JPH08227883A

JPH08227883A - 熱処理装置

Info

Publication number: JPH08227883A
Application number: JP34050294A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Yamaga; 健一山賀; Yukimasa Saito; 幸正斎藤
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Tohoku Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Tohoku Ltd
Priority date: 1994-12-28
Filing date: 1994-12-28
Publication date: 1996-09-03
Anticipated expiration: 2018-05-12
Also published as: JP3406104B2

Abstract

(57)【要約】【目的】連結部での気密性を確保することができる構
造を備えた熱処理装置を提供することにある。【構成】接続部にシール部材の温度上昇を抑制するた
めの温度抑制手段を設けたので、フランジ部での温度上
昇が抑えられる。この結果、フランジ部の対向面間に位
置するシール部材の熱的な変性が防止され、シール部材
の温度上昇を抑制して、シール効果を保持することが出
来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、熱処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工程において被処理体の熱処
理に際しプロセスガスを供給するプロセスチューブを有
する熱処理装置の一例として、酸化・拡散装置がある。

【０００３】上記熱処理装置において酸化処理を行なう
場合には、水素と酸素とを燃焼筒内で燃焼化合させるこ
とで水蒸気を発生させ、この水蒸気を被処理体が配置さ
れている加熱炉をなすプロセスチューブ内に供給するよ
うになっている。このため、水蒸気を含む高温雰囲気下
に置かれた被処理体は、自身での変質によって表面に酸
化膜を生成する。

【０００４】また、熱処理装置において拡散処理を行な
う場合にも、被処理体を加熱するための加熱炉をなすプ
ロセスチューブが用いられ、このプロセスチューブ内に
配置された被処理体に対して不純物化合物からの蒸発気
体を供給することで被処理体の表面に不純物原子の拡散
が行なわれる。

【０００５】上記したように、酸化・拡散装置等の熱処
理装置においては、当然のことながらプロセスチューブ
に対して供給源からプロセスガスを供給するための供給
用石英管により供給している。この石英管はプロセスチ
ューブに取着された短い取出管と、供給源に取着された
短い取出管を連結管を中継させて連結させるのが慣用手
段になっている。

【０００６】ところで、上記熱処理装置において酸化処
理を実行することにより酸化膜を生成する場合でいう
と、被処理体の面内での成膜の厚さを均一にする、所
謂、面内均一性を確保することが重要である。このため
には、供給する気体、すなわち水蒸気の温度を処理温度
に対して大きく変化しない状態に維持することが必要で
ある。

【０００７】そこで、このような供給気体の温度の低下
を防止するために、当然、プロセスチューブと燃焼筒と
の間の距離を短くすることが考えられる。

【０００８】上記連結管両端部での連結手段には、図９
に示すような、配管の端部にフランジ１２０を設け、こ
のフランジ１２０の対向面同士を当接させたうえで、フ
ランジ１２０の対向面にＯリング１２１を介在させた構
造等の手段がある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した連
結構造においては、経時的に連結部での気密性が悪化す
るという問題があった。

【００１０】すなわち、この種の問題対策として、定期
的にプロセスチューブおよび配管をクリーニングするこ
とでウエハ上にパーティクル等の不純物が混入付着する
のを防止している。このため、上記した連結部も洗浄対
象となるが、例えば、この洗浄に用いられる薬液によっ
て連結部での接合面の平面性が損われてしまい、これに
よって、接合面での気密性が悪化することがある。一例
を挙げると、洗浄液としてフッ酸系溶剤を用いた場合に
は、石英管の表面が腐食されることで粗くなり、連結面
での平面性が損ねられて気密性が悪化する。

【００１１】したがって、気密性が悪化すると、熱処理
装置内での熱処理に用いられるプロセスガスの漏洩が発
生しやすくなったり、また、外部からの不純物、特に酸
素の浸入を許容してしまうことがある。このため、酸化
処理の場合でいうと、所定の厚さの酸化膜を形成するた
めに設定されている水蒸気の量が変化してしまったり、
外部からの酸素の巻き込みにより所望する膜質が得られ
なくなってしまう場合がある。ちなみに、外部から酸素
を巻き込んだ場合には、燃焼筒から供給される水蒸気に
含まれる酸素のみで生成される被処理体上での酸化膜の
膜質が変化してしまうことになる。しかも、酸素を巻き
込んだりあるいは巻き込まなかったりという事態が発生
すると、被処理体の酸化膜の性質が被処理体毎で変化し
てしまうことになり、被処理体の歩留りが悪化する。

