JPH08240429A - ビーム投射装置 - Google Patents
ビーム投射装置Info
- Publication number
- JPH08240429A JPH08240429A JP7043073A JP4307395A JPH08240429A JP H08240429 A JPH08240429 A JP H08240429A JP 7043073 A JP7043073 A JP 7043073A JP 4307395 A JP4307395 A JP 4307395A JP H08240429 A JPH08240429 A JP H08240429A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- lens group
- laser
- light
- optical path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 所要の距離におけるフォーカシングを簡便に
行い得、しかも光軸のずれが生じにくい小型の光学系を
備えたビーム投射装置を提供すること。 【構成】 半導体レーザ23からの光束をペンタプリズ
ム35で反射させ、ほぼ平行光束のビームとして投射す
るレーザ測量装置11であって、半導体レーザ23から
の光束をほぼ平行光束に変換するコリメートレンズ2
4;このコリメートレンズ24とペンタプリズム35の
間の光路において、このコリメートレンズ24側に位置
する負のパワーを持つ第1レンズ群31と、ペンタプリ
ズム35側に位置する正のパワーを持つ第2レンズ群3
2とを備え、半導体レーザ23からの光束のビーム径を
拡大してペンタプリズム35に与えるビームエキスパン
ダB;及び、このビームエキスパンダBの第1レンズ群
31と第2レンズ群32の相対位置を、投射レーザ光束
のビームウエスト位置を変化させるべく調整する調整手
段を備えたレーザ測量装置。
行い得、しかも光軸のずれが生じにくい小型の光学系を
備えたビーム投射装置を提供すること。 【構成】 半導体レーザ23からの光束をペンタプリズ
ム35で反射させ、ほぼ平行光束のビームとして投射す
るレーザ測量装置11であって、半導体レーザ23から
の光束をほぼ平行光束に変換するコリメートレンズ2
4;このコリメートレンズ24とペンタプリズム35の
間の光路において、このコリメートレンズ24側に位置
する負のパワーを持つ第1レンズ群31と、ペンタプリ
ズム35側に位置する正のパワーを持つ第2レンズ群3
2とを備え、半導体レーザ23からの光束のビーム径を
拡大してペンタプリズム35に与えるビームエキスパン
ダB;及び、このビームエキスパンダBの第1レンズ群
31と第2レンズ群32の相対位置を、投射レーザ光束
のビームウエスト位置を変化させるべく調整する調整手
段を備えたレーザ測量装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、投射されるほぼ平行光
束のビームによって測距、測角或は基準平面を形成する
ビーム投射装置に関する。
束のビームによって測距、測角或は基準平面を形成する
ビーム投射装置に関する。
【0002】
【従来技術及びその問題点】土木建築の分野では、回転
する投光部から装置本体周囲の測量対象物に向けレーザ
光を走査してレーザ光による基準平面を形成するレーザ
測量装置(所謂レーザプレーナ)を用い、測量対象物上
に到達したレーザ光のスポットの高さを計測することに
より基準出しや高さ計測が行われている。このレーザ測
量装置は、例えば、0.5 〜1.5 mの近距離から100 〜20
0 mの遠距離までの広範囲において使用される。また、
このようなレーザ測量装置では従来、光源としてヘリウ
ムネオンレーザ(He-Ne レーザ)を用いていたが、近
年、ヘリウムネオンレーザに代えて半導体レーザ(L
D)を用いた装置が知られるようになった。
する投光部から装置本体周囲の測量対象物に向けレーザ
光を走査してレーザ光による基準平面を形成するレーザ
測量装置(所謂レーザプレーナ)を用い、測量対象物上
に到達したレーザ光のスポットの高さを計測することに
より基準出しや高さ計測が行われている。このレーザ測
量装置は、例えば、0.5 〜1.5 mの近距離から100 〜20
0 mの遠距離までの広範囲において使用される。また、
このようなレーザ測量装置では従来、光源としてヘリウ
ムネオンレーザ(He-Ne レーザ)を用いていたが、近
年、ヘリウムネオンレーザに代えて半導体レーザ(L
D)を用いた装置が知られるようになった。
【0003】このようなレーザ測量装置は、広い温度域
で使用されることが多く、光源である半導体レーザの発
振波長が温度変化によって変動する。その場合に、レン
ズを通して射出されるレーザ光束が色収差を持つため、
色収差によるビームウエスト位置の移動をフォーカシン
グによって補正する必要が生じる。従って、野外等で十
分に活用できるレーザ測量装置とするためには、射出レ
ーザ光束のフォーカシングが簡便に行なえる構造が必要
である。
で使用されることが多く、光源である半導体レーザの発
振波長が温度変化によって変動する。その場合に、レン
ズを通して射出されるレーザ光束が色収差を持つため、
色収差によるビームウエスト位置の移動をフォーカシン
グによって補正する必要が生じる。従って、野外等で十
分に活用できるレーザ測量装置とするためには、射出レ
ーザ光束のフォーカシングが簡便に行なえる構造が必要
である。
【0004】従来、半導体レーザからのレーザ光束を、
集光レンズで収束させた後プリズムで反射して対物レン
ズに入射し、この対物レンズを光軸方向に進退させるこ
とにより射出レーザ光束をフォーカシングするレーザ測
量機が提案されてはいるが(特開平5-322564号)、この
ような構造では、半導体レーザからのレーザ光束の光路
内にプリズムが位置するため、集光レンズとフォーカシ
ングで移動する対物レンズとの光軸の一致が難しい。
集光レンズで収束させた後プリズムで反射して対物レン
ズに入射し、この対物レンズを光軸方向に進退させるこ
とにより射出レーザ光束をフォーカシングするレーザ測
量機が提案されてはいるが(特開平5-322564号)、この
ような構造では、半導体レーザからのレーザ光束の光路
内にプリズムが位置するため、集光レンズとフォーカシ
ングで移動する対物レンズとの光軸の一致が難しい。
【0005】また、光束の集光性能は回折によって決ま
るため、上記レーザ測量機を遠距離まで使用可能な装置
とするには、対物レンズの開口を大きくし、要請される
到達距離に応じて太い光束を射出できるように構成せざ
るを得ない。しかしながら、このように構成すると、大
径の対物レンズを進退させるためのフォーカシング駆動
系の負荷が大きくなり、出力の大きなモータ等が必要と
なってしまう。
るため、上記レーザ測量機を遠距離まで使用可能な装置
とするには、対物レンズの開口を大きくし、要請される
到達距離に応じて太い光束を射出できるように構成せざ
るを得ない。しかしながら、このように構成すると、大
径の対物レンズを進退させるためのフォーカシング駆動
系の負荷が大きくなり、出力の大きなモータ等が必要と
なってしまう。
【0006】
【発明の目的】本発明は、従来のレーザ測量装置におけ
る上記問題点に基づき成されたもので、所要の距離にお
けるフォーカシングを簡便に行い得、しかもこのフォー
カシングを光軸のずれが生じにくい小型の光学系で行い
得るビーム投射装置を提供することを目的とする。また
本発明は、例えばフォーカシングをモータ等の駆動系で
行う場合に、この駆動系の出力を小さくすることが可能
なビーム投射装置を提供することを目的とする。
る上記問題点に基づき成されたもので、所要の距離にお
けるフォーカシングを簡便に行い得、しかもこのフォー
カシングを光軸のずれが生じにくい小型の光学系で行い
得るビーム投射装置を提供することを目的とする。また
本発明は、例えばフォーカシングをモータ等の駆動系で
行う場合に、この駆動系の出力を小さくすることが可能
なビーム投射装置を提供することを目的とする。
【0007】
【発明の概要】上記目的を達成するための本発明は、光
源からの光束を反射手段で反射させ、ほぼ平行光束のビ
ームとして投射するビーム投射装置であって、上記光源
からの光束をほぼ平行光束に変換するコリメートレン
ズ;このコリメートレンズと反射手段の間の光路におい
