JPH08231508A - グリセリン誘導体 - Google Patents
グリセリン誘導体Info
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- JPH08231508A JPH08231508A JP8030394A JP3039496A JPH08231508A JP H08231508 A JPH08231508 A JP H08231508A JP 8030394 A JP8030394 A JP 8030394A JP 3039496 A JP3039496 A JP 3039496A JP H08231508 A JPH08231508 A JP H08231508A
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- Pyridine Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れたＰＡＦ抑制作用を有し、作用の持続
性、化合物の安定性においても優れているグリセリン誘
導体及びそれを含有する医薬の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表されるグリセリン誘導
体又はその薬理学的に許容できる塩。 【化１】 B は低級アルキル基等、R1はアシル基、n は０〜３の整
数、 【化２】
性、化合物の安定性においても優れているグリセリン誘
導体及びそれを含有する医薬の提供。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表されるグリセリン誘導
体又はその薬理学的に許容できる塩。 【化１】 B は低級アルキル基等、R1はアシル基、n は０〜３の整
数、 【化２】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬として優れた作用
を有する新規なグリセリン誘導体及びその薬理学的に許
容できる塩に関する。
を有する新規なグリセリン誘導体及びその薬理学的に許
容できる塩に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】血小板
活性化因子〔ＰＡＦ…Platelet Activa-ting Factor 〕
（以下単にＰＡＦと略称する）は、近年著しく注目され
ており、最近では種々の疾病との関連性が明らかになり
つつある。即ち、炎症をはじめとしてＤＩＣ、エンドト
キシンショック、喘息、消化管潰瘍、腎炎、肝炎及び臓
器移植時の拒絶反応などに関与していることが推定され
ている。
活性化因子〔ＰＡＦ…Platelet Activa-ting Factor 〕
（以下単にＰＡＦと略称する）は、近年著しく注目され
ており、最近では種々の疾病との関連性が明らかになり
つつある。即ち、炎症をはじめとしてＤＩＣ、エンドト
キシンショック、喘息、消化管潰瘍、腎炎、肝炎及び臓
器移植時の拒絶反応などに関与していることが推定され
ている。
【０００３】このような状況において、ＰＡＦ抑制作用
を有する化合物の探索が行われており、その中でも、例
えば特開昭60-158172 号、特開昭61-293954 号、特開昭
60-243047 号などで示される如くグリセリン誘導体があ
る。しかしながら、現在のところ、抗ＰＡＦ剤としては
満足すべきものは出現していない。
を有する化合物の探索が行われており、その中でも、例
えば特開昭60-158172 号、特開昭61-293954 号、特開昭
60-243047 号などで示される如くグリセリン誘導体があ
る。しかしながら、現在のところ、抗ＰＡＦ剤としては
満足すべきものは出現していない。
【０００４】このような状況に鑑みて、本発明者等は優
れたＰＡＦ抑制作用を有するのみならず、作用の持続
性、化合物の安定性においても優れているグリセリン誘
導体について長年にわたって探索研究を続けてきた。
れたＰＡＦ抑制作用を有するのみならず、作用の持続
性、化合物の安定性においても優れているグリセリン誘
導体について長年にわたって探索研究を続けてきた。
【０００５】
【発明の構成及び効果】本発明者等は、前記に示した目
的で長年鋭意検討を重ねてきた結果、次に示すグリセリ
ン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩が目的を達成
できることを見出し、本発明を完成した。
的で長年鋭意検討を重ねてきた結果、次に示すグリセリ
ン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩が目的を達成
できることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】即ち、本発明化合物は、次の一般式（Ｉ）
で示されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩である。
で示されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩である。
【０００７】
【化４６】
【０００８】｛式中、 Aは
【０００９】
【化４７】
【００１０】（式中、 mは０〜６の整数を意味し、R2,R
3,R4は同一又は相異なる水素原子又は低級アルコキシ基
を意味する) で示される基、
3,R4は同一又は相異なる水素原子又は低級アルコキシ基
を意味する) で示される基、
【００１１】
【化４８】
【００１２】（式中、 pは０〜６の整数を意味し、R5は
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、シクロアル
キルアルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を
意味する）で示される基、 (3) 式 -NH-(CH2)q-R6 （式中、 qは０〜６の整数を意味し、R6はアリール基又
はヘテロアリール基を意味する）で示される基、 (4) 式 -NH-(CH2)r-OR7 （式中、 rは０〜６の整数を意味し、R7はアルキル基を
意味する) で示される基、
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、シクロアル
キルアルキル基、アリール基又はアリールアルキル基を
意味する）で示される基、 (3) 式 -NH-(CH2)q-R6 （式中、 qは０〜６の整数を意味し、R6はアリール基又
はヘテロアリール基を意味する）で示される基、 (4) 式 -NH-(CH2)r-OR7 （式中、 rは０〜６の整数を意味し、R7はアルキル基を
意味する) で示される基、
【００１３】
【化４９】
【００１４】（式中、 sは０〜20の整数を意味し、R8,R
9 は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を意味
する) で示される基、
9 は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を意味
する) で示される基、
【００１５】
【化５０】
【００１６】（式中、 tは０〜６の整数を意味し、R10
は水素原子又は低級アルコキシカルボニル基を意味す
る) で示される基、
は水素原子又は低級アルコキシカルボニル基を意味す
る) で示される基、
【００１７】
【化５１】
【００１８】（式中、 uは０〜６の整数を意味し、R11,
R12 は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を意
味し、更に R11,R12が一緒になって酸素原子を含んでも
よい環を形成してもよい。) で示される基、 (8) 式 -NH-(CH2)v-O-(CH2)w-O-(CH2)x-H （式中、 vは１〜10の整数を意味し、 wは１〜10の整数
を意味し、 xは１〜10の整数を意味する) で示される
基、
R12 は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を意
味し、更に R11,R12が一緒になって酸素原子を含んでも
よい環を形成してもよい。) で示される基、 (8) 式 -NH-(CH2)v-O-(CH2)w-O-(CH2)x-H （式中、 vは１〜10の整数を意味し、 wは１〜10の整数
を意味し、 xは１〜10の整数を意味する) で示される
基、
【００１９】
【化５２】
【００２０】（式中、 yは０〜６の整数を意味し、R13
は水素原子又はアルキル基を意味する) で示される基、
又は
は水素原子又はアルキル基を意味する) で示される基、
又は
【００２１】
【化５３】
【００２２】（式中、 zは０〜６の整数を意味し、 aは
３〜４の整数を意味し、 Dは酸素原子、硫黄原子又は窒
素原子を意味する) で示される基を意味する。B は低級
アルキル基又はアリールアルキル基を意味する。R1はア
シル基を意味する。n は０〜３の整数を意味する。
３〜４の整数を意味し、 Dは酸素原子、硫黄原子又は窒
素原子を意味する) で示される基を意味する。B は低級
アルキル基又はアリールアルキル基を意味する。R1はア
シル基を意味する。n は０〜３の整数を意味する。
【００２３】
【化５４】
【００２４】即ち、上記の一般式（Ｉ）で表されるグリ
セリン誘導体は、優れたＰＡＦ抑制作用を有し、更に作
用の持続性を有し、しかも化合物自体が安定性が高いと
いう特徴を有している。
セリン誘導体は、優れたＰＡＦ抑制作用を有し、更に作
用の持続性を有し、しかも化合物自体が安定性が高いと
いう特徴を有している。
【００２５】従って本発明の目的は、優れた抗ＰＡＦ作
用を有する新規なグリセリン誘導体又はその薬理学的に
許容できる塩を提供することであり、更に本発明の目的
は、それらの製造方法を提供することであり、更に本発
明の目的はそれを含有する医薬を提供するにある。
用を有する新規なグリセリン誘導体又はその薬理学的に
許容できる塩を提供することであり、更に本発明の目的
は、それらの製造方法を提供することであり、更に本発
明の目的はそれを含有する医薬を提供するにある。
【００２６】R8,R9,R11,R12,B の定義にみられる低級ア
ルキル基とは、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のア
ルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−
ブチル、イソプロピル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、１
−エチルプロピル、イソアミル、ｎ−ヘキシルなどをあ
げることができる。
ルキル基とは、炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のア
ルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−
ブチル、イソプロピル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、１
−エチルプロピル、イソアミル、ｎ−ヘキシルなどをあ
げることができる。
【００２７】R5,R7,R13 の定義にみられるアルキル基と
は、炭素数１〜30の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基
をいう。具体的には、上記に示した低級アルキル基、即
ち炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、例
えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ
プロピル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、１−エチルプロ
ピル、イソアミル、ｎ−ヘキシルなどに加えて、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサ
デシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エ
イコサニル、ヘネイコサニル、ドコサニル、トリコサニ
ル、テトラコサニル、ペンタコサニル、ヘキサコサニ
ル、ヘプタコサニル、オクタコサニル、ノナコサニル、
トリアコンタニルなどのアルキル基をあげることができ
るが、炭素数14〜22程度のアルキル基が好ましく、更に
は炭素数16〜20程度のアルキル基が最も好ましい。
は、炭素数１〜30の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基
をいう。具体的には、上記に示した低級アルキル基、即
ち炭素数１〜６の直鎖もしくは分枝状のアルキル基、例
えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ
プロピル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、１−エチルプロ
ピル、イソアミル、ｎ−ヘキシルなどに加えて、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサ
デシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エ
イコサニル、ヘネイコサニル、ドコサニル、トリコサニ
ル、テトラコサニル、ペンタコサニル、ヘキサコサニ
ル、ヘプタコサニル、オクタコサニル、ノナコサニル、
トリアコンタニルなどのアルキル基をあげることができ
るが、炭素数14〜22程度のアルキル基が好ましく、更に
は炭素数16〜20程度のアルキル基が最も好ましい。
【００２８】R2,R3,R4の定義にみられる「低級アルコキ
シ基」とは、上記の低級アルキル基から誘導された低級
アルコキシ基、即ち炭素数１〜６を有する低級アルコキ
シ基を意味する。また、R10 の定義にみられる「低級ア
ルコキシカルボニル基」の低級アルコキシとは、上記の
如く炭素数１〜６を有する低級アルコキシ基を意味す
る。
シ基」とは、上記の低級アルキル基から誘導された低級
アルコキシ基、即ち炭素数１〜６を有する低級アルコキ
シ基を意味する。また、R10 の定義にみられる「低級ア
ルコキシカルボニル基」の低級アルコキシとは、上記の
如く炭素数１〜６を有する低級アルコキシ基を意味す
る。
【００２９】R5,R6 の定義にみられる「アリール基」と
は、置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル基、フ
ルオレニル基などを意味するが、具体的には低級アルキ
ル基、ハロゲンなどで置換されてもよいフェニル基のほ
か、
は、置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル基、フ
ルオレニル基などを意味するが、具体的には低級アルキ
ル基、ハロゲンなどで置換されてもよいフェニル基のほ
か、
【００３０】
【化５５】
【００３１】などをあげることができる。更に、R5,Bの
定義にみられるアリールアルキル基とは、上記のアリー
ル基から誘導されるアリールアルキル基を意味する。
定義にみられるアリールアルキル基とは、上記のアリー
ル基から誘導されるアリールアルキル基を意味する。
【００３２】A の定義中のメチレン鎖の数、即ち m,p,
q,r, t,u,y,z は０〜６の整数を意味するが、１〜３程
度が好ましい。
q,r, t,u,y,z は０〜６の整数を意味するが、１〜３程
度が好ましい。
【００３３】R1の定義におけるアシル基とは、脂肪族飽
和カルボン酸、脂肪族不飽和カルボン酸、炭素環式カル
ボン酸又は複素環式カルボン酸のような有機酸の残基が
あげられるが、具体的には、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイルなどの低級アルカノイル
基、置換もしくは無置換のベンゾイル、トルオイル、ナ
フトイルなどのアロイル基、フロイル、ニコチノイル、
イソニコチノイルなどのヘテロアロイル基、シクロヘキ
シルカルボニル基などをあげることができる。これらの
うち好ましいものをあげれば、アセチル、プロピオニル
などの低級アルカノイル基、置換もしくは無置換のベン
ゾイル基であり、最も好ましいものとしては、例えばア
セチル基、ｏ，ｍ，ｐ−メトキシベンゾイル基などをあ
げることができる。
和カルボン酸、脂肪族不飽和カルボン酸、炭素環式カル
ボン酸又は複素環式カルボン酸のような有機酸の残基が
あげられるが、具体的には、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイルなどの低級アルカノイル
基、置換もしくは無置換のベンゾイル、トルオイル、ナ
フトイルなどのアロイル基、フロイル、ニコチノイル、
イソニコチノイルなどのヘテロアロイル基、シクロヘキ
シルカルボニル基などをあげることができる。これらの
うち好ましいものをあげれば、アセチル、プロピオニル
などの低級アルカノイル基、置換もしくは無置換のベン
ゾイル基であり、最も好ましいものとしては、例えばア
セチル基、ｏ，ｍ，ｐ−メトキシベンゾイル基などをあ
げることができる。
【００３４】A の定義は(1) 〜(10)に分類されている
が、これらのうちで(2) で定義されているグループの化
合物、(9) で定義されているグループの化合物が好まし
い。また Bの定義においてもメチル基の場合が最も好ま
しく、更に nは０又は１〜３の整数を意味するが n＝１
の場合が最も好ましい。
が、これらのうちで(2) で定義されているグループの化
合物、(9) で定義されているグループの化合物が好まし
い。また Bの定義においてもメチル基の場合が最も好ま
しく、更に nは０又は１〜３の整数を意味するが n＝１
の場合が最も好ましい。
【００３５】本発明化合物は、式（Ｉ）で表されるグリ
セリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩である。
これらの塩としてはいかなる塩でも良いが、例えば上記
グリセリン誘導体（Ｉ）の塩酸塩、臭化水素塩、ヨウ化
水素塩、硫酸塩、リン酸塩などの酸付加塩などのほか、
本発明においては、 Gの定義におけるピリジン環の窒素
原子が四級化された四級塩が最も好ましい。四級塩であ
ればいかなる塩でも良いが、これら四級塩の中でも、四
級化された基が、式
セリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩である。
これらの塩としてはいかなる塩でも良いが、例えば上記
グリセリン誘導体（Ｉ）の塩酸塩、臭化水素塩、ヨウ化
水素塩、硫酸塩、リン酸塩などの酸付加塩などのほか、
本発明においては、 Gの定義におけるピリジン環の窒素
原子が四級化された四級塩が最も好ましい。四級塩であ
ればいかなる塩でも良いが、これら四級塩の中でも、四
級化された基が、式
【００３６】
【化５６】
【００３７】（式中、R14 は水素原子又は低級アルキル
基を意味し、Xは薬理学的に許容できるアニオンである)
で示される基である場合が最も好ましい。上記の定義に
おいて、R14 は炭素数１〜３程度が好ましく、更にはエ
チル基の場合が最も好ましい。
基を意味し、Xは薬理学的に許容できるアニオンである)
で示される基である場合が最も好ましい。上記の定義に
おいて、R14 は炭素数１〜３程度が好ましく、更にはエ
チル基の場合が最も好ましい。
【００３８】X- はいかなるアニオンでもよいが、代表
的なものをあげれば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素
イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、酢酸
イオンなどの酸のアニオン、水酸イオンなどをあげるこ
とができる。最も好ましいアニオンは塩素イオンなどの
ハロゲンイオンである。
的なものをあげれば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素
イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、酢酸
イオンなどの酸のアニオン、水酸イオンなどをあげるこ
とができる。最も好ましいアニオンは塩素イオンなどの
ハロゲンイオンである。
【００３９】本発明の化合物は、分子内に不斉炭素を有
し、種々の立体異性体が存在するが、本発明において
は、その各々あるいはその混合物のいずれもが本発明に
包含されることは言うまでもない。
し、種々の立体異性体が存在するが、本発明において
は、その各々あるいはその混合物のいずれもが本発明に
包含されることは言うまでもない。
【００４０】次に本発明の代表的な製造方法を示す。
【００４１】
【化５７】
【００４２】（一連の式中、A,B,n,R1,R14,Xは前記の意
味を有する) （第一工程）本工程は、一般式(II)で表される化合物を
常法によりアシル化して一般式(III) で表される化合物
を得る工程である。
味を有する) （第一工程）本工程は、一般式(II)で表される化合物を
常法によりアシル化して一般式(III) で表される化合物
を得る工程である。
【００４３】アシル化は、例えば R1OH （式中、R1はア
シル基を意味する) で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式(II)
で表される化合物と反応させて、目的物質の一つである
一般式(III) で表される化合物とする。アセチル基を導
入する場合は、無水酢酸を用いることが好ましい結果を
与える。
シル基を意味する) で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式(II)
で表される化合物と反応させて、目的物質の一つである
一般式(III) で表される化合物とする。アセチル基を導
入する場合は、無水酢酸を用いることが好ましい結果を
与える。
【００４４】本反応は塩基の存在下に反応を行うことが
好ましい。塩基としては、例えば水素化カリウム、水素
化ナトリウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナト
リウムのようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドの
ようなナトリウムアルコラート、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのような水酸化アルカリ、ピリジン、トリ
エチルアミンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウムなどの炭酸アルカリなどがあげられる。
好ましい。塩基としては、例えば水素化カリウム、水素
化ナトリウムのような水素化アルカリ金属類、金属ナト
リウムのようなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドの
ようなナトリウムアルコラート、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのような水酸化アルカリ、ピリジン、トリ
エチルアミンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウムなどの炭酸アルカリなどがあげられる。
【００４５】本反応は、無溶媒、又は例えばテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、
トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒中で行われ
る。反応温度は−78℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、
トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒中で行われ
る。反応温度は−78℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
【００４６】（第二工程）本反応は、第一工程で得られ
た一般式(III) で表される化合物を常法により四級塩化
し、本発明化合物(IV)を得る工程である。即ち、一般式
(III) で表される化合物を一般式 R14-X（R14,X は前記
の意味を有する) で表される化合物と反応させることに
より、容易に目的物質である本発明化合物(IV)を得る。
ハロゲン化水素塩とする際は R14-Halと反応させる。
た一般式(III) で表される化合物を常法により四級塩化
し、本発明化合物(IV)を得る工程である。即ち、一般式
(III) で表される化合物を一般式 R14-X（R14,X は前記
の意味を有する) で表される化合物と反応させることに
より、容易に目的物質である本発明化合物(IV)を得る。
ハロゲン化水素塩とする際は R14-Halと反応させる。
【００４７】本反応は好ましくは窒素中遮光して行わ
れ、無溶媒、又は例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
れ、無溶媒、又は例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
【００４８】なお、本製造方法において、出発物質とし
て用いられる一般式(II)で表される化合物は、例えば次
のいくつかの方法により製造できる。
て用いられる一般式(II)で表される化合物は、例えば次
のいくつかの方法により製造できる。
【００４９】
【化５８】
【００５０】（式中、B,n は上記の意味を有し、 Halは
ハロゲン原子を意味し、A'は Aから式-NH-で表される基
を除いた残基を意味する） （第一工程）一般式(V) で表される化合物を一般式(VI)
で表されるイソシアネートと塩基の存在下反応させるこ
とにより、一般式(VII) で表される化合物を得る工程で
ある。
ハロゲン原子を意味し、A'は Aから式-NH-で表される基
を除いた残基を意味する） （第一工程）一般式(V) で表される化合物を一般式(VI)
で表されるイソシアネートと塩基の存在下反応させるこ
とにより、一般式(VII) で表される化合物を得る工程で
ある。
【００５１】使用できる塩基としては、例えばピリジ
ン、４−(N,N−ジメチルアミノ) ピリジン、キノリンな
どがあげられる。本反応は無溶媒、又はテトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどのベンゼン系溶媒などから選択
された溶媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸
点まで適宜選ばれる。
ン、４−(N,N−ジメチルアミノ) ピリジン、キノリンな
どがあげられる。本反応は無溶媒、又はテトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどのベンゼン系溶媒などから選択
された溶媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸
