JPH08225749A - アゾ顔料に必要な高純度で3−ヒドロキシ−n− ベンズイミダゾロン−5− イル−2− ナフトアミドを製造する方法 - Google Patents
アゾ顔料に必要な高純度で3−ヒドロキシ−n− ベンズイミダゾロン−5− イル−2− ナフトアミドを製造する方法Info
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Abstract
ル-2- ナフトアミドの製造方法を提供する。 【解決手段】 N-メチルピロリドン中の5-アミノベンズ
イミダゾロンと炭酸ナトリウムとを、キシレン又はトル
エン中の3-ヒドロキシ-2- ナフトイルクロリドの溶液と
反応させ、濾過し、キシレン又はトルエンで洗浄し、炭
酸ナトリウムを加えた水中に濾過ケーキを導入し、水蒸
気蒸留し、残留物を吸引濾過し、洗浄し、乾燥すること
からなる。
Description
レン中の3-ヒドロキシ-2- ナフトエ酸を塩化チオニルと
反応させ、次いで炭酸ナトリウムの存在下においてN-メ
チルピロリドン中の5-アミノベンズイミダゾロンと縮合
させることによって、アゾ顔料に必要な高純度で3-ヒド
ロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5- イル-2- ナフトアミ
ドを製造する方法に関する。
- イル-2- ナフトアミドは、堅ろう度の優れたアゾ顔料
を製造するための重要な中間体である。105 〜150 ℃で
N-メチルピロリドン中の3-ヒドロキシ-2- ナフトエ酸と
5-アミノベンズイミダゾロンとを三塩化リンと反応させ
ることによって、3-ヒドロキシ-N- ベンズイミダゾロン
-5- イル-2- ナフトアミドを84%の収率で、アゾ顔料に
適した黄色変態として得ることができることが知られて
いる(ドイツ特許第2758818 号参照)。また、キシレン
中の大幅に過剰な3-ヒドロキシ-2- ナフトエ酸と5-アミ
ノベンズイミダゾロンとを三塩化リンと反応させること
によって、3-ヒドロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5- イ
ル-2- ナフトアミドを84%の収率で得ることができるこ
とも知られている(東ドイツ特許第265894号参照)。こ
の方法の欠点は、過剰な3-ヒドロキシ-2- ナフトエ酸を
再び回収しなければならない点にあり、このために経済
的に不利である。両方の方法共、リン含有留出物が形成
される。
酸ナトリウムの存在下においてトルエン中の3-ヒドロキ
シ-2- ナフトイルクロリドの溶液を30倍量の水中の5-ア
ミノベンズイミダゾロンと反応させることによって、3-
ヒドロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5- イル-2- ナフト
アミドが86%の収率で得られることが開示されている。
ある。有機酸中での、その酸のナトリウム塩又はカリウ
ム塩の存在下における化学量論的量の3-ヒドロキシ-2-
ナフトイルクロリドと5-アミノベンズイミダゾールとの
反応は公知である(ポーランド特許第119895号参照)。
この製造方法の改善点は、N,N'- ジメチルホルムアミド
又はN-メチルピロリドンで有機酸を代用する点にある
(ポーランド特許第144734号及びDyes and Pigments 1
2, 57-63 (1990)参照)。この製造方法によって、製造
された3-ヒドロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5- イル-2
- ナフトアミドは、生成物が依然として多量の出発物質
を含んでいるのでアゾ顔料としての要件を満たしていな
い(比較例1参照)。さらに、この方法の欠点は、生成
物の分離の際の吸引時間が長い点にある(比較例1参
照)。
ロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5-イル-2- ナフトアミ
ドは、アゾ顔料に必要な高純度では形成されない。従っ
て、堅ろう度の優れたアゾ顔料を製造するために、ドイ
ツ特許第2758818 号に開示されているように、これらの
生成物をアルカリ金属塩を経由して精製しなければなら
ない。
れたアゾ顔料を製造するために3-ヒドロキシ-N- ベンズ
イミダゾロン-5- イル-2- ナフトアミドを非常に高純度
で製造する方法であって、科学的及び工業的に容易に実
施できる方法に対する要望があった。
ベンズイミダゾロン-5- イル-2- ナフトアミドの製造方
法において、N-メチルピロリドン中の5-アミノベンズイ
ミダゾロンと炭酸ナトリウムとを、キシレン又はトルエ
ン中の3-ヒドロキシ-2- ナフトイルクロリドの溶液と反
応させ、濾過し、キシレン又はトルエンで洗浄し、炭酸
ナトリウムを加えた水中に濾過ケーキを導入し、水蒸気
