JPH08240910A - 改良された保存寿命を有する感光性ポリマー含有系 - Google Patents
改良された保存寿命を有する感光性ポリマー含有系Info
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- JPH08240910A JPH08240910A JP8002204A JP220496A JPH08240910A JP H08240910 A JPH08240910 A JP H08240910A JP 8002204 A JP8002204 A JP 8002204A JP 220496 A JP220496 A JP 220496A JP H08240910 A JPH08240910 A JP H08240910A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明により、特にフォトレジスト、印刷版
または校正フィルムとしてのグラフィックアートに有用
である改良された保存寿命を有する感光性ポリマー含有
系を提供する。 【解決手段】 本発明は、(a)直鎖状ヒドロカルビル骨
格および結合したフリーラジカル重合性官能基を有する
側鎖ペプチド基を有するエネルギー感応性ポリマー；
(b)波長約330〜500nmを有する電磁線を用いる励起によ
りフリーラジカルを生じ得るビニル-ハロメチル-s-トリ
アジン； (c)pKa約1.8〜5.5を有する有機酸； (d)ロイコ染料；および (e)バインダー から成る感光性ポリマー含有系に関する。
または校正フィルムとしてのグラフィックアートに有用
である改良された保存寿命を有する感光性ポリマー含有
系を提供する。 【解決手段】 本発明は、(a)直鎖状ヒドロカルビル骨
格および結合したフリーラジカル重合性官能基を有する
側鎖ペプチド基を有するエネルギー感応性ポリマー；
(b)波長約330〜500nmを有する電磁線を用いる励起によ
りフリーラジカルを生じ得るビニル-ハロメチル-s-トリ
アジン； (c)pKa約1.8〜5.5を有する有機酸； (d)ロイコ染料；および (e)バインダー から成る感光性ポリマー含有系に関する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、改良された保存寿
命を有する感光性ポリマー含有系に関する。これらの系
は、特にフォトレジスト、印刷版または校正フィルムと
してのグラフィックアートに有用である。
命を有する感光性ポリマー含有系に関する。これらの系
は、特にフォトレジスト、印刷版または校正フィルムと
してのグラフィックアートに有用である。
【０００２】
【従来の技術】エネルギー感応性組成物を架橋するフリ
ーラジカル重合を用いる画像形成系はグラフィックアー
ト分野で公知であり、例えば印刷版およびフォトレジス
トを提供する。最大感度およびそれによるより高速度の
版またはフォトレジスト製造を得るために、一般に酸素
が重合プロセスを抑制することから保護する必要があ
る。このことは一般に、比較的酸素不透過性である材
料、例えばポリビニルアルコールのバリヤー層トップコ
ートの使用、不活性または非常に低圧大気環境の使用、
または酸素スカベンジャーのエネルギー感応性組成物へ
の添加により達成される。
ーラジカル重合を用いる画像形成系はグラフィックアー
ト分野で公知であり、例えば印刷版およびフォトレジス
トを提供する。最大感度およびそれによるより高速度の
版またはフォトレジスト製造を得るために、一般に酸素
が重合プロセスを抑制することから保護する必要があ
る。このことは一般に、比較的酸素不透過性である材
料、例えばポリビニルアルコールのバリヤー層トップコ
ートの使用、不活性または非常に低圧大気環境の使用、
または酸素スカベンジャーのエネルギー感応性組成物へ
の添加により達成される。
【０００３】米国特許第4,304,923号には、エチレン系
フリーラジカル重合性基およびカルボン酸基の両方を有
する分岐状縮合ウレタンオリゴマーを含有する印刷版組
成物が開示されている。
フリーラジカル重合性基およびカルボン酸基の両方を有
する分岐状縮合ウレタンオリゴマーを含有する印刷版組
成物が開示されている。
【０００４】米国特許第3,448,089号には、多数の側鎖
アクリルエステル基およびカルボン酸基を含有する被膜
および印刷版に好適なコポリマーが開示されているが、
それらはペプチド基を含有しない。
アクリルエステル基およびカルボン酸基を含有する被膜
および印刷版に好適なコポリマーが開示されているが、
それらはペプチド基を含有しない。
【０００５】米国特許第3,583,950号および同3,598,790
号には、ビニルアズラクトンおよびエチレン系不飽和モ
ノマーのコポリマーが開示されている。そのコポリマー
にはフリーラジカル重合性基は含有しない。
号には、ビニルアズラクトンおよびエチレン系不飽和モ
ノマーのコポリマーが開示されている。そのコポリマー
にはフリーラジカル重合性基は含有しない。
【０００６】米国特許第4,378,411号および同4,304,705
号には、側鎖エチレン系不飽和基を有するビニルアズラ
クトンのコポリマーから誘導される放射線硬化性ポリマ
ーが開示されている。そのポリマーには、それと結合し
た酸性塩または４級アンモニウム塩の基のどちらも含有
しない。
号には、側鎖エチレン系不飽和基を有するビニルアズラ
クトンのコポリマーから誘導される放射線硬化性ポリマ
ーが開示されている。そのポリマーには、それと結合し
た酸性塩または４級アンモニウム塩の基のどちらも含有
しない。
【０００７】米国特許第4,737,560号には、i)ビニルア
ズラクトンモノマー、ii)（モノマー類を含有する酸性
塩を含む）水溶性モノマー、およびiii)架橋剤（即ち、
多官能フリーラジカル重合性モノマー）の重合から誘導
されたポリマービーズが開示されている。同様に、米国
特許第4,111,922号には、改良された吸水性および制菌
性を有する４級アンモニウムモノマーおよびエチレン系
不飽和モノマーから誘導された架橋親水性ランダムコポ
リマーが開示されている。両方の場合、そのポリマーは
不溶性、非被覆性、架橋材料であり、感光性ポリマー画
像形成の使用には適さない。
ズラクトンモノマー、ii)（モノマー類を含有する酸性
塩を含む）水溶性モノマー、およびiii)架橋剤（即ち、
多官能フリーラジカル重合性モノマー）の重合から誘導
されたポリマービーズが開示されている。同様に、米国
特許第4,111,922号には、改良された吸水性および制菌