て、このコリメートレンズ側に位置する負のパワーを持
つ第1レンズ群と、反射手段側に位置する正のパワーを
持つ第2レンズ群とを備え、上記光源からの光束のビー
ム径を拡大して上記反射手段に与えるビーム径変換光学
系;及び、このビーム径変換光学系の上記第1レンズ群
と第2レンズ群の相対位置を、投射ビームのビームウエ
スト位置を変化させるべく調整する調整手段;を備えて
いることを特徴としている。
源からの光束を反射手段で反射させ、ほぼ平行光束のビ
ームとして投射するビーム投射装置であって、上記光源
からの光束をほぼ平行光束に変換するコリメートレン
ズ;このコリメートレンズと反射手段の間の光路におい
て、このコリメートレンズ側に位置する負のパワーを持
つ第1レンズ群と、反射手段側に位置する正のパワーを
持つ第2レンズ群とを備え、上記光源からの光束のビー
ム径を拡大して上記反射手段に与えるビーム径変換光学
系;及び、このビーム径変換光学系の上記第1レンズ群
と第2レンズ群の相対位置を、投射ビームのビームウエ
スト位置を変化させるべく調整する調整手段;を備えて
いることを特徴としている。
【0008】上記構成によれば、ビームウエスト位置を
調整するためのフォーカシングを簡便に行い得るビーム
投射装置を得ることができ、しかもフォーカシングに係
る光学系を、第1と第2レンズ群間に反射部材がなく、
両レンズ群の相対位置を同一光路内で変えられるストレ
ートで小さな光学系として構成することができる。
調整するためのフォーカシングを簡便に行い得るビーム
投射装置を得ることができ、しかもフォーカシングに係
る光学系を、第1と第2レンズ群間に反射部材がなく、
両レンズ群の相対位置を同一光路内で変えられるストレ
ートで小さな光学系として構成することができる。
【0009】また、第2レンズ群をコリメートレンズと
反射手段間の光路に固定し、第1レンズ群を該第2レン
ズ群に対して進退可能に設けると、例えば第1レンズ群
を第2レンズ群に対して進退させるための駆動系の負荷
を小さくすることが可能となる。
反射手段間の光路に固定し、第1レンズ群を該第2レン
ズ群に対して進退可能に設けると、例えば第1レンズ群
を第2レンズ群に対して進退させるための駆動系の負荷
を小さくすることが可能となる。
【0010】
【発明の実施例】以下図示実施例に基づいて本発明を説
明する。図1は、本発明を適用したレーザ測量装置(ビ
ーム投射装置)の全体を示す断面図である。このレーザ
測量装置11は、略円筒状のハウジング12と、該ハウ
ジング12の内方に設けられた投光装置13とを有して
いる。ハウジング12の上方には、投光装置13上部の
回転投光部15を囲繞する円筒状の透明部材16が固定
され、下方には、レーザ測量装置11の駆動用バッテリ
(図示せず)を収納するバッテリケース17が固定され
ている。
明する。図1は、本発明を適用したレーザ測量装置(ビ
ーム投射装置)の全体を示す断面図である。このレーザ
測量装置11は、略円筒状のハウジング12と、該ハウ
ジング12の内方に設けられた投光装置13とを有して
いる。ハウジング12の上方には、投光装置13上部の
回転投光部15を囲繞する円筒状の透明部材16が固定
され、下方には、レーザ測量装置11の駆動用バッテリ
(図示せず)を収納するバッテリケース17が固定され
ている。
【0011】ハウジング12は、上部中央に略円錐状の
摺動案内部19を有し、下部中央に円孔12aを有して
いる。この円孔12aは、バッテリケース17の中央部
に形成した円孔17aと合致された状態において、上方
からのレーザ光束をレーザ測量装置11の下方外方に射
出させる。また摺動案内部19は、略円錐状の底部に摺
動孔19aを有している。この摺動孔19aの先端部が
なす内径は、後述する膨出部21の球面部の外径より小
さく設定されている。
摺動案内部19を有し、下部中央に円孔12aを有して
いる。この円孔12aは、バッテリケース17の中央部
に形成した円孔17aと合致された状態において、上方
からのレーザ光束をレーザ測量装置11の下方外方に射
出させる。また摺動案内部19は、略円錐状の底部に摺
動孔19aを有している。この摺動孔19aの先端部が
なす内径は、後述する膨出部21の球面部の外径より小
さく設定されている。
【0012】投光装置13は、上下方向に沿う中空部を
有する中空部材20と、この中空部材20の上方に、ベ
アリング10を介して回転自在に支持された回転投光部
15とを有している。中空部材20が有する膨出部21
は、摺動孔19aにその球面部を当接させた状態で、回
転投光部15(投光装置13)を回転軸a回りの全ての
方向に傾け、投光レーザ光束L3 によって形成される基
準平面を水平面に対して自由に調整できるように支持さ
れている。
有する中空部材20と、この中空部材20の上方に、ベ
アリング10を介して回転自在に支持された回転投光部
15とを有している。中空部材20が有する膨出部21
は、摺動孔19aにその球面部を当接させた状態で、回
転投光部15(投光装置13)を回転軸a回りの全ての
方向に傾け、投光レーザ光束L3 によって形成される基
準平面を水平面に対して自由に調整できるように支持さ
れている。
【0013】中空部材20は、その内方に、互いに直交
するレーザ光光路20a、20bを有している。このレ
ーザ光光路20aには、可視レーザ光束を発する半導体
レーザ23と、この半導体レーザ23からの光束を断面
楕円状の平行光束に変換するコリメートレンズ24とが
設けられている。このコリメートレンズ24は、便宜上
あたかも1枚のレンズからなるように図示しているが、
実際には複数枚のレンズから構成されている(図4参
照)。
するレーザ光光路20a、20bを有している。このレ
ーザ光光路20aには、可視レーザ光束を発する半導体
レーザ23と、この半導体レーザ23からの光束を断面
楕円状の平行光束に変換するコリメートレンズ24とが
設けられている。このコリメートレンズ24は、便宜上
あたかも1枚のレンズからなるように図示しているが、
実際には複数枚のレンズから構成されている(図4参
照)。
【0014】回転投光部15の回転軸aの延長上に位置
するレーザ光光路20bには、コリメートレンズ24か
らのレーザ光束を受ける偏光ビームスプリッタ27が設
けられている。この偏光ビームスプリッタ27は、図2
に示すように、偏光分離面27aと1/4λ板28とを
有し、この1/4λ板28は、入射光の偏光方向に対し
その軸方位が45゜方向に向くように貼着されている。
また1/4λ板28は上面に、レーザ光束を所定割合で
ペンタプリズム35に向けて透過しかつ残りのレーザ光
束を偏光ビームスプリッタ27に向けて反射する、反射
率10〜20%程度の半透膜28aを有している。偏光
ビームスプリッタ27の下方には、ウェッジプリズム2
9a、29bが設けられている。
するレーザ光光路20bには、コリメートレンズ24か
らのレーザ光束を受ける偏光ビームスプリッタ27が設
けられている。この偏光ビームスプリッタ27は、図2
に示すように、偏光分離面27aと1/4λ板28とを
有し、この1/4λ板28は、入射光の偏光方向に対し
その軸方位が45゜方向に向くように貼着されている。
また1/4λ板28は上面に、レーザ光束を所定割合で
ペンタプリズム35に向けて透過しかつ残りのレーザ光
束を偏光ビームスプリッタ27に向けて反射する、反射
率10〜20%程度の半透膜28aを有している。偏光
ビームスプリッタ27の下方には、ウェッジプリズム2
9a、29bが設けられている。
【0015】回転投光部15は、図1に示すように、レ
ーザ光光路20bと合致して該レーザ光光路20bに連
続するレーザ光光路15aと、このレーザ光光路15a
に連続する該レーザ光光路15aより大径の収納部15
bとを有している。該収納部15bの側壁には、内方に
収納したペンタプリズム35で反射して偏向されたレー
ザ光束を装置外方に投光するための投光用窓33が形成
されている。また、収納部15bの上方は開放され、レ
ーザ光光路15aの光軸aが、透明部材16の上部中央
の円孔16aに嵌込まれた透光部材36の中心に一致さ
れている。
ーザ光光路20bと合致して該レーザ光光路20bに連
続するレーザ光光路15aと、このレーザ光光路15a
に連続する該レーザ光光路15aより大径の収納部15
bとを有している。該収納部15bの側壁には、内方に
収納したペンタプリズム35で反射して偏向されたレー
