JPH08231602A - セルロースエーテルの脱水方法 - Google Patents
セルロースエーテルの脱水方法Info
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- JPH08231602A JPH08231602A JP7033225A JP3322595A JPH08231602A JP H08231602 A JPH08231602 A JP H08231602A JP 7033225 A JP7033225 A JP 7033225A JP 3322595 A JP3322595 A JP 3322595A JP H08231602 A JPH08231602 A JP H08231602A
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- screens
- cellulose
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- Filtration Of Liquid (AREA)
- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 セルロースエーテルの回収に際し、凝集点が
９５℃以下のセルロースエーテルを効率良く脱水し、脱
水度を上げることで、乾燥工程のエネルギー負荷を下
げ、低動力で連続的に脱水し、かつ、凝集点が９０℃以
上のセルロースエーテルの脱水を可能としたセルロース
エーテルの脱水方法を提供する。 【構成】 回転につれて間隔が縮小する円盤状の一対の
スクリーンを有し、該スクリーンが水分を通過させるた
めの小孔を有し、かつ、該小孔に対してその周囲に凹凸
形状を付したＶ型デイスクプレスを利用したセルロース
エーテルの脱水方法
９５℃以下のセルロースエーテルを効率良く脱水し、脱
水度を上げることで、乾燥工程のエネルギー負荷を下
げ、低動力で連続的に脱水し、かつ、凝集点が９０℃以
上のセルロースエーテルの脱水を可能としたセルロース
エーテルの脱水方法を提供する。 【構成】 回転につれて間隔が縮小する円盤状の一対の
スクリーンを有し、該スクリーンが水分を通過させるた
めの小孔を有し、かつ、該小孔に対してその周囲に凹凸
形状を付したＶ型デイスクプレスを利用したセルロース
エーテルの脱水方法
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｖ型デイスクプレスを
用いたセルロースエーテルの脱水方法に関するものであ
る。
用いたセルロースエーテルの脱水方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】セルロースエーテルは粉末状，チップ
状，あるいはシート状のセルロースを水酸化ナトリウム
の存在下、一種またはそれ以上のエーテル化剤と反応さ
せることによって工業的に製造される。エーテル化剤と
しては塩化メチル，エチレンオキサイド，プロピレンオ
キサイドがしばしば使用される。セルロースエーテルの
うち凝集点（熱ゲル化温度）が約９５℃より低いものに
ついては、通常凝集点より高い熱水で洗浄することによ
り、塩化ナトリウム，グリコール，ポリグリコール，お
よびグリコレートのような副生成物から容易に分離する
ことができる。この洗浄は通常、連続式水平型真空濾過
器，水平テーブル型濾過器，および水平ベルト型濾過器
により連続的に行われる。洗浄濾過されたセルロースエ
ーテルは、乾燥機の負荷軽減および水溶性副生成物塩類
の低減のためさらに脱水処理される。
状，あるいはシート状のセルロースを水酸化ナトリウム
の存在下、一種またはそれ以上のエーテル化剤と反応さ
せることによって工業的に製造される。エーテル化剤と
しては塩化メチル，エチレンオキサイド，プロピレンオ
キサイドがしばしば使用される。セルロースエーテルの
うち凝集点（熱ゲル化温度）が約９５℃より低いものに
ついては、通常凝集点より高い熱水で洗浄することによ
り、塩化ナトリウム，グリコール，ポリグリコール，お
よびグリコレートのような副生成物から容易に分離する
ことができる。この洗浄は通常、連続式水平型真空濾過
器，水平テーブル型濾過器，および水平ベルト型濾過器
により連続的に行われる。洗浄濾過されたセルロースエ
ーテルは、乾燥機の負荷軽減および水溶性副生成物塩類
の低減のためさらに脱水処理される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ここで、従来この脱水
には、押出し式遠心分離機が使用されているが、脱水後
のセルロースエーテルケーキ水分は５０重量％（Ｗ．
Ｂ）が限界であった。さらに、遠心分離機ではスクリー
ンバスケットを高速で回転させる必要から多大な動力を
必要とし、かつ、高速回転に伴う風の発生のため遠心分
離機内の温度が低下し、凝集点が９０℃以上の比較的高
いセルロースエーテルの脱水が困難であった。
には、押出し式遠心分離機が使用されているが、脱水後
のセルロースエーテルケーキ水分は５０重量％（Ｗ．
Ｂ）が限界であった。さらに、遠心分離機ではスクリー
ンバスケットを高速で回転させる必要から多大な動力を
必要とし、かつ、高速回転に伴う風の発生のため遠心分
離機内の温度が低下し、凝集点が９０℃以上の比較的高
いセルロースエーテルの脱水が困難であった。
【０００４】したがって、本発明の目的は、セルロース
エーテルの回収に際し、凝集点が９５℃以下のセルロー
スエーテルを効率良く脱水し、脱水度を上げることで、
乾燥工程のエネルギー負荷を下げ、低動力で連続的に脱
水し、また、製品の水溶性無機塩類の不純物を低下さ
せ、製品の品質を向上させるようにし、かつ、凝集点が
９０℃以上のセルロースエーテルの脱水を可能としたセ