点まで適宜選ばれる。
【００５２】このとき用いたイソシアネート O=C=N-A'
は、例えば 3,4,5−トリメトキシアニリンの如き化合物
A'-NH2 と、ホスゲン、二塩化オキサリル、クロロギ酸
トリクロロメチルなどとを反応させることにより得るこ
とができる。本反応は普通、ベンゼン、トルエン、酢酸
エチルなどの不活性有機溶媒中で行われる。反応温度は
氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
は、例えば 3,4,5−トリメトキシアニリンの如き化合物
A'-NH2 と、ホスゲン、二塩化オキサリル、クロロギ酸
トリクロロメチルなどとを反応させることにより得るこ
とができる。本反応は普通、ベンゼン、トルエン、酢酸
エチルなどの不活性有機溶媒中で行われる。反応温度は
氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
【００５３】（第二工程）一般式(VII) で表される化合
物とハロゲノギ酸フェニルを塩基の存在下反応させるこ
とにより、化合物(IX)を得る工程である。
物とハロゲノギ酸フェニルを塩基の存在下反応させるこ
とにより、化合物(IX)を得る工程である。
【００５４】使用できる塩基としては、例えばピリジ
ン、トリエチルアミンなどがあげられる。本反応は無溶
媒、又は例えばクロロホルム、塩化メチレンなどの塩化
炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルな
どのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよう
なケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は−78℃乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
ン、トリエチルアミンなどがあげられる。本反応は無溶
媒、又は例えばクロロホルム、塩化メチレンなどの塩化
炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルな
どのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよう
なケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は−78℃乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
【００５５】（第三工程）一般式(IX)で表される化合物
を一般式(X) で表されるアミン体と反応せしめて、一般
式(XI)で表される化合物を得る工程である。 n＝１であ
る場合、化合物(X) は２−（アミノメチル）ピリジンで
ある。
を一般式(X) で表されるアミン体と反応せしめて、一般
式(XI)で表される化合物を得る工程である。 n＝１であ
る場合、化合物(X) は２−（アミノメチル）ピリジンで
ある。
【００５６】本反応は無溶媒、又は例えばクロロホル
ム、塩化メチレンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、
トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒中で行われ
る。反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれ
る。
ム、塩化メチレンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、
トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒中で行われ
る。反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれ
る。
【００５７】本工程によって得られた一般式(XI)で表さ
れる化合物は、一般式(II)で表される化合物に一致す
る。
れる化合物は、一般式(II)で表される化合物に一致す
る。
【００５８】
【化５９】
【００５９】
【化６０】
【００６０】（一連の式において、B,A',n,Halは前記の
意味を有する) （第一工程）一般式(V) で表される化合物とジヒドロピ
ラン(XII) を酸存在下反応させることにより、一般式(X
III)で表される化合物を得ることができる。
意味を有する) （第一工程）一般式(V) で表される化合物とジヒドロピ
ラン(XII) を酸存在下反応させることにより、一般式(X
III)で表される化合物を得ることができる。
【００６１】酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン
酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートなどをあげ
ることができる。本反応は通常、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルムなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼ
ン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶
媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで
適宜選ばれる。
酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートなどをあげ
ることができる。本反応は通常、例えばジクロロメタ
ン、クロロホルムなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ベンゼ
ン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶
媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒の沸点まで
適宜選ばれる。
【００６２】（第二工程）一般式(XIII)で表される化合
物をハロゲノギ酸フェニルと塩基の存在下反応させるこ
とにより、一般式(XIV) で表される化合物を得ることが
できる。
物をハロゲノギ酸フェニルと塩基の存在下反応させるこ
とにより、一般式(XIV) で表される化合物を得ることが
できる。
【００６３】使用できる塩基としては、例えばピリジ
ン、トリエチルアミンなどがあげられる。本反応は無溶
媒、又は例えばクロロホルム、ジクロロメタンなどの塩
化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は−78℃乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
ン、トリエチルアミンなどがあげられる。本反応は無溶
媒、又は例えばクロロホルム、ジクロロメタンなどの塩
化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は−78℃乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
【００６４】（第三工程）一般式(XIV) で表される化合
物を一般式(X) で表されるアミン体と反応させることに
より、一般式(XV)で表される化合物を得ることができ
る。
物を一般式(X) で表されるアミン体と反応させることに
より、一般式(XV)で表される化合物を得ることができ
る。
【００６５】本反応は無溶媒、又は例えばクロロホル
ム、ジクロロメタンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、
トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒中で行われ
る。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
ム、ジクロロメタンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ベンゼン、
トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒中で行われ
る。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
【００６６】（第四工程）一般式(XV)で表される化合物
を酸存在下水又はメタノール、エタノールなどのアルコ
ール類と反応させることにより、一般式(XVI) で表され
る化合物を得ることができる。
を酸存在下水又はメタノール、エタノールなどのアルコ
ール類と反応させることにより、一般式(XVI) で表され
る化合物を得ることができる。
【００６７】酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン
酸、酢酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネート、塩
酸などをあげることができる。本反応は無溶媒、又は例
えばメタノール、エタノールなどのアルコール類、水、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒
中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜
選ばれる。
酸、酢酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネート、塩
酸などをあげることができる。本反応は無溶媒、又は例
えばメタノール、エタノールなどのアルコール類、水、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒
中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜
選ばれる。
【００６８】（第五工程）一般式 O=C=N-A' (VI)で表さ
れるイソシアネートと一般式(XVI) で表される化合物を
常法により塩基の存在下反応させることにより、一般式
(XI)で表される化合物を得ることができる。
れるイソシアネートと一般式(XVI) で表される化合物を
常法により塩基の存在下反応させることにより、一般式
(XI)で表される化合物を得ることができる。
【００６９】塩基としては、例えばピリジン、４−(N,N
−ジメチルアミノ) ピリジン、キノリンなどがあげられ
る。本反応は無溶媒、又はテトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなど
のベンゼン系溶媒などから選択された溶媒中で行われ
る。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
−ジメチルアミノ) ピリジン、キノリンなどがあげられ
る。本反応は無溶媒、又はテトラヒドロフラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなど
のベンゼン系溶媒などから選択された溶媒中で行われ
る。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
【００７０】
【化６１】
【００７１】（一連の式において、A',n,B,Halは前記の
意味を有する) （第一工程）一般式(V) で表されるグリセリン誘導体を
ハロゲノギ酸フェニル(VIII)と常法により縮合反応せし
めて、一般式(XVII)で表される化合物を得る工程であ
る。
意味を有する) （第一工程）一般式(V) で表されるグリセリン誘導体を
ハロゲノギ酸フェニル(VIII)と常法により縮合反応せし
めて、一般式(XVII)で表される化合物を得る工程であ
る。
【００７２】本反応は、好ましくはトリエチルアミン、
ピリジンの如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムの如き水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
如きアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の如き水酸化アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
ピリジンの如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムの如き水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
如きアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の如き水酸化アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
【００７３】また本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどのベンゼン系溶媒、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
フラン、ジオキサンなどのエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどのベンゼン系溶媒、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
【００７４】（第二工程）第一工程で得られたジカーボ
ネート(XVII)を一般式(X) で表されるアミン体と反応さ
せ、一般式(XVIII) で表される化合物を得る工程であ
る。
ネート(XVII)を一般式(X) で表されるアミン体と反応さ
せ、一般式(XVIII) で表される化合物を得る工程であ
る。
【００７５】本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
【００７６】（第三工程）第二工程で得られたカルバモ
イル誘導体(XVIII) を一般式 H2N-A' (XIX) で表される
アミンと反応させ、一般式(XI)で表される化合物を得る
工程である。
イル誘導体(XVIII) を一般式 H2N-A' (XIX) で表される
アミンと反応させ、一般式(XI)で表される化合物を得る
工程である。
【００７７】本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
【００７８】
【化６２】
【００７９】
【化６３】
【００８０】（一連の式において、R14,n,A',B,R1,X は
前記の意味を有する) （第一工程）本工程は、一般式(XVIII) で表される化合
物を常法によりアシル化して一般式(XX)で表される化合
物を得る工程である。
前記の意味を有する) （第一工程）本工程は、一般式(XVIII) で表される化合
物を常法によりアシル化して一般式(XX)で表される化合
物を得る工程である。
【００８１】アシル化は、例えば R1OH （式中、R1はア
シル基を意味する) で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式(XVI
II)で表される化合物と反応させて、目的物質の一つで
ある一般式(III) で表される化合物とする。アセチル基
を導入する場合は、無水酢酸を用いることが好ましい結
果を与える。本反応は塩基の存在下に反応を行うことが
好ましい。
シル基を意味する) で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式(XVI
II)で表される化合物と反応させて、目的物質の一つで
ある一般式(III) で表される化合物とする。アセチル基
を導入する場合は、無水酢酸を用いることが好ましい結
果を与える。本反応は塩基の存在下に反応を行うことが
好ましい。
【００８２】（第二工程）一般式(XX)で表される化合物
を一般式H2N-A'(XIX) で表されるアミンと反応させ、一
般式(XXI) で表される化合物を得る工程である。
を一般式H2N-A'(XIX) で表されるアミンと反応させ、一
般式(XXI) で表される化合物を得る工程である。
【００８３】本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
【００８４】（第三工程）製造方法１の第二工程で記載
した方法と同様に四級塩化する工程である。
した方法と同様に四級塩化する工程である。
【００８５】製造方法３ 一般式（Ｉ）において、 Aが
【００８６】
【化６４】
【００８７】（式中、p,R5は前記の意味を有する) で示
される基である場合は、次の方法によっても製造するこ
とができる。
される基である場合は、次の方法によっても製造するこ
とができる。
【００８８】
【化６５】
【００８９】
【化６６】
【００９０】（一連の式において、R14,n,R5,p,B,R1,Ha
l,X は前記の意味を有する) （第一工程）一般式(XVIII) で表される化合物をスルフ
ァモイルフェニルアルキルアミン(XXIII) と反応させ、
一般式(XXIV)で表される化合物を得る工程である。
l,X は前記の意味を有する) （第一工程）一般式(XVIII) で表される化合物をスルフ
ァモイルフェニルアルキルアミン(XXIII) と反応させ、
一般式(XXIV)で表される化合物を得る工程である。
【００９１】本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
【００９２】（第二工程）第一工程で得られた一般式(X
XIV)で表される化合物を一般式(XXV) で表されるアルキ
ルハライドと反応させ、一般式(XXVI)で表される化合物
を得る工程である。
XIV)で表される化合物を一般式(XXV) で表されるアルキ
ルハライドと反応させ、一般式(XXVI)で表される化合物
を得る工程である。
【００９３】本反応は、好ましくは炭酸カリウムの如き
炭酸アルカリ類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
如き水酸化アルカリ類、トリエチルアミン、ピリジンの
如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムの如
き水素化アルカリ金属類などの塩基存在下に行う。
炭酸アルカリ類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
如き水酸化アルカリ類、トリエチルアミン、ピリジンの
如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムの如
き水素化アルカリ金属類などの塩基存在下に行う。
【００９４】また本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエ
ンなどのベンゼン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。反応温度は
氷冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択される。
フラン、ジオキサンなどのエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエ
ンなどのベンゼン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。反応温度は
氷冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択される。
【００９５】（第三工程）第二工程で得られた一般式(X
XVI)で表される化合物を常法によりアシル化して一般式
(XXVII) で表される化合物を得る工程である。
XVI)で表される化合物を常法によりアシル化して一般式
(XXVII) で表される化合物を得る工程である。
【００９６】アシル化は、例えば R1OH （式中、R1はア
シル基を意味する) で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式(XXV
I)で表される化合物と反応させて、一般式(XXVII) で表
される化合物とする。アセチル基を導入する場合は無水
酢酸を用いることが好ましい結果を与える。
シル基を意味する) で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式(XXV
I)で表される化合物と反応させて、一般式(XXVII) で表
される化合物とする。アセチル基を導入する場合は無水
酢酸を用いることが好ましい結果を与える。
【００９７】本反応は、好ましくはトリエチルアミン、
ピリジンの如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムの如き水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
如きアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の如き水酸化アルカリ類などの塩基の存在下に行う。ま
た本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒
中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温
度で適宜選択される。
ピリジンの如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムの如き水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
如きアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の如き水酸化アルカリ類などの塩基の存在下に行う。ま
た本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒
中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温
度で適宜選択される。
【００９８】（第四工程）本反応は、第三工程で得られ
た一般式(XXVII) で表される化合物を常法により四級塩
化し、本発明化合物(XXVIII)を得る工程である。即ち、
一般式(XXVII) で表される化合物を一般式 R14-X（R14,
X は前記の意味を有する) で表される化合物と反応させ
ることにより、容易に目的物質である本発明化合物(XXV
III)を得る。ハロゲン化水素塩とする際は R14-Hal(R14
＝H)と反応させる。
た一般式(XXVII) で表される化合物を常法により四級塩
化し、本発明化合物(XXVIII)を得る工程である。即ち、
一般式(XXVII) で表される化合物を一般式 R14-X（R14,
X は前記の意味を有する) で表される化合物と反応させ
ることにより、容易に目的物質である本発明化合物(XXV
III)を得る。ハロゲン化水素塩とする際は R14-Hal(R14
＝H)と反応させる。
【００９９】本反応は好ましくは窒素中遮光して行わ
れ、無溶媒、又は例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
れ、無溶媒、又は例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
【０１００】製造方法４ 一般式（Ｉ）において、 Aが
【０１０１】
【化６７】
【０１０２】（式中、 yは０〜６を意味し、R13 は水素
原子又はアルキル基を意味する) で示される基である場
合は、次の方法によっても製造することができる。
原子又はアルキル基を意味する) で示される基である場
合は、次の方法によっても製造することができる。
【０１０３】
【化６８】
【０１０４】
【化６９】
【０１０５】（一連の式において、R14,n,R1,y,R13,B,H
alは前記の意味を有する） （第一工程）カルバモイル誘導体(XVIII) を一般式(XXI
X)で表されるアミンと反応させ、一般式(XXX) で表され
る化合物を得る工程である。
alは前記の意味を有する） （第一工程）カルバモイル誘導体(XVIII) を一般式(XXI
X)で表されるアミンと反応させ、一般式(XXX) で表され
る化合物を得る工程である。
【０１０６】本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
【０１０７】（第二工程）一般式(XXX) で表される化合
物をハロゲノギ酸フェニル(VIII)と常法により縮合反応
せしめて、一般式(XXXI)で表される化合物を得る工程で
ある。
物をハロゲノギ酸フェニル(VIII)と常法により縮合反応
せしめて、一般式(XXXI)で表される化合物を得る工程で
ある。
【０１０８】本反応は、好ましくはトリエチルアミン、
ピリジンの如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムの如き水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
如きアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の如き水酸化アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
ピリジンの如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムの如き水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
如きアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の如き水酸化アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
【０１０９】また本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどのベンゼン系溶媒、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
フラン、ジオキサンなどのエーテル類、塩化メチレン、
クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどのベンゼン系溶媒、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。
反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
【０１１０】（第三工程）第二工程で得られたカルバモ
イル誘導体 (XXXI)を一般式(XXXII) で表されるアミン
と反応させ、一般式(XXXIII)で表される化合物を得る工
程である。
イル誘導体 (XXXI)を一般式(XXXII) で表されるアミン