性を有する４級アンモニウムモノマーおよびエチレン系
不飽和モノマーから誘導された架橋親水性ランダムコポ
リマーが開示されている。両方の場合、そのポリマーは
不溶性、非被覆性、架橋材料であり、感光性ポリマー画
像形成の使用には適さない。
【０００８】米国特許第4,451,619号には、アルケニル
アズラクトン誘導ポリマーの親水性の改良方法が開示さ
れている。開示されたポリマーは、それらが側鎖エチレ
ン系不飽和基を有さない場合にはフリーラジカル重合架
橋反応をし得ない。
アズラクトン誘導ポリマーの親水性の改良方法が開示さ
れている。開示されたポリマーは、それらが側鎖エチレ
ン系不飽和基を有さない場合にはフリーラジカル重合架
橋反応をし得ない。
【０００９】米国特許第4,288,523号には、側鎖酸およ
びペプチド基を有するポリマーが開示されている。この
場合、ポリマーにはフリーラジカル重合性基を含有しな
い。
びペプチド基を有するポリマーが開示されている。この
場合、ポリマーにはフリーラジカル重合性基を含有しな
い。
【００１０】米国特許第4,914,165号には、ポリエステ
ル骨格およびカルボキシル基と組合せた多重エチレン系
不飽和基含有する水性溶媒分散性、放射線架橋性化合物
およびオリゴマーが開示されている。その化合物および
オリゴマーはグラフィックアートに有用である。
ル骨格およびカルボキシル基と組合せた多重エチレン系
不飽和基含有する水性溶媒分散性、放射線架橋性化合物
およびオリゴマーが開示されている。その化合物および
オリゴマーはグラフィックアートに有用である。
【００１１】米国特許第4,547,449号には、４級アンモ
ニウム塩モノマー、酸モノマーおよび可溶化モノマーの
付加コポリマーを含有する電子写真用現像液が開示され
ている。米国特許第4,199,362号には、酸含有モノマー
およびエチレン系不飽和モノマーの共重合から誘導され
るポリマーラテックス化合物が開示されている。これら
の組成物はフリーラジカル重合性側基を有さない。いく
つかの感光性ポリマーを含有する系に付随する問題の１
つは、それらの有効寿命である。高温で数日間以上また
は数カ月の自然老化により、いくつかの系は（その特許
文献中で「プリントアウト(printout)画像」として公
知）露光可視画像(EVI)および写真速度のかなりの減少
を示す。従って、改良された感光性系に対する要求がこ
の分野では常に存在する。向上した有効寿命等を有する
感光性系の調査が開始されたことはこの技術的背景と矛
盾していた。
ニウム塩モノマー、酸モノマーおよび可溶化モノマーの
付加コポリマーを含有する電子写真用現像液が開示され
ている。米国特許第4,199,362号には、酸含有モノマー
およびエチレン系不飽和モノマーの共重合から誘導され
るポリマーラテックス化合物が開示されている。これら
の組成物はフリーラジカル重合性側基を有さない。いく
つかの感光性ポリマーを含有する系に付随する問題の１
つは、それらの有効寿命である。高温で数日間以上また
は数カ月の自然老化により、いくつかの系は（その特許
文献中で「プリントアウト(printout)画像」として公
知）露光可視画像(EVI)および写真速度のかなりの減少
を示す。従って、改良された感光性系に対する要求がこ
の分野では常に存在する。向上した有効寿命等を有する
感光性系の調査が開始されたことはこの技術的背景と矛
盾していた。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明により、pKa約1.8
〜5.5を有する有機酸の光活性トリアジン類を含有する
ある一定の感光性ポリマー含有系への添加により、非常
に驚くべきことに改良された有効寿命を有する系とな
る。本発明までは、トリアジン類を含有する感光性系に
関する有効寿命安定性の問題が存在することは当業者に
認められてなかった。
〜5.5を有する有機酸の光活性トリアジン類を含有する
ある一定の感光性ポリマー含有系への添加により、非常
に驚くべきことに改良された有効寿命を有する系とな
る。本発明までは、トリアジン類を含有する感光性系に
関する有効寿命安定性の問題が存在することは当業者に
認められてなかった。
【００１３】従って、１つの態様では、本発明により (a)直鎖状ヒドロカルビル骨格およびそこに結合したフ
リーラジカル重合性官能基を有する側鎖ペプチド基、お
よび付加的に後述の式(III)を有する少なくとも１種の
有機酸素酸基またはそれらの塩を有するエネルギー感応
性ポリマー； (b)波長約330〜500nmを有する電磁線を用いる励起によ
りフリーラジカルを生じ得るビニル-ハロメチル-s-トリ
アジン； (c)pKa約1.8〜5.5を有する有機酸； (d)ロイコ染料；および (e)バインダー から成る高有効寿命を有する感光性ポリマー含有系を提
供する。
リーラジカル重合性官能基を有する側鎖ペプチド基、お
よび付加的に後述の式(III)を有する少なくとも１種の
有機酸素酸基またはそれらの塩を有するエネルギー感応
性ポリマー； (b)波長約330〜500nmを有する電磁線を用いる励起によ
りフリーラジカルを生じ得るビニル-ハロメチル-s-トリ
アジン； (c)pKa約1.8〜5.5を有する有機酸； (d)ロイコ染料；および (e)バインダー から成る高有効寿命を有する感光性ポリマー含有系を提
供する。
【００１４】好ましい態様では、着色剤、例えば染料ま
たは顔料をその感光性系に加える。
たは顔料をその感光性系に加える。
【００１５】その他の態様では、本発明により、印刷
版、フォトレジスト、校正フィルム等としての使用に好
適な基材上に被覆された発明の感光性系を提供する。
版、フォトレジスト、校正フィルム等としての使用に好
適な基材上に被覆された発明の感光性系を提供する。
【００１６】pKa約1.8〜5.5を有する有機酸の不存在下
では、式(III)のエネルギー感応性ポリマーおよび式(I
V)のトリアジンで被覆された物品は、好適な有機酸を導
入する発明系と比較して、促進または自然老化によるプ
リントアウト画像（即ち、ＥＶＩ）および写真速度のか
なりの減少を示す。
では、式(III)のエネルギー感応性ポリマーおよび式(I
V)のトリアジンで被覆された物品は、好適な有機酸を導
入する発明系と比較して、促進または自然老化によるプ
リントアウト画像（即ち、ＥＶＩ）および写真速度のか
なりの減少を示す。
【００１７】本明細書中では、「ペプチド基」の語によ
り基：
り基：
【化５】 （式中、Ｒ５、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびｎは以下に定義し