ザ光束を装置外方に投光するための投光用窓33が形成
されている。また、収納部15bの上方は開放され、レ
ーザ光光路15aの光軸aが、透明部材16の上部中央
の円孔16aに嵌込まれた透光部材36の中心に一致さ
れている。
【0016】ペンタプリズム35は、回転投光部15
に、該投光部15と一体に回転するように固定されてい
る。このペンタプリズム35は、レーザ光束が入射する
光入射面35cと、この光入射面35cとで所定角度を
なす、所要の反射率の半透膜14を備えた第1反射面3
5aとを有している。ペンタプリズム35はまた、第1
反射面35aで反射したレーザ光束を回転軸aと直交す
る方向に向けて反射する第2反射面35bと、この第2
反射面35bで反射したレーザ光束を射出する、光入射
面35cとで90゜をなす光射出面35dとを有してい
る。第2反射面35bには、増反射膜がアルミニューム
蒸着等により形成されている。また第1反射面35aに
は、半透膜14を挟んで楔型プリズム34が貼着されて
いる。該楔型プリズム34は斜辺を第1反射面35aに
貼着された状態で、図1上部に位置する射出面34aを
ペンタプリズム35の光入射面35cと平行させてい
る。
に、該投光部15と一体に回転するように固定されてい
る。このペンタプリズム35は、レーザ光束が入射する
光入射面35cと、この光入射面35cとで所定角度を
なす、所要の反射率の半透膜14を備えた第1反射面3
5aとを有している。ペンタプリズム35はまた、第1
反射面35aで反射したレーザ光束を回転軸aと直交す
る方向に向けて反射する第2反射面35bと、この第2
反射面35bで反射したレーザ光束を射出する、光入射
面35cとで90゜をなす光射出面35dとを有してい
る。第2反射面35bには、増反射膜がアルミニューム
蒸着等により形成されている。また第1反射面35aに
は、半透膜14を挟んで楔型プリズム34が貼着されて
いる。該楔型プリズム34は斜辺を第1反射面35aに
貼着された状態で、図1上部に位置する射出面34aを
ペンタプリズム35の光入射面35cと平行させてい
る。
【0017】中空部材20は、図1の右方に延出する駆
動用アーム37と、この駆動用アーム37に対して紙面
奥方向に直交する駆動用アーム39(図3)とを一体に
有している。駆動用アーム37、39は膨出部21の最
上部から下方に傾斜させて形成され、それぞれの先端部
に、膨出部21の球心と一致させて取付けられたローラ
40、41を有している。
動用アーム37と、この駆動用アーム37に対して紙面
奥方向に直交する駆動用アーム39(図3)とを一体に
有している。駆動用アーム37、39は膨出部21の最
上部から下方に傾斜させて形成され、それぞれの先端部
に、膨出部21の球心と一致させて取付けられたローラ
40、41を有している。
【0018】ハウジング12の内壁には、このハウジン
グ12の内周に向けて突出させた、支持孔42aを有す
るブラケット42が設けられている。また上壁12bの
支持孔42aと対向する位置には、支持孔43が形成さ
れている。該支持孔42aと43には、調整用スクリュ
ー45両端の軸部が回転自在に嵌合されている。またブ
ラケット42には、第1レベル調整用モータ44が固定
され、このモータ44の回転軸に固定したピニオン49
は、スクリュー45の下端部に固定した伝達ギヤ50と
噛み合っている。このスクリュー45には、該スクリュ
ー45とで送りねじ機構を構成する、ハウジング12に
対する相対回転を規制された調整用ナット46が螺合さ
れている。上記ローラ40に、該ナット46の外周に固
定された作動ピン47が上方から当接されている。
グ12の内周に向けて突出させた、支持孔42aを有す
るブラケット42が設けられている。また上壁12bの
支持孔42aと対向する位置には、支持孔43が形成さ
れている。該支持孔42aと43には、調整用スクリュ
ー45両端の軸部が回転自在に嵌合されている。またブ
ラケット42には、第1レベル調整用モータ44が固定
され、このモータ44の回転軸に固定したピニオン49
は、スクリュー45の下端部に固定した伝達ギヤ50と
噛み合っている。このスクリュー45には、該スクリュ
ー45とで送りねじ機構を構成する、ハウジング12に
対する相対回転を規制された調整用ナット46が螺合さ
れている。上記ローラ40に、該ナット46の外周に固
定された作動ピン47が上方から当接されている。
【0019】図3に示すように、ハウジング12の内壁
には、内周に向けて突出させたブラケット78が設けら
れている。このブラケット78に形成されたギヤ支持孔
(図示せず)と、上壁12bの該ギヤ支持孔と対向する
位置に形成されたギヤ支持孔(図示せず)には、調整用
スクリュー79両端の軸部が回転自在に嵌合されてい
る。また、ブラケット78に固定された第2レベル調整
用モータ75の回転軸に固定されたピニオン76は、ス
クリュー79の下端部に固定した伝達ギヤ77と噛み合
っている。このスクリュー79には、該スクリュー79
とで送りねじ機構を構成する、ハウジング12に対する
相対回転を規制された調整用ナット80が螺合されてい
る。上記ローラ41に、このナット80の外周に固定さ
れた作動ピン81が上方から当接されている。
には、内周に向けて突出させたブラケット78が設けら
れている。このブラケット78に形成されたギヤ支持孔
(図示せず)と、上壁12bの該ギヤ支持孔と対向する
位置に形成されたギヤ支持孔(図示せず)には、調整用
スクリュー79両端の軸部が回転自在に嵌合されてい
る。また、ブラケット78に固定された第2レベル調整
用モータ75の回転軸に固定されたピニオン76は、ス
クリュー79の下端部に固定した伝達ギヤ77と噛み合
っている。このスクリュー79には、該スクリュー79
とで送りねじ機構を構成する、ハウジング12に対する
相対回転を規制された調整用ナット80が螺合されてい
る。上記ローラ41に、このナット80の外周に固定さ
れた作動ピン81が上方から当接されている。
【0020】ハウジング12は内壁に、互いに直交する
駆動用アーム37と39とでなす角を二等分する方向に
設けた支持突起51を有している。中空部材20は、支
持突起51と中空部材20間に設けられた引張りばね5
2によりそれぞれ同等の力で上方に付勢されたローラ4
0、41を、作動ピン47、81にその下方から弾接さ
せている。つまり中空部材20は、その下部を、膨出部
21が摺動孔19aにより支持された状態で支持突起5
1に向け付勢されるため、マイクロコンピュータ(以後
マイコンと称する)82の信号に基づき駆動するモータ
44、75によって昇降される作動ピン47、81によ
り、水平方向での回動位置を調整可能とされている。ま
た中空部材20の下部には、アーム37、39とそれぞ
れ反対方向に突出させたブラケット70、71が設けら
れ、該両ブラケット70、71にはそれぞれ、レベル検
知センサ72、73が取付けられている。該センサ7
2、73による検知信号はマイコン82に送られる。
駆動用アーム37と39とでなす角を二等分する方向に
設けた支持突起51を有している。中空部材20は、支
持突起51と中空部材20間に設けられた引張りばね5
2によりそれぞれ同等の力で上方に付勢されたローラ4
0、41を、作動ピン47、81にその下方から弾接さ
せている。つまり中空部材20は、その下部を、膨出部
21が摺動孔19aにより支持された状態で支持突起5
1に向け付勢されるため、マイクロコンピュータ(以後
マイコンと称する)82の信号に基づき駆動するモータ
44、75によって昇降される作動ピン47、81によ
り、水平方向での回動位置を調整可能とされている。ま
た中空部材20の下部には、アーム37、39とそれぞ
れ反対方向に突出させたブラケット70、71が設けら
れ、該両ブラケット70、71にはそれぞれ、レベル検
知センサ72、73が取付けられている。該センサ7
2、73による検知信号はマイコン82に送られる。
【0021】また中空部材20の最上部には、外方に向
けて突出させたブラケット65が設けられている。この
ブラケット65に、回転用モータ66が固定されてお
り、このモータ66の回転軸に固定されたピニオン67
が、回転投光部15の外周に固定された伝達ギヤ69と
噛み合っている。従って、マイコン82の信号に基づき
モータ66を回転駆動すると、ピニオン67、伝達ギヤ
69を介して回転投光部15が中空部材20に対して相
対回転される。さらに、この中空部材20の最上部のブ