蒸留し、残留物を吸引濾過し、洗浄し、乾燥することか
らなる上記方法により達成される。
47〜50℃で、例えばN,N'- ジメチルホルムアミド、ピリ
ジン又はトリエチルアミンのような触媒を添加して、3-
ヒドロキシ-2- ナフトエ酸1 部当たり約5 容量部のキシ
レン又はトルエン中の1 モルの3-ヒドロキシ-2- ナフト
エ酸を、1.05モルの塩化チオニルと反応させることによ
って、公知の方法で製造される。この方法で製造された
溶液をさらに5-アミノベンズイミダゾロンと反応させ
る。
ロン-5- イル-2- ナフトアミドを製造するには、最初に
5-アミノベンズイミダゾロンと炭酸ナトリウムをN-メチ
ルピロリドン中に導入し、4 〜10時間でキシレン又はト
ルエン中の3-ヒドロキシ-2-ナフトイルクロリドの溶液
を計量添加する。次いで、この混合物を濾過し、濾過ケ
ーキをキシレン又はトルエンで洗浄し、炭酸ナトリウム
を添加した水中に導入し、この混合物を蒸留する。固体
を再び吸引濾過し、好ましくは濾過ケーキを中性になる
まで水で洗浄し、乾燥する。
キシ-2- ナフトエ酸1 モル当たり0.9 〜1 モル、好まし
くは0.95モルの量で使用される。炭酸ナトリウムは、3-
ヒドロキシ-2- ナフトエ酸1 モル当たり0.8 〜1.8 モ
ル、好ましくは1.0 〜1.3 モルの量で使用される。N-メ
チルピロリドンは、5-アミノベンズイミダゾロン1 部当
たり3 〜6 、好ましくは4 〜5 容量部で使用される。
- ナフトイルクロリドの溶液と5-アミノベンズイミダゾ
ロンとの反応は、15〜40℃、好ましくは20〜35℃で実施
される。水蒸気蒸留は、5-アミノベンズイミダゾロン1
部当たり5 〜7 部の水と0.5 〜0.6 部の炭酸ナトリウム
を用いて有利に実施される。
物を除去し、吸引濾過及び水洗浄後の残留物を非常に純
粋な目的生成物とすることが可能である。3-ヒドロキシ
-2- ナフトイルクロリドの添加時間は、最終生成物の純
度のために重要である。顔料に必要な純度で3-ヒドロキ
シ-N- ベンズイミダゾロン-5- イル-2- ナフトアミドを
得るためには、添加時間は少なくとも2 時間、特に4 時
間、殊に4 〜10時間である。添加時間を10時間より長く
することも可能であるが、純度に関しては有利な点はな
い。
ズイミダゾロン-5- イル-2- ナフトアミドを85%の収率
で、そして堅ろう度の優れたアゾ顔料を製造するために
必要である非常に高純度で製造することができる。従来
の技術のようにさらに精製することは必要ない。
初に、内部温度計、ガス除去用チューブ及び撹拌機を取
り付けた2Lの4口フラスコ中に、494.0g(2.63mol) の3-
ヒドロキシ-2- ナフトエ酸と2470g=2872mLのキシレンを
導入し、6.0gのN,N'- ジメチルホルムアミドを添加し、
328.0g=201.1mL(2.76mol) の塩化チオニルを1 時間かけ
て47〜50℃で計量添加し、次いでこの混合物をガスの発
生が終わるまで3 時間撹拌する。3181.8g の3-ヒドロキ
シ-2-ナフトイルクロリドがキシレン中で透明な溶液と
して得られる。 3-ヒドロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5- イル-2- ナフ
トアミド:最初に、滴下漏斗、還流冷却器、内部温度計
及び撹拌機を備えた10L の4口フラスコ中に1750mLのN-
メチルピロリドンを導入する。291.5g(2.75mol) の炭酸
ナトリウムをこれに添加する。次いで、372.5g(2.5mol)
の5-アミノベンズイミダゾロンを約25℃で添加する。キ
シレン中の3181.8g の3-ヒドロキシ-2- ナフトイルクロ
リド(494.0g(2.63mol) の3-ヒドロキシ-2- ナフトエ酸
から製造)を得られる懸濁液中に撹拌しながら25〜28℃
で6.5 時間かけて計量添加する。添加が収量した後にこ
の混合物を室温で30分間撹拌する。沈殿した生成物を吸
引濾過(吸引時間:50分)し、全体で2150.0g=2500mLの
キシレンを10部に分けて濾過ケーキを洗浄する。撹拌
機、内部温度計及び受槽として1Lの1口フラスコを備え
た蒸留ブリッジを取り付けた6Lの4口フラスコに最初に
2500mLの水を導入する。次いで、濾過ケーキを導入す
る。次に200gの炭酸ナトリウムを加え、混合物を100 ℃
に加熱する。キシレンと水を留去する。生成物を100 ℃
で吸引濾過し、全体で6250mLの水を数回に分けて吸引濾
過ケーキを中性になるまで洗浄する。1571.4g のナフタ
ロン(naphthalone )が含水状で得られる。濾過ケーキ
を100 ℃/100mmHgで乾燥した後に、681.7g(2.135mol)の