た通りである）を表し；「実質的に水性」の語により、
少なくとも90重量％が水であることを表し；「アルケニ
ルアズラクトン」の語により、式(I)の2-オキサゾリン-
5-オン基および式(II)
た通りである）を表し；「実質的に水性」の語により、
少なくとも90重量％が水であることを表し；「アルケニ
ルアズラクトン」の語により、式(I)の2-オキサゾリン-
5-オン基および式(II)
【化６】 の2-オキサジン-6-オン基；を表す。本発明のその他の
態様、優位性、および有用性が、詳細な説明、実施例お
よび請求の範囲から明らかである。
態様、優位性、および有用性が、詳細な説明、実施例お
よび請求の範囲から明らかである。
【００１８】本発明に用いられるエネルギー感応性ポリ
マーは、ブロックまたはランダム、好ましくはランダム
であってもよく、ホモポリマーまたはコポリマー骨格を
有し、式(III)：
マーは、ブロックまたはランダム、好ましくはランダム
であってもよく、ホモポリマーまたはコポリマー骨格を
有し、式(III)：
【化７】 （式中、Ｒ1は水素またはメチルであってもよく；Ｒ
2は：
2は：
【化８】 (式中、ｎは０または１であり；Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ
8は独立して、炭素原子１〜12個を有するアルキル基ま
たは炭素原子５〜12個を有するシクロアルキル基、炭素
原子６〜12個を有するアリールまたはアラルキル基また
は、Ｒ5およびＲ6、並びにＲ7およびＲ8の少なくとも１
組が炭素原子と共に５員または６員炭素環式環を形成し
てもよく、ｎが１の場合、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8のい
ずれかはＨであってもよく；好ましくはＲ5およびＲ6は
メチルでありｎは１である)により表され；Ｗは、-ＮＨ
-、ＮＲ20、-Ｓ-または-Ｏ-であり、ここでＲ20は炭素
原子１〜12個を有するアルキルであってもよく；好まし
くはＷは、-Ｏ-または-ＮＨ-であってもよく、Ｗは-Ｏ-
であることが最も好ましく；Ｚは：
8は独立して、炭素原子１〜12個を有するアルキル基ま
たは炭素原子５〜12個を有するシクロアルキル基、炭素
原子６〜12個を有するアリールまたはアラルキル基また
は、Ｒ5およびＲ6、並びにＲ7およびＲ8の少なくとも１
組が炭素原子と共に５員または６員炭素環式環を形成し
てもよく、ｎが１の場合、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8のい
ずれかはＨであってもよく；好ましくはＲ5およびＲ6は
メチルでありｎは１である)により表され；Ｗは、-ＮＨ
-、ＮＲ20、-Ｓ-または-Ｏ-であり、ここでＲ20は炭素
原子１〜12個を有するアルキルであってもよく；好まし
くはＷは、-Ｏ-または-ＮＨ-であってもよく、Ｗは-Ｏ-
であることが最も好ましく；Ｚは：
【化９】 (式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびｎは上記と同様であ
る)を表し；Ｒ3は、(a)
る)を表し；Ｒ3は、(a)
【化１０】 (式中、Ｒ9は炭素原子１〜12個を有するアルキレン基、
炭素原子６〜12個を有するアリーレン基、オキシアルキ
レン基が炭素原子２〜４個を有し、かつ酸素原子数が４
以下の整数であるオキシアルキレン基またはポリ(オキ
シアルキレン)であってもよく、最も好ましくはＲ9は炭
素原子１〜４個を有し；Ｒ10は水素、シアノ、カルボキ
シル基、または-Ｃ(=Ｏ)ＮＨ2基であり；およびＲ11は
水素、炭素原子１〜12個を有するアルキル基、または要
すれば、例えばハロゲン、炭素原子１〜４個を有するア
ルキルまたはアルコキシ基であってもよい置換基を有す
るフェニレン基またはナフチル基である)；または(b)-
Ｒ9-Ｗ-Ｔ（式中、Ｒ9は(a)と同様であり、Ｗは上記と
同様であり、Ｔはアクリロイル、メタクリロイル、シン
ナモイル、マレオイル、フマロイル、イタコノイルおよ
びクロトノイルから成る群から選択されるエチレン系不
飽和基であり、好ましくはアクリロイルまたはメタクリ
ロイルである）から選択される重合性、エチレン系不飽
和基であり；a、b、cおよびdは独立して整数であり、a
およびbは少なくとも１であり、a+b+c+dの総数は数平均
分子量2,000〜1,000,000を有するポリマーを提供するの
に十分な数であり；Ｇは-Ｒ9-Ｎ+Ｒ12Ｒ13Ｒ14Ｘ-（式
中、Ｒ9は上記と同様であり、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は
独立して炭素原子１〜20個を有するアルキル基または炭
素原子５〜12個を有するシクロアルキル基、炭素原子６
〜12個を有するアリールまたはアラルキル基または窒素
を介して共にＲ12、Ｒ13およびＲ14の内の２つまたは全
３つが５員〜８員複素環式環を形成し得、Ｘ-はポリマ
ー骨格または側鎖の他の位置にあるアニオンを含む非妨
害アニオンを表し、非妨害アニオンの例は画像形成の技
術分野で公知であり、それらに限定されないが１価の負
電荷を有するアニオン、例えば塩化物、臭化物、ヨウ化
物、アルキルおよびアリールカルボキシレート類、アル
キルおよびアリールスルホネート類、重炭酸塩等、およ
び１以上の負電荷を有するアニオン、例えばスルフェー
ト、ホスフェート等を含み、好ましいアニオンはヨウ化
物、塩化物および臭化物である）により表され；Ｒは炭
素原子６〜30個を有するアリール基、シアノ、-ＣＯ
2Ｈ、炭素原子２〜40個を有するカルボアルコキシ基、
または、炭素原子２〜40個を有するモノまたはジアルキ
ルカルバモイル基を表し、好ましくはＲは-ＣＯ2Ｈであ
る；およびＲ4は水素、または可溶化カチオン、例えば
ナトリウム、カリウムまたは４級アンモニウム、または
-Ｅ-Ａ(式中、ＥはＣ、Ｎ、Ｓおよび非ペルオキシＯ原
子の総数約18以下を有する有機２価結合基を表し、Ａは
カルボキシル、スルホ、ホスホ基から選択される酸性
基、およびそれらの塩である)を表し、Ｒ4は１種以上の
基Ａを有する多官能性であってもよく、Ｅの非限定的例
にはアルキレンおよびアリーレン基(例えば、プロパン-
1,3-ジイル、メチレン、ドデカン-1,12-ジイル、p-フェ
ニレン)、オキサ置換アルキレン基(例えば、2-オキサプ
ロパン-1,3-ジイル、3-メチル-3-アザペンタン-1,5-ジ
イル)等を含み、Ａの例には、それらに限定されないが