と反応させ、一般式(XXXIII)で表される化合物を得る工
程である。
【０１１１】本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
化メチレンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒中で行われる。反応温度は室温乃至溶媒沸点まで
の温度で適宜選択される。
【０１１２】（第四工程）第三工程で得られた一般式(X
XXIII)で表される化合物を常法によりアシル化して一般
式(XXXIV) で表される化合物を得る工程である。
XXIII)で表される化合物を常法によりアシル化して一般
式(XXXIV) で表される化合物を得る工程である。
【０１１３】アシル化は、例えば R1OH （式中、R1はア
シル基を意味する) で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式(XXX
III)で表される化合物と反応させて、一般式(XXXIV) で
表される化合物とする。アセチル基を導入する場合は無
水酢酸を用いることが好ましい結果を与える。
シル基を意味する) で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式(XXX
III)で表される化合物と反応させて、一般式(XXXIV) で
表される化合物とする。アセチル基を導入する場合は無
水酢酸を用いることが好ましい結果を与える。
【０１１４】本反応は、好ましくはトリエチルアミン、
ピリジンの如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムの如き水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
如きアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の如き水酸化アルカリ類などの塩基の存在下に行う。ま
た本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒
中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温
度で適宜選択される。
ピリジンの如きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムの如き水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの
如きアルカリ金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
の如き水酸化アルカリ類などの塩基の存在下に行う。ま
た本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロフランなどのエ
ーテル類、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン
系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒
中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温
度で適宜選択される。
【０１１５】（第五工程）本反応は、第四工程で得られ
た一般式(XXXIV) で表される化合物を常法により四級塩
化し、本発明化合物(XXXV)を得る工程である。即ち、一
般式(XXXIV) で表される化合物を一般式 R14-X（R14,X
は前記の意味を有する) で表される化合物と反応させる
ことにより、容易に目的物質である本発明化合物(XXXV)
を得る。ハロゲン化水素塩とする際はR14-Hal (R14＝H)
と反応させる。
た一般式(XXXIV) で表される化合物を常法により四級塩
化し、本発明化合物(XXXV)を得る工程である。即ち、一
般式(XXXIV) で表される化合物を一般式 R14-X（R14,X
は前記の意味を有する) で表される化合物と反応させる
ことにより、容易に目的物質である本発明化合物(XXXV)
を得る。ハロゲン化水素塩とする際はR14-Hal (R14＝H)
と反応させる。
【０１１６】本反応は好ましくは窒素中遮光して行わ
れ、無溶媒、又は例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
れ、無溶媒、又は例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶
媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから
選択された溶媒中で行われる。反応温度は氷冷下乃至溶
媒沸点まで適宜選ばれる。
【０１１７】なお、上記の製造方法４において、一般式
(XXXIII)で表される化合物は、次に示す方法により一
般式(XXX) で表される化合物より直接製造することも可
能である。
(XXXIII)で表される化合物は、次に示す方法により一
般式(XXX) で表される化合物より直接製造することも可
能である。
【０１１８】
【化７０】
【０１１９】（式中、R13,n,y,B は前記の意味を有す
る) 即ち、一般式(XXX) で表される化合物を一般式(XXXVI)
で表される化合物と反応させ、一般式(XXXIII)で表され
る化合物を得ることができる。
る) 即ち、一般式(XXX) で表される化合物を一般式(XXXVI)
で表される化合物と反応させ、一般式(XXXIII)で表され
る化合物を得ることができる。
【０１２０】本反応は好ましくはトリエチルアミン、ピ
リジンの如きアミン類の存在下に行う。また本反応は、
無溶媒、又はテトラヒドロフランなどのエーテル類、塩
化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ベン
ゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中で行われる。反
応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択され
る。
リジンの如きアミン類の存在下に行う。また本反応は、
無溶媒、又はテトラヒドロフランなどのエーテル類、塩
化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、ベン
ゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中で行われる。反
応温度は氷冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択され
る。
【０１２１】次に本発明の効果を詳述するために、実験
例を以下に示す。実験例１ ヒト血小板ＰＡＦ惹起凝集に対する作用 ＜方法＞２週間以上薬物を服用していない健常成人男子
の前腕静脈から採血し、これに3.8％クエン酸ナトリウ
ム溶液を 1/9容添加した。遠心法により多血小板血漿
（ＰＲＰ）を調製した。血小板能の測定はボーン(Born)
らの光学的方法に準じて血小板凝集メーターヘマトレー
サーII（登録商標、二光バイオサイエンス社）を用いて
測定した。ＰＡＦはTyrode溶液(Ca++(+))に溶解し、最
大凝集を起こす最低の濃度を用いた。被験化合物は生理
食塩水に溶解した。
例を以下に示す。実験例１ ヒト血小板ＰＡＦ惹起凝集に対する作用 ＜方法＞２週間以上薬物を服用していない健常成人男子
の前腕静脈から採血し、これに3.8％クエン酸ナトリウ
ム溶液を 1/9容添加した。遠心法により多血小板血漿
（ＰＲＰ）を調製した。血小板能の測定はボーン(Born)
らの光学的方法に準じて血小板凝集メーターヘマトレー
サーII（登録商標、二光バイオサイエンス社）を用いて
測定した。ＰＡＦはTyrode溶液(Ca++(+))に溶解し、最
大凝集を起こす最低の濃度を用いた。被験化合物は生理
食塩水に溶解した。
【０１２２】被験化合物の凝集抑制活性は、対照ＰＲＰ
におけるＰＡＦによる最大の光透過度（最大凝集率）に
対する抑制率から求めた。その抑制曲線よりIC50を求め
た。結果を表１に示す。被験化合物の欄の番号は下記に
示す実施例番号の化合物である。 ＜結果＞
におけるＰＡＦによる最大の光透過度（最大凝集率）に
対する抑制率から求めた。その抑制曲線よりIC50を求め
た。結果を表１に示す。被験化合物の欄の番号は下記に
示す実施例番号の化合物である。 ＜結果＞
【０１２３】
【表１】
【０１２４】実験例２ ヒト血小板を用いたＰＡＦ receptor binding assay
（受容体拮抗活性） ＜方法＞男子健常人より常法に従って血小板を得、バイ
ンディングバッファー(BindingBuffer)（10mM phosphat
e-bufferes saline(pH 7.0), 0.1%(w/v)BSA, 0.9mM CaC
l2 を含む) に108 ケ/460μｌとなるように懸濁する。
ポリプロピレンチューブに被験化合物のバインディング
バッファー溶液20μｌを加え、血小板液460 μｌをさら
に加えて、Vortex後37℃で６分間インキュベート(incub
ate)する。次いで3H-ＰＡＦのバインディングバッファ
ー溶液20μｌ(final 3H-ＰＡＦ濃度 0.6〜1nM)を加え、
６分間インキュベートし、氷冷した洗浄溶液(0.1%(W/V)
のＢＳＡを含むSaline）３mlを加え反応を停止し、ガラ
スフィルター(WhatmanGF/C) 上で吸引濾過する。ガラス
フィルターを乾燥後、液体シンチレーションカウンター
にて放射能を測定する。Inhibition %は下記の式に従っ
て計算し、IC50は図より内挿して求めた。
（受容体拮抗活性） ＜方法＞男子健常人より常法に従って血小板を得、バイ
ンディングバッファー(BindingBuffer)（10mM phosphat
e-bufferes saline(pH 7.0), 0.1%(w/v)BSA, 0.9mM CaC
l2 を含む) に108 ケ/460μｌとなるように懸濁する。
ポリプロピレンチューブに被験化合物のバインディング
バッファー溶液20μｌを加え、血小板液460 μｌをさら
に加えて、Vortex後37℃で６分間インキュベート(incub
ate)する。次いで3H-ＰＡＦのバインディングバッファ
ー溶液20μｌ(final 3H-ＰＡＦ濃度 0.6〜1nM)を加え、
６分間インキュベートし、氷冷した洗浄溶液(0.1%(W/V)
のＢＳＡを含むSaline）３mlを加え反応を停止し、ガラ
スフィルター(WhatmanGF/C) 上で吸引濾過する。ガラス
フィルターを乾燥後、液体シンチレーションカウンター
にて放射能を測定する。Inhibition %は下記の式に従っ
て計算し、IC50は図より内挿して求めた。
【０１２５】
【数１】
【０１２６】 total binding;薬物あるいはＰＡＦ濃度０の時のdpm. non-specific binding;cold PAF 10-5M 加えた時のdpm. 結果を表２に示す。 ＜結果＞
【０１２７】
【表２】
【０１２８】実験例３ ＰＡＦ致死作用に対する予防効果 ＜方法＞体重30ｇ前後のＩＣＲ系雄性マウスに生理食塩
水あるいは被験化合物を静注し、15分後にＰＡＦ 100μ
g/kgを静注した。その後１時間で生死を判定し、生存率
を出した。結果を表３に示す。 ＜結果＞
水あるいは被験化合物を静注し、15分後にＰＡＦ 100μ
g/kgを静注した。その後１時間で生死を判定し、生存率
を出した。結果を表３に示す。 ＜結果＞
【０１２９】
【表３】
【０１３０】注）生存率の欄の％は生存率を示す。分数
の分母はマウスの数を示し、分子は死亡したマウスの数
を示す。
の分母はマウスの数を示し、分子は死亡したマウスの数
を示す。
【０１３１】実験例４ ＰＡＦ誘発血圧降下に対する作用 ＜方法＞Pento 麻酔下(50mg/kg, i.p.) のF344 ratの頸
動脈及び頸静脈にカニュレーションし、動脈から血圧を
測定し、静脈からＰＡＦあるいは被験化合物を0.5ml/kg
で投与した。ＰＡＦ 0.5μg/kgを投与３分後に被験化合
物を投与し、その拮抗作用を評価した。結果を表４に示
す。表４における回復率とは、降圧に対する被験化合物
による昇圧の割合である。 ＜結果＞
動脈及び頸静脈にカニュレーションし、動脈から血圧を
測定し、静脈からＰＡＦあるいは被験化合物を0.5ml/kg
で投与した。ＰＡＦ 0.5μg/kgを投与３分後に被験化合
物を投与し、その拮抗作用を評価した。結果を表４に示
す。表４における回復率とは、降圧に対する被験化合物
による昇圧の割合である。 ＜結果＞
【０１３２】
【表４】
【０１３３】実験例５ 水溶液中安定性の測定 一連の化合物は水溶液中において中性〜アルカリ性で不
安定であり、これは主にＮ−アセチル又はＮ−ベンゾイ
ルの加水分解反応によるものである。いくつかの化合物
においてpH−分解速度プロファイルを調べたところ、い
ずれも同様なパターンを示したため、比較的分解しやす
いpH 7.4, 37℃における分解速度定数を求め、化合物間
の安定性の相対比較を行った。
安定であり、これは主にＮ−アセチル又はＮ−ベンゾイ
ルの加水分解反応によるものである。いくつかの化合物
においてpH−分解速度プロファイルを調べたところ、い
ずれも同様なパターンを示したため、比較的分解しやす
いpH 7.4, 37℃における分解速度定数を求め、化合物間
の安定性の相対比較を行った。
【０１３４】＜実験方法＞検体水溶液（1mg/ml）１容に
対し、緩衝液(0.5M リン酸ナトリウム、pH 7.4）９容を
加え、37℃に保存した。経時的にサンプリングを行い、
逆相高速液体クロマトグラフィーにより、未変化体残存
率を測定した。殆どの化合物は一次分解速度式により近
似されるので、最小二乗法により分解速度定数を求め
た。結果を表５に示す。 ＜結果＞
対し、緩衝液(0.5M リン酸ナトリウム、pH 7.4）９容を
加え、37℃に保存した。経時的にサンプリングを行い、
逆相高速液体クロマトグラフィーにより、未変化体残存
率を測定した。殆どの化合物は一次分解速度式により近
似されるので、最小二乗法により分解速度定数を求め
た。結果を表５に示す。 ＜結果＞
【０１３５】
【表５】
【０１３６】上記の実験例により本発明化合物は、優れ
たＰＡＦ抑制作用を有することが明らかである。更に、
本発明化合物は、抗ＰＡＦ作用の持続性に優れ、かつ安
定性においても優れていることが判明しており、本発明
の価値は高い。
たＰＡＦ抑制作用を有することが明らかである。更に、
本発明化合物は、抗ＰＡＦ作用の持続性に優れ、かつ安
定性においても優れていることが判明しており、本発明
の価値は高い。
【０１３７】従って、本発明化合物は、ＰＡＦに起因す
るあらゆる疾患の治療・予防に有効である。代表的な疾
患をあげれば、血栓症、脳卒中（脳出血、脳血栓）、心
筋梗塞、狭心症、ヒトの血管内凝固症候群（ＤＩＣ）、
血栓性静脈炎、糸球体腎炎、アナフィラキシーショッ
ク、出血性ショック、アレルギー疾患などの治療・予防
剤として有用である。
るあらゆる疾患の治療・予防に有効である。代表的な疾
患をあげれば、血栓症、脳卒中（脳出血、脳血栓）、心
筋梗塞、狭心症、ヒトの血管内凝固症候群（ＤＩＣ）、
血栓性静脈炎、糸球体腎炎、アナフィラキシーショッ
ク、出血性ショック、アレルギー疾患などの治療・予防
剤として有用である。
【０１３８】本発明化合物を抗ＰＡＦ剤として投与する
場合、散剤、顆粒剤、カプセル剤、シロップ剤などとし
て経口的に投与してもよいし、また坐剤、注射剤、外用
剤、点滴剤として非経口的に投与してもよいが、本発明
の場合は、通常は注射剤又は点滴剤として投与すること
が好ましい。
場合、散剤、顆粒剤、カプセル剤、シロップ剤などとし
て経口的に投与してもよいし、また坐剤、注射剤、外用
剤、点滴剤として非経口的に投与してもよいが、本発明
の場合は、通常は注射剤又は点滴剤として投与すること
が好ましい。
【０１３９】投与量は、疾患の種類、症状の程度、年令
などにより著しく異なるが、点滴注射剤として投与する
場合は、約0.01〜10mg/kg/hr、好ましくは0.03〜５mg/k
g/hrを投与する。また、静脈注射剤として投与する場合
は、通常成人１日あたり約 0.001〜50mg/kg 、好ましく
は約 0.001〜30mg/kg 、更に好ましくは0.001 〜５mg/k
g 、更に好ましくは 0.003〜３mg/kg を１日１〜数回に
わけて投与する。
などにより著しく異なるが、点滴注射剤として投与する
場合は、約0.01〜10mg/kg/hr、好ましくは0.03〜５mg/k
g/hrを投与する。また、静脈注射剤として投与する場合
は、通常成人１日あたり約 0.001〜50mg/kg 、好ましく
は約 0.001〜30mg/kg 、更に好ましくは0.001 〜５mg/k
g 、更に好ましくは 0.003〜３mg/kg を１日１〜数回に
わけて投与する。
【０１４０】経口・非経口投与のための製剤化は、通常
の製薬的に許容できる担体を用い、常法により製造す
る。注射剤、点滴剤などを調製する場合は、主薬に必要
によりpH調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添
加し、必要ならば凍結乾燥などを行って、常法により皮
下・筋肉内・静脈内用注射剤、点滴注射剤とする。
の製薬的に許容できる担体を用い、常法により製造す
る。注射剤、点滴剤などを調製する場合は、主薬に必要
によりpH調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添
加し、必要ならば凍結乾燥などを行って、常法により皮
下・筋肉内・静脈内用注射剤、点滴注射剤とする。
【０１４１】
【実施例】次に本発明の代表的な実施例を掲げるが、本
発明がそれらにのみ限定されることがないことは言うま
でもない。なお、実施例における化学構造式において、
Meはメチル基を意味し、Etはエチル基を意味し、Phはフ
ェニル基を意味する。
発明がそれらにのみ限定されることがないことは言うま
でもない。なお、実施例における化学構造式において、
Meはメチル基を意味し、Etはエチル基を意味し、Phはフ
ェニル基を意味する。
【０１４２】実施例１ １−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−メトキシ
−３−(3,4,5−トリメトキシ）フェニルカルバモイルオ
キシプロポキシ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウ
ムヨージド
−３−(3,4,5−トリメトキシ）フェニルカルバモイルオ
キシプロポキシ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウ
ムヨージド
【０１４３】
【化７１】
【０１４４】(1) ２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(3,4,5−ト
リメトキシ）フェニルカルバモイルグリセリンの合成
リメトキシ）フェニルカルバモイルグリセリンの合成
【０１４５】
【化７２】
【０１４６】3,4,5 −トリメトキシアニリン18.3g のト
ルエン溶液(600ml）をクロロギ酸トリクロロメチル48ml
のトルエン溶液(140ml）に加え、３時間還流した。冷
後、溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留(115℃／１mmHg）す
ることにより3,4,5 −トリメトキシフェニルイソシアナ
ート15.53gを得た。
ルエン溶液(600ml）をクロロギ酸トリクロロメチル48ml
のトルエン溶液(140ml）に加え、３時間還流した。冷
後、溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留(115℃／１mmHg）す
ることにより3,4,5 −トリメトキシフェニルイソシアナ
ート15.53gを得た。
【０１４７】このうち4.1gを取り、２−メトキシ−1,3
−プロパンジオール2.1g、ピリジン21mlとともに窒素雰
囲気中、室温で44時間撹拌した。溶媒を留去し、クロロ
ホルムに溶かし、希塩酸で洗い、水洗し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で洗い、水洗した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を除いて得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘ
キサン＝１：１）で精製することにより、目的物2.55g
を得た。
−プロパンジオール2.1g、ピリジン21mlとともに窒素雰
囲気中、室温で44時間撹拌した。溶媒を留去し、クロロ
ホルムに溶かし、希塩酸で洗い、水洗し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で洗い、水洗した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を除いて得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘ
キサン＝１：１）で精製することにより、目的物2.55g
を得た。
【０１４８】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；2.34(m,1
H), 3.36〜3.94(m,3H), 3.50(s,3H), 3.80(s,3H), 3.84
(s,6H),4.32(m,2H),6.66(s,2H), 6.80(m,1H) (2) ２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−(2−ピリジル）メチルカ
ルバモイル−１−Ｏ−（3,4,5−トリメトキシ）フェニ
ルカルバモイルグリセリンの合成
H), 3.36〜3.94(m,3H), 3.50(s,3H), 3.80(s,3H), 3.84
(s,6H),4.32(m,2H),6.66(s,2H), 6.80(m,1H) (2) ２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−(2−ピリジル）メチルカ
ルバモイル−１−Ｏ−（3,4,5−トリメトキシ）フェニ
ルカルバモイルグリセリンの合成
【０１４９】
【化７３】
【０１５０】(1) で得られた２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−
(3,4,5−トリメトキシ) フェニルカルボモイルグリセリ
ン1.70g 、ピリジン0.95g 、塩化メチレン60mlの混合物
に氷冷下クロロギ酸フェニル1.10g を滴下し30分間撹拌
した。反応液を１％炭酸水素ナトリウム水溶液で２回洗
い、水洗したのち硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得た油状物を２−（アミノメチル）ピリジン2.
38g のクロロホルム溶液（80ml）に溶解させ、80℃で48
時間撹拌した。冷後、溶媒を留去し残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−
ヘキサン＝１：１）で精製することにより目的物1.41g
を得た。
(3,4,5−トリメトキシ) フェニルカルボモイルグリセリ
ン1.70g 、ピリジン0.95g 、塩化メチレン60mlの混合物
に氷冷下クロロギ酸フェニル1.10g を滴下し30分間撹拌
した。反応液を１％炭酸水素ナトリウム水溶液で２回洗
い、水洗したのち硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得た油状物を２−（アミノメチル）ピリジン2.
38g のクロロホルム溶液（80ml）に溶解させ、80℃で48
時間撹拌した。冷後、溶媒を留去し残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−
ヘキサン＝１：１）で精製することにより目的物1.41g
を得た。
【０１５１】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；3.49(s,3
H), 3.52〜3.92(m,1H), 3.80(s, 3H), 3.85(s,6H), 4.2
6(m,4H),4.50(d,J=5Hz,2H), 5.76〜6.04(m,1H), 6.67
(s,2H), 6.88(br.S,1H),7.06〜7.32(m,2H), 7.46〜7.78
(m,1H), 8.52(m,1H) (3) ３−Ｏ−｛Ｎ−アセチル−Ｎ−(2−ピリジル) メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−（3,4,5
−トリメトキシ）フェニルカルバモイルグリセリンの合
成
H), 3.52〜3.92(m,1H), 3.80(s, 3H), 3.85(s,6H), 4.2
6(m,4H),4.50(d,J=5Hz,2H), 5.76〜6.04(m,1H), 6.67
(s,2H), 6.88(br.S,1H),7.06〜7.32(m,2H), 7.46〜7.78
(m,1H), 8.52(m,1H) (3) ３−Ｏ−｛Ｎ−アセチル−Ｎ−(2−ピリジル) メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−（3,4,5
−トリメトキシ）フェニルカルバモイルグリセリンの合
成
【０１５２】
【化７４】
【０１５３】(2) で得られた２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−
(2−ピリジル）メチルカルバモイル−１−Ｏ−(3,4,5−
トリメトキシ）フェニルカルバモイルグリセリン1.30g
、無水酢酸30g 、ピリジン30mlの混合物を窒素雰囲気
中 110℃で15時間撹拌した。冷後、溶媒を留去し残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精製することによ
り、目的物0.87g を得た。
(2−ピリジル）メチルカルバモイル−１−Ｏ−(3,4,5−
トリメトキシ）フェニルカルバモイルグリセリン1.30g
、無水酢酸30g 、ピリジン30mlの混合物を窒素雰囲気
中 110℃で15時間撹拌した。冷後、溶媒を留去し残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精製することによ
り、目的物0.87g を得た。
【０１５４】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；2.62(s,3
H), 3.34(s,3H), 3.50(m,1H), 3.81(s,3H), 3.82(s,6
H),3.90〜4.18(m,2H), 4.29(d,J=5Hz,2H), 5.12(s,2H),
6.75(s,2H),6.98〜7.30(m,2H), 7.48〜7.90(m,2H), 8.