ラケット65と反対側には、回転検知センサ83が上方
に向けて設けられている。この回転検知センサ83は、
上方即ち伝達ギヤ69の裏面に設けた所定のパターン
(図示せず)に光束を照射し、その反射光を受光した後
信号としてマイコン82に送る。マイコン82は、この
受光信号の入力に基づいて回転投光部15の回転角を演
算する。
けて突出させたブラケット65が設けられている。この
ブラケット65に、回転用モータ66が固定されてお
り、このモータ66の回転軸に固定されたピニオン67
が、回転投光部15の外周に固定された伝達ギヤ69と
噛み合っている。従って、マイコン82の信号に基づき
モータ66を回転駆動すると、ピニオン67、伝達ギヤ
69を介して回転投光部15が中空部材20に対して相
対回転される。さらに、この中空部材20の最上部のブ
ラケット65と反対側には、回転検知センサ83が上方
に向けて設けられている。この回転検知センサ83は、
上方即ち伝達ギヤ69の裏面に設けた所定のパターン
(図示せず)に光束を照射し、その反射光を受光した後
信号としてマイコン82に送る。マイコン82は、この
受光信号の入力に基づいて回転投光部15の回転角を演
算する。
【0022】他方、レーザ光光路20b内の偏光ビーム
スプリッタ27の上方には、負のパワーを持つ第1レン
ズ群31と、正のパワーを持つ第2レンズ群32とが設
けられている。この第2レンズ群32は、レーザ光光路
20bのペンタプリズム35側に固定されている。また
第1レンズ群31は、該光路20b内で光軸方向に進退
可能な円筒部材30に支持されて、第2レンズ群32に
対し進退可能に構成されている。これら第1、第2レン
ズ群31、32により、ビームエキスパンダ(ビーム径
変換光学系)Bが構成されている。
スプリッタ27の上方には、負のパワーを持つ第1レン
ズ群31と、正のパワーを持つ第2レンズ群32とが設
けられている。この第2レンズ群32は、レーザ光光路
20bのペンタプリズム35側に固定されている。また
第1レンズ群31は、該光路20b内で光軸方向に進退
可能な円筒部材30に支持されて、第2レンズ群32に
対し進退可能に構成されている。これら第1、第2レン
ズ群31、32により、ビームエキスパンダ(ビーム径
変換光学系)Bが構成されている。
【0023】中空部材20の下部には、外方に向け突出
させたブラケット53が設けられ、このブラケット53
の上部には、該ブラケット53と対向するブラケット5
5が形成されている。これらブラケット53、55に
は、それぞれに対向するギヤ支持孔53a、55aが形
成され、両ギヤ支持孔53a、55aには、レンズ移動
スクリュー56両端の軸部が回転自在に嵌合されてい
る。また、ブラケット53に固定したレンズ移動モータ
59の回転軸に固定したピニオン60は、スクリュー5
6の下端部に固定した伝達ギヤ61と噛み合っている。
このスクリュー56には、該スクリュー56とで送りね
じ機構を構成するレンズ移動ナット57が螺合されてい
る。また、中空部材20の上記円筒部材30と対応する
壁部には挿入窓63が形成され、この挿入窓63には、
両端部を円筒部材30とレンズ移動ナット57にそれぞ
れ固定したリンク62が貫通している。
させたブラケット53が設けられ、このブラケット53
の上部には、該ブラケット53と対向するブラケット5
5が形成されている。これらブラケット53、55に
は、それぞれに対向するギヤ支持孔53a、55aが形
成され、両ギヤ支持孔53a、55aには、レンズ移動
スクリュー56両端の軸部が回転自在に嵌合されてい
る。また、ブラケット53に固定したレンズ移動モータ
59の回転軸に固定したピニオン60は、スクリュー5
6の下端部に固定した伝達ギヤ61と噛み合っている。
このスクリュー56には、該スクリュー56とで送りね
じ機構を構成するレンズ移動ナット57が螺合されてい
る。また、中空部材20の上記円筒部材30と対応する
壁部には挿入窓63が形成され、この挿入窓63には、
両端部を円筒部材30とレンズ移動ナット57にそれぞ
れ固定したリンク62が貫通している。
【0024】次に、本レーザ測量装置11の全般的な作
動を説明する。先ず、レーザ測量装置11を三脚を介し
て、所望の位置に配置する。無調整の状態において回転
投光部15の軸心(回転軸a)は、一般に鉛直線と一致
せず、またレベル検知センサ72、73は、水平状態と
はされていない。この状態で駆動スイッチ(図示せず)
をオンすると、マイコン82が、演算角度偏差に基づ
き、第1、第2レベル調整用モータ44、75をそれぞ
れに回転駆動する。例えば、調整用モータ44が回転駆
動されると、スクリュー45が回転されてレベル調整用
ナット46が昇降される。このとき、ナット46の作動
ピン47には、引張りばね52により付勢されたローラ
40が弾接されているため、中空部材20が該ローラ4
0を介して膨出部21の球心を中心として回動され、回
転投光部15が鉛直方向に対して傾けられる。また調整
用モータ75が駆動されると、レベル調整用スクリュー
79に伝達されてレベル調整用ナット80が昇降され
る。このとき、該ナット80の作動ピン81には、引張
りばね52により付勢されたローラ41が弾接されてい
るため、上記同様、回転投光部15が鉛直方向に対して
傾けられる。
動を説明する。先ず、レーザ測量装置11を三脚を介し
て、所望の位置に配置する。無調整の状態において回転
投光部15の軸心(回転軸a)は、一般に鉛直線と一致
せず、またレベル検知センサ72、73は、水平状態と
はされていない。この状態で駆動スイッチ(図示せず)
をオンすると、マイコン82が、演算角度偏差に基づ
き、第1、第2レベル調整用モータ44、75をそれぞ
れに回転駆動する。例えば、調整用モータ44が回転駆
動されると、スクリュー45が回転されてレベル調整用
ナット46が昇降される。このとき、ナット46の作動
ピン47には、引張りばね52により付勢されたローラ
40が弾接されているため、中空部材20が該ローラ4
0を介して膨出部21の球心を中心として回動され、回
転投光部15が鉛直方向に対して傾けられる。また調整
用モータ75が駆動されると、レベル調整用スクリュー
79に伝達されてレベル調整用ナット80が昇降され
る。このとき、該ナット80の作動ピン81には、引張
りばね52により付勢されたローラ41が弾接されてい
るため、上記同様、回転投光部15が鉛直方向に対して
傾けられる。
【0025】そして、投光装置13が傾動されて整準が
進むと、レベル検知センサ72、73からの検出値が基
準水平度に近づき、角度偏差が最終的に0となるため、
投光装置13(回転投光部15)は該傾動調整により、
レーザ光束投光時の水平方向位置を定められ、よって整
準作業が完了する。
進むと、レベル検知センサ72、73からの検出値が基
準水平度に近づき、角度偏差が最終的に0となるため、
投光装置13(回転投光部15)は該傾動調整により、
レーザ光束投光時の水平方向位置を定められ、よって整
準作業が完了する。
【0026】この整準作業完了状態においてマイコン8
2から駆動信号が出力され、半導体レーザ23が発振を
開始すると、この半導体レーザ23から射出されるレー
ザ光束は、コリメートレンズ24によって断面楕円状の
平行光束に変換された後、偏光ビームスプリッタ27に
よって上方に向かう光束L1 と下方に向かう光束L2と
に分割される。
2から駆動信号が出力され、半導体レーザ23が発振を
開始すると、この半導体レーザ23から射出されるレー
ザ光束は、コリメートレンズ24によって断面楕円状の
平行光束に変換された後、偏光ビームスプリッタ27に
よって上方に向かう光束L1 と下方に向かう光束L2と
に分割される。
【0027】この場合、偏光ビームスプリッタ27に入
射するレーザ光束L0 が、偏光分離面27aの入射面に
対し垂直な振動方向を有する、S偏光成分を持ちかつP
偏光成分を持たない直線偏光であれば、レーザ光束L0
は、偏光分離面27aで全て反射されて90゜偏向さ
れ、図2の上方に向かう。このとき、1/4λ板28は
軸方位が光の振動方向に対し45゜となるように偏光ビ
ームスプリッタ27に貼付されているため、レーザ光束
L0 は1/4λ板28を透過して円偏光のレーザ光束L
1 となってペンタプリズム35に向かう。また、半透膜
28aで反射したレーザ光束L1 は、1/4λ板28を
再び透過した後、入射時とは直交する方向の振動を有す