カルボキシ基(-ＣＯＯＨ)、ホスホ基(-ＰＯ3Ｈ2)、およ
びスルホ基(-ＳＯ3Ｈ)およびそれらのアルカリ金属類と
の塩(例えば、ナトリウム、リチウム、カリウム)、モノ
-、ジ-、トリ-およびテトラ-置換アンモニウム塩(例え
ば、アンモニウム、テトラブチルアンモニウム、フェニ
ルジプロピルアンモニウム)を含み、好ましくはＡはカ
ルボキシル基、スルホ基、またはホスホ基またはそれら
のアルカリ金属またはテトラ置換アンモニウム塩を含
む；)）で表される。
炭素原子６〜12個を有するアリーレン基、オキシアルキ
レン基が炭素原子２〜４個を有し、かつ酸素原子数が４
以下の整数であるオキシアルキレン基またはポリ(オキ
シアルキレン)であってもよく、最も好ましくはＲ9は炭
素原子１〜４個を有し；Ｒ10は水素、シアノ、カルボキ
シル基、または-Ｃ(=Ｏ)ＮＨ2基であり；およびＲ11は
水素、炭素原子１〜12個を有するアルキル基、または要
すれば、例えばハロゲン、炭素原子１〜４個を有するア
ルキルまたはアルコキシ基であってもよい置換基を有す
るフェニレン基またはナフチル基である)；または(b)-
Ｒ9-Ｗ-Ｔ（式中、Ｒ9は(a)と同様であり、Ｗは上記と
同様であり、Ｔはアクリロイル、メタクリロイル、シン
ナモイル、マレオイル、フマロイル、イタコノイルおよ
びクロトノイルから成る群から選択されるエチレン系不
飽和基であり、好ましくはアクリロイルまたはメタクリ
ロイルである）から選択される重合性、エチレン系不飽
和基であり；a、b、cおよびdは独立して整数であり、a
およびbは少なくとも１であり、a+b+c+dの総数は数平均
分子量2,000〜1,000,000を有するポリマーを提供するの
に十分な数であり；Ｇは-Ｒ9-Ｎ+Ｒ12Ｒ13Ｒ14Ｘ-（式
中、Ｒ9は上記と同様であり、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は
独立して炭素原子１〜20個を有するアルキル基または炭
素原子５〜12個を有するシクロアルキル基、炭素原子６
〜12個を有するアリールまたはアラルキル基または窒素
を介して共にＲ12、Ｒ13およびＲ14の内の２つまたは全
３つが５員〜８員複素環式環を形成し得、Ｘ-はポリマ
ー骨格または側鎖の他の位置にあるアニオンを含む非妨
害アニオンを表し、非妨害アニオンの例は画像形成の技
術分野で公知であり、それらに限定されないが１価の負
電荷を有するアニオン、例えば塩化物、臭化物、ヨウ化
物、アルキルおよびアリールカルボキシレート類、アル
キルおよびアリールスルホネート類、重炭酸塩等、およ
び１以上の負電荷を有するアニオン、例えばスルフェー
ト、ホスフェート等を含み、好ましいアニオンはヨウ化
物、塩化物および臭化物である）により表され；Ｒは炭
素原子６〜30個を有するアリール基、シアノ、-ＣＯ
2Ｈ、炭素原子２〜40個を有するカルボアルコキシ基、
または、炭素原子２〜40個を有するモノまたはジアルキ
ルカルバモイル基を表し、好ましくはＲは-ＣＯ2Ｈであ
る；およびＲ4は水素、または可溶化カチオン、例えば
ナトリウム、カリウムまたは４級アンモニウム、または
-Ｅ-Ａ(式中、ＥはＣ、Ｎ、Ｓおよび非ペルオキシＯ原
子の総数約18以下を有する有機２価結合基を表し、Ａは
カルボキシル、スルホ、ホスホ基から選択される酸性
基、およびそれらの塩である)を表し、Ｒ4は１種以上の
基Ａを有する多官能性であってもよく、Ｅの非限定的例
にはアルキレンおよびアリーレン基(例えば、プロパン-
1,3-ジイル、メチレン、ドデカン-1,12-ジイル、p-フェ
ニレン)、オキサ置換アルキレン基(例えば、2-オキサプ
ロパン-1,3-ジイル、3-メチル-3-アザペンタン-1,5-ジ
イル)等を含み、Ａの例には、それらに限定されないが
カルボキシ基(-ＣＯＯＨ)、ホスホ基(-ＰＯ3Ｈ2)、およ
びスルホ基(-ＳＯ3Ｈ)およびそれらのアルカリ金属類と
の塩(例えば、ナトリウム、リチウム、カリウム)、モノ
-、ジ-、トリ-およびテトラ-置換アンモニウム塩(例え
ば、アンモニウム、テトラブチルアンモニウム、フェニ
ルジプロピルアンモニウム)を含み、好ましくはＡはカ
ルボキシル基、スルホ基、またはホスホ基またはそれら
のアルカリ金属またはテトラ置換アンモニウム塩を含
む；)）で表される。
【００１９】本発明に用いられるエネルギー感応性ポリ
マーは、要すれば付加的フリーラジカル重合性コモノマ
ーの存在下で、アルケニルアズラクトンモノマーをフリ
ーラジカル重合することにより便利に調製されて、続い
て官能基性フリーラジカル重合性基を用いて誘導される
ポリマーを提供する。アルケニルアズラクトンモノマー
10〜100重量％およびコモノマー０〜90重量％、より好
ましくはアルケニルアズラクトン50〜100重量％および
コモノマー50〜０重量％をもちいることが好ましい。こ
の方法により、ポリマー骨格の合成時の側鎖フリーラジ
カル重合性基の重合の問題を回避する。ビニルジメチル
アズラクトンは市販されている。
マーは、要すれば付加的フリーラジカル重合性コモノマ
ーの存在下で、アルケニルアズラクトンモノマーをフリ
ーラジカル重合することにより便利に調製されて、続い
て官能基性フリーラジカル重合性基を用いて誘導される
ポリマーを提供する。アルケニルアズラクトンモノマー
10〜100重量％およびコモノマー０〜90重量％、より好
ましくはアルケニルアズラクトン50〜100重量％および
コモノマー50〜０重量％をもちいることが好ましい。こ
の方法により、ポリマー骨格の合成時の側鎖フリーラジ
カル重合性基の重合の問題を回避する。ビニルジメチル
アズラクトンは市販されている。
【００２０】2-アルケニルアズラクトン類は公知であ
り、それらの合成、物理的および化学的特性、ホモ重合
および共重合挙動、および調製および適用が、J.K.ラス
ムッセン(Rasmussen)等の最近の論評「ポリアズラクト
ンズ(Polyazlactones)」で議論されており、それはエン
シクロペディア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド・エ
ンジニアリング(Encyclopedia of Polymer Science and
Engineering)、第11巻、第２版(1988年)、558〜571頁
に開示されている。本発明に有用な2-アルケニルアズラ
クトン類には、2-ビニル-4,4-ジメチル-2-オキサゾリン
-5-オン、2-イソプロピル-4,4-ジメチル-2-オキサゾリ
ン-5-オン、2-ビニル-4-エチル-4-メチル-2-オキサゾリ