ルロースエーテルの脱水方法を提供することにある。
エーテルの回収に際し、凝集点が９５℃以下のセルロー
スエーテルを効率良く脱水し、脱水度を上げることで、
乾燥工程のエネルギー負荷を下げ、低動力で連続的に脱
水し、また、製品の水溶性無機塩類の不純物を低下さ
せ、製品の品質を向上させるようにし、かつ、凝集点が
９０℃以上のセルロースエーテルの脱水を可能としたセ
ルロースエーテルの脱水方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、請
求項１のセルロースエーテルの脱水方法は、セルロース
をエーテル化して得られるセルロースエーテルを洗浄濾
過して含水セルロースエーテルを得た後；回転につれて
間隔が縮小する円盤状の一対のスクリーンを有し、該ス
クリーンが水分を通過させるための小孔を有するＶ型デ
イスクプレスに、上記含水セルロースエーテルを供給
し；上記円盤状の一対のスクリーンによって含水セルロ
ースエーテルを圧搾し；水分をスクリーンを通過して回
収するとともに；圧搾によって脱水されたセルロースエ
ーテルを上記スクリーンとともに回転しながら排出し回
収することを特徴とする。
求項１のセルロースエーテルの脱水方法は、セルロース
をエーテル化して得られるセルロースエーテルを洗浄濾
過して含水セルロースエーテルを得た後；回転につれて
間隔が縮小する円盤状の一対のスクリーンを有し、該ス
クリーンが水分を通過させるための小孔を有するＶ型デ
イスクプレスに、上記含水セルロースエーテルを供給
し；上記円盤状の一対のスクリーンによって含水セルロ
ースエーテルを圧搾し；水分をスクリーンを通過して回
収するとともに；圧搾によって脱水されたセルロースエ
ーテルを上記スクリーンとともに回転しながら排出し回
収することを特徴とする。
【０００６】請求項２に記載された発明は、請求項１の
セルロースエーテルの脱水方法において、上記スクリー
ンの背面に蒸気もしくは熱水、またはその双方をスプレ
ーし、加熱とスクリーンの背面の洗浄を行うことを特徴
とする。
セルロースエーテルの脱水方法において、上記スクリー
ンの背面に蒸気もしくは熱水、またはその双方をスプレ
ーし、加熱とスクリーンの背面の洗浄を行うことを特徴
とする。
【０００７】請求項３または請求項４に記載された発明
は、請求項１または請求項２のセルロースエーテルの脱
水方法において、上記小孔の周囲に凹凸形状を付し、こ
の凹凸形状を付した小孔を有するスクリーンが、スリッ
トグリルスクリーン，ダイヤスクリーン，スタッブスク
リーン，出窓型スクリーンまたはブリッジ型スクリーン
であることを特徴とする。
は、請求項１または請求項２のセルロースエーテルの脱
水方法において、上記小孔の周囲に凹凸形状を付し、こ
の凹凸形状を付した小孔を有するスクリーンが、スリッ
トグリルスクリーン，ダイヤスクリーン，スタッブスク
リーン，出窓型スクリーンまたはブリッジ型スクリーン
であることを特徴とする。
【０００８】請求項５に記載された発明の要旨は、回転
につれて間隔が縮小する円盤状の一対のスクリーンを有
し、該スクリーンが水分を通過させるための小孔を有
し、かつ、該小孔に対してその周囲に凹凸形状を付した
Ｖ型デイスクプレスにある。
につれて間隔が縮小する円盤状の一対のスクリーンを有
し、該スクリーンが水分を通過させるための小孔を有
し、かつ、該小孔に対してその周囲に凹凸形状を付した
Ｖ型デイスクプレスにある。
【０００９】本発明では洗浄濾過された水溶性含水セル
ロースエーテルは直接あるいはスクリューコンベアー等
の輸送手段を介して、連続圧搾式のＶ型デイスクプレス
に連続的に供給される。含水セルロースエーテルの供給
速度は、その濃度等により適宜設定される。供給された
含水セルロースエーテルは回転につれて間隔が縮小する
円盤状の２対のスクリーンによって挟圧脱水され、水溶
性副生無機塩類を含む脱水液はスクリーン背面に流出
し、他方、含水セルロースエーテルはスクリーンと共に
回転し排出される。
ロースエーテルは直接あるいはスクリューコンベアー等
の輸送手段を介して、連続圧搾式のＶ型デイスクプレス
に連続的に供給される。含水セルロースエーテルの供給
速度は、その濃度等により適宜設定される。供給された
含水セルロースエーテルは回転につれて間隔が縮小する
円盤状の２対のスクリーンによって挟圧脱水され、水溶
性副生無機塩類を含む脱水液はスクリーン背面に流出
し、他方、含水セルロースエーテルはスクリーンと共に
回転し排出される。
【００１０】Ｖ型デイスクプレスは比重差を利用した遠
心分離機と異なり圧搾方式によるものであるため、脱水
度は圧搾圧力とスクリーン回転数とで調整できる。本発
明では、含水セルロースエーテル（ケーキ）との密着性
を考慮したスクリーンを使用することにより、脱水後の
水分は３５〜４０重量％（Ｗ．Ｂ）にまで低下させるこ
とができる。
心分離機と異なり圧搾方式によるものであるため、脱水
度は圧搾圧力とスクリーン回転数とで調整できる。本発
明では、含水セルロースエーテル（ケーキ）との密着性
を考慮したスクリーンを使用することにより、脱水後の
水分は３５〜４０重量％（Ｗ．Ｂ）にまで低下させるこ
とができる。
【００１１】すなわち、本発明では、スクリーンの水分
を通過させるための小孔の周囲に凹凸形状を付すること
としている。凹凸形状としては、スリット型，ダイヤ
型，スタッブ型，出窓型，ブリッジ型のもの等を使用す
ることができ、好ましくはスリット型のものが良い。こ
れらの凹凸形状を付したスクリーンは、滑り摩擦係数が
大きくなり、含水セルロースエーテルとの密着性が向上
し、脱水度が大きく向上する。Ｖ型デイスクプレスのス
クリーンの目開きは、１ｍｍ2 以下が好ましく、目開き
がこれより大では、圧搾時にスクリーンを通過するロス