【００１２】また、プロセスガスの漏洩が発生した場合
には、例えば、酸化用気体の一つとして塩素ガスを用い
ることもあり、この場合には、漏洩したガスをオペレー
タが吸引してしまう危険がある。

【００１３】このような気密性の悪化は、直接、石英同
士を接触させたフラットなフランジあるいは球状連結部
において顕著である。

【００１４】そこで、このように連結面が直接接触する
構造での問題を解消するために、図９に示すような連結
部の接合面間にＯリングを介在させて気密性を確保する
場合には、Ｏリングの耐熱性あるいは耐腐食性が低いと
気密性を損ねることがある。

【００１５】つまり、Ｏリングとしてゴム製のＯリング
を用いた場合には、その耐熱性が低いことも相俟って、
酸化工程に用いられる水蒸気や上記した塩素ガスに接触
するとイオウ等の不純物が生成される虞れがある。

【００１６】特に、プロセスチューブに有する供給用石
英管は、その長さが比較的短いために、熱源から出射さ
れてプロセスチューブの周壁を伝わる赤外線が接合面に
達しやすくなり、接合部での温度上昇が著しくなる。し
たがって、Ｏリングは、過熱状態に陥ることでその部分
での気密性を確保することが困難になる。

【００１７】そこで、このような事態を回避するため
に、比較的耐熱性の高い金属製のガスケットを用いるこ
とも考えられるが、このようなガスケットを用いた場合
には、ガスケットのスプリングバックによる気密性を得
るために石英管同士の締結力を大きくする必要がある。
しかし、締結力を大きくすると石英製の連結部を破損し
てしまうという新たな問題がある。

【００１８】このように、石英管同士の連結部での気密
性が悪くなると、所望の成膜条件を維持することができ
なくなる。

【００１９】なお、以上は熱処理装置によって酸化処理
を行なう場合での問題として挙げたが、拡散工程におい
ても同様な問題が発生する虞がある。

【００２０】そこで、本発明の目的は、上記従来の熱処
理装置における、特に、配管連結部での問題に鑑み、連
結部での気密性を確保することができる構造を備えた熱
処理装置を提供することにある。

【００２１】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、請求項１記載の発明は、反応管にガス導入管または
ガス排気管が気密に設けられた熱処理装置において、前
記ガス導入管またはガス排気管と外部とを連通するため
に接続された外部連通配管との接続部に設けられたフラ
ンジ部と、このフランジ部の対向面間に配置されたシー
ル部材と、このシール部材の温度上昇を抑制する温度抑
制手段を設けたことを特徴とする。

【００２２】請求項２記載の発明は、前記温度抑制手段
は、前記フランジ部のガス導入管またはガス排気管の内
部と前記フランジ部との間に設けられた隔壁から成るこ
とを特徴とする。

【００２３】請求項３記載の発明は、前記温度抑制手段
は、前記シール部材を冷却する冷却流体を循環させる冷
却機構を設けたことを特徴とする。

【００２４】請求項４記載の発明は、反応管にガス導入
管またはガス排気管が気密に設けられた熱処理装置にお
いて、前記ガス導入管またはガス排気管と外部とを連通
するために接続された外部連通配管との接続部に設けら
れたフランジ部と、このフランジ部の対向面間に配置さ
れたシール部材と、このシール部材と前記フランジ部の
少なくとも一部を覆うカバー体と、このカバー体の内部
に冷却流体を循環する冷却流体循環機構を設けたことを
特徴とする。

【００２５】請求項５記載の発明は、前記冷却流体は、
冷却された空気または不活性ガスであることを特徴とす
る。

【００２６】

【作用】本発明では、接続部にシール部材の温度上昇を
抑制するための温度抑制手段を設けたので、フランジ部
での温度上昇が抑えられる。この結果、フランジ部の対
向面間に位置するシール部材の熱的な変性が防止され、
シール部材の温度上昇を抑制して、シール効果を保持す
ることが出来る。