36〜8.54(m,1H) (4) １−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−メト
キシ−３−(3,4,5−トリメトキシ）フェニルカルバモイ
ルオキシ｝プロポキシカルボニル〕アミノメチルピリジ
ニウムヨージドの合成
H), 3.34(s,3H), 3.50(m,1H), 3.81(s,3H), 3.82(s,6
H),3.90〜4.18(m,2H), 4.29(d,J=5Hz,2H), 5.12(s,2H),
6.75(s,2H),6.98〜7.30(m,2H), 7.48〜7.90(m,2H), 8.
36〜8.54(m,1H) (4) １−エチル−２−〔Ｎ−アセチル−Ｎ−｛２−メト
キシ−３−(3,4,5−トリメトキシ）フェニルカルバモイ
ルオキシ｝プロポキシカルボニル〕アミノメチルピリジ
ニウムヨージドの合成
【０１５５】
【化７５】
【０１５６】(3) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−アセチル−
Ｎ−(2−ピリジル) メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メ
チル−１−Ｏ−(3,4,5−トリメトキシ）フェニルカルバ
モイルグリセリン0.67g をヨウ化エチル25mlに溶かし、
70℃で18時間窒素雰囲気中、遮光して還流した。冷後、
沈澱した固型物を取り、アセトン−エーテルで２回再沈
澱することにより目的物0.2gを得た。
Ｎ−(2−ピリジル) メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メ
チル−１−Ｏ−(3,4,5−トリメトキシ）フェニルカルバ
モイルグリセリン0.67g をヨウ化エチル25mlに溶かし、
70℃で18時間窒素雰囲気中、遮光して還流した。冷後、
沈澱した固型物を取り、アセトン−エーテルで２回再沈
澱することにより目的物0.2gを得た。
【０１５７】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；1.65(t,J=8
Hz,3H), 2.67(s,3H), 3.43(s,3H), 3.62〜3.88(m,1H),
3.80(s,3H), 3.84(s,6H), 4.10(m,2H), 4.52(m,2H), 4.
96(m,2H),5.45(s,2H), 6.89(s,2H), 7.72〜7.97(m,3H),
8.28〜8.52(m,1H),9.07〜9.22(m,1H)実施例２ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−(2−フルオレンアミノ）
カルボニルオキシ−２−メトキシプロピルオキシ｝カル
ボニル−Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル〕アミノメチル
ピリジニウムクロリド
Hz,3H), 2.67(s,3H), 3.43(s,3H), 3.62〜3.88(m,1H),
3.80(s,3H), 3.84(s,6H), 4.10(m,2H), 4.52(m,2H), 4.
96(m,2H),5.45(s,2H), 6.89(s,2H), 7.72〜7.97(m,3H),
8.28〜8.52(m,1H),9.07〜9.22(m,1H)実施例２ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−(2−フルオレンアミノ）
カルボニルオキシ−２−メトキシプロピルオキシ｝カル
ボニル−Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル〕アミノメチル
ピリジニウムクロリド
【０１５８】
【化７６】
【０１５９】(1) ２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−（２
−ピリジル）メチル｝カルバモイル−１−Ｏ−（テトラ
ヒドロ−2H−ピラン−２−イル）グリセリンの合成
−ピリジル）メチル｝カルバモイル−１−Ｏ−（テトラ
ヒドロ−2H−ピラン−２−イル）グリセリンの合成
【０１６０】
【化７７】
【０１６１】１−Ｏ−（テトラヒドロ−2H−ピラン−２
−イル）−２−Ｏ−メチルグリセリンをピリジン250 ml
に溶かし、氷冷下でクロロギ酸フェニルを撹拌しながら
滴下した。２時間後、希塩酸に加え、エーテル300 mlで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残
渣に２−アミノメチルピリジン60mlを加え室温で１時間
反応させた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精
製し目的物46g を得た。
−イル）−２−Ｏ−メチルグリセリンをピリジン250 ml
に溶かし、氷冷下でクロロギ酸フェニルを撹拌しながら
滴下した。２時間後、希塩酸に加え、エーテル300 mlで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残
渣に２−アミノメチルピリジン60mlを加え室温で１時間
反応させた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精
製し目的物46g を得た。
【０１６２】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；1.30〜2.00
(m,6H), 3.26〜3.94(m,5H), 3.40(s,3H), 4.04〜4.26
(m,2H),4.40(d,J=6Hz,2H), 4.55(m,1H), 5.96(m,1H),
6.96〜7.40(m,2H),7.55(m,1H), 8.42(m,1H) (2) ２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−〔Ｎ−（２−ピリジル）
メチル〕カルバモイルグリセリンの合成
(m,6H), 3.26〜3.94(m,5H), 3.40(s,3H), 4.04〜4.26
(m,2H),4.40(d,J=6Hz,2H), 4.55(m,1H), 5.96(m,1H),
6.96〜7.40(m,2H),7.55(m,1H), 8.42(m,1H) (2) ２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−〔Ｎ−（２−ピリジル）
メチル〕カルバモイルグリセリンの合成
【０１６３】
【化７８】
【０１６４】(1) で得られた２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−
｛Ｎ−(2−ピリジル）メチル｝カルバモイル−１−Ｏ−
（テトラヒドロ−2H−ピラン−２−イル）グリセリンを
メタノール200 mlに溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸30
g を加え５時間反応させた。反応液を100 mlまで濃縮
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液200 mlに加え、酢酸
エチルで３回抽出した。有機層を集め、減圧濃縮、水層
も減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて濾過、減圧濃
縮した。残渣を合わせてシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；メタノール：酢酸エチル＝５：95）
で精製して目的物27g を得た。
｛Ｎ−(2−ピリジル）メチル｝カルバモイル−１−Ｏ−
（テトラヒドロ−2H−ピラン−２−イル）グリセリンを
メタノール200 mlに溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸30
g を加え５時間反応させた。反応液を100 mlまで濃縮
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液200 mlに加え、酢酸
エチルで３回抽出した。有機層を集め、減圧濃縮、水層
も減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて濾過、減圧濃
縮した。残渣を合わせてシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；メタノール：酢酸エチル＝５：95）
で精製して目的物27g を得た。
【０１６５】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；3.13(br,1
H) 3.28〜3.80(m,3H), 3.42(s,3H), 4.20(d,J=5.4Hz,2
H),4.43(d,J=5.6Hz,2H), 6.16(br,1H), 7.00〜7.30(m,2
H) 7.60(m,1H),8.44(m,1H) (3) １−Ｏ−（２−フルオレンアミノ）カルボニル−２
−Ｏ−メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイルグリセリンの合成
H) 3.28〜3.80(m,3H), 3.42(s,3H), 4.20(d,J=5.4Hz,2
H),4.43(d,J=5.6Hz,2H), 6.16(br,1H), 7.00〜7.30(m,2
H) 7.60(m,1H),8.44(m,1H) (3) １−Ｏ−（２−フルオレンアミノ）カルボニル−２
−Ｏ−メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイルグリセリンの合成
【０１６６】
【化７９】
【０１６７】２−アミノフルオレン5.7g（31.2mmol）を
トルエン 100mlに懸濁し、TCF （クロロギ酸トリクロロ
メチルエステル）12.5g (62.9mmol)を加え、30分加熱還
流した。
トルエン 100mlに懸濁し、TCF （クロロギ酸トリクロロ
メチルエステル）12.5g (62.9mmol)を加え、30分加熱還
流した。
【０１６８】トルエンと過剰のTCF を留去し、反応物に
(2) で得られたアルコール体５ｇ（20.8mmol) のテトラ
ヒドロフラン溶液を加えた後、ピリジン20mlを加えた。
室温で１時間撹拌後、油浴中、50℃で30分、加熱した。
冷後、反応液に氷水 200ml、塩化メチレン 100mlを加
え、不溶物を吸引濾過し取り除いた。有機層を水洗、濃
縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；塩化メチレン：アセトン＝１：１）で精製し目的物
5.3gを得た。
(2) で得られたアルコール体５ｇ（20.8mmol) のテトラ
ヒドロフラン溶液を加えた後、ピリジン20mlを加えた。
室温で１時間撹拌後、油浴中、50℃で30分、加熱した。
冷後、反応液に氷水 200ml、塩化メチレン 100mlを加
え、不溶物を吸引濾過し取り除いた。有機層を水洗、濃
縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；塩化メチレン：アセトン＝１：１）で精製し目的物
5.3gを得た。
【０１６９】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；3.46(s,3
H), 3.64(m,1H), 3.83(s,2H), 4.00〜4.36(m,4H),4.46
(d,J=5.5Hz,2H), 6.98(br.1H), 7.00〜7.80(m,11H), 8.
46(m,1H) (4) １−Ｏ−（２−フルオレンアミノ）−３−Ｏ−｛Ｎ
−（２−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル）メ
チル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセリンの合成
H), 3.64(m,1H), 3.83(s,2H), 4.00〜4.36(m,4H),4.46
(d,J=5.5Hz,2H), 6.98(br.1H), 7.00〜7.80(m,11H), 8.
46(m,1H) (4) １−Ｏ−（２−フルオレンアミノ）−３−Ｏ−｛Ｎ
−（２−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル）メ
チル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセリンの合成
【０１７０】
【化８０】
【０１７１】(3) で得られた１−Ｏ−（２−フルオレン
アミノ）カルボニル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリンをピ
リジン51mlに加え室温で撹拌しながら２−メトキシ安息
香酸クロリドを滴下し、1.5時間反応させた。反応液を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mlに加え、塩化メチレ
ンで３回抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー （溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサ
ン＝２：１) で精製し目的物７g を得た。
アミノ）カルボニル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリンをピ
リジン51mlに加え室温で撹拌しながら２−メトキシ安息
香酸クロリドを滴下し、1.5時間反応させた。反応液を
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mlに加え、塩化メチレ
ンで３回抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー （溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサ
ン＝２：１) で精製し目的物７g を得た。
【０１７２】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；1.70(br,1
H), 3.07(s,3H), 3.10(m,1H), 3.85(s,3H), 3.88(bs.2
H),3.96(m,2H), 4.13(m,2H), 5.29(s,2H), 6.85〜7.85
(m,14H), 8.58(m,1H) (5) １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−(2−フルオレンアミ
ノ）カルボニルオキシ−２−メトキシプロピルオキシ｝
カルボニル−Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル〕アミノ
メチルピリジニウムクロリドの合成
H), 3.07(s,3H), 3.10(m,1H), 3.85(s,3H), 3.88(bs.2
H),3.96(m,2H), 4.13(m,2H), 5.29(s,2H), 6.85〜7.85
(m,14H), 8.58(m,1H) (5) １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−(2−フルオレンアミ
ノ）カルボニルオキシ−２−メトキシプロピルオキシ｝
カルボニル−Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル〕アミノ
メチルピリジニウムクロリドの合成
【０１７３】
【化８１】
【０１７４】(4) で得られた１−Ｏ−（２−フルオレン
アミノ）−３−Ｏ−｛Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル
−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ
−メチルグリセリンをヨウ化エチル70mlに溶かし、24時
間加熱還流した。反応液を室温に戻し、濃縮乾固して残
渣をイオン交換樹脂〔アンバーライト IRA-410, Cl
-型〕（溶出溶媒；メタノール：水＝７：３）にて処理
し粗クロリド体8.5gを得た。この粗クロリド体をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノー
ル：塩化メチレン＝５：95）で精製し目的物7.1 g を得
た。
アミノ）−３−Ｏ−｛Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル
−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ
−メチルグリセリンをヨウ化エチル70mlに溶かし、24時
間加熱還流した。反応液を室温に戻し、濃縮乾固して残
渣をイオン交換樹脂〔アンバーライト IRA-410, Cl
-型〕（溶出溶媒；メタノール：水＝７：３）にて処理
し粗クロリド体8.5gを得た。この粗クロリド体をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノー
ル：塩化メチレン＝５：95）で精製し目的物7.1 g を得
た。
【０１７５】・1H−NMR (400MHz, CDCl3) δ；1.58(t,J
=7Hz,3H), 3.15(s,3H), 3.30(bs,2H), 3.31(m,1H), 3.8
9(s,3H),3.91(dd,J=12Hz,5Hz,1H), 4.07(m,1H), 4.20
(m,1H), 4.77(q,J=7Hz,2H),5.55(bs,2H), 7.07(t,J=7H
z,1H), 7.13(d,J=8Hz,1H), 7.26(t,J=7Hz,1H),7.35(t,J
=8Hz,1H), 7.42〜7.55(m,4H), 7.71(bs,1H), 7.79(m,2
H),8.02(d,J=8Hz,1H), 8.10(t,J=6Hz,1H), 8.67(t,J=8H
z,1H),9.16(d,J=6Hz,1H), 9.80(bs,1H) ・MS FAB ：６１０（Ｍ＋）実施例３ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３−（２−テトラヒドロフラニ
ル）メチル｝カルバモイルオキシプロポキシカルボニ
ル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
=7Hz,3H), 3.15(s,3H), 3.30(bs,2H), 3.31(m,1H), 3.8
9(s,3H),3.91(dd,J=12Hz,5Hz,1H), 4.07(m,1H), 4.20
(m,1H), 4.77(q,J=7Hz,2H),5.55(bs,2H), 7.07(t,J=7H
z,1H), 7.13(d,J=8Hz,1H), 7.26(t,J=7Hz,1H),7.35(t,J
=8Hz,1H), 7.42〜7.55(m,4H), 7.71(bs,1H), 7.79(m,2
H),8.02(d,J=8Hz,1H), 8.10(t,J=6Hz,1H), 8.67(t,J=8H
z,1H),9.16(d,J=6Hz,1H), 9.80(bs,1H) ・MS FAB ：６１０（Ｍ＋）実施例３ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３−（２−テトラヒドロフラニ
ル）メチル｝カルバモイルオキシプロポキシカルボニ
ル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
【０１７６】
【化８２】
【０１７７】（１） １，３ −Ｏ−ジフェニルオキシ
カルボニル−２−Ｏ−メチルグリセリンの合成
カルボニル−２−Ｏ−メチルグリセリンの合成
【０１７８】
【化８３】
【０１７９】２−メトキシ−1,3 −プロパンジオール20
g をピリジン 200mlに溶解し、氷冷、撹拌下、クロロ炭
酸フェニル52.6mlを30分で滴下した。２時間後、反応液
を４Ｎ−塩酸−水１リットルに加えエーテル抽出した。
有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し目的物
５２ｇ を得た。
g をピリジン 200mlに溶解し、氷冷、撹拌下、クロロ炭
酸フェニル52.6mlを30分で滴下した。２時間後、反応液
を４Ｎ−塩酸−水１リットルに加えエーテル抽出した。
有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、濃縮
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し目的物
５２ｇ を得た。
【０１８０】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；3.52(s,3
H), 3.76(m,1H), 4.34(m,2H), 4.40(m,2H), 7.00〜7.50
(m,10H) (2) ２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキシカルボニル−
３−Ｏ−｛Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル
グリセリンの合成
H), 3.76(m,1H), 4.34(m,2H), 4.40(m,2H), 7.00〜7.50
(m,10H) (2) ２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキシカルボニル−
３−Ｏ−｛Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル
グリセリンの合成
【０１８１】
【化８４】
【０１８２】(1) で得られた1,3 −Ｏ−ジフェニルオキ
シカルボニル−２−Ｏ−メチルグリセリン50g をクロロ
ホルム50mlに溶解し、室温撹拌下、２−（アミノメチ
ル）ピリジン14.9mlを滴下した。反応液を還流下７時間
加温した後、溶媒を濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝１：１）にて精製し、目的物29g を得た。
シカルボニル−２−Ｏ−メチルグリセリン50g をクロロ
ホルム50mlに溶解し、室温撹拌下、２−（アミノメチ
ル）ピリジン14.9mlを滴下した。反応液を還流下７時間
加温した後、溶媒を濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝１：１）にて精製し、目的物29g を得た。
【０１８３】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；3.53(s,3
H), 3.76(m,1H), 4.20〜4.42(m,4H), 4.51(d,J=5Hz,2
H),5.92(br,1H), 7.16〜7.56(m,7H), 7.70(m,1H), 8.56
(m,1H) (3) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチ
ル−１−Ｏ−フェノキシカルボニルグリセリンの合成
H), 3.76(m,1H), 4.20〜4.42(m,4H), 4.51(d,J=5Hz,2
H),5.92(br,1H), 7.16〜7.56(m,7H), 7.70(m,1H), 8.56
(m,1H) (3) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチ
ル−１−Ｏ−フェノキシカルボニルグリセリンの合成
【０１８４】
【化８５】
【０１８５】(2) で得られた２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−
フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピリジル）
メチル｝カルバモイルグリセリン16g をピリジン160 ml
に溶解し、室温にて２−メトキシ安息香酸クロリドを滴
下した。１時間撹拌後、冷飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、塩化メチレンにて抽出した。有機層を水洗後
濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて
精製し目的物21g を得た。
フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピリジル）
メチル｝カルバモイルグリセリン16g をピリジン160 ml
に溶解し、室温にて２−メトキシ安息香酸クロリドを滴
下した。１時間撹拌後、冷飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、塩化メチレンにて抽出した。有機層を水洗後
濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて
精製し目的物21g を得た。
【０１８６】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；3.24(s,3
H), 3.30(m,1H), 3.82(s,3H), 3.70〜4.10(m,4H), 5.20
(s,2H),6.70〜7.50(m,11H), 7.60(m,1H), 8.48(m,1H) (4) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2
−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−
１−Ｏ−（２−テトラヒドロフラニル）メチルカルバモ
イルグリセリンの合成
H), 3.30(m,1H), 3.82(s,3H), 3.70〜4.10(m,4H), 5.20
(s,2H),6.70〜7.50(m,11H), 7.60(m,1H), 8.48(m,1H) (4) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2
−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−
１−Ｏ−（２−テトラヒドロフラニル）メチルカルバモ
イルグリセリンの合成
【０１８７】
【化８６】
【０１８８】(3) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキシカルボニ
ルグリセリン１g 、テトラヒドロフルフリルアミン0.35
ｇ、クロロホルム30mlの混合物を12時間還流した。冷
後、溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
１）で精製することにより目的物0.40g を得た。
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキシカルボニ
ルグリセリン１g 、テトラヒドロフルフリルアミン0.35
ｇ、クロロホルム30mlの混合物を12時間還流した。冷
後、溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
１）で精製することにより目的物0.40g を得た。
【０１８９】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；1.70〜2.08
(m,4H), 2.84〜4.22(m,10H), 3.17(s,3H), 3.82(s,3H),
4.84〜5.28(br,1H), 5.18(s,2H), 6.76〜7.72(m,7H),
8.48(m,1H) (5) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（２−テトラヒドロフラ
ニルメチル｝カルバモイルオキシプロポキシカルボニ
ル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの合成
(m,4H), 2.84〜4.22(m,10H), 3.17(s,3H), 3.82(s,3H),
4.84〜5.28(br,1H), 5.18(s,2H), 6.76〜7.72(m,7H),
8.48(m,1H) (5) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（２−テトラヒドロフラ
ニルメチル｝カルバモイルオキシプロポキシカルボニ
ル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの合成
【０１９０】
【化８７】
【０１９１】(4) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキ
シ) ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(2−テトラヒドロフ
ラニル）メチルカルバモイルグリセリン0.4gをヨウ化エ
チル40mlに溶かし、窒素雰囲気中遮光して24時間還流し
た。冷後、溶媒を留去し、残渣をイオン交換樹脂〔アン
バーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７：３）で処理した後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレン
＝１：９）で精製し、目的物0.3 ｇを得た。
シ) ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(2−テトラヒドロフ
ラニル）メチルカルバモイルグリセリン0.4gをヨウ化エ
チル40mlに溶かし、窒素雰囲気中遮光して24時間還流し
た。冷後、溶媒を留去し、残渣をイオン交換樹脂〔アン
バーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７：３）で処理した後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレン
＝１：９）で精製し、目的物0.3 ｇを得た。
【０１９２】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；1.28〜2.12
(m,7H), 2.64〜4.28(m,10H), 3.18(s,3H), 3.88(s,3H),
4.92〜5.28(m,2H), 5.30〜5.70(m,1H), 5.49(s,2H), 6.