分が大きくなることがあり好ましくない。またＶ型デイ
スクプレスは、圧搾方式のため、スクリーンの回転数は
通常１〜１２ｒｐｍ（スクリーン直径：０．５〜１．５
ｍ）で、遠心分離機の５００〜２，０００ｒｐｍに比較
して非常に低速回転であるため、極めて低い動力で運転
できる。さらにＶ型デイスクプレスは遠心分離機と異な
りスクリーン回転に伴う風の発生がなく脱水機が冷却さ
れることもない。またスクリーン背面を蒸気および／ま
たは熱水でスプレーすることで、凝集点が９５℃までの
含水セルロースエーテルの脱水が可能となる。
を通過させるための小孔の周囲に凹凸形状を付すること
としている。凹凸形状としては、スリット型，ダイヤ
型，スタッブ型，出窓型，ブリッジ型のもの等を使用す
ることができ、好ましくはスリット型のものが良い。こ
れらの凹凸形状を付したスクリーンは、滑り摩擦係数が
大きくなり、含水セルロースエーテルとの密着性が向上
し、脱水度が大きく向上する。Ｖ型デイスクプレスのス
クリーンの目開きは、１ｍｍ2 以下が好ましく、目開き
がこれより大では、圧搾時にスクリーンを通過するロス
分が大きくなることがあり好ましくない。またＶ型デイ
スクプレスは、圧搾方式のため、スクリーンの回転数は
通常１〜１２ｒｐｍ（スクリーン直径：０．５〜１．５
ｍ）で、遠心分離機の５００〜２，０００ｒｐｍに比較
して非常に低速回転であるため、極めて低い動力で運転
できる。さらにＶ型デイスクプレスは遠心分離機と異な
りスクリーン回転に伴う風の発生がなく脱水機が冷却さ
れることもない。またスクリーン背面を蒸気および／ま
たは熱水でスプレーすることで、凝集点が９５℃までの
含水セルロースエーテルの脱水が可能となる。
【００１２】本発明の脱水方法が適用されるセルロース
エーテルとしては、例えば、メチルセルロース，エチル
セルロースなどのアルキルセルロース；ヒドロキシエチ
ルセルロース，ヒドロキシプロピルセルロースなどのヒ
ドロキシアルキルセルロース；ヒドロキシエチルメチル
セルロース，ヒドロキシプロピルメチルセルロース，ヒ
ドロキシエチルエチルセルロースなどのヒドロキシアル
キルアルキルセルロースなどが挙げられるが、これらの
内では凝集点が約９５℃より低いものに対してとくに有
効である。
エーテルとしては、例えば、メチルセルロース，エチル
セルロースなどのアルキルセルロース；ヒドロキシエチ
ルセルロース，ヒドロキシプロピルセルロースなどのヒ
ドロキシアルキルセルロース；ヒドロキシエチルメチル
セルロース，ヒドロキシプロピルメチルセルロース，ヒ
ドロキシエチルエチルセルロースなどのヒドロキシアル
キルアルキルセルロースなどが挙げられるが、これらの
内では凝集点が約９５℃より低いものに対してとくに有
効である。
【００１３】さらに、本発明では、凹凸形状を付したス
クリーンを備えたＶ型デイスクプレスを使用した圧搾方
式を採用しているので、高速回転が不要となり、高速回
転による装置内における温度低下が起こらず、凝集点が
９０℃以上のセルロースエーテルを脱水することができ
る。
クリーンを備えたＶ型デイスクプレスを使用した圧搾方
式を採用しているので、高速回転が不要となり、高速回
転による装置内における温度低下が起こらず、凝集点が
９０℃以上のセルロースエーテルを脱水することができ
る。
【００１４】
【実施例】以下に、添付図面に示した実施例を参照しな
がら、本発明にかかるセルロースエーテルの脱水方法を
説明する。
がら、本発明にかかるセルロースエーテルの脱水方法を
説明する。
【００１５】図１，図２は、本発明にかかるセルロース
エーテルの脱水方法に使用するＶ型デイスクプレスの実
施例を示し、図において、１はＶ型デイスクプレス本
体、２ａ，２ｂはスクリーン、３ａ，３ｂはスピンド
ル、４ａ，４ｂは支持腕、５は油圧シリンダである。
エーテルの脱水方法に使用するＶ型デイスクプレスの実
施例を示し、図において、１はＶ型デイスクプレス本
体、２ａ，２ｂはスクリーン、３ａ，３ｂはスピンド
ル、４ａ，４ｂは支持腕、５は油圧シリンダである。
【００１６】上記一対のスクリーン２ａ，２ｂは、図か
ら了解されるように円盤（円錐面）状に構成されてお
り、回転支持部１１ａ，１１ｂに固定されている。スク
リーン２ａ，２ｂの間隔は、原料入口側Ａで最も広く、
１８０度回転した反対側Ｂで最も狭くなる。スクリーン
２ａ，２ｂは、図３に示すように、正面から見て６枚に
分割されており、それぞれ小孔２１を多数均一に穿孔し
たパンチングメタルプレート２０より成り、小孔の大き
さ（スクリーンの目開）と小孔２１の数によって開口率
が決定される。パンチングメタルプレート２０は、圧搾
時の加圧に耐えるために、裏面を適宜補強プレート２２
で強化されている（図４）。補強プレート２２は、均一
に穿孔した大孔２３を備えている。
ら了解されるように円盤（円錐面）状に構成されてお
り、回転支持部１１ａ，１１ｂに固定されている。スク
リーン２ａ，２ｂの間隔は、原料入口側Ａで最も広く、
１８０度回転した反対側Ｂで最も狭くなる。スクリーン
２ａ，２ｂは、図３に示すように、正面から見て６枚に
分割されており、それぞれ小孔２１を多数均一に穿孔し
たパンチングメタルプレート２０より成り、小孔の大き
さ（スクリーンの目開）と小孔２１の数によって開口率
が決定される。パンチングメタルプレート２０は、圧搾
時の加圧に耐えるために、裏面を適宜補強プレート２２
で強化されている（図４）。補強プレート２２は、均一
に穿孔した大孔２３を備えている。
【００１７】この実施例において、スクリーンの個々の
小孔の大きさ（スクリーンの目開き）は、１ｍｍ2 以下
が好ましい。目開きがこれより大では、圧搾時にスクリ
ーンを通過するロス分が大きくなることがあり好ましく
ない。また、スクリーン傾斜角は６５°程度のものが脱
水効率が良く、好ましい。