るP偏光成分の直線偏光に変換され、偏光分離面27a
を透過しレーザ光束L2 として同図下方に向かい、ウェ
ッジプリズム29a、29bを透過した後、下部外方に
射出される。
射するレーザ光束L0 が、偏光分離面27aの入射面に
対し垂直な振動方向を有する、S偏光成分を持ちかつP
偏光成分を持たない直線偏光であれば、レーザ光束L0
は、偏光分離面27aで全て反射されて90゜偏向さ
れ、図2の上方に向かう。このとき、1/4λ板28は
軸方位が光の振動方向に対し45゜となるように偏光ビ
ームスプリッタ27に貼付されているため、レーザ光束
L0 は1/4λ板28を透過して円偏光のレーザ光束L
1 となってペンタプリズム35に向かう。また、半透膜
28aで反射したレーザ光束L1 は、1/4λ板28を
再び透過した後、入射時とは直交する方向の振動を有す
るP偏光成分の直線偏光に変換され、偏光分離面27a
を透過しレーザ光束L2 として同図下方に向かい、ウェ
ッジプリズム29a、29bを透過した後、下部外方に
射出される。
【0028】他方、上方に向かうレーザ光束L1 は、第
1、第2レンズ群31、32を透過し、ペンタプリズム
35の光入射面35cを透過した後、第1、第2反射面
35a、35bで順に反射されて進路を90゜偏向さ
れ、略水平方向に向けて光射出面35dから射出され
る。レーザ光束L1 のうち、第1反射面35aで所定の
割合で反射したもの以外は、進路を変化させることな
く、該第1反射面35aと楔型プリズム34とでなすハ
ーフミラー面を透過して、レーザ光束L1 と同軸のレー
ザ光束L4 として上方に向けて投光される。このレーザ
投射状態において、マイコン82からの駆動信号に基づ
き回転用モータ66が駆動されると、回転投光部15が
鉛直方向の回転軸aを中心に回転し始めるため、ペンタ
プリズム35から水平方向に射出されるレーザ光束L3
により水平基準面が形成される。
1、第2レンズ群31、32を透過し、ペンタプリズム
35の光入射面35cを透過した後、第1、第2反射面
35a、35bで順に反射されて進路を90゜偏向さ
れ、略水平方向に向けて光射出面35dから射出され
る。レーザ光束L1 のうち、第1反射面35aで所定の
割合で反射したもの以外は、進路を変化させることな
く、該第1反射面35aと楔型プリズム34とでなすハ
ーフミラー面を透過して、レーザ光束L1 と同軸のレー
ザ光束L4 として上方に向けて投光される。このレーザ
投射状態において、マイコン82からの駆動信号に基づ
き回転用モータ66が駆動されると、回転投光部15が
鉛直方向の回転軸aを中心に回転し始めるため、ペンタ
プリズム35から水平方向に射出されるレーザ光束L3
により水平基準面が形成される。
【0029】ところで、回転投光部15から射出される
レーザ光束L3 は、平行光束として射出されても回折に
よって広がり、平行光束ではなくなる。そこで、レーザ
プレーナのようにレーザ光束を遠方に投射する系では、
到達距離の要請に応じて太いレーザ光束を投射し、この
弱い収束光によってビームウエストが適切な位置にでき
るようにする手段が必要となる。
レーザ光束L3 は、平行光束として射出されても回折に
よって広がり、平行光束ではなくなる。そこで、レーザ
プレーナのようにレーザ光束を遠方に投射する系では、
到達距離の要請に応じて太いレーザ光束を投射し、この
弱い収束光によってビームウエストが適切な位置にでき
るようにする手段が必要となる。
【0030】その際例えば、半導体レーザ23の波長変
化による、レンズ(第1、第2レンズ群31、32等)
のパワーの変化等によりビームウエスト位置が所定の位
置からずれた場合、或は近距離における正確な測定が必
要となった場合には、ビームウエスト位置の調整(ピン
ト合わせ)を行うこと、或はこの調整によって、できる
限り小さい光点を作ることが必要となる。
化による、レンズ(第1、第2レンズ群31、32等)
のパワーの変化等によりビームウエスト位置が所定の位
置からずれた場合、或は近距離における正確な測定が必
要となった場合には、ビームウエスト位置の調整(ピン
ト合わせ)を行うこと、或はこの調整によって、できる
限り小さい光点を作ることが必要となる。
【0031】従来、フォーカシング機能を持つレーザ測
量機(特開平5-322564号参照)はあったが、このレーザ
測量機は、半導体レーザからのレーザ光束の光路内にプ
リズムが位置する構造を持つため、集光レンズとフォー
カシングで移動する対物レンズとの光軸の一致が困難で
あり、フォーカシングのための光学系が大型であった。
量機(特開平5-322564号参照)はあったが、このレーザ
測量機は、半導体レーザからのレーザ光束の光路内にプ
リズムが位置する構造を持つため、集光レンズとフォー
カシングで移動する対物レンズとの光軸の一致が困難で
あり、フォーカシングのための光学系が大型であった。
【0032】本レーザ測量装置11は、フォーカシング
を簡便に行うことが可能で、フォーカシング時の偏心が
少なく、しかもフォーカシングに係る光学系をできるだ
け小さくできる構造を実現させている。
を簡便に行うことが可能で、フォーカシング時の偏心が
少なく、しかもフォーカシングに係る光学系をできるだ
け小さくできる構造を実現させている。
【0033】すなわち、本レーザ測量装置11は、レン
ズ移動モータ59をマイコン82の信号に基づき駆動す
ることにより、送りねじ機構を介して円筒部材30を昇
降させ、第1レンズ群31を第2レンズ群32に対し進
退させて両者間の間隔(相対位置)を変えることができ
る。これにより、コリメートレンズ24を介して平行光
束に変換された半導体レーザ23からのレーザ光束をビ
ーム径を拡大してペンタプリズム35に与え、回転投光
部15から外方に投射されるレーザ光束L3 のビームウ
エスト位置を、所要の距離において最適或は所望となる
ように簡単に移動調整することができる。よって、レー
ザ測量装置11の野外等での使用状態を、常に良好にす
ることが可能となる。
ズ移動モータ59をマイコン82の信号に基づき駆動す
ることにより、送りねじ機構を介して円筒部材30を昇
降させ、第1レンズ群31を第2レンズ群32に対し進
退させて両者間の間隔(相対位置)を変えることができ
る。これにより、コリメートレンズ24を介して平行光
束に変換された半導体レーザ23からのレーザ光束をビ
ーム径を拡大してペンタプリズム35に与え、回転投光
部15から外方に投射されるレーザ光束L3 のビームウ
エスト位置を、所要の距離において最適或は所望となる
ように簡単に移動調整することができる。よって、レー
ザ測量装置11の野外等での使用状態を、常に良好にす
ることが可能となる。
【0034】また、上記第1レンズ群31と第2レンズ
群32からなるビームエキスパンダBは、反射部材を介
在しない、両レンズ群31、32の間隔を同一光路内で
変え得るストレートな光学系として構成されているた
め、フォーカシング時の偏心が少ない(フォーカシング
時の倒れが生じにくい)。さらにこの構成は、組立時の
レンズの偏心よる悪影響が少ないという効果も奏する。
また、レーザ光光路のペンタプリズム35側に固定され
た第2レンズ群32が正のパワーを持ち、コリメートレ
ンズ24側に位置する第1レンズ群31が負のパワーを
持つため、この第1レンズ群31の径を射出光束のビー
ム径より小さくできる。従って、この第1レンズ群31
進退用のレンズ移動モータ59の負荷が小さくなるた
め、このモータ59に出力の小さいものを用いることが
できる。
群32からなるビームエキスパンダBは、反射部材を介
在しない、両レンズ群31、32の間隔を同一光路内で
変え得るストレートな光学系として構成されているた
め、フォーカシング時の偏心が少ない(フォーカシング
時の倒れが生じにくい)。さらにこの構成は、組立時の
レンズの偏心よる悪影響が少ないという効果も奏する。
また、レーザ光光路のペンタプリズム35側に固定され
た第2レンズ群32が正のパワーを持ち、コリメートレ
ンズ24側に位置する第1レンズ群31が負のパワーを
持つため、この第1レンズ群31の径を射出光束のビー
ム径より小さくできる。従って、この第1レンズ群31
進退用のレンズ移動モータ59の負荷が小さくなるた
め、このモータ59に出力の小さいものを用いることが
できる。
【0035】ここで、本レーザ測量装置11に使用可能
なコリメータレンズ24、及びビームエキスパンダBの
具体例を説明する。