ン-5-オン、2-ビニル-4,4-ジエチル-2-オキサゾリン-5-
オン、2-ビニル-4-メチル-4-フェニル-2-オキサゾリン-
5-オン、2-イソプロペニル-4,4-テトラメチレン-2-オキ
サゾリン-5-オン、2-ビニル-4,4-ペンタメチレン-2-オ
キサゾリン-5-オンおよび2-ビニル-4,4-ジメチル-2-オ
キサゾリン-6-オンを含む。
り、それらの合成、物理的および化学的特性、ホモ重合
および共重合挙動、および調製および適用が、J.K.ラス
ムッセン(Rasmussen)等の最近の論評「ポリアズラクト
ンズ(Polyazlactones)」で議論されており、それはエン
シクロペディア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド・エ
ンジニアリング(Encyclopedia of Polymer Science and
Engineering)、第11巻、第２版(1988年)、558〜571頁
に開示されている。本発明に有用な2-アルケニルアズラ
クトン類には、2-ビニル-4,4-ジメチル-2-オキサゾリン
-5-オン、2-イソプロピル-4,4-ジメチル-2-オキサゾリ
ン-5-オン、2-ビニル-4-エチル-4-メチル-2-オキサゾリ
ン-5-オン、2-ビニル-4,4-ジエチル-2-オキサゾリン-5-
オン、2-ビニル-4-メチル-4-フェニル-2-オキサゾリン-
5-オン、2-イソプロペニル-4,4-テトラメチレン-2-オキ
サゾリン-5-オン、2-ビニル-4,4-ペンタメチレン-2-オ
キサゾリン-5-オンおよび2-ビニル-4,4-ジメチル-2-オ
キサゾリン-6-オンを含む。
【００２１】代表的コモノマーには、アクリル酸および
メタクリル酸、および単官能性アクリレート類およびメ
タアクリレート類、アクリルアミド類およびメタクリル
アミド類、アクリロニトリルおよびメタクリロニトリ
ル、スチレン、およびＮ-ビニルピロリドンを含む。好
ましいコモノマーには、ジメチルアミノエチルメタクリ
レート、エチルアクリレート、酸化エチレンアクリレー
ト、イタコン酸、イソオクチルメタクリレート、ラウリ
ルメタクリレート、またはそれらの塩、好ましくは炭素
原子４〜25個、より好ましくは炭素原子10〜25個を有す
る４級アンモニウム塩を含む。好ましい４級アンモニウ
ムカチオンの例には、それらに限定されないが、エチル
トリメチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、
ヘキシルトリブチルアンモニウム、テトラヘキシルアン
モニウム、メチルトリベンジルアンモニウム、ベンジル
トリメチルアンモニウム等を含む。そのアニオンは如何
なる可溶化アニオンであってもよい。
メタクリル酸、および単官能性アクリレート類およびメ
タアクリレート類、アクリルアミド類およびメタクリル
アミド類、アクリロニトリルおよびメタクリロニトリ
ル、スチレン、およびＮ-ビニルピロリドンを含む。好
ましいコモノマーには、ジメチルアミノエチルメタクリ
レート、エチルアクリレート、酸化エチレンアクリレー
ト、イタコン酸、イソオクチルメタクリレート、ラウリ
ルメタクリレート、またはそれらの塩、好ましくは炭素
原子４〜25個、より好ましくは炭素原子10〜25個を有す
る４級アンモニウム塩を含む。好ましい４級アンモニウ
ムカチオンの例には、それらに限定されないが、エチル
トリメチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、
ヘキシルトリブチルアンモニウム、テトラヘキシルアン
モニウム、メチルトリベンジルアンモニウム、ベンジル
トリメチルアンモニウム等を含む。そのアニオンは如何
なる可溶化アニオンであってもよい。
【００２２】ホモポリマーまたはコポリマーを提供する
ポリマー骨格の重合は当業者に公知の熱的（例えば、ア
シルペルオキシド類、ジアルキルペルカーボネート類、
アゾアルカン類等の分解）または光化学的（例えば、ビ
スイミダゾール類、ベンゾインエーテル、芳香族ケトン
類、ハロメチル-s-トリアジン類、増感ヨードニウムま
たはスルホニウム塩等）手段のどちらかにより行われて
もよい。熱的誘導が好ましい。
ポリマー骨格の重合は当業者に公知の熱的（例えば、ア
シルペルオキシド類、ジアルキルペルカーボネート類、
アゾアルカン類等の分解）または光化学的（例えば、ビ
スイミダゾール類、ベンゾインエーテル、芳香族ケトン
類、ハロメチル-s-トリアジン類、増感ヨードニウムま
たはスルホニウム塩等）手段のどちらかにより行われて
もよい。熱的誘導が好ましい。
【００２３】本発明に用いられるポリマーが直鎖状ヒド
ロカルビル骨格および結合したフリーラジカル重合性官
能基を有する側鎖ペプチド基、および付加的にオルガノ
酸素酸残基を有し得る間に、付加的４級アンモニウム基
が前述のように存在することが一般に好ましい。多くの
場合、金属、例えば処理アルミニウム基材への接着性の
向上が、ポリマー中にこれらの基を含有することにより
観察される。４級アンモニウム塩の基を、モノマーを含
有する４級アンモニウム塩の共重合によって、またはカ
ップリング反応（例えば、アズラクトン基による求核原
子置換４級アンモニウム塩とのカップリング）により生
成されたポリマーとの反応によって、またはそのポリマ
ーに結合した３級アミンの４級化(quaternization)によ
って、そのポリマー中に導入してもよい。
ロカルビル骨格および結合したフリーラジカル重合性官
能基を有する側鎖ペプチド基、および付加的にオルガノ
酸素酸残基を有し得る間に、付加的４級アンモニウム基
が前述のように存在することが一般に好ましい。多くの
場合、金属、例えば処理アルミニウム基材への接着性の
向上が、ポリマー中にこれらの基を含有することにより
観察される。４級アンモニウム塩の基を、モノマーを含
有する４級アンモニウム塩の共重合によって、またはカ
ップリング反応（例えば、アズラクトン基による求核原
子置換４級アンモニウム塩とのカップリング）により生
成されたポリマーとの反応によって、またはそのポリマ
ーに結合した３級アミンの４級化(quaternization)によ
って、そのポリマー中に導入してもよい。
【００２４】エネルギー感応性ポリマーは、乾燥、被覆
感光性系の重量を基礎として約30〜80重量％、好ましく
は約40〜55重量％の量で存在する。
感光性系の重量を基礎として約30〜80重量％、好ましく
は約40〜55重量％の量で存在する。
【００２５】本発明に用いられる発色団置換ビニル-ハ