小孔の大きさ（スクリーンの目開き）は、１ｍｍ2 以下
が好ましい。目開きがこれより大では、圧搾時にスクリ
ーンを通過するロス分が大きくなることがあり好ましく
ない。また、スクリーン傾斜角は６５°程度のものが脱
水効率が良く、好ましい。
【００１８】さらにこの実施例では、上記小孔２１が図
５，図６に示すスリット状のものを使用した。すなわち
スリットグリルスクリーンを使用した。このスリットグ
リルスクリーンは、図示のように、スリット状の小孔２
１をパンチングメタルプレート２０に多数設けたもので
ある。このスリット状小孔２１は、グリル２４を設ける
ことによって穿設される。このグリル２４は、含水セル
ロースエーテルの流れ（図中Ｃ）に対し、抵抗を持ち、
スクリーン表面の滑り摩擦係数を増大させ、含水セルロ
ースエーテルとスクリーン表面との密着性を向上させ
る。すなわち、脱水度を大きく高めることができる。
５，図６に示すスリット状のものを使用した。すなわち
スリットグリルスクリーンを使用した。このスリットグ
リルスクリーンは、図示のように、スリット状の小孔２
１をパンチングメタルプレート２０に多数設けたもので
ある。このスリット状小孔２１は、グリル２４を設ける
ことによって穿設される。このグリル２４は、含水セル
ロースエーテルの流れ（図中Ｃ）に対し、抵抗を持ち、
スクリーン表面の滑り摩擦係数を増大させ、含水セルロ
ースエーテルとスクリーン表面との密着性を向上させ
る。すなわち、脱水度を大きく高めることができる。
【００１９】なお、本実施例では、図５，図６のスリッ
トグリルスクリーンを採用したが、凹凸形状としては、
他にも図７ないし図１７に示すものを使用することがで
きる。
トグリルスクリーンを採用したが、凹凸形状としては、
他にも図７ないし図１７に示すものを使用することがで
きる。
【００２０】図７，図８に示すものは、ダイヤスクリー
ンである。このスクリーンは、パンチングメタルプレー
ト２０に先細の袋状の凹凸２５を設けることによって、
小孔２１を形成している。各小孔２１の袋状の凹凸２５
が流れ方向Ｃ（図８）に対し抵抗を有し、スクリーン表
面の滑り摩擦係数を増大させ、含水セルロースエーテル
とスクリーン表面との密着性を向上させる。
ンである。このスクリーンは、パンチングメタルプレー
ト２０に先細の袋状の凹凸２５を設けることによって、
小孔２１を形成している。各小孔２１の袋状の凹凸２５
が流れ方向Ｃ（図８）に対し抵抗を有し、スクリーン表
面の滑り摩擦係数を増大させ、含水セルロースエーテル
とスクリーン表面との密着性を向上させる。
【００２１】図９，図１０，図１１に示すものは、スタ
ッブスクリーンである。このスクリーンは、パンチング
メタルプレート２０に断面波型のスタッブ型の凹凸２６
を設けることによって、小孔２１を形成している。各小
孔２１のスタッブ型の凹凸２６が流れ方向Ｃ（図１１）
に対し抵抗を有し、スクリーン表面の滑り摩擦係数を増
大させ、含水セルロースエーテルとスクリーン表面との
密着性を向上させる。
ッブスクリーンである。このスクリーンは、パンチング
メタルプレート２０に断面波型のスタッブ型の凹凸２６
を設けることによって、小孔２１を形成している。各小
孔２１のスタッブ型の凹凸２６が流れ方向Ｃ（図１１）
に対し抵抗を有し、スクリーン表面の滑り摩擦係数を増
大させ、含水セルロースエーテルとスクリーン表面との
密着性を向上させる。
【００２２】図１２，図１３，図１４に示すものは、出
窓型スクリーンである。このスクリーンは、パンチング
メタルプレート２０に出窓型の凹凸２７を設けることに
よって、小孔２１を形成している。各小孔２１の出窓型
の凹凸２７が流れ方向Ｃ（図１４）に対し抵抗を有し、
スクリーン表面の滑り摩擦係数を増大させ、含水セルロ
ースエーテルとスクリーン表面との密着性を向上させ
る。
窓型スクリーンである。このスクリーンは、パンチング
メタルプレート２０に出窓型の凹凸２７を設けることに
よって、小孔２１を形成している。各小孔２１の出窓型
の凹凸２７が流れ方向Ｃ（図１４）に対し抵抗を有し、
スクリーン表面の滑り摩擦係数を増大させ、含水セルロ
ースエーテルとスクリーン表面との密着性を向上させ
る。
【００２３】図１５，図１６，図１７に示すものは、ブ
リッジ型スクリーンである。このスクリーンは、パンチ
ングメタルプレート２０にブリッジ型の凹凸２８を設け
ることによって、小孔２１を形成している。各小孔２１
のブリッジ型の凹凸２８が流れ方向Ｃ（図１７）に対し
抵抗を有し、スクリーン表面の滑り摩擦係数を増大さ
せ、含水セルロースエーテルとスクリーン表面との密着
性を向上させる。
リッジ型スクリーンである。このスクリーンは、パンチ
ングメタルプレート２０にブリッジ型の凹凸２８を設け
ることによって、小孔２１を形成している。各小孔２１
のブリッジ型の凹凸２８が流れ方向Ｃ（図１７）に対し
抵抗を有し、スクリーン表面の滑り摩擦係数を増大さ
せ、含水セルロースエーテルとスクリーン表面との密着
性を向上させる。
【００２４】図２に示すように、上記スピンドル３ａ，
３ｂは、左右一対に構成されており、支持腕４ａ，４ｂ
に固定支持され、本体１の中央においてセンターピン６
によって互いに揺動自在に連結されている。なお、セン
ターピン６の両端は本体１に固定されている。一方、支
持腕４ａ，４ｂは、Ｌ字型に構成されており、上記した
ように一端においてスピンドル３ａ，３ｂを固定支持す
るとともに、他端は油圧シリンダ５を介して互いに連結
されている。この油圧シリンダ５の近傍において、支持
腕４ａ，４ｂは、リンク７ａ，７ｂを介して本体１に対
して変位可能に結合されている。８はリンク７ａと支持
腕４ａとの回転中心であり、９はリンク７ａ，７ｂの回
転中心である。リンク７ｂと支持腕４ｂとの回転中心も
機構上勿論設定されているが、図２では隠れている。回