76〜7.08(m,2H),7.25〜7.55(m,2H), 7.80〜8.20(m,2H),
8.30〜8.56(m,1H), 9.88(m,1H)実施例４ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３−（３−オクタデシルオキシ）
プロピルカルバモイルオキシ｝プロポキシカルボニル〕
アミノメチルピリジニウムクロリド
(m,7H), 2.64〜4.28(m,10H), 3.18(s,3H), 3.88(s,3H),
4.92〜5.28(m,2H), 5.30〜5.70(m,1H), 5.49(s,2H), 6.
76〜7.08(m,2H),7.25〜7.55(m,2H), 7.80〜8.20(m,2H),
8.30〜8.56(m,1H), 9.88(m,1H)実施例４ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３−（３−オクタデシルオキシ）
プロピルカルバモイルオキシ｝プロポキシカルボニル〕
アミノメチルピリジニウムクロリド
【０１９３】
【化８８】
【０１９４】(1) ２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−（３−オク
タデシルオキシ）プロピルカルバモイル−３−Ｏ−(2−
ピリジル）メチルカルバモイルグリセリンの合成
タデシルオキシ）プロピルカルバモイル−３−Ｏ−(2−
ピリジル）メチルカルバモイルグリセリンの合成
【０１９５】
【化８９】
【０１９６】実施例３(2) で得られた２−Ｏ−メチル−
１−Ｏ−フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピ
リジル）メチル｝カルバモイルグリセリン2.86g 、３−
（オクタデシルオキシ）プロピルアミン2.6gをクロロホ
ルムに溶かして均一とした後、溶媒を留去し残渣を100
℃で一夜撹拌した。冷後、シリカゲルクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で
精製することにより目的物１g を得た。
１−Ｏ−フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピ
リジル）メチル｝カルバモイルグリセリン2.86g 、３−
（オクタデシルオキシ）プロピルアミン2.6gをクロロホ
ルムに溶かして均一とした後、溶媒を留去し残渣を100
℃で一夜撹拌した。冷後、シリカゲルクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で
精製することにより目的物１g を得た。
【０１９７】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；0.87(m,3
H), 1.00〜1.86(m,34H), 3.00〜3.74(m,6H), 3.39(s,3
H),3.90〜4.29(m,5H), 4.45(d,J=5Hz,2H), 4.98〜5.26
(br,1H),5.70〜5.96(br,1H), 6.98〜7.28(m,2H), 7.44
〜7.70(m,1H),8.34〜8.52(m,1H) (2) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチ
ル−１−Ｏ−（３−オクタデシルオキシ）プロピルカル
バモイルグリセリンの合成
H), 1.00〜1.86(m,34H), 3.00〜3.74(m,6H), 3.39(s,3
H),3.90〜4.29(m,5H), 4.45(d,J=5Hz,2H), 4.98〜5.26
(br,1H),5.70〜5.96(br,1H), 6.98〜7.28(m,2H), 7.44
〜7.70(m,1H),8.34〜8.52(m,1H) (2) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチ
ル−１−Ｏ−（３−オクタデシルオキシ）プロピルカル
バモイルグリセリンの合成
【０１９８】
【化９０】
【０１９９】(1) で得られた２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−
（３−オクタデシルオキシ）プロピルカルバモイル−３
−Ｏ−（２−ピリジル）メチルカルバモイルグリセリン
1.0gをテトラヒドロフラン20mlに溶かし、室温で水素化
カリウム0.2gを加え、30分間撹拌した。氷冷下、２−メ
トキシ安息香酸クロリド0.29g を加え、１時間撹拌し
た。反応液に酢酸0.2gを加え室温で30分間撹拌したの
ち、酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
で２回洗ったあと、２回水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサ
ン＝１：１）で精製することにより、目的物0.25g を得
た。
（３−オクタデシルオキシ）プロピルカルバモイル−３
−Ｏ−（２−ピリジル）メチルカルバモイルグリセリン
1.0gをテトラヒドロフラン20mlに溶かし、室温で水素化
カリウム0.2gを加え、30分間撹拌した。氷冷下、２−メ
トキシ安息香酸クロリド0.29g を加え、１時間撹拌し
た。反応液に酢酸0.2gを加え室温で30分間撹拌したの
ち、酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
で２回洗ったあと、２回水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサ
ン＝１：１）で精製することにより、目的物0.25g を得
た。
【０２００】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；0.88(m,3
H), 1.05〜1.90(m,34H), 3.06〜3.54(m,7H), 3.18(s,3
H),3.70〜3.90(m,2H), 3.81(s,3H), 3.92〜4.22(m,2H),
5.00〜5.26(br,1H),5.19(s,2H), 6.74〜7.73(m,7H),
8.48(m,1H) (3) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（３−オクタデシルオキ
シ）プロピルカルバモイルオキシ｝プロポキシカルボニ
ル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの合成
H), 1.05〜1.90(m,34H), 3.06〜3.54(m,7H), 3.18(s,3
H),3.70〜3.90(m,2H), 3.81(s,3H), 3.92〜4.22(m,2H),
5.00〜5.26(br,1H),5.19(s,2H), 6.74〜7.73(m,7H),
8.48(m,1H) (3) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（３−オクタデシルオキ
シ）プロピルカルバモイルオキシ｝プロポキシカルボニ
ル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの合成
【０２０１】
【化９１】
【０２０２】(2) で得られた３−Ｏ−〔Ｎ−(2−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル〕カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−（３−オクタデシル
オキシ）プロピルカルバモイルグリセリン0.25g をヨウ
化エチル30mlに溶かし、窒素雰囲気中遮光して48時間還
流した。冷後、溶媒を留去し残渣をイオン交換樹脂〔ア
ンバーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７：３）で処理したのち、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレ
ン＝１：９）で精製し凍結乾燥することにより、目的物
0.20g を得た。
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル〕カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−（３−オクタデシル
オキシ）プロピルカルバモイルグリセリン0.25g をヨウ
化エチル30mlに溶かし、窒素雰囲気中遮光して48時間還
流した。冷後、溶媒を留去し残渣をイオン交換樹脂〔ア
ンバーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７：３）で処理したのち、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレ
ン＝１：９）で精製し凍結乾燥することにより、目的物
0.20g を得た。
【０２０３】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；0.89(m,3
H), 1.09〜1.97(m,34H), 1.84(m,3H), 3.12〜3.62(m,7
H),3.27(s,3H), 3.73〜3.89(m,2H), 3.97(s,3H), 4.03
〜4.41(m,2H),5.31(m,2H), 5.52(m,1H), 5.62(s,2H),
6.90〜7.25(m,2H),7.45〜7.69(m,2H), 8.03〜8.30(m,2
H), 8.41〜8.62(m,1H), 10.29(m,1H)実施例５ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（10−N,N −ジメチルカ
ルバミルアミノ）デシルカルバモイルオキシ−２−メト
キシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
H), 1.09〜1.97(m,34H), 1.84(m,3H), 3.12〜3.62(m,7
H),3.27(s,3H), 3.73〜3.89(m,2H), 3.97(s,3H), 4.03
〜4.41(m,2H),5.31(m,2H), 5.52(m,1H), 5.62(s,2H),
6.90〜7.25(m,2H),7.45〜7.69(m,2H), 8.03〜8.30(m,2
H), 8.41〜8.62(m,1H), 10.29(m,1H)実施例５ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（10−N,N −ジメチルカ
ルバミルアミノ）デシルカルバモイルオキシ−２−メト
キシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
【０２０４】
【化９２】
【０２０５】(1) １−Ｏ−（10−N,N −ジメチルカルバ
ミルアミノ）デシルカルバモイル−２−Ｏ−メチル−３
−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリ
セリンの合成
ミルアミノ）デシルカルバモイル−２−Ｏ−メチル−３
−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリ
セリンの合成
【０２０６】
【化９３】
【０２０７】実施例３の(2) で得られた２−Ｏ−メチル
−１−Ｏ−フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−
ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリン1.5gをクロ
ロホルム15mlに溶かし、1,10−ジアミノデカン 1.0ｇを
加え60℃で30分間撹拌した。反応液を室温に戻し、トリ
エチルアミン２ml及びN,N −ジメチルカルバミルクロリ
ド1.2 mlを加え30分間反応させた。反応液を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液に加え、塩化メチレン20mlで３回抽
出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒；メタノール：酢酸エチル＝５：95）で精
製して目的物2.0gを得た。
−１−Ｏ−フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−
ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリン1.5gをクロ
ロホルム15mlに溶かし、1,10−ジアミノデカン 1.0ｇを
加え60℃で30分間撹拌した。反応液を室温に戻し、トリ
エチルアミン２ml及びN,N −ジメチルカルバミルクロリ
ド1.2 mlを加え30分間反応させた。反応液を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液に加え、塩化メチレン20mlで３回抽
出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒；メタノール：酢酸エチル＝５：95）で精
製して目的物2.0gを得た。
【０２０８】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；1.00〜1.72
(m,16H), 2.92(s,6H), 3.00〜3.33(m,4H), 3.47(s,3H),
3.64(m,1H), 4.08〜4.29(m,4H), 4.29〜4.50(m,1H), 4.
32(d,J=8Hz,2H),4.92(m,1H), 6.98(m,1H), 7.10〜7.39
(m,2H), 7.70(t,J=8Hz,1H),8.57(m,1H) (2) １−Ｏ−（N,N −ジメチルカルバミルアミノ）デシ
ルカルバモイル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾ
イル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２
−Ｏ−メチルグリセリンの合成
(m,16H), 2.92(s,6H), 3.00〜3.33(m,4H), 3.47(s,3H),
3.64(m,1H), 4.08〜4.29(m,4H), 4.29〜4.50(m,1H), 4.
32(d,J=8Hz,2H),4.92(m,1H), 6.98(m,1H), 7.10〜7.39
(m,2H), 7.70(t,J=8Hz,1H),8.57(m,1H) (2) １−Ｏ−（N,N −ジメチルカルバミルアミノ）デシ
ルカルバモイル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾ
イル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２
−Ｏ−メチルグリセリンの合成
【０２０９】
【化９４】
【０２１０】(1) で得られた１−Ｏ−（10−N,N −ジメ
チルカルバミルアミノ）デシルカルバモイル−２−Ｏ−
メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−（2 −ピリジル）メチル｝カル
バモイルグリセリン4.2gをピリジン40mlに溶かし、室温
で撹拌しながら２−メトキシ安息香酸クロリド1.5 mlを
加え30分間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液40mlに加え塩化メチレン40mlで３回抽出した。
有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；メタノール：酢酸エチル＝５：95）で精製し目
的物4.2gを得た。
チルカルバミルアミノ）デシルカルバモイル−２−Ｏ−
メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−（2 −ピリジル）メチル｝カル
バモイルグリセリン4.2gをピリジン40mlに溶かし、室温
で撹拌しながら２−メトキシ安息香酸クロリド1.5 mlを
加え30分間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液40mlに加え塩化メチレン40mlで３回抽出した。
有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；メタノール：酢酸エチル＝５：95）で精製し目
的物4.2gを得た。
【０２１１】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；1.04〜1.60
(m,16H), 2.80(s,6H), 2.90〜3.05(m,5H), 3.12(s,3H),
3.62〜3.80(m,2H), 3.75(s,3H), 3.87〜4.03(m,2H), 4.
20〜4.45(br,1H),4.65〜4.90(br,1H), 5.13(s,2H), 6.7
0〜7.70(m,7H), 8.43(m,1H) (3) １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（10−N,N −ジメチ
ルカルバミルアミノ）デシルカルバモイルオキシ−２−
メトキシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メト
キシ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
の合成
(m,16H), 2.80(s,6H), 2.90〜3.05(m,5H), 3.12(s,3H),
3.62〜3.80(m,2H), 3.75(s,3H), 3.87〜4.03(m,2H), 4.
20〜4.45(br,1H),4.65〜4.90(br,1H), 5.13(s,2H), 6.7
0〜7.70(m,7H), 8.43(m,1H) (3) １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（10−N,N −ジメチ
ルカルバミルアミノ）デシルカルバモイルオキシ−２−
メトキシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メト
キシ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
の合成
【０２１２】
【化９５】
【０２１３】(2) で得られた１−Ｏ−（N,N −ジメチル
カルバミルアミノ）デシルカルバモイル−３−Ｏ−｛Ｎ
−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセリン1.2gをヨ
ウ化エチル20mlに溶かし、２日間加熱還流した。反応液
を室温にして減圧濃縮し、残渣をイオン交換樹脂〔アン
バーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７：３）にて処理し、粗クロリド体1.5gを得
た。この粗クロリド体をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレン＝５：9
5）で精製し、目的物1.1gを得た。
カルバミルアミノ）デシルカルバモイル−３−Ｏ−｛Ｎ
−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセリン1.2gをヨ
ウ化エチル20mlに溶かし、２日間加熱還流した。反応液
を室温にして減圧濃縮し、残渣をイオン交換樹脂〔アン
バーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７：３）にて処理し、粗クロリド体1.5gを得
た。この粗クロリド体をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレン＝５：9
5）で精製し、目的物1.1gを得た。
【０２１４】・1H−NMR (90MHz,CDCl3) δ 1.04〜1.60(m,16H), 1.77(t,J=7Hz,3H), 2.88(s,6H),
2.94〜3.36(m,3H),3.20(s,3H), 3.52〜3.84(m,4H), 3.9
0(s,3H), 3.88〜4.26(m,2H),4.46(m,1H), 5.14(q,J=7H
z,2H), 5.20(m,1H), 5.52(br,2H), 7.00(m,2H),7.44(m,
2H), 8.06(m,2H), 8.47(m,1H), 10.1(m,1H)実施例６ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−エトキシカルボニ
ル）シクロヘキシルメチルカルバモイルオキシ−２−メ
トキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムヨージド
2.94〜3.36(m,3H),3.20(s,3H), 3.52〜3.84(m,4H), 3.9
0(s,3H), 3.88〜4.26(m,2H),4.46(m,1H), 5.14(q,J=7H
z,2H), 5.20(m,1H), 5.52(br,2H), 7.00(m,2H),7.44(m,
2H), 8.06(m,2H), 8.47(m,1H), 10.1(m,1H)実施例６ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−エトキシカルボニ
ル）シクロヘキシルメチルカルバモイルオキシ−２−メ
トキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−（２−メトキ
シ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムヨージド
【０２１５】
【化９６】
【０２１６】(1) １−Ｏ−（４−エトキシカルボニルシ
クロヘキシル）メチルカルバモイル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル）メチル｝
カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセリンの合成
クロヘキシル）メチルカルバモイル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル）メチル｝
カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセリンの合成
【０２１７】
【化９７】
【０２１８】実施例３(3) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキ
シカルボニルグリセリン1.0gを30mlのクロロホルムに溶
解し、４−アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸エチ
ルエステル塩酸塩0.5g、トリエチルアミン 0.4gを加
え、２時間還流した。反応液を飽和食塩水で洗浄し、ク
ロロホルムを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン
＝７：３）により精製し、目的物を1.1g得た。
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキ
シカルボニルグリセリン1.0gを30mlのクロロホルムに溶
解し、４−アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸エチ
ルエステル塩酸塩0.5g、トリエチルアミン 0.4gを加
え、２時間還流した。反応液を飽和食塩水で洗浄し、ク
ロロホルムを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン
＝７：３）により精製し、目的物を1.1g得た。
【０２１９】・1H−NMR (90MHz,CDCl3) δ；0.64〜2.24
(m,10H), 1.25(t,J=8Hz,3H), 3.01(t,J=6Hz,2H),3.04〜
3.28(m,1H), 3.22(s,3H), 3.72〜4.50(m,2H), 3.86(s,3
H),3.96〜4.12(m,2H), 4.11(q,J=8Hz,2H), 4.91(m,1H),
5.25(s,2H),6.88〜7.80(m,7H), 8.38(d,J=7Hz,1H) (2) １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−エトキシカル
ボニル）シクロヘキシルメチルカルバモイルオキシ−２
−メトキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−（２−メ
トキシ) ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムヨージ
ドの合成
(m,10H), 1.25(t,J=8Hz,3H), 3.01(t,J=6Hz,2H),3.04〜
3.28(m,1H), 3.22(s,3H), 3.72〜4.50(m,2H), 3.86(s,3
H),3.96〜4.12(m,2H), 4.11(q,J=8Hz,2H), 4.91(m,1H),
5.25(s,2H),6.88〜7.80(m,7H), 8.38(d,J=7Hz,1H) (2) １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−（４−エトキシカル
ボニル）シクロヘキシルメチルカルバモイルオキシ−２
−メトキシ｝プロピルオキシカルボニル−Ｎ−（２−メ
トキシ) ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムヨージ
ドの合成
【０２２０】
【化９８】
【０２２１】(1) で得られた１−Ｏ−（４−エトキシカ
ルボニルシクロヘキシル）メチルカルバモイル−３−Ｏ
−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジ
ル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセリン
1.1gをヨウ化エチル20mlに溶解し24時間還流した。不溶
物を濾別し、アセトンに溶解させた。エーテルを加え再
沈澱させ、目的物を1.0g得た。
ルボニルシクロヘキシル）メチルカルバモイル−３−Ｏ
−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジ
ル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセリン
1.1gをヨウ化エチル20mlに溶解し24時間還流した。不溶
物を濾別し、アセトンに溶解させた。エーテルを加え再
沈澱させ、目的物を1.0g得た。
【０２２２】・1H−NMR (90MHz,CDCl3) δ；0.64〜2.30
(m,10H), 1.24(t,J=8Hz,3H), 1.77(t,J=8Hz,3H),2.97
(t,J=6Hz,2H), 3.08〜3.16(m,1H), 3.20(s,3H), 3.62〜
4.24(m,4H),3.90(s,3H), 4.08(q,J=8Hz,2H), 4.80〜5.2
0(m,3H), 5.54(s,2H),6.78〜7.12(m,2H), 7.08〜7.36
(m,2H), 7.90〜8.20(m,2H),8.56(t,J=8Hz,1H), 9.24(d,
J=7Hz,1H)実施例７ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３− (２−（４−スルファモイル
フェニル）エチルカルバモイルオキシ) プロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムヨージド
(m,10H), 1.24(t,J=8Hz,3H), 1.77(t,J=8Hz,3H),2.97
(t,J=6Hz,2H), 3.08〜3.16(m,1H), 3.20(s,3H), 3.62〜
4.24(m,4H),3.90(s,3H), 4.08(q,J=8Hz,2H), 4.80〜5.2
0(m,3H), 5.54(s,2H),6.78〜7.12(m,2H), 7.08〜7.36
(m,2H), 7.90〜8.20(m,2H),8.56(t,J=8Hz,1H), 9.24(d,
J=7Hz,1H)実施例７ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３− (２−（４−スルファモイル
フェニル）エチルカルバモイルオキシ) プロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムヨージド
【０２２３】
【化９９】
【０２２４】(1) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾ
イル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２
−Ｏ−メチル−１−Ｏ−｛２−(4−スルファモイル）フ
ェニルエチル｝カルバモイルグリセリンの合成
イル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２
−Ｏ−メチル−１−Ｏ−｛２−(4−スルファモイル）フ
ェニルエチル｝カルバモイルグリセリンの合成
【０２２５】
【化１００】
【０２２６】実施例３(3) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキ
シカルボニルグリセリン1.0g、４−(2−アミノエチル）
ベンゼンスルホンアミド0.5gを混合し80℃で１時間撹拌
した。反応混合物を室温にしシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出溶媒；クロロホルム：メタノール＝9
5：５）により精製し目的物を0.8g得た。
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキ
シカルボニルグリセリン1.0g、４−(2−アミノエチル）
ベンゼンスルホンアミド0.5gを混合し80℃で１時間撹拌
した。反応混合物を室温にしシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出溶媒；クロロホルム：メタノール＝9
5：５）により精製し目的物を0.8g得た。
【０２２７】・1H−NMR (90MHz,CDCl3) δ 2.84(t,J=7Hz,2H), 3.18(s,3H), 3.10〜 3.54(m,3H),
3.74〜3.90(m,2H),3.82(s, 3H), 3.92.〜4.10(m,2H),
5.08〜5.32(m, 3H), 5.57(br.s,2H), 6.82〜7.90(m,11
H),8.54(d,J=7Hz,1H) (2) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（２−(4−スルファモイ
ルフェニル）エチルカルバモイルオキシ）プロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムヨージドの
合成
3.74〜3.90(m,2H),3.82(s, 3H), 3.92.〜4.10(m,2H),
5.08〜5.32(m, 3H), 5.57(br.s,2H), 6.82〜7.90(m,11
H),8.54(d,J=7Hz,1H) (2) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（２−(4−スルファモイ
ルフェニル）エチルカルバモイルオキシ）プロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムヨージドの
合成
【０２２８】
【化１０１】
【０２２９】(1) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−｛２−(4−スルファ
モイル）フェニルエチル｝カルバモイルグリセリン0.8g
をヨウ化エチル10mlに溶解し24時間還流した。不溶物を
濾別し、アセトンに溶解した。エーテルを加え再沈澱さ
せ、目的物を0.7g得た。
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−｛２−(4−スルファ
モイル）フェニルエチル｝カルバモイルグリセリン0.8g
をヨウ化エチル10mlに溶解し24時間還流した。不溶物を
濾別し、アセトンに溶解した。エーテルを加え再沈澱さ
せ、目的物を0.7g得た。
【０２３０】・1H−NMR (90MHz,DMSO−d6）δ；1.58(t,
J=8Hz,3H), 2.60〜2.88(m,2H), 3.04〜3.40(m,3H), 3.3
3(s,3H),3.56〜3.76(m,2H), 3.88(s,3H), 3.96〜4.16
(m,2H), 4.79(q,J=8Hz,2H),5.56(s,2H), 6.96〜7.84(m,
11H), 7.96〜7.24(m,2H), 8.70(tJ=8Hz,1H),9.18(d,J=7
Hz,1H)実施例８ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛３−（３−モルホリノカルボニルプロパン−１−
イル）カルバモイルオキシ−２−メトキシプロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
J=8Hz,3H), 2.60〜2.88(m,2H), 3.04〜3.40(m,3H), 3.3
3(s,3H),3.56〜3.76(m,2H), 3.88(s,3H), 3.96〜4.16
(m,2H), 4.79(q,J=8Hz,2H),5.56(s,2H), 6.96〜7.84(m,
11H), 7.96〜7.24(m,2H), 8.70(tJ=8Hz,1H),9.18(d,J=7
Hz,1H)実施例８ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛３−（３−モルホリノカルボニルプロパン−１−
イル）カルバモイルオキシ−２−メトキシプロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
【０２３１】
【化１０２】
【０２３２】(1) ２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−｛３−（モ
ルホリノカルボニル）プロピル｝カルバモイル−３−Ｏ
−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジ
ル）メチル｝カルバモイルグリセリンの合成
ルホリノカルボニル）プロピル｝カルバモイル−３−Ｏ
−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジ
ル）メチル｝カルバモイルグリセリンの合成
【０２３３】
【化１０３】
【０２３４】実施例３(3) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキ
シカルボニルグリセリン4.7gをクロロホルム50mlに溶解
し、Ｎ−（４−アミノブチリル）モルホリン2.4gを加え
た後、３時間、撹拌還流する。溶媒を濃縮後、濃縮物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；塩化
メチレン：メタノール＝95：５）にて精製し目的物を2.