【００２７】

【実施例】以下、本発明装置を縦型バッチ式酸化処理装
置に適用した一実施例を、図面を参照して詳細に説明す
る。

【００２８】図１において、１は酸素と水素とを燃焼化
合させる外部燃焼装置であって、この外部燃焼装置１
は、耐熱材料たとえば石英ガラスよって円筒状に形成さ
れた燃焼容器２を備えている。この燃焼容器２の一端部
中央には、酸素ガスを供給する酸素導入管３と、水素ガ
スを供給する水素導入管４が接続されている。また、上
記燃焼容器２の一端部を覆うように、酸素ガスと水素ガ
スを燃焼化合温度（着火点温度）以上例えば９００℃に
加熱することのできる水蒸気生成用の抵抗加熱ヒーター
５が設けられている。

【００２９】上記燃焼容器２の他端部中央には、生成ガ
スを供給するための耐熱耐腐食性材料、たとえば石英ガ
ラス製ガス供給管６の一端が接続され、このガス供給管
６の他端は縦型熱処装置７に接続されている。

【００３０】この縦型熱処装置７は、その内部に、耐熱
材料たとえば石英ガラス製で略垂直に設置された気密容
器例えば円筒状の石英製反応管８を備えている。この反
応管８内には、耐熱材料、たとえば石英ガラス製のウエ
ハボート９が搬入例えば下方から搬入されるようになっ
ている。

【００３１】このウエハボート９内には、上下方向に所
定ピッチで多数枚積層搭載された被処理体たとえば半導
体ウエハ１０が収容されている。上記ウエハボート９
は、ボートエレベータ１４の基台１４ａ上に支承され、
送りネジ１４ｂの回転により反応管８内に下方から送り
込まれ、処理後に下方へ送り出されるようになってい
る。

【００３２】そして、前記反応管８の側壁外周には同軸
的に加熱装置たとえば抵抗加熱ヒーター１１のような加
熱手段が設けられている。この抵抗加熱ヒーター１１
は、たとえばステンレススティール製の筒体状のアウタ
ーシェル１３の内側に断熱材１２を介して支持されてお
り、以上の部材によって加熱炉が構成されている。ま
た、この加熱炉は、固定基台１３ａ上に支持されてい
る。

【００３３】前記抵抗加熱ヒーター１１に印加する電圧
を制御することによって、上記反応管８の被処理体収容
領域の温度を、酸化膜生成温度たとえば３００ー１２０
０℃の範囲の均一温度に適宜設定することができる。

【００３４】上記反応管８の下部の一側には、処理ガス
を供給するためのガス導入管１５が連結され、このガス
導入管１５は、前記ガス供給管６とは接続部２０によっ
て気密に接続されている。また、上記反応管８の下部の
他側には処理ガスを排出するための排出管１７が連結さ
れている。この排出管１７は、ガス排気管１６に上記と
同様な接続部２０によって連結されている。

【００３５】前記ガス排気管１６は、図示しない排気装
置、たとえば工場排気系に接続されている。これにより
反応管８内は、排気可能となっている。

【００３６】次に、上記接続部２０についてさらに具体
的に説明する。図２に示すように、上記接続部２０は、
例えば石英ガラスによって円筒状に形成されたフランジ
部３０、３１と、このフランジ部３１に設けられた凹部
３２と、フランジ３０側の石英配管の延長方向に設けら
れた円筒状の隔壁３５と、前記凹部３２に嵌合されるこ
とによって前記接続部２０の気密性を保持するために設
けられた例えばテフロン製で断面Ｕ字状に形成されたリ
ング状シール材３６とから構成されている。また、前記
リング状シール材３６の断面Ｕ字状の内側には、図示し
ないコイル状のスプリングが設けられ、前記リング状シ
ール材３６に反力を持たせている。