転中心９は、溝１０内で上下に摺動自在となっている
（すなわちスライダを構成する）。
３ｂは、左右一対に構成されており、支持腕４ａ，４ｂ
に固定支持され、本体１の中央においてセンターピン６
によって互いに揺動自在に連結されている。なお、セン
ターピン６の両端は本体１に固定されている。一方、支
持腕４ａ，４ｂは、Ｌ字型に構成されており、上記した
ように一端においてスピンドル３ａ，３ｂを固定支持す
るとともに、他端は油圧シリンダ５を介して互いに連結
されている。この油圧シリンダ５の近傍において、支持
腕４ａ，４ｂは、リンク７ａ，７ｂを介して本体１に対
して変位可能に結合されている。８はリンク７ａと支持
腕４ａとの回転中心であり、９はリンク７ａ，７ｂの回
転中心である。リンク７ｂと支持腕４ｂとの回転中心も
機構上勿論設定されているが、図２では隠れている。回
転中心９は、溝１０内で上下に摺動自在となっている
（すなわちスライダを構成する）。
【００２５】上記本体１，センターピン６，スピンドル
３ａと一体の支持腕４ａ，回転中心８，リンク７ａ，回
転中心９および溝１０で一種の回りスライダクランク機
構を構成する。同様に、本体１，センターピン６，スピ
ンドル３ｂと一体の支持腕４ｂ，回転中心８，リンク７
ｂ，回転中心９および溝１０で一種の回りスライダクラ
ンク機構を構成する。この結果、油圧シリンダ５の左右
動によってリンク７ａ，７ｂの開き角度を調節すること
によって、これらの要素と連動するスピンドル３ａ，３
ｂの角度を調節し、スクリーン２ａ，２ｂの開きを調節
し、圧搾力を制御することができる。なお、本実施例で
は、スクリーンの開きを調節するための機構を上記の回
りスライダクランク機構としたが、例えば、スライダの
部分をリンクで置き換え、四節回転連鎖機構とする等、
要するにスピンドルの角度を調節できる機構ならば本発
明で採用することができる。
３ａと一体の支持腕４ａ，回転中心８，リンク７ａ，回
転中心９および溝１０で一種の回りスライダクランク機
構を構成する。同様に、本体１，センターピン６，スピ
ンドル３ｂと一体の支持腕４ｂ，回転中心８，リンク７
ｂ，回転中心９および溝１０で一種の回りスライダクラ
ンク機構を構成する。この結果、油圧シリンダ５の左右
動によってリンク７ａ，７ｂの開き角度を調節すること
によって、これらの要素と連動するスピンドル３ａ，３
ｂの角度を調節し、スクリーン２ａ，２ｂの開きを調節
し、圧搾力を制御することができる。なお、本実施例で
は、スクリーンの開きを調節するための機構を上記の回
りスライダクランク機構としたが、例えば、スライダの
部分をリンクで置き換え、四節回転連鎖機構とする等、
要するにスピンドルの角度を調節できる機構ならば本発
明で採用することができる。
【００２６】前記した回転支持部１１ａ，１１ｂは、図
２に示すように、ベアリングを介してスピンドル３ａ，
３ｂに回転自在に支承されており、一体のスプロケット
１２ａ，１２ｂに（チェーンを媒介として）伝達される
駆動力によって回転する。なお、回転支持部１１ａ，１
１ｂへの動力伝達機構は、他にもＶベルトによる伝達機
構等各種の機構を採用することが可能である。
２に示すように、ベアリングを介してスピンドル３ａ，
３ｂに回転自在に支承されており、一体のスプロケット
１２ａ，１２ｂに（チェーンを媒介として）伝達される
駆動力によって回転する。なお、回転支持部１１ａ，１
１ｂへの動力伝達機構は、他にもＶベルトによる伝達機
構等各種の機構を採用することが可能である。
【００２７】本実施例ではさらに、スクリーン２ａ，２
ｂの背面に、スプレーノズル１４により、蒸気もしくは
熱水、またはその双方をスプレーし、加熱とスクリーン
の背面の洗浄を行う。これによって、凝集点が９０℃以
上９５℃以下の含水セルロースエーテルの脱水が可能で
ある。
ｂの背面に、スプレーノズル１４により、蒸気もしくは
熱水、またはその双方をスプレーし、加熱とスクリーン
の背面の洗浄を行う。これによって、凝集点が９０℃以
上９５℃以下の含水セルロースエーテルの脱水が可能で
ある。
【００２８】次に、図１，図２のＶ型デイスクプレスを
使用して、含水セルロースエーテルを脱水する方法につ
いて説明する。
使用して、含水セルロースエーテルを脱水する方法につ
いて説明する。
【００２９】図１，図２のＶ型デイスクプレスを使用し
て含水セルロースエーテルを圧搾するに先だって前述し
た、洗浄，濾過の操作も行う。
て含水セルロースエーテルを圧搾するに先だって前述し
た、洗浄，濾過の操作も行う。
【００３０】以上の操作の後、図１，図２のＶ型デイス
クプレスに、含水セルロースエーテルを供給する。
クプレスに、含水セルロースエーテルを供給する。
【００３１】原料入口Ａに供給された原料は、両スクリ
ーン２ａ，２ｂに挟持されたまま、スクリーン２ａ，２
ｂの回転につれて徐々に挟圧され水分はスクリーン２
ａ，２ｂの背面に流出する。１８０度回転した点Ｂで最
大の圧搾を受けた後スクリーン２ａ，２ｂの間隔が次第
に開いて行き、脱水された含水セルロースエーテルがス
クレーパ１３に沿って排出される。これによって、セル
ロースエーテル成分を回収することができる。なお、Ｖ
型デイスクプレスへの含水セルロースエーテルの供給速
度は、セルロースエーテル含水率等により適宜選定され
る。
ーン２ａ，２ｂに挟持されたまま、スクリーン２ａ，２
ｂの回転につれて徐々に挟圧され水分はスクリーン２
ａ，２ｂの背面に流出する。１８０度回転した点Ｂで最
大の圧搾を受けた後スクリーン２ａ，２ｂの間隔が次第
に開いて行き、脱水された含水セルロースエーテルがス
クレーパ１３に沿って排出される。これによって、セル
ロースエーテル成分を回収することができる。なお、Ｖ
型デイスクプレスへの含水セルロースエーテルの供給速