9g得た。
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキ
シカルボニルグリセリン4.7gをクロロホルム50mlに溶解
し、Ｎ−（４−アミノブチリル）モルホリン2.4gを加え
た後、３時間、撹拌還流する。溶媒を濃縮後、濃縮物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；塩化
メチレン：メタノール＝95：５）にて精製し目的物を2.
9g得た。
【０２３５】・1H−NMR (90MHz,CDCl3) δ；1.80(m,2
H), 2.32(t,J=7Hz,2H), 3.18(s,3H), 3.00〜3.30(m,2
H),3.30〜3.70(m,9H), 3.70〜4.10(m,4H), 3.80(s,3H),
5.12(m,1H),5.20(m,2H), 6.75〜7.04(m,2H), 7.04〜7.
68(m,4H), 8.46(m,1H) (2) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛３−（３−モルホリノカルボニルプロパン−
１−イル）カルバモイルオキシ−２−メトキシプロピル
オキシ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリ
ドの合成
H), 2.32(t,J=7Hz,2H), 3.18(s,3H), 3.00〜3.30(m,2
H),3.30〜3.70(m,9H), 3.70〜4.10(m,4H), 3.80(s,3H),
5.12(m,1H),5.20(m,2H), 6.75〜7.04(m,2H), 7.04〜7.
68(m,4H), 8.46(m,1H) (2) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛３−（３−モルホリノカルボニルプロパン−
１−イル）カルバモイルオキシ−２−メトキシプロピル
オキシ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリ
ドの合成
【０２３６】
【化１０４】
【０２３７】(1) で得られた２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−
｛３−（モルホリノカルボニル）プロピル｝カルバモイ
ル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2
−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリン0.9gをヨ
ウ化エチル10mlに溶解し、窒素気流下30時間撹拌還流し
た。冷却後反応液を濃縮し、残渣をイオン交換樹脂〔ア
ンバーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７：３）にて処理し: 粗クロリド0.9gを得た。
この粗クロリドをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；塩化メチレン：メタノール＝95：５）にて
精製し、目的物0.9gを得た。
｛３−（モルホリノカルボニル）プロピル｝カルバモイ
ル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2
−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリン0.9gをヨ
ウ化エチル10mlに溶解し、窒素気流下30時間撹拌還流し
た。冷却後反応液を濃縮し、残渣をイオン交換樹脂〔ア
ンバーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７：３）にて処理し: 粗クロリド0.9gを得た。
この粗クロリドをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；塩化メチレン：メタノール＝95：５）にて
精製し、目的物0.9gを得た。
【０２３８】・1H−NMR (90MHz,CDCl3) δ；1.76(J,J=7
Hz,3H), 1.82(m,2H), 3.38(t,J=7Hz,2H), 3.20(s,3H),
3.00〜3.30(m,2H), 3.30〜3.70(m,11H), 3.80〜4.30(m,
4H),5.20(q,J=7Hz,2H), 5.52(s,2H), 5.80(m,1H), 6.80
〜7.14(m,2H),7.30〜7.60(m,2H), 7.90〜8.20(m,2H),
8.43(m,1H), 10.63(m,1H)実施例９ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−(6,12 −ジオキサヘプタ
デシル）カルバモイルオキシ−２−メトキシプロピルオ
キシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル〕
アミノメチルピリジニウムヨージド
Hz,3H), 1.82(m,2H), 3.38(t,J=7Hz,2H), 3.20(s,3H),
3.00〜3.30(m,2H), 3.30〜3.70(m,11H), 3.80〜4.30(m,
4H),5.20(q,J=7Hz,2H), 5.52(s,2H), 5.80(m,1H), 6.80
〜7.14(m,2H),7.30〜7.60(m,2H), 7.90〜8.20(m,2H),
8.43(m,1H), 10.63(m,1H)実施例９ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−(6,12 −ジオキサヘプタ
デシル）カルバモイルオキシ−２−メトキシプロピルオ
キシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル〕
アミノメチルピリジニウムヨージド
【０２３９】
【化１０５】
【０２４０】(1) ５−ペンチルオキシ−１−ペンタノー
ルの合成 HO-(CH2)5-O-(CH2)4-CH3 1,5 −ペンタンジオール（10g)のN,N −ジメチルホルム
アミド(150ml）溶液に水素化ナトリウム（60％、4.2g）
を加えた後、１−ブロモペンタン（12ml）を加え、室温
で30分撹拌した。反応液に３％塩酸を加え、エーテルで
抽出した。有機層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢
酸エチル＝８：２）にて精製し、目的物（６g)を得た。
ルの合成 HO-(CH2)5-O-(CH2)4-CH3 1,5 −ペンタンジオール（10g)のN,N −ジメチルホルム
アミド(150ml）溶液に水素化ナトリウム（60％、4.2g）
を加えた後、１−ブロモペンタン（12ml）を加え、室温
で30分撹拌した。反応液に３％塩酸を加え、エーテルで
抽出した。有機層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢
酸エチル＝８：２）にて精製し、目的物（６g)を得た。
【０２４１】・1H−NMR (CDCl3) δ；0.88(t,J=6Hz,3
H), 1.00〜1.75(m,12H), 1.90(s,1H), 3.34(t,J=7Hz,4
H),3.58(t,J=6Hz,2H) (2) 6,12−ジオキサヘプタデカンニトリルの合成 CH3-(CH2)4-O-(CH2)5-O-(CH2)4-CN (1) で得られた５−ペンチルオキシ−１−ペンタノール
（３g)のN,N −ジメチルホルムアミド（50ml）溶液に、
水素化ナトリウム（60％, 0.75g)を加えた後、５−ブロ
モペンタンニトリル（２ml）を加え、60℃で２時間撹拌
した。反応液に３％塩酸を加え、エーテルで抽出した。
有機層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
９：１）で精製し、目的物（１g)を得た。
H), 1.00〜1.75(m,12H), 1.90(s,1H), 3.34(t,J=7Hz,4
H),3.58(t,J=6Hz,2H) (2) 6,12−ジオキサヘプタデカンニトリルの合成 CH3-(CH2)4-O-(CH2)5-O-(CH2)4-CN (1) で得られた５−ペンチルオキシ−１−ペンタノール
（３g)のN,N −ジメチルホルムアミド（50ml）溶液に、
水素化ナトリウム（60％, 0.75g)を加えた後、５−ブロ
モペンタンニトリル（２ml）を加え、60℃で２時間撹拌
した。反応液に３％塩酸を加え、エーテルで抽出した。
有機層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
９：１）で精製し、目的物（１g)を得た。
【０２４２】・1H−NMR (CDCl3) δ；0.88(t,J=7.2Hz,3
H), 1.10〜2.10(m,16H),2.36(t,J=7Hz,2H),3.36(t,J=7.
2Hz,8H) (3) 6,12−ジオキサヘプタデシルアミンの合成 CH3-(CH2)4-O-(CH2)5-O-(CH2)5-NH2 (2) で得られた6,12−ジオキサヘプタデカンニトリル
（１g)のテトラヒドロフラン（20ml）溶液に水素化リチ
ウムアルミニウム（0.15g)を加え、室温で1.5 時間撹拌
した。反応液に、飽和硫酸ナトリウム水溶液を加え、セ
ライト濾過した。濾液を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；クロロホル
ム：メタノール＝９：１）で精製し、目的物（0.3g) を
得た。
H), 1.10〜2.10(m,16H),2.36(t,J=7Hz,2H),3.36(t,J=7.
2Hz,8H) (3) 6,12−ジオキサヘプタデシルアミンの合成 CH3-(CH2)4-O-(CH2)5-O-(CH2)5-NH2 (2) で得られた6,12−ジオキサヘプタデカンニトリル
（１g)のテトラヒドロフラン（20ml）溶液に水素化リチ
ウムアルミニウム（0.15g)を加え、室温で1.5 時間撹拌
した。反応液に、飽和硫酸ナトリウム水溶液を加え、セ
ライト濾過した。濾液を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；クロロホル
ム：メタノール＝９：１）で精製し、目的物（0.3g) を
得た。
【０２４３】・1H−NMR (CDCl3) δ；0.88(t,J=7Hz,3
H), 1.10〜1.80(m,18H), 2.68(t,J=7.2Hz,2H),2.92(bs,
2H), 3.34(t,J=6Hz,8H) (4) １−Ｏ−(6,12 −ジオキサヘプタデシル）カルバモ
イル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）
ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジルメチル）｝カルバモイ
ルグリセリンの合成
H), 1.10〜1.80(m,18H), 2.68(t,J=7.2Hz,2H),2.92(bs,
2H), 3.34(t,J=6Hz,8H) (4) １−Ｏ−(6,12 −ジオキサヘプタデシル）カルバモ
イル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）
ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジルメチル）｝カルバモイ
ルグリセリンの合成
【０２４４】
【化１０６】
【０２４５】実施例３(3) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキ
シカルボニルグリセリン0.53g のクロロホルム（５ml）
溶液に(3) で得られた6,12−ジオキサヘプタデシルアミ
ン（0.28g)を加え、４時間加熱還流した。反応液を濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；
ベンゼン：アセトン＝４：１）で精製し目的物（0.15g)
を得た。
−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチ
ル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−フェノキ
シカルボニルグリセリン0.53g のクロロホルム（５ml）
溶液に(3) で得られた6,12−ジオキサヘプタデシルアミ
ン（0.28g)を加え、４時間加熱還流した。反応液を濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；
ベンゼン：アセトン＝４：１）で精製し目的物（0.15g)
を得た。
【０２４６】・1H−NMR (CDCl3) δ；0.85(t,J=6Hz,3
H), 1.00〜1.80(m,18H), 3.15(s,3H), 3.14(m,2H),3.32
(t,J=6Hz,8H), 3.75(s,3H), 3.60〜3.85(m,3H), 3.90〜
4.05(m,2H),4.60〜5.00(br,1H), 5.16(s,2H), 6.70〜7.
70(m,7H),8.38〜8.54(d,J=4Hz,1H) (5) １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−(6,12 −ジオキサヘ
プタデシル）カルバモイルオキシ−２−メトキシプロピ
ルオキシ｝カルボニル−Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイ
ル〕アミノメチルピリジニウムヨージドの合成
H), 1.00〜1.80(m,18H), 3.15(s,3H), 3.14(m,2H),3.32
(t,J=6Hz,8H), 3.75(s,3H), 3.60〜3.85(m,3H), 3.90〜
4.05(m,2H),4.60〜5.00(br,1H), 5.16(s,2H), 6.70〜7.