ロメチル-s-トリアジン化合物は好ましくは式：
ロメチル-s-トリアジン化合物は好ましくは式：
【化１１】 （式中、Ｑは臭素または塩素であり、Ｐは-ＣＱ3、-Ｎ
Ｈ2、-ＮＨＲ、-ＮＲ2、または-ＯＲであり、Ｒはフェ
ニルまたはアルキル(本明細書中で「低級アルキル」の
語により、炭素原子６個以下を有するアルキル基を表
す)であり；ｎは１〜３の整数であり；およびＷは要す
れば置換芳香族または複素環式核または
Ｈ2、-ＮＨＲ、-ＮＲ2、または-ＯＲであり、Ｒはフェ
ニルまたはアルキル(本明細書中で「低級アルキル」の
語により、炭素原子６個以下を有するアルキル基を表
す)であり；ｎは１〜３の整数であり；およびＷは要す
れば置換芳香族または複素環式核または
【化１２】 (式中、Ｚは酸素または硫黄およびＲ1は水素、低級アル
キルまたはフェニル基)である。Ｗが芳香族または複素
環式核である場合、その環は要すれば置換されてもよ
い。置換基のすべてを試みることなく、典型的なものと
して以下のもの：クロロ、ブロモ、フェニル、低級アル
キル、ニトロ、フェノキシ、アルコキシ、アセトキシ、
アセチル、アミノ、およびアルキルアミノが示される）
により表される。
キルまたはフェニル基)である。Ｗが芳香族または複素
環式核である場合、その環は要すれば置換されてもよ
い。置換基のすべてを試みることなく、典型的なものと
して以下のもの：クロロ、ブロモ、フェニル、低級アル
キル、ニトロ、フェノキシ、アルコキシ、アセトキシ、
アセチル、アミノ、およびアルキルアミノが示される）
により表される。
【００２６】前述のs-トリアジン化合物は、波長約330
〜約500nm、好ましくは約350〜450nm、および最も好ま
しくは365および410nmを有する化学線を照射した時にフ
リーラジカルを生じる。そのようなトリアジンは当業者
に公知であり、米国特許第3,954,475号に開示されてい
る。好適な放射線源には、それらに限定されないが、水
銀、キセノン、炭素アークおよびタングステンフィラメ
ントランプ、レーザー、太陽光等を含む。暴露は、用い
られるエネルギー感応性ポリマーおよびトリアジンの量
に依存して、および、放射線源および硬化されるべき被
膜の放射線源からの距離および厚さに依存して、約１マ
イクロ秒以下〜10分以上であってもよい。電子ビームを
用いてもよい。トリアジン化合物は、被覆乾燥感光性ポ
リマー含有系の固形分の約0.5〜15.0重量％、および好
ましくは約3.0〜10.0重量％の量で用いられる。
〜約500nm、好ましくは約350〜450nm、および最も好ま
しくは365および410nmを有する化学線を照射した時にフ
リーラジカルを生じる。そのようなトリアジンは当業者
に公知であり、米国特許第3,954,475号に開示されてい
る。好適な放射線源には、それらに限定されないが、水
銀、キセノン、炭素アークおよびタングステンフィラメ
ントランプ、レーザー、太陽光等を含む。暴露は、用い
られるエネルギー感応性ポリマーおよびトリアジンの量
に依存して、および、放射線源および硬化されるべき被
膜の放射線源からの距離および厚さに依存して、約１マ
イクロ秒以下〜10分以上であってもよい。電子ビームを
用いてもよい。トリアジン化合物は、被覆乾燥感光性ポ
リマー含有系の固形分の約0.5〜15.0重量％、および好
ましくは約3.0〜10.0重量％の量で用いられる。
【００２７】本発明に用いられるロイコ酸は、酸化によ
り可視染料を形成する如何なる無色または淡色の化合物
であってもよい。その化合物は酸化されて有色状態とな
るべきである。pＨの変化のみに感応性の化合物は、酸
化されて有色の形態となり得ないので「ロイコ酸」の範
囲内には含まない一方、pＨ感応性であり、かつ酸化さ
れて有色状態となり得る化合物は有用であるが、好まし
くない。
り可視染料を形成する如何なる無色または淡色の化合物
であってもよい。その化合物は酸化されて有色状態とな
るべきである。pＨの変化のみに感応性の化合物は、酸
化されて有色の形態となり得ないので「ロイコ酸」の範
囲内には含まない一方、pＨ感応性であり、かつ酸化さ
れて有色状態となり得る化合物は有用であるが、好まし
くない。
【００２８】本発明に用いられるロイコ化合物により生
じる染料は公知であり、例えばザ・カラー・インデックス
(The Colour Index)；ザ・ソサイエティー・オブ・ダイズ・
アンド・カラーリスツ(The Society of Dyes and Colour
ists)：英国ヨークシャー州、1971年、第４巻、第4380
頁；およびベンカタラマン(Venkataraman),Kのザ・ケミ
ストリー・オブ・シンセチック・ダイズ(The Chemistry of
Synthetic Dyes)、アカデミック・プレス(Academic Pre
ss)、ニューヨーク(New York)、1952年、第２巻、714
頁；に開示されている。好ましいロイコ染料はトリアリ
ールメタンロイコ染料であり、当業者に公知である。本
発明に用いられるロイコ化合物は、当業者に公知の技術
により容易に合成され得る。
じる染料は公知であり、例えばザ・カラー・インデックス
(The Colour Index)；ザ・ソサイエティー・オブ・ダイズ・
アンド・カラーリスツ(The Society of Dyes and Colour
ists)：英国ヨークシャー州、1971年、第４巻、第4380
頁；およびベンカタラマン(Venkataraman),Kのザ・ケミ
ストリー・オブ・シンセチック・ダイズ(The Chemistry of
Synthetic Dyes)、アカデミック・プレス(Academic Pre
ss)、ニューヨーク(New York)、1952年、第２巻、714
頁；に開示されている。好ましいロイコ染料はトリアリ
ールメタンロイコ染料であり、当業者に公知である。本
発明に用いられるロイコ化合物は、当業者に公知の技術
により容易に合成され得る。
【００２９】pＫa約1.8〜5.5、好ましくは約2.0〜5.0、
およびより好ましくは約2.5〜3.5を有する如何なる有機
酸を本発明に用いてもよい。そのような有機酸の例に
は、フタル酸（o-フタル酸）、m-フタル酸、p-フタル
酸、乳酸、蓚酸、o-ヒドロキシ安息香酸、琥珀酸、およ
びo-クロロ安息香酸を含む。本発明に用いられる有機酸
の量は、一般に被覆乾燥感光性ポリマー含有系の固形分
を基礎として、約0.5〜６．０重量％、および好ましく
は約１．０〜3.0重量％の範囲内である。
およびより好ましくは約2.5〜3.5を有する如何なる有機