度は、セルロースエーテル含水率等により適宜選定され
る。
【００３２】本実施例のＶ型デイスクプレスは、比重差
を利用した遠心分離機と異なり、圧搾方式によるもので
あるため、脱水度は圧搾圧力とスクリーン回転数とで調
整でき、また、スクリーン小孔に対してその周囲に凹凸
形状を付したので、セルロースエーテルの含水率として
３５〜４０重量％（Ｗ．Ｂ）にまで低下できる。そのた
め、その後の乾燥工程のエネルギー負荷を低減すること
が可能となる。
を利用した遠心分離機と異なり、圧搾方式によるもので
あるため、脱水度は圧搾圧力とスクリーン回転数とで調
整でき、また、スクリーン小孔に対してその周囲に凹凸
形状を付したので、セルロースエーテルの含水率として
３５〜４０重量％（Ｗ．Ｂ）にまで低下できる。そのた
め、その後の乾燥工程のエネルギー負荷を低減すること
が可能となる。
【００３３】また、図１，図２のＶ型デイスクプレスの
スクリーン回転数は、通常１〜１２ｒｐｍ（スクリーン
直径 ０．５〜１．５ｍ）程度の低速回転で圧搾でき
る。遠心分離機方式の５００〜２０００ｒｐｍに比較し
て極めて低い動力で運転できる。したがって、高速回転
による装置内における温度低下が起こらず、凝集点が９
０℃以上のセルロースエーテルを脱水することができ
る。
スクリーン回転数は、通常１〜１２ｒｐｍ（スクリーン
直径 ０．５〜１．５ｍ）程度の低速回転で圧搾でき
る。遠心分離機方式の５００〜２０００ｒｐｍに比較し
て極めて低い動力で運転できる。したがって、高速回転
による装置内における温度低下が起こらず、凝集点が９
０℃以上のセルロースエーテルを脱水することができ
る。
【００３４】試験例 ９５℃の熱水で洗浄濾過した水分：２３３ｗｔ％（対セ
ルロースエーテル），ＮａＣｌ：１２．５ｗｔ％（対セ
ルロースエーテル）のヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース（メトキシ置換度：１．４５，ヒドロキシプロピル
置換度：０．１９；凝集点９０℃）を図１，図２の実施
例と同型のＶ型デイスクプレス（朝日工機製、濾盤径：
７５０φ，搭載モーター：５．５ＫＷ）にスリットグリ
ルスクリーン（スリット：０．１５×３．５ｍｍ，ピッ
チ：０．８５ｍｍ，プレート厚：０．６ｍｍ）を使用
し、圧搾圧力：７５ｋｇ／ｃｍ2 ，濾盤回転数：２．５
ｒｐｍ，背面スチーム量：５０ｋｇ／Ｈｒ（１ｋｇ／ｃ
ｍ2 飽和蒸気）の条件下で５００ｋｇ／Ｈｒ（セルロー
スエーテル純分量）で連続約６Ｈｒ脱水を行った。得ら
れたセルロースエーテルの水分およびＮａＣｌ分を定量
したところ、水分は５４〜６７ｗｔ％（対セルロースエ
ーテル），ＮａＣｌは０．７２〜０．８８ｗｔ％（対セ
ルロースエーテル）であった。また、６Ｈｒの連続運転
でスクリーンの目詰まりもなく、脱水度の低下も認めら
れなかった。
ルロースエーテル），ＮａＣｌ：１２．５ｗｔ％（対セ
ルロースエーテル）のヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース（メトキシ置換度：１．４５，ヒドロキシプロピル
置換度：０．１９；凝集点９０℃）を図１，図２の実施
例と同型のＶ型デイスクプレス（朝日工機製、濾盤径：
７５０φ，搭載モーター：５．５ＫＷ）にスリットグリ
ルスクリーン（スリット：０．１５×３．５ｍｍ，ピッ
チ：０．８５ｍｍ，プレート厚：０．６ｍｍ）を使用
し、圧搾圧力：７５ｋｇ／ｃｍ2 ，濾盤回転数：２．５
ｒｐｍ，背面スチーム量：５０ｋｇ／Ｈｒ（１ｋｇ／ｃ
ｍ2 飽和蒸気）の条件下で５００ｋｇ／Ｈｒ（セルロー
スエーテル純分量）で連続約６Ｈｒ脱水を行った。得ら
れたセルロースエーテルの水分およびＮａＣｌ分を定量
したところ、水分は５４〜６７ｗｔ％（対セルロースエ
ーテル），ＮａＣｌは０．７２〜０．８８ｗｔ％（対セ
ルロースエーテル）であった。また、６Ｈｒの連続運転
でスクリーンの目詰まりもなく、脱水度の低下も認めら
れなかった。
【００３５】比較例 上記Ｖ型デイスクプレスに丸孔スクリーン（スクリーン
孔径０．５ｍｍ，ピッチ１．１ｍｍ，プレート厚０．５
ｍｍ）を装着して試験例と同様の洗浄濾過済みヒドロキ
シプロピルメチルセルロースを４００ｋｇ／Ｈｒ（セル
ロースエーテル純分量）で脱水処理した結果、得られた
セルロースエーテルの水分は８２〜１００ｗｔ％（対セ
ルロースエーテル），ＮａＣｌは０．８８〜１．０８ｗ
ｔ％（対セルロースエーテル）であった。
孔径０．５ｍｍ，ピッチ１．１ｍｍ，プレート厚０．５
ｍｍ）を装着して試験例と同様の洗浄濾過済みヒドロキ
シプロピルメチルセルロースを４００ｋｇ／Ｈｒ（セル
ロースエーテル純分量）で脱水処理した結果、得られた
セルロースエーテルの水分は８２〜１００ｗｔ％（対セ
ルロースエーテル），ＮａＣｌは０．８８〜１．０８ｗ
ｔ％（対セルロースエーテル）であった。
【００３６】
【発明の効果】上記したところから明かなように、セル
ロースエーテルの回収に際し、凝集点が９５℃以下のセ
ルロースエーテルを効率良く脱水し、脱水度を上げるこ
とで、乾燥工程のエネルギー負荷を下げ、低動力で連続
的に脱水し、また、製品の水溶性無機塩類の不純物を低
下させ、製品の品質を向上させるようにし、かつ、凝集
点が９０℃以上のセルロースエーテルの脱水を可能とし
たセルロースエーテルの脱水方法が提供される。
ロースエーテルの回収に際し、凝集点が９５℃以下のセ
ルロースエーテルを効率良く脱水し、脱水度を上げるこ
とで、乾燥工程のエネルギー負荷を下げ、低動力で連続
的に脱水し、また、製品の水溶性無機塩類の不純物を低
下させ、製品の品質を向上させるようにし、かつ、凝集
点が９０℃以上のセルロースエーテルの脱水を可能とし
たセルロースエーテルの脱水方法が提供される。
【図１】本発明に使用するＶ型デイスクプレスの要部を