【００３７】また、前記フランジ部３０と３１を押圧固
定するために、例えばＳＵＳからなる円板状の押さえ板
３７ａと３７ｂが設けられている。この押さえ板３７ａ
と３７ｂには、ボルト３８を通すためのボルト孔が設け
られており、ボルト３８とナット３８ｂをねじ込むこと
によって、これら押さえ板３７ａと３７ｂを前記ボルト
３８とナット３８ｂをねじ込み、前記フランジ部３０と
３１を押圧固定されている。

【００３８】以上説明した縦型熱処理装置の動作につい
て説明する。まず、抵抗加熱ヒータにより、予め定めら
れた燃焼化合温度に加熱した後、酸素と水素を燃焼容器
２内に供給してそれを燃焼化合させると水蒸気が発生す
る。この水蒸気はガス供給管６と接続部２０とガス導入
管１５を通って反応管８内へ供給される。

【００３９】プロセスによっては、図１に示すようにＨ
Ｃｌを酸素、水素とともに反応ガスとして反応管８内へ
供給することもある。反応管８内は予め抵抗加熱ヒータ
１１によって、酸化膜生成温度例えば１０００℃に加熱
されており、エレベータ１４の上昇によって反応管８内
に搬入されているウエハボート９に支持される半導体ウ
エハ１０の表面に前記水蒸気による酸化膜を形成する。
半導体ウエハ１０を処理した後の高温処理済ガスは、排
出管１７と接続部２０とガス排気配管１６を通って図示
しない排気装置によって排出される。

【００４０】配管の寸法のばらつきや組み立て精度によ
って、上記酸化膜生成温度雰囲気近傍に設定される接続
部２０を構成する端面どうしに角度が生ずることがある
が、角度がついても断面Ｕ字状のリング状シール材３６
が押しつけられるような構造になっているので、気密性
を保つことができる。また、隔壁３５を設けているの
で、リング状シール材３６に直接的な熱の影響を防ぐこ
とが出来、熱によるシール性の低下等の影響をうけない
で済む。

【００４１】〔第２実施例〕次に、第２実施例について
説明する。第２実施例は、第１実施例の隔壁３５の内側
部に、円筒状の隔壁を設けて、２重の隔壁構造としたも
のである。第１実施例と同一のものについては、同一の
符号を付与し説明は省略する。図３において、円筒状の
隔壁４１が設けられており、この隔壁４１と前記隔壁３
５の２重構造としたことにより、より確実に熱の影響を
防止することができ、気密性を保持することができる。

【００４２】〔第３実施例〕次に、第３実施例について
説明する。第３実施例は、第１実施例の隔壁３５のかわ
りに、リング状シール材の冷却を行うために流体を循環
させる機構を設けて、リング状シール材に対する熱影響
を防止するものである。第１実施例と同一のものについ
ては、同一の符号を付与し説明は省略する。図４におい
て、前記フランジ部３０、３１と、前記ガス供給管６と
の間には、冷却流体たとえば冷却気体を循環させること
により、前記リング状シール材３６を冷却するための流
体通路５１、５２が設けられている。また、これら流体
通路５１、５２には、これら流体通路５１、５２に流体
たとえば冷却気体を供給する流体供給口５１ａ，５２ａ
が設けられている。これら流体供給口５１ａ，５２ａの
対向側には、循環された冷却流体を排出するための排出
口５１ｂ，５２ｂが設けられている。

【００４３】上記のようにリング状シール材３６を冷却
するための流体通路５１、５２を設け、冷却流体を循環
させることによって、リング状シール材３６を冷却し、
より確実に熱の影響を防止することができ、気密性を保
持することができる。尚、前記冷却流体は、冷却気体例
えば冷却された空気あるいは不活性ガスでも良く、ま
た、冷却気体に限られるものではなく、冷却された水の
ような液体でもよく、要するに冷却効果のあるものであ
れば、どのような物でもよいことは言うまでもないこと
である。

【００４４】〔第４実施例〕次に、第４実施例について
説明する。第４実施例は、図５において、フランジ部６
０、６１の外周にリング状の形成されたシール材６２を
設け、このシール材６２と前記フランジ部６０、６１を
覆うように、ＳＵＳにより形成されるとともに２つに分
割可能な如く構成されるカバー体６３ａ，６３ｂが設け
られている。これらのカバー体６３ａ，６３ｂには、そ
れぞれにフランジ部６６ｃ，６６ｄ，６７ｃ，６７ｄ
が、設けられている。