なコリメータレンズ24、及びビームエキスパンダBの
具体例を説明する。
【0036】図4は、コリメートレンズ24のレンズ構
成の一例を示す。このコリメートレンズ24は、レンズ
101、102、103、104を有し、焦点距離6mm
とされている。レンズ101と102とは、接合(貼合
わせ)レンズとなっている。図中の符号105は、半導
体レーザ23のカバーガラスであり、r1 〜r9 は、カ
バーガラス又はレンズ各面の曲率半径を示し、d1 〜d
8 は、カバーガラスの厚さ、レンズ厚若しくはレンズ間
隔を示す。
成の一例を示す。このコリメートレンズ24は、レンズ
101、102、103、104を有し、焦点距離6mm
とされている。レンズ101と102とは、接合(貼合
わせ)レンズとなっている。図中の符号105は、半導
体レーザ23のカバーガラスであり、r1 〜r9 は、カ
バーガラス又はレンズ各面の曲率半径を示し、d1 〜d
8 は、カバーガラスの厚さ、レンズ厚若しくはレンズ間
隔を示す。
【0037】このコリメートレンズ24の具体的数値デ
ータを表1に示す。表中、Riは、同図光源側から第i
番目の面の曲率半径、Diは、光源側から第i番目のカ
バーガラス、レンズの肉厚若しくはレンズ間隔、nは、
レンズの635nm における屈折率、νは、レンズのd線の
アッベ数を示している。
ータを表1に示す。表中、Riは、同図光源側から第i
番目の面の曲率半径、Diは、光源側から第i番目のカ
バーガラス、レンズの肉厚若しくはレンズ間隔、nは、
レンズの635nm における屈折率、νは、レンズのd線の
アッベ数を示している。
【0038】
【表1】 面No. Ri Di n ν 1 ∞ 0.30 1.51455 64.1 2 ∞ 2.73 3 -4.624 1.80 1.72623 54.7 4 -3.519 0.10 5 -75.123 1.80 1.69065 53.2 6 -7.118 4.38 7 -105.190 1.60 1.83928 23.9 8 8.483 2.25 1.61586 63.4 9 -13.310 -
【0039】図5は、ビームエキスパンダBのレンズ構
成の第1例を示す。このビームエキスパンダBは、1枚
ずつの第1レンズ群31と第2レンズ群32からなり、
ビーム拡大率が1.3 倍に決定されている。
成の第1例を示す。このビームエキスパンダBは、1枚
ずつの第1レンズ群31と第2レンズ群32からなり、
ビーム拡大率が1.3 倍に決定されている。
【0040】このビームエキスパンダBの具体的数値デ
ータを表2に示し、縦収差、横収差、波面収差の諸収差
をそれぞれ図6〜図8に示す。これらの諸収差は、図5
において同図左方から光が入射したときの結像面での収
差である。諸収差図中、ERは入射瞳高さ、Bは入射角
度、Sはサジタル方向、Mはメリディオナル方向を示
す。表中、Riは、図5の左側から第i番目の面の曲率
半径、Diは、光源側から第i番目のレンズの肉厚もし
くはレンズ間隔、nは、レンズの635nm における屈折
率、νは、レンズのd線のアッベ数を示している。
ータを表2に示し、縦収差、横収差、波面収差の諸収差
をそれぞれ図6〜図8に示す。これらの諸収差は、図5
において同図左方から光が入射したときの結像面での収
差である。諸収差図中、ERは入射瞳高さ、Bは入射角
度、Sはサジタル方向、Mはメリディオナル方向を示
す。表中、Riは、図5の左側から第i番目の面の曲率
半径、Diは、光源側から第i番目のレンズの肉厚もし
くはレンズ間隔、nは、レンズの635nm における屈折
率、νは、レンズのd線のアッベ数を示している。
【0041】
【表2】 面No. Ri Di n ν 1 -59.000 2.50 1.60003 38.0 2 237.849 23.09 3 ∞ 3.50 1.69065 53.2 4 -72.480 -
【0042】図9は、図5〜図8で示されるビームエキ
スパンダBの第1例において、第1レンズ群31を第2
レンズ群32から離れる方向に移動させたときの投射レ
ーザ光束の波面の(幾何学的に求めた)曲率半径の変化
を示すものである。同図の変化曲線から、上記ビームエ
キスパンダBは第1レンズ群31の移動時の曲率半径の
変化量が大きく、移動感度が高いことが分かる。このこ
とから、このビームエキスパンダBは、フォーカシング
レンズである第1レンズ群31を僅かに移動させるだけ
でビームウエスト位置を要請に応じて調整することがで
き、光学系の小型化等の面で有効であることが理解でき
る。
スパンダBの第1例において、第1レンズ群31を第2
レンズ群32から離れる方向に移動させたときの投射レ
ーザ光束の波面の(幾何学的に求めた)曲率半径の変化
を示すものである。同図の変化曲線から、上記ビームエ
キスパンダBは第1レンズ群31の移動時の曲率半径の
変化量が大きく、移動感度が高いことが分かる。このこ
とから、このビームエキスパンダBは、フォーカシング
レンズである第1レンズ群31を僅かに移動させるだけ
でビームウエスト位置を要請に応じて調整することがで
き、光学系の小型化等の面で有効であることが理解でき
る。
【0043】なお、本実施例では、第2レンズ群32を
固定しかつ第1レンズ群31を該第2レンズ群32に対
し進退可能に構成したが、本発明はこれに限られない。
すなわち、第1レンズ群31をレーザ光光路20b内に
固定し、第2レンズ群32を該第1レンズ群31に対し
て進退可能に支持することもできる。この場合には、レ
ーザ光光路20b内に、上記実施例と同様の円筒部材
(図示せず)を摺動可能に設け、この円筒部材に上記第
2レンズ群32を支持することとなる。このような構成
とした場合にも、第2レンズ群32を第1レンズ群31
から離れる方向に移動させたときの変化曲線は、図9と
全く同じになる。
固定しかつ第1レンズ群31を該第2レンズ群32に対
し進退可能に構成したが、本発明はこれに限られない。
すなわち、第1レンズ群31をレーザ光光路20b内に
固定し、第2レンズ群32を該第1レンズ群31に対し
て進退可能に支持することもできる。この場合には、レ
ーザ光光路20b内に、上記実施例と同様の円筒部材
(図示せず)を摺動可能に設け、この円筒部材に上記第
2レンズ群32を支持することとなる。このような構成
とした場合にも、第2レンズ群32を第1レンズ群31
から離れる方向に移動させたときの変化曲線は、図9と
全く同じになる。
【0044】図10に、ビームエキスパンダBのレンズ
構成の第2例を示す。このビームエキスパンダBは、1
枚ずつの第1レンズ群31と第2レンズ群32からな
り、ビーム拡大率が1.80倍に決定されている。このビー
ムエキスパンダBの具体的数値データを表3に示し、縦
収差、横収差、波面収差の諸収差をそれぞれ図11〜図
13に示す。これらの諸収差は、上記第1例と同様、図
10の左方から光が入射したときの結像面での収差であ
る。
構成の第2例を示す。このビームエキスパンダBは、1
枚ずつの第1レンズ群31と第2レンズ群32からな
り、ビーム拡大率が1.80倍に決定されている。このビー
ムエキスパンダBの具体的数値データを表3に示し、縦
収差、横収差、波面収差の諸収差をそれぞれ図11〜図
13に示す。これらの諸収差は、上記第1例と同様、図
10の左方から光が入射したときの結像面での収差であ
る。
【0045】
【表3】 面No. Ri Di n ν 1 -226.334 2.50 1.83925 23.8 2 41.595 30.86 3 302.150 3.80 1.49566 81.6 4 -42.213 -
【0046】図14に、ビームエキスパンダBのレンズ
構成の第3例を示す。このビーム径変換光学系Bの具体
的数値データを表4に示し、縦収差、横収差、波面収差
の諸収差をそれぞれ図15〜図17に示す。このビーム
径変換光学系Bのビーム拡大率は、2.07倍に決定されて
いる。
構成の第3例を示す。このビーム径変換光学系Bの具体
的数値データを表4に示し、縦収差、横収差、波面収差
の諸収差をそれぞれ図15〜図17に示す。このビーム
径変換光学系Bのビーム拡大率は、2.07倍に決定されて
いる。
【0047】
【表4】 面No. Ri Di n ν 1 166.594 2.50 1.83925 23.8 2 25.516 36.37 3 -1170.933 3.80 1.45488 90.3 4 -33.184 -
【0048】このビームエキスパンダBの第3例におい