70(m,7H),8.38〜8.54(d,J=4Hz,1H) (5) １−エチル−２−〔Ｎ−｛３−(6,12 −ジオキサヘ
プタデシル）カルバモイルオキシ−２−メトキシプロピ
ルオキシ｝カルボニル−Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイ
ル〕アミノメチルピリジニウムヨージドの合成
【０２４７】
【化１０７】
【０２４８】(4) で得られた１−Ｏ−(6,12 −ジオキサ
ヘプタデシル）カルバモイル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ
−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル
メチル）｝カルバモイルグリセリン（0.15g)をヨウ化エ
チル（10ml）に溶解し、窒素気流下、遮光して48時間加
熱還流した。反応液を濃縮し、残渣をアセトン−エーテ
ルから再結晶し、目的物（0.1g）を得た。
ヘプタデシル）カルバモイル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ
−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル
メチル）｝カルバモイルグリセリン（0.15g)をヨウ化エ
チル（10ml）に溶解し、窒素気流下、遮光して48時間加
熱還流した。反応液を濃縮し、残渣をアセトン−エーテ
ルから再結晶し、目的物（0.1g）を得た。
【０２４９】・1H−NMR (CDCl3) δ；0.86(t,J=6Hz,3
H), 1.10〜2.00(m,18H), 1.75(t,J=7.2Hz,3H), 3.18(s,
3H),2.95〜3.50(m,2H), 3.35(t,J=5Hz,8H), 3.65〜3.80
(m,3H), 3.88(s,3H),4.00〜4.20(m,2H), 4.80〜5.20(b
r,1H), 5.05(q,J=7.2Hz,2H), 5.50(s,2H),6.86(d,J=8H
z,1H), 7.05(d,J=7.2Hz,1H), 7.30〜7.52(m,2H),7.90〜
8.20(m,2H), 8.50(t,J=6Hz,1H), 9.65(d,J=6Hz,1H) ・MS：M / Z 688 (M+-I)実施例１０ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３（４−シクロヘキシルメチ
ルスルファモイル）ベンジルカルバモイルオキシ−２−
メトキシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メト
キシ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
H), 1.10〜2.00(m,18H), 1.75(t,J=7.2Hz,3H), 3.18(s,
3H),2.95〜3.50(m,2H), 3.35(t,J=5Hz,8H), 3.65〜3.80
(m,3H), 3.88(s,3H),4.00〜4.20(m,2H), 4.80〜5.20(b
r,1H), 5.05(q,J=7.2Hz,2H), 5.50(s,2H),6.86(d,J=8H
z,1H), 7.05(d,J=7.2Hz,1H), 7.30〜7.52(m,2H),7.90〜
8.20(m,2H), 8.50(t,J=6Hz,1H), 9.65(d,J=6Hz,1H) ・MS：M / Z 688 (M+-I)実施例１０ １−エチル−２−〔Ｎ−｛３（４−シクロヘキシルメチ
ルスルファモイル）ベンジルカルバモイルオキシ−２−
メトキシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−メト
キシ）ベンゾイル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
【０２５０】
【化１０８】
【０２５１】(1) ２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−(2−ピリジ
ル）メチルカルバモイル−１−Ｏ−（４−スルファモイ
ル）ベンジルカルバモイルグリセリンの合成
ル）メチルカルバモイル−１−Ｏ−（４−スルファモイ
ル）ベンジルカルバモイルグリセリンの合成
【０２５２】
【化１０９】
【０２５３】実施例３(2) で得られた２−Ｏ−メチル−
１−Ｏ−フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピ
リジル）メチル｝カルバモイルグリセリン20.0g 及び４
−（アミノメチル）ベンゼンスルホンアミド塩酸塩水和
物19.0g をテトラヒドロフラン−水（３：１） 400mlに
溶解し、トリエチルアミン17.0g を加え12時間還流し
た。テトラヒドロフランを減圧留去し、水を加え、酢酸
エチル200 mlにより３回抽出した。抽出液を飽和食塩水
により洗浄し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；クロロホルム：メ
タノール＝95：５）により精製し、目的物を21.0g 得
た。
１−Ｏ−フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピ
リジル）メチル｝カルバモイルグリセリン20.0g 及び４
−（アミノメチル）ベンゼンスルホンアミド塩酸塩水和
物19.0g をテトラヒドロフラン−水（３：１） 400mlに
溶解し、トリエチルアミン17.0g を加え12時間還流し
た。テトラヒドロフランを減圧留去し、水を加え、酢酸
エチル200 mlにより３回抽出した。抽出液を飽和食塩水
により洗浄し、溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；クロロホルム：メ
タノール＝95：５）により精製し、目的物を21.0g 得
た。
【０２５４】・1H−NMR (90MHz,CDCl3) δ；3.18(s,3
H), 3.40〜3.72(m,1H), 4.00〜4.48(m,8H), 5.48〜6.00
(m,4H),6.96〜7.60(m,6H), 7.71(d,J=9Hz,1H), 8.40(d,
J=8Hz,1H) (2) １−Ｏ−（４−シクロヘキシルメチルスルファモイ
ル）ベンジルカルバモイル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル）メチル｝カルバモ
イル−２−Ｏ−メチルグリセリンの合成
H), 3.40〜3.72(m,1H), 4.00〜4.48(m,8H), 5.48〜6.00
(m,4H),6.96〜7.60(m,6H), 7.71(d,J=9Hz,1H), 8.40(d,
J=8Hz,1H) (2) １−Ｏ−（４−シクロヘキシルメチルスルファモイ
ル）ベンジルカルバモイル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−(2−ピリジル）メチル｝カルバモ
イル−２−Ｏ−メチルグリセリンの合成
【０２５５】
【化１１０】
【０２５６】(1) で得られた２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−
(2−ピリジル）メチルカルバモイル−１−Ｏ−（４−ス
ルファモイル）ベンジルカルバモイルグリセリン2.0g、
及び臭化シクロヘキシルメチル0.8g、無水炭酸カリウム
0.5gをN,N −ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、60〜
70℃で２時間撹拌した。反応液に水を加え酢酸エチル50
mlにより３回抽出し、抽出液を飽和食塩水により洗浄し
溶媒を減圧留去した。残渣をピリジン50mlに溶解し、室
温で２−メトキシ安息香酸クロリド0.86g を滴下し、60
℃で２時間撹拌した。ピリジンを減圧留去後、残渣を酢
酸エチルに溶解し、有機層を飽和食塩水により洗浄後、
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝３：２）
により精製し、目的物を1.5g得た。
(2−ピリジル）メチルカルバモイル−１−Ｏ−（４−ス
ルファモイル）ベンジルカルバモイルグリセリン2.0g、
及び臭化シクロヘキシルメチル0.8g、無水炭酸カリウム
0.5gをN,N −ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、60〜
70℃で２時間撹拌した。反応液に水を加え酢酸エチル50
mlにより３回抽出し、抽出液を飽和食塩水により洗浄し
溶媒を減圧留去した。残渣をピリジン50mlに溶解し、室
温で２−メトキシ安息香酸クロリド0.86g を滴下し、60
℃で２時間撹拌した。ピリジンを減圧留去後、残渣を酢
酸エチルに溶解し、有機層を飽和食塩水により洗浄後、
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝３：２）
により精製し、目的物を1.5g得た。
【０２５７】・1H−NMR (90MHz,CDCl3) δ；0.60〜1.92
(m,11H), 2.72(t,J=6Hz,2H), 3.04〜3.36(m,1H), 3.19
(s,3H),3.80(s,3H), 3.60〜4.20(m,4H), 4.34(d,J=7Hz,
2H), 4.52〜4.80(m,1H),5.15(s,2H), 5.36〜5.60(m,1
H), 6.70〜7.64(m,10H), 7.70(d,J=8Hz,1H),8.41(d,J=7
Hz,1H) (3) １−エチル−２−｛Ｎ−３−（４−シクロヘキシル
メチルスルファモイル）ベンジルカルバモイルオキシ−
２−メトキシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−
メトキシベンゾイル) アミノメチルピリジニウムクロリ
ドの合成
(m,11H), 2.72(t,J=6Hz,2H), 3.04〜3.36(m,1H), 3.19
(s,3H),3.80(s,3H), 3.60〜4.20(m,4H), 4.34(d,J=7Hz,
2H), 4.52〜4.80(m,1H),5.15(s,2H), 5.36〜5.60(m,1
H), 6.70〜7.64(m,10H), 7.70(d,J=8Hz,1H),8.41(d,J=7
Hz,1H) (3) １−エチル−２−｛Ｎ−３−（４−シクロヘキシル
メチルスルファモイル）ベンジルカルバモイルオキシ−
２−メトキシプロピルオキシ｝カルボニル−Ｎ−（２−
メトキシベンゾイル) アミノメチルピリジニウムクロリ
ドの合成
【０２５８】
【化１１１】
【０２５９】(2) で得られた１−Ｏ−（４−シクロヘキ
シルメチルスルファモイル）ベンジルカルバモイル−３
−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピ
リジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセ
リン1.5gをヨウ化エチル10mlに溶解し、24時間還流し
た。ヨウ化エチルを減圧留去し、残渣をイオン交換樹脂
〔アンバーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタ
ノール：水＝７：３）で処理し、溶媒を減圧留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；塩化メチレン：メタノール＝９：１）により精製し
目的物を1.0g得た。
シルメチルスルファモイル）ベンジルカルバモイル−３
−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピ
リジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチルグリセ
リン1.5gをヨウ化エチル10mlに溶解し、24時間還流し
た。ヨウ化エチルを減圧留去し、残渣をイオン交換樹脂
〔アンバーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶媒；メタ
ノール：水＝７：３）で処理し、溶媒を減圧留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；塩化メチレン：メタノール＝９：１）により精製し
目的物を1.0g得た。
【０２６０】・1H−NMR （90MHz,CDCl3)δ；0.60〜1.92
(m,14H), 2.68(t,J=6Hz,2H), 3.00〜3.40(m,1H), 3.20
(s,3H)，3.89(s,3H), 3.60〜4.52(m,6H), 5.08(q,J=8H
z,2H), 4.80〜5.20(m,1H),5.56(s,2H), 6.20〜6.48(m,1
H), 6.80〜8.16(m,10H), 8.44(t,J=8Hz,1H),9.70(d,J=7
Hz,1H)実施例１１ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３−（４−オクタデシルスルファ
モイル）ベンジルカルバモイルオキシプロピルオキシ｝
カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
(m,14H), 2.68(t,J=6Hz,2H), 3.00〜3.40(m,1H), 3.20
(s,3H)，3.89(s,3H), 3.60〜4.52(m,6H), 5.08(q,J=8H
z,2H), 4.80〜5.20(m,1H),5.56(s,2H), 6.20〜6.48(m,1
H), 6.80〜8.16(m,10H), 8.44(t,J=8Hz,1H),9.70(d,J=7
Hz,1H)実施例１１ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３−（４−オクタデシルスルファ
モイル）ベンジルカルバモイルオキシプロピルオキシ｝
カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
【０２６１】
【化１１２】
【０２６２】(1) ２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(4−オクタ
デシルスルファモイル）ベンジルカルバモイル−３−Ｏ
−（２−ピリジル）メチルカルバモイルグリセリンの合
成
デシルスルファモイル）ベンジルカルバモイル−３−Ｏ
−（２−ピリジル）メチルカルバモイルグリセリンの合
成
【０２６３】
【化１１３】
【０２６４】実施例10(1) で得られた２−Ｏ−メチル−
３−Ｏ−（２−ピリジル）メチルカルバモイル−１−Ｏ
−（４−スルファモイル）ベンジルカルバモイルグリセ
リン14.0g 、臭化オクタデシル10.7g 、無水炭酸カリウ
ム3.2gをN,N −ジメチルホルムアミド300 mlに溶解し、
60℃〜70℃で1.5 時間撹拌した。反応液を室温にし、水
を加え、酢酸エチル200 mlにより３回抽出した。抽出液
を飽和食塩水により洗浄後、溶媒を減圧留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン＝３：２）により精製し目的物を
9.1g得た。
３−Ｏ−（２−ピリジル）メチルカルバモイル−１−Ｏ
−（４−スルファモイル）ベンジルカルバモイルグリセ
リン14.0g 、臭化オクタデシル10.7g 、無水炭酸カリウ
ム3.2gをN,N −ジメチルホルムアミド300 mlに溶解し、
60℃〜70℃で1.5 時間撹拌した。反応液を室温にし、水
を加え、酢酸エチル200 mlにより３回抽出した。抽出液
を飽和食塩水により洗浄後、溶媒を減圧留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸
エチル：ｎ−ヘキサン＝３：２）により精製し目的物を
9.1g得た。
【０２６５】・1H−NMR （90MHz,CDCl3)δ；0.86(t,J=7
Hz,3H), 1.00〜1.60(m,32H), 2.68〜3.00(m,2H), 3.40
(s,3H)，3.40〜3.68(m,1H), 4.00〜4.48(m,8H), 5.00〜
5.24(m,1H),5.64〜5.84(m,1H), 5.84〜6.12(m,1H), 8.0
0〜8.60(m,6H),8.68(d,J=8Hz,1H), 9.40(d,J=7Hz,1H) (2) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチ
ル−１−Ｏ−(4−オクタデシルスルファモイル）ベンジ
ルカルバモイルグリセリンの合成
Hz,3H), 1.00〜1.60(m,32H), 2.68〜3.00(m,2H), 3.40
(s,3H)，3.40〜3.68(m,1H), 4.00〜4.48(m,8H), 5.00〜
5.24(m,1H),5.64〜5.84(m,1H), 5.84〜6.12(m,1H), 8.0
0〜8.60(m,6H),8.68(d,J=8Hz,1H), 9.40(d,J=7Hz,1H) (2) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチ
ル−１−Ｏ−(4−オクタデシルスルファモイル）ベンジ
ルカルバモイルグリセリンの合成
【０２６６】
【化１１４】
【０２６７】(1) で得られた２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−
(4−オクタデシルスルファモイル）ベンジルカルバモイ
ル−３−Ｏ−（２−ピリジル）メチルカルバモイルグリ
セリン9.1gをピリジン100 mlに溶解し、２−メトキシベ
ンゾイルクロリド2.2gを滴下した。室温で12時間撹拌
し、ピリジンを減圧留去後、酢酸エチル200 mlに溶解し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；酢酸エチル：ヘキサン＝６：４）により精製し目的
物を4.4g得た。
(4−オクタデシルスルファモイル）ベンジルカルバモイ
ル−３−Ｏ−（２−ピリジル）メチルカルバモイルグリ
セリン9.1gをピリジン100 mlに溶解し、２−メトキシベ
ンゾイルクロリド2.2gを滴下した。室温で12時間撹拌
し、ピリジンを減圧留去後、酢酸エチル200 mlに溶解し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去後、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；酢酸エチル：ヘキサン＝６：４）により精製し目的
物を4.4g得た。
【０２６８】・1H−NMR （90MHz,CDCl3)δ；0.88(t,J=6
Hz,3H), 1.00〜1.60(m,32H), 2.90(q,J=8Hz,2H),3.06〜
3.32(m,1H), 3.20(s,3H), 3.82(s,3H), 3.75〜4.20(m,4
H),4.40(d,J=7Hz,2H), 4.78〜4.92(m,1H), 5.22(s,2H),
5.56〜5.72(m,1H),6.84〜7.76(m,10H), 7.80(d,J=8Hz,
1H), 8.53(d,J=7Hz,1H) (3) １−エチル−２〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル
−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（４−オクタデシルスルフ
ァモイル）ベンジルカルバモイルオキシプロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの
合成
Hz,3H), 1.00〜1.60(m,32H), 2.90(q,J=8Hz,2H),3.06〜
3.32(m,1H), 3.20(s,3H), 3.82(s,3H), 3.75〜4.20(m,4
H),4.40(d,J=7Hz,2H), 4.78〜4.92(m,1H), 5.22(s,2H),
5.56〜5.72(m,1H),6.84〜7.76(m,10H), 7.80(d,J=8Hz,
1H), 8.53(d,J=7Hz,1H) (3) １−エチル−２〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル
−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（４−オクタデシルスルフ
ァモイル）ベンジルカルバモイルオキシプロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの
合成
【０２６９】
【化１１５】
【０２７０】(2) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(4−オクタデシルス
ルファモイル）ベンジルカルバモイルグリセリン1.9gを
ヨウ化エチル50mlに溶解し２４時間還流した。ヨウ化エ
チルを減圧留去し残渣をイオン交換樹脂〔アンバーライ
ト ＩＲＡ−４１０， Ｃｌ− 型〕（溶出溶媒；メタ
ノール：水＝７：３）により処理し溶媒を減圧留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；塩化メチレン：メタノール＝９：１）により精製
し、目的物を1.3g得た。
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(4−オクタデシルス
ルファモイル）ベンジルカルバモイルグリセリン1.9gを
ヨウ化エチル50mlに溶解し２４時間還流した。ヨウ化エ
チルを減圧留去し残渣をイオン交換樹脂〔アンバーライ
ト ＩＲＡ−４１０， Ｃｌ− 型〕（溶出溶媒；メタ
ノール：水＝７：３）により処理し溶媒を減圧留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；塩化メチレン：メタノール＝９：１）により精製
し、目的物を1.3g得た。
【０２７１】・1H−NMR (400MHz,DMSO−d6）δ；0.85
(t,J=7Hz,3H), 1.10〜1.38(m,32H), 1.57(t,J=7Hz,3H),
2.67(q,J=7Hz,2H), 3.09(s,3H), 3.10〜3.20(m,1H), 3.
60〜3.68(m,1H),3.71〜3.79(m,1H), 3.85(s,3H), 4.10
〜4.20(m,1H), 3.95〜4.02(m,1H),4.20〜4.25(m,2H),
4.75(q,J=7Hz,2H), 5.53(s,2H), 7.01〜7.21(m,2H),7.3
8〜7.53(m,5H) 7.73(d,J=9Hz,2H), 7.82(t,J=6Hz,1H),
7.99(d,J=8Hz,1H), 8.07(t,J=7Hz,1H), 8.64(t,J=7Hz,1
H),9.12(d,J=7Hz,1H)実施例１２ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３−（３−オクタデシルカルバモ
イルオキシ）プロピルカルバモイルオキシ｝プロポキシ
カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
(t,J=7Hz,3H), 1.10〜1.38(m,32H), 1.57(t,J=7Hz,3H),
2.67(q,J=7Hz,2H), 3.09(s,3H), 3.10〜3.20(m,1H), 3.
60〜3.68(m,1H),3.71〜3.79(m,1H), 3.85(s,3H), 4.10
〜4.20(m,1H), 3.95〜4.02(m,1H),4.20〜4.25(m,2H),
4.75(q,J=7Hz,2H), 5.53(s,2H), 7.01〜7.21(m,2H),7.3
8〜7.53(m,5H) 7.73(d,J=9Hz,2H), 7.82(t,J=6Hz,1H),
7.99(d,J=8Hz,1H), 8.07(t,J=7Hz,1H), 8.64(t,J=7Hz,1
H),9.12(d,J=7Hz,1H)実施例１２ １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイル−
Ｎ−｛２−メトキシ−３−（３−オクタデシルカルバモ
イルオキシ）プロピルカルバモイルオキシ｝プロポキシ
カルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
【０２７２】
【化１１６】
【０２７３】(1) １−Ｏ−（３−ヒドロキシ）プロピル
カルバモイル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−(2−ピリジ
ル）メチルカルバモイルグリセリンの合成
カルバモイル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−(2−ピリジ
ル）メチルカルバモイルグリセリンの合成
【０２７４】
【化１１７】
【０２７５】実施例３(2) で得られた２−Ｏ−メチル−
１−Ｏ−フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピ
リジル）メチル｝カルバモイルグリセリン10g 、３−ア
ミノ−１−プロパノール3.75g を10mlのクロロホルムに
溶かし、室温で１時間撹拌した。溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸
エチル）で精製することにより、目的物８g を得た。
１−Ｏ−フェノキシカルボニル−３−Ｏ−｛Ｎ−(2−ピ
リジル）メチル｝カルバモイルグリセリン10g 、３−ア
ミノ−１−プロパノール3.75g を10mlのクロロホルムに
溶かし、室温で１時間撹拌した。溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸
エチル）で精製することにより、目的物８g を得た。
【０２７６】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；1.69(m,2
H), 2.68〜3.76(m,6H), 3.43(s,3H), 3.94〜4.32(m,4
H),4.46(d,J=5Hz,2H), 5.21(b,1H), 5.95(b,1H), 6.98
〜7.36(m,2H),7.48〜7.74(m,1H), 8.48(m,1H) (2) ２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(3−オクタデシルカルバ
モイルオキシ）プロピルカルバモイル−３−Ｏ−（２−
ピリジル）メチルカルバモイルグリセリンの合成
H), 2.68〜3.76(m,6H), 3.43(s,3H), 3.94〜4.32(m,4
H),4.46(d,J=5Hz,2H), 5.21(b,1H), 5.95(b,1H), 6.98
〜7.36(m,2H),7.48〜7.74(m,1H), 8.48(m,1H) (2) ２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(3−オクタデシルカルバ
モイルオキシ）プロピルカルバモイル−３−Ｏ−（２−
ピリジル）メチルカルバモイルグリセリンの合成
【０２７７】
【化１１８】
【０２７８】(1) で得られた１−Ｏ−（３−ヒドロキ
シ）プロピルカルバモイル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−
(2−ピリジル）メチルカルバモイルグリセリン2.9g、ピ
リジン1.3gの塩化メチレン溶液（50ml）に氷冷下、クロ
ロギ酸フェニル1.56g を滴下し、15分間撹拌した。反応
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を除いて得
た残渣とオクタデシルアミン３g の混合物を80℃で１時
間撹拌した。冷後、これをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
１）で精製することにより、目的物３g を得た。
シ）プロピルカルバモイル−２−Ｏ−メチル−３−Ｏ−
(2−ピリジル）メチルカルバモイルグリセリン2.9g、ピ
リジン1.3gの塩化メチレン溶液（50ml）に氷冷下、クロ
ロギ酸フェニル1.56g を滴下し、15分間撹拌した。反応
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を除いて得
た残渣とオクタデシルアミン３g の混合物を80℃で１時
間撹拌した。冷後、これをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：
１）で精製することにより、目的物３g を得た。
【０２７９】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；0.87(m,3
H), 0.98〜1.87(m,34H), 2.86〜3.71(m,5H), 3.43(s,3
H),3.95〜4.25(m,6H), 4.43(d,J=5Hz,2H), 4.76(b,1H),
5.11(b,1H),5.87(b,1H), 6.98〜7.29(m,2H), 7.47〜7.