【００４５】これらのフランジ部６６ｃ，６６ｄ，６７
ｃ，６７ｄを押圧固定するために、例えばＳＵＳからな
る円板状の押さえ板６８ａと６８ｂが設けられている。
この押さえ板６８ａと６８ｂには、ボルト６９を通すた
めのボルト孔が設けられており、ボルト６９とナット６
９ｂをねじ込むことによって、これら押さえ板６８ａと
６８ｂを前記ボルト６９とナット６９ｂをねじ込み、前
記フランジ部６６ｃ，６６ｄ，６７ｃ，６７ｄを押圧固
定されている。

【００４６】また、前記カバー体６３ａには、前記カバ
ー体６３ａ，６３ｂの内部に冷却気体を供給するための
冷却気体供給口６４ａ，６４ｂが設けられている。これ
らの冷却気体供給口６４ａ，６４ｂから供給された冷却
気体は、前記カバー体６３ａ，６３ｂと前記ガス供給管
６との隙間６５から外部に排出される。上記のよう
に、冷却気体供給口６４ａ，６４ｂから冷却気体を供給
して、前記カバー体６３ａ，６３ｂの内部に冷却気体を
循環させてリング状に形成されたシール材の冷却を行
い、リング状シール材に対する熱影響を防止することが
でき、気密性を保持することができる。

【００４７】〔第５実施例〕次に、第５実施例について
説明する。第５実施例は、図６に示すように、上記接続
部２０は、例えば石英ガラスによって円筒状に形成され
たフランジ部７０、７１が設けられている。このフラン
ジ部７１には、前記フランジ部７１の略中央部に設けら
れた円筒状の隔壁７１ａと、前記フランジ部７１側の石
英配管の延長方向に円筒状の隔壁７１ｂとが設けられて
いる。

【００４８】前記フランジ部７０と前記フランジ部７１
の間には、例えばテフロン製で断面Ｕ字状に形成された
リング状シール材７４が設けられている。このリング状
シール材７４は、前記フランジ部７０と前記フランジ部
７１に嵌合されることによって前記接続部２０の気密性
を保持することができるように構成されている。また、
前記フランジ部７０、７１を覆うように、ＳＵＳにより
形成されるとともに２つに分割可能な如く構成されるカ
バー体７５ａ，７５ｂが設けられている。これらのカバ
ー体７５ａ，７５ｂには、それぞれにフランジ部７６
ｃ，７６ｄ，７７ｃ，７７ｄが、設けられている。これ
らのフランジ部７６ｃ，７６ｄ，７７ｃ，７７ｄを押圧
固定するために、例えばＳＵＳからなる円板状の押さえ
板７８ａと７８ｂが設けられている。この押さえ板７８
ａと７８ｂには、ボルト７９を通すためのボルト孔が設
けられており、ボルト７９とナット７９ｂをねじ込むこ
とによって、これら押さえ板７８ａと７８ｂを前記ボル
ト７９とナット７９ｂをねじ込み、前記フランジ部７６
ｃ，７６ｄ，７７ｃ，７７ｄを押圧固定している。

【００４９】また、前記カバー体７５ａには、これらの
カバー体７５ａ，７５ｂの内部に冷却気体を供給するた
めの冷却気体供給口７２が設けられている。前記カバー
体７５ｂには、前記冷却気体供給口７２から供給された
冷却気体を外部に排出するための冷却流体排出口７３か
ら排出される。上記のように、冷却気体供給口７２から
冷却気体を供給して、前記カバー体７５ａ，７５ｂの内
部に冷却気体を循環させてリング状に形成されたシール
材の冷却を行い、リング状シール材に対する熱影響を防
止することができ、気密性を保持することができる。

【００５０】〔第６実施例〕次に、第６実施例について
説明する。第６実施例は、図７に示すように、上記接続
部２０には、例えば石英ガラスによって円筒状に形成さ
れたフランジ部８０、８１が設けられている。このフラ
ンジ部８１には、凹部８１ａが設けられている。前記フ
ランジ部８０と前記凹部８１ａには、前記フランジ部８
０と前記凹部８１ａに嵌合されることによって前記接続
部２０の気密性を保持する例えばテフロン製で断面Ｕ字
状に形成されたリング状シール材８２が設けられてい
る。