説明する断面図である。
説明する断面図である。
【図２】図１のII−II線による断面図である。
【図３】スクリーン２ａ，２ｂを説明する正面図であ
る。
る。
【図４】図３のIII −III 線による断面図である。
【図５】本発明で使用することのできるスリットグリル
スクリーンの実施例を説明する平面図である。
スクリーンの実施例を説明する平面図である。
【図６】図５のVI−VI線による端面図である。
【図７】本発明で使用することのできるダイヤスクリー
ンの実施例を説明する平面図である。
ンの実施例を説明する平面図である。
【図８】図７のVIII−VIII線による断面図である。
【図９】本発明で使用することのできるスタッブスクリ
ーンの実施例を説明する平面図である。
ーンの実施例を説明する平面図である。
【図１０】図９のＸ―Ｘ線による断面図である。
【図１１】スタッブスクリーンの側面図である。
【図１２】本発明で使用することのできる出窓型スクリ
ーンの実施例を説明する平面図である。
ーンの実施例を説明する平面図である。
【図１３】図１２のXIV −XIV 線による断面図である。
【図１４】出窓型スクリーンの側面図である。
【図１５】本発明で使用することのできるブリッジ型ス
クリーンの実施例を説明する平面図である。
クリーンの実施例を説明する平面図である。
【図１６】図１５のXVI −XVI 線による断面図である。
【図１７】ブリッジ型スクリーンの側面図である。
１ Ｖ型デイスクプレス本体 ２ａ，２ｂ スクリーン ３ａ，３ｂ スピンドル ４ａ，４ｂ 支持腕 ５ 油圧シリンダ ６ センターピン ７ａ，７ｂ センターピン １０ 溝 １１ａ，１１ｂ 回転支持部 １２ａ，１２ｂ スプロケット ２０ パンチングメタルプレート ２１ 小孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小嶋 昭三 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の １ 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内
Claims (5)
- 【請求項１】 セルロースをエーテル化して得られるセ
ルロースエーテルを洗浄濾過して含水セルロースエーテ
ルを得た後；回転につれて間隔が縮小する円盤状の一対
のスクリーンを有し、該スクリーンが水分を通過させる
ための小孔を有するＶ型デイスクプレスに、上記含水セ
ルロースエーテルを供給し；上記円盤状の一対のスクリ
ーンによって含水セルロースエーテルを圧搾し；水分を
スクリーンを通過して回収するとともに；圧搾によって
脱水されたセルロースエーテルを上記スクリーンととも
に回転しながら排出し回収することを特徴とするセルロ
ースエーテルの脱水方法。 - 【請求項２】 上記スクリーンの背面に蒸気もしくは熱
水、またはその双方をスプレーし、加熱とスクリーンの
背面の洗浄を行うことを特徴とする請求項１に記載のセ
ルロースエーテルの脱水方法。 - 【請求項３】 上記スクリーンが小孔に対し、その周囲
に凹凸形状を付したものである請求項１または請求項２
に記載のセルロースエーテルの脱水方法。 - 【請求項４】 上記凹凸形状を付した小孔を有するスク
リーンが、スリットグリルスクリーン，ダイヤスクリー
ン，スタッブスクリーン，出窓型スクリーンまたはブリ
ッジ型スクリーンであることを特徴とする請求項１〜請
求項３のいずれか一に記載のセルロースエーテルの脱水
方法。 - 【請求項５】 回転につれて間隔が縮小する円盤状の一
対のスクリーンを有し、該スクリーンが水分を通過させ
るための小孔を有し、かつ、該小孔に対してその周囲に
凹凸形状を付したＶ型デイスクプレス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03322595A JP3602881B2 (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | セルロースエーテルの脱水方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03322595A JP3602881B2 (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | セルロースエーテルの脱水方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08231602A true JPH08231602A (ja) | 1996-09-10 |
| JP3602881B2 JP3602881B2 (ja) | 2004-12-15 |
Family
ID=12380522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03322595A Expired - Fee Related JP3602881B2 (ja) | 1995-02-22 | 1995-02-22 | セルロースエーテルの脱水方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3602881B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003093812A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-02 | Koji Otsuka | 回転圧縮濾過機及び軟質処理物の脱水方法 |
| JP2006152276A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-06-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 水溶性セルロースエーテルの分離方法 |