酸を本発明に用いてもよい。そのような有機酸の例に
は、フタル酸（o-フタル酸）、m-フタル酸、p-フタル
酸、乳酸、蓚酸、o-ヒドロキシ安息香酸、琥珀酸、およ
びo-クロロ安息香酸を含む。本発明に用いられる有機酸
の量は、一般に被覆乾燥感光性ポリマー含有系の固形分
を基礎として、約0.5〜６．０重量％、および好ましく
は約１．０〜3.0重量％の範囲内である。
【００３０】天然または合成の水性溶媒可溶性（または
好ましくは約20重量％以下の量の非水性溶媒可溶性）ポ
リマーバインダーを本発明の実施に用いてもよい。有機
ポリマー樹脂を用いてもよい。熱可塑性樹脂が一般に好
ましい。好適なバインダーの例として、スルホネート化
ポリスチレン、ポリビニルアルコール、澱粉、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリ酢酸ビニル等がある。これらの
最小要求以上に、バインダーの選択には限界がない。事
実、透明性または反透明性は、望ましいが必要ない。一
般に有用な範囲は、被覆乾燥感光性ポリマー含有系の固
形分を基礎として、バインダー30重量％以下、好ましく
は２〜15重量％の範囲内である。
好ましくは約20重量％以下の量の非水性溶媒可溶性）ポ
リマーバインダーを本発明の実施に用いてもよい。有機
ポリマー樹脂を用いてもよい。熱可塑性樹脂が一般に好
ましい。好適なバインダーの例として、スルホネート化
ポリスチレン、ポリビニルアルコール、澱粉、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリ酢酸ビニル等がある。これらの
最小要求以上に、バインダーの選択には限界がない。事
実、透明性または反透明性は、望ましいが必要ない。一
般に有用な範囲は、被覆乾燥感光性ポリマー含有系の固
形分を基礎として、バインダー30重量％以下、好ましく
は２〜15重量％の範囲内である。
【００３１】顔料または染料を本発明に着色剤として用
いてもよいが、顔料がより光安定性カラー画像を提供す
るので好ましい。一般に、顔料は感光性配合物に、バイ
ンダーで分散され、溶剤または溶剤混合物中に乳化され
た顔料練り顔料(millbase)の形で導入される。多くの異
なる顔料が用いられ、当業者に公知である。顔料の種類
および色を選択して、被覆着色成分を設定色目標または
その工業により設定された仕様に合わせる。
いてもよいが、顔料がより光安定性カラー画像を提供す
るので好ましい。一般に、顔料は感光性配合物に、バイ
ンダーで分散され、溶剤または溶剤混合物中に乳化され
た顔料練り顔料(millbase)の形で導入される。多くの異
なる顔料が用いられ、当業者に公知である。顔料の種類
および色を選択して、被覆着色成分を設定色目標または
その工業により設定された仕様に合わせる。
【００３２】本発明に用いられる感光性ポリマー含有系
は、式(III)のエネルギー感応性ポリマーを好適な溶剤
に溶解して、濃度約１〜20重量％、好ましくは約５〜10
重量％とする。式(III)のポリマーを溶剤中で調製する
と、付加的溶剤を加えて所望の濃度にすることのみ必要
である。使用され得る溶剤の例には、アセトン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、ｎ-プロパノ
ール、イソプロパノール、酢酸エチル、ベンゼン、トル
エン、トリクロロエチレン等を含む。好ましい溶剤は水
性アルコール類およびメチルエチルケトンである。トリ
アジン、ロイコ染料、有機酸、バインダー、および着色
剤（要すれば）もその溶剤系に加える。
は、式(III)のエネルギー感応性ポリマーを好適な溶剤
に溶解して、濃度約１〜20重量％、好ましくは約５〜10
重量％とする。式(III)のポリマーを溶剤中で調製する
と、付加的溶剤を加えて所望の濃度にすることのみ必要
である。使用され得る溶剤の例には、アセトン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、ｎ-プロパノ
ール、イソプロパノール、酢酸エチル、ベンゼン、トル
エン、トリクロロエチレン等を含む。好ましい溶剤は水
性アルコール類およびメチルエチルケトンである。トリ
アジン、ロイコ染料、有機酸、バインダー、および着色
剤（要すれば）もその溶剤系に加える。
【００３３】本発明の感光性ポリマー含有系の乾燥被覆
重量は通常、0.3〜９g/m2、好ましくは0.5〜５g/m2、お
よび最も好ましくは0.8〜2.4g/m2である。本発明の感光
性系は通常、当業者に公知の方法により様々な画像形成
用途に用いられる基材上に被覆される。基材は透明であ
っても不透明であってもよい。本発明の感光性系を支持
する好適な基材には、それらに限定されないが、金属類
（例えば、鋼、およびシリケート類またはポリアクリル
酸およびその誘導体、シート、およびホイル等の親水化
剤で処理したアルミニウムプレート）；付加ポリマー
（例えば、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリイソブチレンポリマー
およびコポリマー）および直鎖状縮合ポリマー（ポリエ
チレンテレフタレート、ポリヘキサメチレンアジペー
ト、およびポリヘキサメチレンアジパミド/アジペー
ト）を含む様々なフィルム形成合成ポリマーまたはポリ
マーから成るフィルムまたはプレート；を含む。アルミ
ニウムが好ましい基材である。成分を、通常光領域外の
電磁スペクトルの狭い領域に増感しない場合、および成
分を通常可視光を排除するフィルター層を用いて提供し
ない場合、被覆基材を光の不在下で保管する。
重量は通常、0.3〜９g/m2、好ましくは0.5〜５g/m2、お
よび最も好ましくは0.8〜2.4g/m2である。本発明の感光
性系は通常、当業者に公知の方法により様々な画像形成
用途に用いられる基材上に被覆される。基材は透明であ
っても不透明であってもよい。本発明の感光性系を支持
する好適な基材には、それらに限定されないが、金属類
（例えば、鋼、およびシリケート類またはポリアクリル
酸およびその誘導体、シート、およびホイル等の親水化
剤で処理したアルミニウムプレート）；付加ポリマー
（例えば、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリイソブチレンポリマー
およびコポリマー）および直鎖状縮合ポリマー（ポリエ
チレンテレフタレート、ポリヘキサメチレンアジペー
ト、およびポリヘキサメチレンアジパミド/アジペー
ト）を含む様々なフィルム形成合成ポリマーまたはポリ