3-ヒドロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5- イル-2- ナフ
トアミドが得られる:これは、5-アミノベンズイミダゾ
ロンに基いた理論値の85.4%の収率に相当する。
れたアゾ顔料を製造するのに適しており、HPLCによれば
5-アミノベンズイミダゾロンの含有量は<0.1 %、3-ヒ
ドロキシ-2- ナフトエ酸の含有量は<0.1 %である。 比較例1(Dyes and Pigment 12, 57-63, (1990)の
例): クロロベンゼン中の3-ヒドロキシ-2- ナフトイルクロリ
ド:最初に、99.0g(0.52mol)の3-ヒドロキシ-2- ナフト
エ酸及び1mL のN,N'- ジメチルホルムアミドを600mL の
クロロベンゼン中に導入し、68.5g=42mL(0.58mol)の塩
化チオニルを40℃で添加する。次いで、この混合物を40
℃で1.5 時間撹拌し、その後、過剰な塩化チオニルを減
圧で留去する。776.8gの3-ヒドロキシ-2- ナフトイルク
ロリドがクロロベンゼン中に透明な溶液として得られ
る。 3-ヒドロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5- イル-2- ナフ
トアミド:最初に、75.0g(0.5mol) の5-アミノベンズイ
ミダゾロン及び41g の無水酢酸ナトリウムを700mL のN,
N'- ジメチルホルムアミド中に導入し、クロロベンゼン
中の776.8gの3-ヒドロキシ-2- ナフトイルクロリド(9
9.0g(0.52mol)の3-ヒドロキシ-2- ナフトエ酸から製
造)を5 〜10℃で30分かけて計量添加する。添加が終了
した後に、この混合物を20℃で3 時間撹拌し、50℃に加
熱し、濾過する。濾過ケーキを吸引濾過(吸引時間:14
時間)で良好に濾過することができない。精製するため
に、濾過ケーキを1mL のメタノールで溶解し、この混合
物を撹拌し、吸引濾過し、濾過ケーキを250mL のメタノ
ールで洗浄し、次いで全体で1Lの沸騰水を数回に分けて
洗浄する。乾燥後に130.3gの3-ヒドロキシ-N- ベンズイ
ミダゾロン-5- イル-2- ナフトアミドが得られる:これ
は理論値の81.7%に相当する。
度の優れたアゾ顔料を製造するために使用できず、HPLC
によれば約0.1 %の5-アミノベンズイミダゾロン及び約
0.8%の3-ヒドロキシ-2- ナフトエ酸を含み、さらに汚
染されている。
Claims (8)
- 【請求項1】 3-ヒドロキシ-N- ベンズイミダゾロン-5
- イル-2- ナフトアミドを製造する方法において、N-メ
チルピロリドン中の5-アミノベンズイミダゾロンと炭酸
ナトリウムとをキシレン又はトルエン中の3-ヒドロキシ
-2- ナフトイルクロリドの溶液と反応させ、濾過し、キ
シレン又はトルエンで洗浄し、炭酸ナトリウムを添加し
た水中に濾過ケーキを導入し、水蒸気蒸留し、残留物を
吸引濾過し、洗浄し、乾燥することを特徴とする上記方
法。 - 【請求項2】 5-アミノベンズイミダゾロンを、3-ヒド
ロキシ-2- ナフトエ酸1 モル当たり0.9 〜1 モル、好ま
しくは0.95モルの量で使用する請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 炭酸ナトリウムを、3-ヒドロキシ-2- ナ
フトエ酸1 モル当たり0.8 〜1.8 、好ましくは1.0 〜1.
3 モルの量で使用する請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 N-メチルピロリドンを、5-アミノベンズ
イミダゾロン1 部当たり3 〜6 、好ましくは4 〜5 容量
部で使用する請求項1〜3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】 キシレン又はトルエン中の3-ヒドロキシ
-2- ナフトイルクロリドの溶液と5-アミノベンズイミダ
ゾロンとの反応を15〜40℃、好ましくは20〜35℃で実施
する請求項1〜4のいずれかに記載の方法。 - 【請求項6】 最初に、5-アミノベンズイミダゾロンと
炭酸ナトリウムとをN-メチルピロリドンに導入し、トル
エン又はキシレン中の3-ヒドロキシ-2- ナフトイルクロ
リドをそこに計量添加する請求項1〜5のいずれかに記
載の方法。 - 【請求項7】 添加時間が少なくとも2 時間、特に4 時
間、殊に4 〜10時間である請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 水蒸気蒸留が5-アミノベンズイミダゾロ
ン1 部当たり5 〜7部の水及び0.5 〜0.6 部の炭酸ナト
リウムを用いて実施される請求項1〜7のいずれかに記
載の方法。
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