| WO2007004283A1 (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Tomoe Engineering Co., Ltd. | 加熱型回転加圧脱水機 |
| JP2007083231A (ja) * | 2005-09-17 | 2007-04-05 | Wolff Cellulosics Gmbh & Co Kg | 少量の着色粒子を有するメチルヒドロキシアルキルセルロースの製造方法 |
| JP2007326011A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Tomoe Engineering Co Ltd | 回転加圧脱水機 |
| US8324377B2 (en) | 2004-11-02 | 2012-12-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of separating water-soluble cellulose ether |
| EP2837639A1 (en) | 2013-08-12 | 2015-02-18 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for dehydrating hydrous low-substituted hydroxypropyl cellulose and method for producing low-substituted hydroxypropyl cellulose by using same |
-
1995
- 1995-02-22 JP JP03322595A patent/JP3602881B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003093812A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-02 | Koji Otsuka | 回転圧縮濾過機及び軟質処理物の脱水方法 |
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| US8324377B2 (en) | 2004-11-02 | 2012-12-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of separating water-soluble cellulose ether |
| WO2007004283A1 (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Tomoe Engineering Co., Ltd. | 加熱型回転加圧脱水機 |
| JP2007083231A (ja) * | 2005-09-17 | 2007-04-05 | Wolff Cellulosics Gmbh & Co Kg | 少量の着色粒子を有するメチルヒドロキシアルキルセルロースの製造方法 |
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| EP2837639A1 (en) | 2013-08-12 | 2015-02-18 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for dehydrating hydrous low-substituted hydroxypropyl cellulose and method for producing low-substituted hydroxypropyl cellulose by using same |
| KR20150020074A (ko) | 2013-08-12 | 2015-02-25 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 함수 저치환도 히드록시프로필셀룰로오스의 탈수 방법 및 해당 방법을 사용하는 저치환도 히드록시프로필셀룰로오스의 제조 방법 |
| JP2015057471A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-03-26 | 信越化学工業株式会社 | 含水低置換度ヒドロキシプロピルセルロースの脱水方法及び該方法を用いる低置換度ヒドロキシプロピルセルロースの製造方法 |
| US9428590B2 (en) | 2013-08-12 | 2016-08-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for dehydrating hydrous low-substituted hydroxypropyl cellulose and method for producing low-substituted hydroxypropyl cellulose by using same |
| TWI619732B (zh) * | 2013-08-12 | 2018-04-01 | 信越化學工業股份有限公司 | 含水低取代度羥基丙基纖維素之脫水方法及使用該方法之低取代度羥基丙基纖維素之製造方法 |
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|---|---|
| JP3602881B2 (ja) | 2004-12-15 |
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