【００５１】このシール材８２と前記フランジ部８０、
８１を覆うように、ＳＵＳにより形成されるとともに２
つに分割可能な如く構成されるカバー体８３ａ，８３ｂ
が設けられている。これらのカバー体８３ａ，８３ｂに
は、それぞれにフランジ部８６ｃ，８６ｄ，８７ｃ，８
７ｄが、設けられている。これらのフランジ部８６ｃ，
８６ｄ，８７ｃ，８７ｄを押圧固定するために、例えば
ＳＵＳからなる押さえ板８８ａと８８ｂが設けられてい
る。この押さえ板８８ａと８８ｂには、ボルト８９を通
すためのボルト孔が設けられており、ボルト８９とナッ
ト８９ｂをねじ込むことによって、これら押さえ板８８
ａと８８ｂを前記ボルト８９とナット８９ｂをねじ込
み、前記フランジ部８６ｃ，８６ｄ，８７ｃ，８７ｄを
押圧固定している。

【００５２】また、前記カバー体８３ａ，８３ｂには、
前記カバー体８３ａ，８３ｂの内部に冷却気体を供給す
るための冷却気体供給口８４ａ，８４ｂが設けられてい
る。また、前記カバー体８３ａ，８３ｂと前記ガス供給
管６の間には、前記ガス供給管６と前記カバー体８３
ａ，８３ｂとに隙間を開けるためのスペーサー９０が、
前記ガス供給管６の円周方向に複数個設けられている。
これらのスペーサー９０により、前記カバー体８３ａ，
８３ｂを位置決めするとともに、前記冷却気体供給口８
４ａ，８４ｂから供給された冷却気体を、前記カバー体
８３ａ，８３ｂと前記ガス供給管６との隙間９１から外
部に排出される。

【００５３】上記のように、冷却気体供給口８４ａ，８
４ｂから冷却気体を供給して、前記カバー体８３ａ，８
３ｂの内部に冷却気体を循環させてリング状に形成され
たシール材の冷却を行うことが出来る。また、リング状
シール材に対する熱影響を防止することができ、気密性
を保持することができる。

【００５４】〔第７実施例〕次に、第７実施例について
説明する。図８において、前記接続部２０は、例えば石
英ガラスによって少なくとも外形が球状に形成された凸
状接合体１００と、この凸状接合体１００に嵌合すると
ともに前記凸状接合体１００の外径よりも大きな外径に
形成された凹状接合体１０１とで構成されている。

【００５５】前記凸状接合体１００は、ガス供給管６の
一端に球状部１０２が設けられ、上記接続部２０を気密
シールする手段例えば、球状部１０２には、弾性耐熱部
材例えばＯリング１０３を収容する溝部１０４がリング
状に設けられるとともに、前記ガス供給管６と連通する
ガス流路である通孔部１０５が開口されている。一方凹
面を構成している凹状接合体１０１は、上記したように
ガス導入管１５の一端に球状おうぶ１０６が設けられ、
前記凸状接合体１００の球状部１０２と嵌合するように
構成されている。

【００５６】また、前記凸状接合体１００と前記凹状接
合体１０１の押圧固定装置として、例えばＳＵＳから成
る押さえ板１１０と１１１が設けられている。この押さ
え板１１０と１１１にはボルト孔１１２が設けられてお
り、ボルト１１３は、前記ボルト孔１１２を通過させ
て、バネ１１４を通してナット１１５によってバネ圧を
利用して押圧固定している。

【００５７】上記のように、前記凸状接合体１００は、
前記凸状接合体１００の外径よりも大きな外径に形成さ
れた凹状接合体１０１によって押圧固定されているの
で、これらの接合部１１７は、接触部が少なくＯリング
は、ガスにさらされにくい。また、前記ガス供給管６と
前記ガス導入管１５を接続する場合に前記ガス供給管６
と前記ガス導入管１５の間に角度がついていても球状に
構成されているため片当たりすることがなく、無理な力
がかからないため、多少の変移変形は吸収され、気密封
止を保ことが出来る。