て、第1レンズ群31のレンズ重量は0.37g であり、第
2レンズ群32のレンズ重量は2.83g である。このこと
から、比較的重い第2レンズ群32をレーザ光光路内に
固定しこの第2レンズ群32より軽い第1レンズ群31
を進退させる本レーザ測量装置11の構成が、駆動系の
負荷を小さくするのに如何に有効であるかが理解でき
る。
て、第1レンズ群31のレンズ重量は0.37g であり、第
2レンズ群32のレンズ重量は2.83g である。このこと
から、比較的重い第2レンズ群32をレーザ光光路内に
固定しこの第2レンズ群32より軽い第1レンズ群31
を進退させる本レーザ測量装置11の構成が、駆動系の
負荷を小さくするのに如何に有効であるかが理解でき
る。
【0049】図18は、ビームエキスパンダBのレンズ
構成の第4例を示す。このコリメートレンズ24の具体
的数値データを表5に示し、縦収差、横収差、波面収差
の諸収差をそれぞれ図19〜図21に示す。このビーム
エキスパンダBのビーム拡大率は、1.70倍に決定されて
いる。
構成の第4例を示す。このコリメートレンズ24の具体
的数値データを表5に示し、縦収差、横収差、波面収差
の諸収差をそれぞれ図19〜図21に示す。このビーム
エキスパンダBのビーム拡大率は、1.70倍に決定されて
いる。
【0050】
【表5】 面No. Ri Di n ν 1 88.796 2.50 1.79857 25.4 2 29.160 39.79 3 -122.664 3.80 1.45488 90.3 4 -32.265 -
【0051】図22に、ビームエキスパンダBのレンズ
構成の第5例を示す。このビーム径変換光学系Bの具体
的数値データを表6に示し、縦収差、横収差、波面収差
の諸収差をそれぞれ図23〜図25に示す。このビーム
径変換光学系Bのビーム拡大率は、1.33倍に決定されて
いる。
構成の第5例を示す。このビーム径変換光学系Bの具体
的数値データを表6に示し、縦収差、横収差、波面収差
の諸収差をそれぞれ図23〜図25に示す。このビーム
径変換光学系Bのビーム拡大率は、1.33倍に決定されて
いる。
【0052】
【表6】 面No. Ri Di n ν 1 -68.751 2.50 1.55463 58.7 2 121.059 23.37 3 330.562 3.50 1.57838 40.7 4 -74.023 -
【0053】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ビームウ
エスト位置を調整するためのフォーカシングが簡便に行
え、野外等で十分に活用できるビーム投射装置を得るこ
とが可能となる。しかもフォーカシングを行う光学系
を、レンズ群間に反射部材がなく、両レンズ群の相対位
置を同一光路内で変化できるストレートで小さな光学系
として構成することが可能となる。
エスト位置を調整するためのフォーカシングが簡便に行
え、野外等で十分に活用できるビーム投射装置を得るこ
とが可能となる。しかもフォーカシングを行う光学系
を、レンズ群間に反射部材がなく、両レンズ群の相対位
置を同一光路内で変化できるストレートで小さな光学系
として構成することが可能となる。
【0054】さらに請求項2の発明によれば、第1レン
ズ群を第2レンズ群に対して進退させる場合に、駆動系
の負荷を小さくすることが可能となる。
ズ群を第2レンズ群に対して進退させる場合に、駆動系
の負荷を小さくすることが可能となる。
【図1】本発明に係るレーザ測量装置の全体を示す断面
図である。
図である。
【図2】同レーザ測量装置の主要光学系を拡大して示す
構成図である。
構成図である。
【図3】同レーザ測量装置の要部を拡大して示す平面図
である。
である。
【図4】同レーザ測量装置に使用可能なコリメートレン
ズの一例を示すレンズ構成図である。
ズの一例を示すレンズ構成図である。
【図5】ビームエキスパンダの第1例を示すレンズ構成
図である。
図である。
【図6】同ビームエキスパンダの縦収差図である。
【図7】同ビームエキスパンダの横収差図である。
【図8】同ビームエキスパンダの波面収差図である。
【図9】同ビームエキスパンダの第1レンズ群の移動量
と射出レーザ光束の波面の曲率半径との相関関係を示す
図である。
と射出レーザ光束の波面の曲率半径との相関関係を示す
図である。
【図10】ビームエキスパンダの第2例を示すレンズ構
成図である。
成図である。
【図11】同ビームエキスパンダの縦収差図である。
【図12】同ビームエキスパンダの横収差図である。
【図13】同ビームエキスパンダの波面収差図である。
【図14】ビームエキスパンダの第3例を示すレンズ構
成図である。
成図である。
【図15】同ビームエキスパンダの縦収差図である。
【図16】同ビームエキスパンダの横収差図である。
【図17】同ビームエキスパンダの波面収差図である。
【図18】ビームエキスパンダの第4例を示すレンズ構
成図である。
成図である。
【図19】同ビームエキスパンダの縦収差図である。
【図20】同ビームエキスパンダの横収差図である。
【図21】同ビームエキスパンダの波面収差図である。
【図22】ビームエキスパンダの第5例を示すレンズ構
成図である。
成図である。
【図23】同ビームエキスパンダの縦収差図である。
【図24】同ビームエキスパンダの横収差図である。
【図25】同ビームエキスパンダの波面収差図である。
11 レーザ測量装置(ビーム投射装置) 15 回転投光部(投光部) 20 中空部材 20a 20b レーザ光光路 23 半導体レーザ(光源) 24 コリメートレンズ 30 円筒部材(レンズ支持部材、調整手段) 31 第1レンズ群 32 第2レンズ群 35 ペンタプリズム(反射手段) 56 レンズ移動スクリュー(調整手段) 57 レンズ移動ナット(調整手段) 59 レンズ移動モータ(調整手段) 60 ピニオン 61 伝達ギヤ 62 リンク(調整手段) 63 挿入窓 101 102 103 104 レンズ B ビームエキスパンダ(ビーム径変換光学系) a 回転軸
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年8月24日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0036
【補正方法】変更
【補正内容】
【0036】図4は、コリメートレンズ24のレンズ構
成の一例を示す。このコリメートレンズ24は、レンズ
102、103、104、105を有し、焦点距離6mm
とされている。また、カバーガラス101は半導体レー
ザ23に付随しているものである。レンズ104と10
5とは、接合(貼合わせ)レンズとなっている。図中の
符号r 1 〜r9 は、カバーガラス又はレンズ各面の曲率
半径を示し、d1 〜d8 は、カバーガラスの厚さ、レン
ズ厚若しくはレンズ間隔を示す。
成の一例を示す。このコリメートレンズ24は、レンズ
102、103、104、105を有し、焦点距離6mm
とされている。また、カバーガラス101は半導体レー
ザ23に付随しているものである。レンズ104と10
5とは、接合(貼合わせ)レンズとなっている。図中の
符号r 1 〜r9 は、カバーガラス又はレンズ各面の曲率
半径を示し、d1 〜d8 は、カバーガラスの厚さ、レン
ズ厚若しくはレンズ間隔を示す。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【符号の説明】 11 レーザ測量装置(ビーム投射装置) 15 回転投光部(投光部) 20 中空部材 20a 20b レーザ光光路 23 半導体レーザ(光源) 24 コリメートレンズ 30 円筒部材(レンズ支持部材、調整手段) 31 第1レンズ群 32 第2レンズ群 35 ペンタプリズム(反射手段) 56 レンズ移動スクリュー(調整手段) 57 レンズ移動ナット(調整手段) 59 レンズ移動モータ(調整手段) 60 ピニオン 61 伝達ギヤ 62 リンク(調整手段) 63 挿入窓102 103 104 105 レンズ B ビームエキスパンダ(ビーム径変換光学系) a 回転軸
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図4
【補正方法】変更
【補正内容】
【図4】
Claims (4)
- 【請求項1】 光源からの光束を反射手段で反射させ、
ほぼ平行光束のビームとして投射するビーム投射装置で
