)検知のために用いられるエネルギービームの型
に、それぞれ関係なく有用である。
は、好適な湿式検定分析装置10に加えて、米国特許第
5,244,633号に記載されたキュベットであり、
さらに詳細には普通に所有された、「試薬を除去するこ
となく積重ね可能な試薬カップ形状」なる名称の米国特
許第5,441,895号に記載されているキュベット
である。すなわち、このようなキュベットはキュベット
の内部の表面に取付けられた抗体を用いる湿式免疫学的
検定のために提供される。前記米国特許第5,441,
895号の詳細は参照例として本明細書に明瞭に記載さ
れている。
のキュベットを積層体14の形式で保持している供給源
12から供給される。最も底側のキュベットは矢示18
のように下方に押される適当なプランジャー16により
積層体から分配され又は取出される。複数の積層体(図
示しない)が普通に所有された「固定瓶保持装置」なる
名称の米国特許第5,322,668号に示されている
ような試薬包装を介して供給することができる。例えば
前記の米国特許第5,271,896号に教示されてい
るような、プランジャー機構が有用である。
に積層体から落下し離れるとき、キュベットC’はさら
に十分に後述されるように、本発明のコンベア50によ
り受け止められる。このコンベアはキュベットを、軸線
34の周りに回転されキュベットを処理部署36,38
及び40を通って運ぶ細菌培養器リング32に移送す
る。部署36は例えば、患者標本が置かれる部署であ
り、部署38と40は試薬が必要なときに加えられる部
署である。洗浄と読取りがさらに他の部署(図示しな
い)で行われ、この読取りは好ましくは光学的計量器で
行われる。これらの他の部署のうちのある部署には好ま
しくは、前記米国特許第5,244,633号に記載さ
れているような、図示しない第2の同心のリングにキュ
ベットを移送することにより到達する。
固定された基体58の周りを図1の矢印56の方向に回
動するよう一端54に回動自在に取付けられたアーム5
2を具備している。図示のように相互に接合された2つ
の部材を具備することのできる図2のアーム52はアー
ム52の一端54の近くでアーム52に端部64が取付
けられた一対の弾性顎60,62を含んでいる。アーム
52は図5の頂面65と開口67とを有している。これ
らの弾性顎は矢印66のように内側に向って押すようこ
の取付けにより付勢されている。したがって、弾性顎は
平常時距離“d”だけ離間され、この距離“d”は積層
体14から解放されたキュベットC''を端部64の反対
側の顎の自由端68,70の間に受け取り保持するのに
十分な距離となっている。さらに、図3を参照された
い。
想位置へと回動された時にキュベットC''を解放するた
め、カム部材74が設けられる。カム部材74は図4の
矢印76のように適当な機構によって押され顎60と6
2の端部68,70の間を通過する。カム部材74の増
大する傾斜は、端部68,70を図3の矢印80のよう
に端部68,70を離間するよう拡げる作用をし、それ
によりキュベットC''を解放しキュベットC''は図1の
リング32の開口84の中に矢印82のように落下す
る。拡げられ離間された端部を仮想線で示す図3をも参
照されたい。
がコンベア50上に分配され又は解放されたか否かを検
知するため、センサー100が図示のようにコンベアの
一部として又は仮想線で示される分析装置における別の
部署として、図5のように設けられる。いずれの場合
も、センサー100は電磁放射線の源110、例えば赤
外線ビーム112を発するLED(発光ダイオード)
と、少なくとも1つの鏡114と上記の電磁放射線のた
めのフォトダイオード115のような検知器とを具備し
ている。一対の反射面、例えば鏡114,116が用い
られ、それぞれが光ビームに対し45°の角度で、アー
ム52の回動端部54に取付けられた端部122から延
びるアーム120の部分118と119にそれぞれ取付
けられており、アーム120は124で上方に向って曲
げられ第1の支持部(鏡116のための)を提供し、ま
た126で下方に向って曲げられ第2の支持部(鏡11
4のための)を提供する。アームの開口127はキュベ
ットCがアーム52を通って落下し顎60,62上に載
ることができるようにする。(電磁線源110と検知器
115は好ましくは、弾性顎60,62が解放した時矢
印134のようにキュベットC''' が落下できる図示し
ない開口を有するアーム52に平行なアーム132上に
支持される。)図示しない公知のマイクロプロセッサー
が検知器115からの信号を読み取り処理するために用
いられる。
のキュベットC''' が又は他の数の、すなわち零もしく
は1つより多い数のキュベットが受け取られたかどうか
を検出する作用である。これは、その幅Wが実線で示さ
れる単一のキュベット又はキュベットC''' の頂部に積
重ねられた第2の(又はさらに第3の)キュベットによ
って生じる1つより多いキュベットの両方に及ぶ、幅広
のビーム112の、アーム52の頂面65を横切る投射
により行われる。検知器115は次に、全ビームもしく
はビームの一部を、又はビームの実質的にないのを検出
する。これらの3つの条件はそれぞれ、キュベットが分
配されない、1つだけ分配される、及び1つより多くが
分配される、を表わす。受け取られた信号の強さはそれ
から公知のソフトウェアにより分析装置への“進行”又
は“停止”の信号に変換され、ここで“進行”の信号は