72(m,1H), 8.47(m,1H) (3) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチ
ル−１−Ｏ−(3−オクタデシルカルバモイルオキシ）プ
ロピルカルバモイルグリセリン
H), 0.98〜1.87(m,34H), 2.86〜3.71(m,5H), 3.43(s,3
H),3.95〜4.25(m,6H), 4.43(d,J=5Hz,2H), 4.76(b,1H),
5.11(b,1H),5.87(b,1H), 6.98〜7.29(m,2H), 7.47〜7.
72(m,1H), 8.47(m,1H) (3) ３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキシ）ベンゾイル−Ｎ−
（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２−Ｏ−メチ
ル−１−Ｏ−(3−オクタデシルカルバモイルオキシ）プ
ロピルカルバモイルグリセリン
【０２８０】
【化１１９】
【０２８１】(2) で得られた２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−
(3−オクタデシルカルバモイルオキシ）プロピルカルバ
モイル−３−Ｏ−（２−ピリジル）メチルカルバモイル
グリセリン３g をピリジン50mlに溶かし、室温で２−メ
トキシ安息香酸クロリド1.3gを加え50℃で２時間撹拌し
た。冷後、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムに溶か
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去しシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン−１：１）で精製することにより、
目的物３g を得た。
(3−オクタデシルカルバモイルオキシ）プロピルカルバ
モイル−３−Ｏ−（２−ピリジル）メチルカルバモイル
グリセリン３g をピリジン50mlに溶かし、室温で２−メ
トキシ安息香酸クロリド1.3gを加え50℃で２時間撹拌し
た。冷後、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムに溶か
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去しシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン−１：１）で精製することにより、
目的物３g を得た。
【０２８２】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；0.85(m,3
H), 1.04〜1.92(m,34H), 2.88〜3.86(m,7H), 3.16(s,3
H),3.80(s,3H), 3.90〜4.18(m,4H), 4.68(b,1H), 4.88
〜5.30(b,1H),5.16(s,2H), 6.68〜7.68(m,7H), 8.44(m,
1H) (4) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（３−オクタデシルカル
バモイルオキシ）プロピルカルバモイルオキシ｝プロポ
キシカルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
H), 1.04〜1.92(m,34H), 2.88〜3.86(m,7H), 3.16(s,3
H),3.80(s,3H), 3.90〜4.18(m,4H), 4.68(b,1H), 4.88
〜5.30(b,1H),5.16(s,2H), 6.68〜7.68(m,7H), 8.44(m,
1H) (4) １−エチル−２−〔Ｎ−（２−メトキシ）ベンゾイ
ル−Ｎ−｛２−メトキシ−３−（３−オクタデシルカル
バモイルオキシ）プロピルカルバモイルオキシ｝プロポ
キシカルボニル〕アミノメチルピリジニウムクロリド
【０２８３】
【化１２０】
【０２８４】(3) で得られた３−Ｏ−｛Ｎ−(2−メトキ
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(3−オクタデシルカ
ルバモイルオキシ）プロピルカルバモイルグリセリン3.
0gをヨウ化エチル60mlに溶かし、窒素雰囲気中、遮光し
て48時間還流した。冷後、溶媒を留去し、残渣をイオン
交換樹脂〔アンバーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶
媒；メタノール：水＝７：３）で処理したのち、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノー
ル：塩化メチレン＝１：９）で精製し、目的物2.8gを得
た。
シ）ベンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−Ｏ−メチル−１−Ｏ−(3−オクタデシルカ
ルバモイルオキシ）プロピルカルバモイルグリセリン3.
0gをヨウ化エチル60mlに溶かし、窒素雰囲気中、遮光し
て48時間還流した。冷後、溶媒を留去し、残渣をイオン
交換樹脂〔アンバーライト IRA-410, Cl- 型〕（溶出溶
媒；メタノール：水＝７：３）で処理したのち、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノー
ル：塩化メチレン＝１：９）で精製し、目的物2.8gを得
た。
【０２８５】・1H−NMR (90MHz, CDCl3)δ；0.88(m,3
H), 1.02〜1.42(m,34H), 1.78(t,J=7Hz,3H), 3.04〜3.9
0(m,7H)，3.23(s,3H), 3.92(s,3H), 4.00〜4.24(m,4H),
4.88〜5.10(b,1H),5.30(m,2H), 5.48〜5.76(b,1H), 5.
59(s,2H), 6.92〜7.20(m,2H),7.40〜7.65(m,2H), 8.01
〜8.26(m,2H), 8.36〜8.64(m,1H),10.20〜１０．４０
（ｍ，１Ｈ）
H), 1.02〜1.42(m,34H), 1.78(t,J=7Hz,3H), 3.04〜3.9
0(m,7H)，3.23(s,3H), 3.92(s,3H), 4.00〜4.24(m,4H),
4.88〜5.10(b,1H),5.30(m,2H), 5.48〜5.76(b,1H), 5.
59(s,2H), 6.92〜7.20(m,2H),7.40〜7.65(m,2H), 8.01
〜8.26(m,2H), 8.36〜8.64(m,1H),10.20〜１０．４０
（ｍ，１Ｈ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/535 ＡＢＦ Ａ６１Ｋ 31/535 ＡＢＦ ＡＢＳ ＡＢＳ Ｃ０７Ｄ 401/12 ２０７ Ｃ０７Ｄ 401/12 ２０７ 405/12 ２１３ 405/12 ２１３ 409/12 ２１３ 409/12 ２１３ //(Ｃ０７Ｄ 405/12 213:40 307:06） (72)発明者 川原 哲也 茨城県つくば市天久保２丁目23−５ メゾ ン学園304号 (72)発明者 阿部 信也 茨城県牛久市女化町1083−44 (72)発明者 宮澤 修平 茨城県取手市白山６−８−17 サンラフォ ーレＢ202 (72)発明者 宮本 光明 茨城県土浦市中高津１−４−５ (72)発明者 吉村 寛幸 茨城県つくば市二の宮４丁目４−18 サニ ーヒルテラス301号 (72)発明者 原田 耕吉 茨城県つくば市松代２丁目11−２ グリー ンハイム３棟２号 (72)発明者 永岡 淳作 茨城県つくば市大字金田1803−１ (72)発明者 川田 力 茨城県土浦市中央２−16−23 亀城ハイツ 25号 (72)発明者 吉村 勉 茨城県つくば市千現２丁目７−18 細田住 宅４号棟 (72)発明者 鈴木 弘真 茨城県取手市台宿１−３−10 (72)発明者 左右田 茂 茨城県牛久市牛久町972−16 (72)発明者 町田 善正 茨城県つくば市下広岡500−81 (72)発明者 片山 幸一 茨城県つくば市梅園２丁目30−３ (72)発明者 山津 功 茨城県牛久市柏田町3605−669
Claims (22)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ｛式中、 Aは 【化２】 （式中、 mは０〜６の整数を意味し、R2,R3,R4は同一又
は相異なる水素原子又は低級アルコキシ基を意味する)
で示される基、 【化３】 （式中、 pは０〜６の整数を意味し、R5は水素原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する）で
示される基、 (3) 式 -NH-(CH2)q-R6 （式中、 qは０〜６の整数を意味し、R6はアリール基又
はヘテロアリール基を意味する）で示される基、 (4) 式 -NH-(CH2)r-OR7 （式中、 rは０〜６の整数を意味し、R7はアルキル基を
意味する) で示される基、 【化４】 （式中、 sは０〜20の整数を意味し、R8,R9 は同一又は
相異なる水素原子、低級アルキル基を意味する) で示さ
れる基、 【化５】 （式中、 tは０〜６の整数を意味し、R10 は水素原子又
は低級アルコキシカルボニル基を意味する) で示される
基、 【化６】 （式中、 uは０〜６の整数を意味し、R11,R12 は同一又
は相異なる水素原子、低級アルキル基を意味し、更に R
11,R12が一緒になって酸素原子を含んでもよい環を形成
してもよい。) で示される基、 (8) 式 −ＮＨ−（ＣＨ２）ｖ−Ｏ−（ＣＨ２）ｗ−
Ｏ−（ＣＨ２）ｘ−Ｈ （式中、 ｖは１〜10の整数を意味し、 wは１〜10の整
数を意味し、 xは１〜10の整数を意味する) で示される
基、 【化７】 （式中、 yは０〜６の整数を意味し、R13 は水素原子又
はアルキル基を意味する) で示される基、又は 【化８】 （式中、 zは０〜６の整数を意味し、 aは３〜４の整数
を意味し、 Dは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
する) で示される基を意味する。B は低級アルキル基又
はアリールアルキル基を意味する。R1はアシル基を意味
する。n は０〜３の整数を意味する。 【化９】 で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩。 - 【請求項２】 薬理学的に許容できる塩が、 Gの定義に
おけるピリジン環の窒素原子において四級化された四級
塩である請求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項３】 薬理学的に許容できる塩が、一般式 【化１０】 ｛式中、 Aは 【化１１】 （式中、 mは０〜６の整数を意味し、R2,R3,R4は同一又
は相異なる水素原子又は低級アルコキシ基を意味する)
で示される基、 【化１２】 （式中、 pは０〜６の整数を意味し、R5は水素原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する）で
示される基、 (3) 式 -NH-(CH2)q-R6 （式中、 qは０〜６の整数を意味し、R6はアリール基又
はヘテロアリール基を意味する）で示される基、 (4) 式 -NH-(CH2)r-OR7 （式中、 rは０〜６の整数を意味し、R7はアルキル基を
意味する) で示される基、 【化１３】 （式中、 sは０〜20の整数を意味し、R8,R9 は同一又は
相異なる水素原子、低級アルキル基を意味する) で示さ
れる基、 【化１４】 （式中、 tは０〜６の整数を意味し、R10 は水素原子又
は低級アルコキシカルボニル基を意味する) で示される
基、 【化１５】 （式中、 uは０〜６の整数を意味し、R11,R12 は同一又
は相異なる水素原子、低級アルキル基を意味し、更に R
11,R12が一緒になって酸素原子を含んでもよい環を形成
してもよい。) で示される基、 (8) 式 -NH-(CH2)v-O-(CH2)w-O-(CH2)x-H （式中、 vは１〜10の整数を意味し、 wは１〜10の整数
を意味し、 xは１〜10の整数を意味する) で示される
基、 【化１６】 （式中、 yは０〜６の整数を意味し、R13 は水素原子又
はアルキル基を意味する) で示される基、又は 【化１７】 （式中、 zは０〜６の整数を意味し、 aは３〜４の整数
を意味し、 Dは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
する) で示される基を意味する。B は低級アルキル基又
はアリールアルキル基を意味する。R1はアシル基を意味
する。n は０〜３の整数を意味する。 【化１８】 （式中、 R14は水素原子又は低級アルキル基を意味し、
Xは薬理学的に許容できるアニオンを意味する）で示さ
れる基を意味する。｝で表される四級塩である請求項１
記載の薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項４】 Xがハロゲンである請求項３記載の薬理
学的に許容できる塩。 - 【請求項５】 Xが塩素である請求項４記載の薬理学的
に許容できる塩。 - 【請求項６】 Aが式 【化１９】 （式中、 pは０〜６の整数を意味し、R5は水素原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する）で
示される基である請求項１〜５のいずれか一項に記載の
グリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項７】 pが１であり、R5が炭素数14〜22のアル
キル基である請求項６記載のグリセリン誘導体又はその
薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項８】 Aが式 【化２０】 （式中、p'は１の整数を意味し、R5' は炭素数14〜22の
アルキル基を意味する）で示される基であり、 Bがメチ
ル基であり、R1がｏ−，ｍ−又はｐ−メトキシベンゾイ
ル基であり、 nが１である請求項１〜５のいずれか一項
に記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容でき
る塩。 - 【請求項９】 Aが式 【化２１】 （式中、 yは０〜６の整数を意味し、R13 は水素原子又
はアルキル基を意味する) で示される基である請求項１
〜５のいずれか一項に記載のグリセリン誘導体又はその
薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項１０】 Aが式 【化２２】 （式中、 yは０〜６の整数を意味し、R13 は水素原子又
はアルキル基を意味する) で示される基であり、 Bがメ
チル基であり、R1がｏ−，ｍ−又はｐ−メトキシベンゾ
イル基であり、 nが１である請求項１〜５のいずれか一
項に記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩。 - 【請求項１１】 式 【化２３】 で表される請求項１記載のグリセリン誘導体又はその薬
理学的に許容できる塩。 - 【請求項１２】 式 【化２４】 で表される請求項１記載のグリセリン誘導体又はその薬
理学的に許容できる塩。 - 【請求項１３】 式 【化２５】 （式中、 R14は水素原子又は低級アルキル基を意味し、
Xは薬理学的に許容できるアニオンを意味する）で表さ
れる請求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項１４】 式 【化２６】 （式中、 R14は水素原子又は低級アルキル基を意味し、
Xは薬理学的に許容できるアニオンを意味する）で表さ
れる請求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項１５】 Xがハロゲンである請求項１３又は１
４に記載の薬理学的に許容できる塩。 - 【請求項１６】 R14がエチル基であり、 Xが塩素であ
る請求項１３又は１４に記載の薬理学的に許容できる
塩。 - 【請求項１７】 一般式 【化２７】 ｛式中、 Aは 【化２８】 （式中、 mは０〜６の整数を意味し、R2,R3,R4は同一又
は相異なる水素原子又は低級アルコキシ基を意味する)
で示される基、 【化２９】 （式中、 pは０〜６の整数を意味し、R5は水素原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する）で
示される基、 (3) 式 -NH-(CH2)q-R6 （式中、 qは０〜６の整数を意味し、R6はアリール基又
はヘテロアリール基を意味する）で示される基、 (4) 式 -NH-(CH2)r-OR7 （式中、 rは０〜６の整数を意味し、R7はアルキル基を
意味する) で示される基、 【化３０】 （式中、 sは０〜20の整数を意味し、R8,R9 は同一又は
相異なる水素原子、低級アルキル基を意味する) で示さ
れる基、 【化３１】 （式中、 tは０〜６の整数を意味し、R10 は水素原子又
は低級アルコキシカルボニル基を意味する) で示される
基、 【化３２】 （式中、 uは０〜６の整数を意味し、R11,R12 は同一又
は相異なる水素原子、低級アルキル基を意味し、更に R
11,R12が一緒になって酸素原子を含んでもよい環を形成
してもよい。) で示される基、 (8) 式 -NH-(CH2)v-O-(CH2)w-O-(CH2)x-H （式中、 vは１〜10の整数を意味し、 wは１〜10の整数
を意味し、 xは１〜10の整数を意味する) で示される
基、 【化３３】 （式中、 yは０〜６の整数を意味し、R13 は水素原子又
はアルキル基を意味する) で示される基、又は 【化３４】 （式中、 zは０〜６の整数を意味し、 aは３〜４の整数
を意味し、 Dは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
する) で示される基を意味する。B は低級アルキル基又
はアリールアルキル基を意味する。R1はアシル基を意味
する。n は０〜３の整数を意味する。 【化３５】 で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩を有効成分とする抗ＰＡＦ剤。 - 【請求項１８】 一般式 【化３６】 ｛式中、 Aは 【化３７】 （式中、 mは０〜６の整数を意味し、R2,R3,R4は同一又
は相異なる水素原子又は低級アルコキシ基を意味する)
で示される基、 【化３８】 （式中、 pは０〜６の整数を意味し、R5は水素原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する）で
示される基、 (3) 式 -NH-(CH2)q-R6 （式中、 qは０〜６の整数を意味し、R6はアリール基又
はヘテロアリール基を意味する）で示される基、 (4) 式 -NH-(CH2)r-OR7 （式中、 rは０〜６の整数を意味し、R7はアルキル基を
意味する) で示される基、 【化３９】 （式中、 sは０〜20の整数を意味し、R8,R9 は同一又は
相異なる水素原子、低級アルキル基を意味する) で示さ
れる基、 【化４０】 （式中、 tは０〜６の整数を意味し、R10 は水素原子又
は低級アルコキシカルボニル基を意味する) で示される
基、 【化４１】 （式中、 uは０〜６の整数を意味し、R11,R12 は同一又
は相異なる水素原子、低級アルキル基を意味し、更に R
11,R12が一緒になって酸素原子を含んでもよい環を形成
してもよい。) で示される基、 (8) 式 -NH-(CH2)v-O-(CH2)w-O-(CH2)x-H （式中、 vは１〜10の整数を意味し、 wは１〜10の整数
を意味し、 xは１〜10の整数を意味する) で示される
基、 【化４２】 （式中、 yは０〜６の整数を意味し、R13 は水素原子又
はアルキル基を意味する) で示される基、又は 【化４３】 （式中、 zは０〜６の整数を意味し、 aは３〜４の整数
を意味し、 Dは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
する) で示される基を意味する。B は低級アルキル基又
はアリールアルキル基を意味する。R1はアシル基を意味
する。n は０〜３の整数を意味する。 【化４４】 で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
きる塩を有効成分とする抗ＰＡＦ剤が有効な疾患の治療
・予防剤。 - 【請求項１９】 薬理学的に許容できる塩が、 Gの定義
におけるピリジン環が、式 【化４５】 （式中、R14 は水素原子又は低級アルキル基を意味し、
Xは薬理学的に許容できるアニオンを意味する）で表さ
れる四級塩となったものである請求項１７又は１８記載
の抗ＰＡＦ剤若しくは抗ＰＡＦ剤が有効な疾患の治療・
予防剤。 - 【請求項２０】 疾患がＤＩＣである請求項１８又は１
９記載の治療・予防剤。 - 【請求項２１】 疾患がショックである請求項１８又は
１９記載の治療・予防剤。 - 【請求項２２】 疾患がアレルギー疾患である請求項１
８又は１９記載の治療・予防剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3039496A JP2758584B2 (ja) | 1988-07-04 | 1996-02-19 | グリセリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-166386 | 1988-07-04 | ||
| JP16638688 | 1988-07-04 | ||
| JP3039496A JP2758584B2 (ja) | 1988-07-04 | 1996-02-19 | グリセリン誘導体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1171362A Division JP2766319B2 (ja) | 1988-07-04 | 1989-07-03 | グリセリン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08231508A true JPH08231508A (ja) | 1996-09-10 |
| JP2758584B2 JP2758584B2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=26368722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3039496A Expired - Fee Related JP2758584B2 (ja) | 1988-07-04 | 1996-02-19 | グリセリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2758584B2 (ja) |
-
1996
- 1996-02-19 JP JP3039496A patent/JP2758584B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP2758584B2 (ja) | 1998-05-28 |
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