あって、 上記光源からの光束をほぼ平行光束に変換するコリメー
トレンズ;このコリメートレンズと反射手段の間の光路
において、このコリメートレンズ側に位置する負のパワ
ーを持つ第1レンズ群と、反射手段側に位置する正のパ
ワーを持つ第2レンズ群とを備え、上記光源からの光束
のビーム径を拡大して上記反射手段に与えるビーム径変
換光学系;及び、 このビーム径変換光学系の上記第1レンズ群と第2レン
ズ群の相対位置を、投射ビームのビームウエスト位置を
変化させるべく調整する調整手段;を備えていることを
特徴とするビーム投射装置。 - 【請求項2】 請求項1において、第2レンズ群は、コ
リメートレンズと反射手段の間の光路に固定され、第1
レンズ群は、この光路内に該第2レンズ群に対し進退可
能に設けられた、上記調整手段の一部をなすレンズ支持
部材に支持されているビーム投射装置。 - 【請求項3】 請求項1において、第1レンズ群は、コ
リメートレンズと反射手段の間の光路に固定され、第2
レンズ群は、この光路内に該第1レンズ群に対し進退可
能に設けられた、上記調整手段の一部をなすレンズ支持
部材に支持されているビーム投射装置。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項において、
反射手段は、回転軸を中心に回転可能な投光部に設けら
れ、この反射手段からのビームが、該投光部の回転によ
り上記回転軸とほぼ直交する方向に回転投射されて基準
平面を形成することを特徴とするビーム投射装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7043073A JPH08240429A (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | ビーム投射装置 |
| US08/529,729 US5825555A (en) | 1994-09-19 | 1995-09-18 | Beam projecting apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7043073A JPH08240429A (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | ビーム投射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08240429A true JPH08240429A (ja) | 1996-09-17 |
Family
ID=12653683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7043073A Pending JPH08240429A (ja) | 1994-09-19 | 1995-03-02 | ビーム投射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08240429A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6399215U (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-27 | ||
| JPH05134207A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-05-28 | Canon Inc | 双方向空間光通信装置 |
| JPH05245675A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-24 | Hoya Corp | レーザ加工装置 |
| JPH06201383A (ja) * | 1993-01-06 | 1994-07-19 | Topcon Corp | 回転レーザ装置 |
-
1995
- 1995-03-02 JP JP7043073A patent/JPH08240429A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6399215U (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-27 | ||
| JPH05134207A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-05-28 | Canon Inc | 双方向空間光通信装置 |
| JPH05245675A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-24 | Hoya Corp | レーザ加工装置 |
| JPH06201383A (ja) * | 1993-01-06 | 1994-07-19 | Topcon Corp | 回転レーザ装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5825555A (en) | Beam projecting apparatus | |
| US5978148A (en) | Beam projecting device | |
| JP6199923B2 (ja) | 周波数調整可能なレーザーデバイス | |
| KR102416248B1 (ko) | 비축 포물 망원경의 정렬 측정장치 | |
| US3724953A (en) | Optical alignment device providing a virtual pivoting laser beam | |
| WO2015098130A1 (ja) | 2次元走査型のレーザビーム投射装置およびレーザレーダ装置 | |
| JP3445491B2 (ja) | 測量機 | |
| JP4023572B2 (ja) | 自動測量機 | |
| US20010050763A1 (en) | Surveying instrument having a phase-difference detection type focus detecting device and a beam-splitting optical system | |
| EP0895057B1 (en) | Optical axis tilt compensator | |
| JP3974976B2 (ja) | 鏡筒を有する実体顕微鏡 | |
| JPH10213435A (ja) | 基準光発生装置 | |
| JPH08193832A (ja) | ビーム投射装置 | |
| JP2012022030A (ja) | ペンタ光学素子ユニット及びこのペンタ光学素子ユニットを使った面形状測定装置 | |
| CN212620587U (zh) | 一种适用于光学及类似测量系统长距离角度对光装置 | |
| JP2580824Y2 (ja) | 焦点調整装置 | |
| JPH08247762A (ja) | ビーム投射装置 | |
| JPH08184778A (ja) | ビーム投射装置 | |
| JP3482011B2 (ja) | レーザ測量装置 | |
| US3610764A (en) | Automatic leveling telescope including a reversible two-sided pendulum mirror and a focusing prism | |
| JP3453823B2 (ja) | レーザ光学装置 | |
| JPH08334309A (ja) | 光学式変位検出装置 | |
| KR101035305B1 (ko) | 레이저거리측정기를 이용한 초점보상 비열화 장치를 가진 대구경 반사광학장치 | |
| JPH08145676A (ja) | 基準平面形成用レーザ投光装置 | |
| JPH09210845A (ja) | 非球面レンズの偏心測定方法及び偏心測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040106 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040305 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040601 |