ビームの一部が検出された時のみに生じる。
号は検査され受けられたビームが十分に強いか又は本質
的に零の強さであるかどうかを知るようにする。前者の
場合は、他の1つのキュベットが分配される。後者の場
合は、コンベア50上の1つより多いキュベットの許さ
れない積層体が適当な部署で排除され、そしてアーム5
2が1つのキュベットだけが受け取られたのを検出する
までキュベットの分配段階を繰返すため戻される。
2はその幅を狹くし、1つのキュベットだけが分配され
たかもしくは分配されなかったこと(ビームは第1のキ
ュベットによってのみ、邪魔されるように狹くなってい
る)又は1つの積層体(1つより多いキュベット)だけ
が分配されもしくは分配されなかったこと(この狹いビ
ームが単一の分配され受け取られたキュベットの上方を
通過する)を検出するようにすることができる。しか
し、より良好な方法は幅広のビームWを用い3つの条件
の全てを検出することであることが理解されるであろ
う。
がコンベア50と共に連続して動き、それにより1つよ
り多いキュベットが所定位置にあるのを検知するのを、
コンベアがキュベットを運んでいる間でも何時も行うこ
とができるようにする。
4と116を取付けるアーム120の部分118,11
9の代わりに、部分118,119が適当な角度で取付
けられる頂部バー202を有する固定された部署から延
びる突起とすることができる。この場合は、アーム12
0と132が省略されそして代わりにエネルギー源11
0と検知器116が仮想線で示すように部署200の底
部バー204上に取付けられる。そして検知は、コンベ
ア50を回転させ途中で部署200を通過しキュベット
をリング32に運ぶことにより、行われる。
一の鏡を用いることである。これは図6の実施態様にお
いて、行われ、鏡面がわん曲部分300によって相互に
接合された2つの平坦部分114Aと116Aを有する
単一の鏡である。この鏡の取付けは、鏡がコンベアによ
り担持されるか又は所定位置に固定されるかによって、
仮想線で示すようになる。
は、1つの平坦部分のみを有する単一の鏡が用いられ
る。さきに記載されたのと同様の部品は区別する“B”
が添付された同一の参照番号が付けられている。したが
って、コンベア50BがC''' のようなキュベットを受
け取るためのアーム52Bを有し、またエネルギー源1
10Bが上記のように零、1つ、又は1つより多いキュ
ベットを検出するよう検知器115Bと共に用いられ
る。しかし、鏡114Bがアーム120B上に取付けら
れ、そして他の実施態様で用いられた反射面116に代
えて検知器115Bが取付けられている。
がたまたま1つより多いキュベットを1度にコンベア上
に分配するのを自動的に検出しそして適当な処理をとる
ことである。
のような検知が、別の部署で検知を行うために停止する
ことなく細菌培養器がキュベットの供給源から分析装置
の載せ台へと動いている間に行われることである。
れるよう移送するコンベアと共に構成された分析装置の
破截部分概略切断正面図である。
の断面図である。
る。
ある。
Claims (4)
- 【請求項1】 選択された1つの反応キュベットを分析
装置のキュベット分配部署から処理部署へと運搬するコ
ンベアを具備している化学分析装置であって、前記コン
ベアが、キュベットをコンベア上で保持しまたキュベッ
トをコンベアから解放する手段を含んでいる化学分析装
置において、 コンベア上に分配されたキュベットの数が1つより多い
かどうかを、選択されたキュベットの頂端より上方に突
出するキュベットが存在するか存在しないかを検出する
ことにより検知するセンサーをさらに含んでいることを
特徴とする化学分析装置。 - 【請求項2】 選択された1つの反応キュベットを分析
装置のキュベット分配部署から処理部署に運搬するコン
ベアを具備している化学分析装置であって、前記コンベ
アがキュベットをコンベア上に保持しまたキュベットを
コンベアから解放する手段を含む化学分析装置におい
て、 コンベア上に分配されたキュベットの数が零であるかど
うかを、コンベアの頂部より上方を通過したエネルギー
のビームが邪魔されないのを検知することにより検出す
るセンサーをさらに含んでいることを特徴とする化学分
析装置。 - 【請求項3】 選択された1つの反応キュベットを分析
装置のキュベット分配部署から処理部署へと運搬するコ
ンベアを具備している化学分析装置であって、前記コン
ベアがキュベットをコンベア上に保持しまたキュベット
をコンベアから解放する手段を含んでいる化学分析装置
において、 コンベア上に分配されたキュベットの数が零か、1つ
か、又は1つより多いかを、コンベアの頂部を越えて伝
達されるエネルギーのビームの量を検知することにより
検出するセンサーをさらに含んでいることを特徴とする
化学分析装置。 - 【請求項4】 分析装置における反応キュベットにキュ
ベット内部の湿式検定を施す方法であって、 (a)反応キュベットの供給源を分析装置内部に設ける
段階と、 (b)1つのキュベットを供給源から取出しコンベア上
に置く段階と、 (c)取出されたキュベットを分析装置の他の部分にコ
ンベアを動かすことにより運搬する段階と、 (d)前記段階(c)と関連して、1つのキュベットだ
けがコンベア上に前記段階(b)によって取出されたか
否かを検出する段階、 とを含んでいる反応キュベットに湿式検定を施す方法。
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