【００５８】このように、配管接続部での気密性を確保
することにより、プロセスチューブ内で実行される熱処
理条件を安定化させることが可能になる。

【００５９】なお、本発明は上記した実施例に限られる
ものでないこと勿論であり、要は、本発明の要旨の範囲
内において変更することも可能である。また、前記リン
グ状シール材は、断面Ｕ字状の物を用いたが、これに限
られるものではなく、Ｕ字型の他、Ｖ字型、コの字型、
Ｃ字型等いずれであっても良いことは言うまでもない。
また、前記スプリングは、断面がＵ字型、Ｖ字型、Ｏ字
型のいずれでも良い。

【００６０】また、上記実施例ではプロセスガス供給管
の連結部について説明したが、パージガス供給管に、適
用することも可能である。さらに、本発明は、酸化処理
装置に限らず、熱処理装置であれば、拡散装置、ＣＶＤ
装置、エッチング装置等、何れにでも適用することが可
能である。また、上記バッチ処理に限らず、枚葉処理に
も同様に適用できる。

【００６１】

【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、熱処理が高温であってもシール効果を保持すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による熱処理装置の実施例を説明するた
めの模式図である。

【図２】本発明による熱処理装置の配管に用いられる接
続部の実施例を説明するための断面図である。

【図３】熱処理装置の配管に用いられる接続部の第２実
施例を説明するための断面図である。

【図４】熱処理装置の配管に用いられる接続部の第３実
施例を説明するための断面図である。

【図５】（ａ）熱処理装置の配管に用いられる接続部の
第４実施例を説明するための断面図である。（ｂ）熱処理装置の配管に用いられる接続部の第４実施
例を説明するための側面図である。

【図６】（ａ）熱処理装置の配管に用いられる接続部の
第５実施例を説明するための断面図である。（ｂ）熱処理装置の配管に用いられる接続部の第５実施
例を説明するための側面図である。

【図７】（ａ）熱処理装置の配管に用いられる接続部の
第６実施例を説明するための断面図である。（ｂ）熱処理装置の配管に用いられる接続部の第６実施
例を説明するための側面図である。

【図８】熱処理装置の配管に用いられる接続部の第７実
施例を説明するための断面図である。

【符号の説明】

２０接続部３０、３１フランジ部３６シール材３５隔壁５１、５２流体通路６３ａ，６３ｂカバー体

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【手続補正書】

【提出日】平成７年１２月２７日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図９】従来の連結手段を説明するための断面図であ
る。

【符号の説明】２０接続部３０、３１フランジ部３６リング状シール材３５隔壁５１、５２流体通路６３ａ、６３ｂカバー体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】反応管にガス導入管またはガス排気管が
気密に設けられた熱処理装置において、前記ガス導入管またはガス排気管と外部とを連通するた
めに接続された外部連通配管との接続部に設けられたフ
ランジ部と、このフランジ部の対向面間に配置されたシール部材と、このシール部材の温度上昇を抑制する温度抑制手段を設
けたことを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】前記温度抑制手段は、前記フランジ部のガ
ス導入管またはガス排気管の内部と前記フランジ部との
間に設けられた隔壁から成ることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の熱処理装置。
【請求項３】前記温度抑制手段は、前記シール部材を冷
却する冷却流体を循環させる冷却機構を設けたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の熱処理装置。
【請求項４】反応管にガス導入管またはガス排気管が
気密に設けられた熱処理装置において、前記ガス導入管またはガス排気管と外部とを連通するた
めに接続された外部連通配管との接続部に設けられたフ
ランジ部と、このフランジ部の対向面間に配置されたシール部材と、このシール部材と前記フランジ部の少なくとも一部を覆
うカバー体と、このカバー体の内部に冷却流体を循環する冷却流体循環
機構を設けたことを特徴とする熱処理装置。
【請求項５】前記冷却流体は、冷却された空気または不
活性ガスであることを特徴とする特許請求の範囲第３項
又は第４項記載の熱処理装置。