マーから成るフィルムまたはプレート；を含む。アルミ
ニウムが好ましい基材である。成分を、通常光領域外の
電磁スペクトルの狭い領域に増感しない場合、および成
分を通常可視光を排除するフィルター層を用いて提供し
ない場合、被覆基材を光の不在下で保管する。
【００３４】ポリマー特性の改良が所望の場合に、式(I
II)のポリマー１重量部当たり共重合性エチレン系不飽
和多官能性モノマーおよびオリゴマー20重量部以下を感
光性系に含むことは、本発明の範囲内である。使用され
得る好ましいモノマーは多官能性アクリレート類および
メタクリレート類、例えばネオペンチルグリコールジア
クリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ペ
ンタエリトリトールトリアクリレート、1,3,5-トリ(2-
アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、および
その対応するメタクリレート類である。
II)のポリマー１重量部当たり共重合性エチレン系不飽
和多官能性モノマーおよびオリゴマー20重量部以下を感
光性系に含むことは、本発明の範囲内である。使用され
得る好ましいモノマーは多官能性アクリレート類および
メタクリレート類、例えばネオペンチルグリコールジア
クリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ペ
ンタエリトリトールトリアクリレート、1,3,5-トリ(2-
アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、および
その対応するメタクリレート類である。
【００３５】使用され得る好ましいオリゴマーには、ポ
リエステルアクリレートおよびメタクリレート、ウレタ
ンアクリレートおよびメタクリレート、エポキシアクリ
レートおよびメタクリレート等を含む。これらのオリゴ
マーは市販されており、分子量約600〜2000を有する。
リエステルアクリレートおよびメタクリレート、ウレタ
ンアクリレートおよびメタクリレート、エポキシアクリ
レートおよびメタクリレート等を含む。これらのオリゴ
マーは市販されており、分子量約600〜2000を有する。
【００３６】本発明の感光性ポリマー含有系の好ましい
実用性は、プリント作業、例えば平板印刷版に用いられ
る予備増感版としてである。この構造には、本発明の感
光性系（溶剤を除く）0.3〜９g/m2で被覆した、木目
状、陽極酸化処理、およびケイ酸処理したアルミニウム
基材を含む。木目状基材は、模様をつけたまたは粗化し
た表面を有する。この処理は当業者に公知であり、ブラ
シ木目塗(graining)（研磨材料を用いる粗化）、化学的
エッチング、または電気化学的木目塗により行われても
よい。陽極酸化は公知の金属表面の陽極酸化である。ケ
イ酸処理も、基材を親水化するものとして公知である。
実用性は、プリント作業、例えば平板印刷版に用いられ
る予備増感版としてである。この構造には、本発明の感
光性系（溶剤を除く）0.3〜９g/m2で被覆した、木目
状、陽極酸化処理、およびケイ酸処理したアルミニウム
基材を含む。木目状基材は、模様をつけたまたは粗化し
た表面を有する。この処理は当業者に公知であり、ブラ
シ木目塗(graining)（研磨材料を用いる粗化）、化学的
エッチング、または電気化学的木目塗により行われても
よい。陽極酸化は公知の金属表面の陽極酸化である。ケ
イ酸処理も、基材を親水化するものとして公知である。
【００３７】本発明の目的および有用性は、更に以下の
実施例により示されるが、これらの実施例に列挙した特
定の材料およびその量、そしてその他の条件および詳細
は、本発明を不当に限定するものであると解されるべき
ではない。
実施例により示されるが、これらの実施例に列挙した特
定の材料およびその量、そしてその他の条件および詳細
は、本発明を不当に限定するものであると解されるべき
ではない。
【００３８】
【実施例】配合物(C)は酸を加えない感光性系を表し
た。配合物(A)および(B)は、有機および無機の両方の酸
を加えた感光性系を表した。その感光性系を電気化学的
に木目状、陽極酸化処理、およびケイ酸処理したアルミ
ニウム基材上に被覆した。その被覆重量は150mg/ft2で
あった。続いて、その乾燥被覆プレートを、波長350〜4
50nmの５kＷジアゾバルブ放射光を有する真空暴露フレ
ーム内の21段階の段階ウエッジネガを通して露光した。
続いて、露光プレートを、ＮaＨＣＯ3１％、ペレックス
(Pelex)NBLブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム２
％、Ｎa3-EDTA0.2％、および水96.8％を含有する現像剤
を用いて処理した。その処理を、装置によりまたは装置
作業用のブラシを用いて手動で行った。エージング試験
（140°Fで３〜７日間）結果を表１に示した。
た。配合物(A)および(B)は、有機および無機の両方の酸
を加えた感光性系を表した。その感光性系を電気化学的
に木目状、陽極酸化処理、およびケイ酸処理したアルミ
ニウム基材上に被覆した。その被覆重量は150mg/ft2で
あった。続いて、その乾燥被覆プレートを、波長350〜4
50nmの５kＷジアゾバルブ放射光を有する真空暴露フレ
ーム内の21段階の段階ウエッジネガを通して露光した。
続いて、露光プレートを、ＮaＨＣＯ3１％、ペレックス
(Pelex)NBLブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム２
％、Ｎa3-EDTA0.2％、および水96.8％を含有する現像剤
を用いて処理した。その処理を、装置によりまたは装置
作業用のブラシを用いて手動で行った。エージング試験
（140°Fで３〜７日間）結果を表１に示した。
【００３９】「ベタ(solid)段階」の語により、√２ウ
エッジによる最高数段階を表し、それは肉眼による判定
では次の現像材料により完全に覆われている。固定露光
条件でのベタ段階が高いほど、写真感度（即ち、速度）
が高いことに相当する。
エッジによる最高数段階を表し、それは肉眼による判定
では次の現像材料により完全に覆われている。固定露光
条件でのベタ段階が高いほど、写真感度（即ち、速度）
が高いことに相当する。
【００４０】配合物(A)：o-フタル酸(固形分３％)を含
有する以下の感光性ポリマー組成物を調製した。 １．ECHO-345トリメタクリレート化ノボラックエポキシド： 75g (MEK中50％) ２．アズラクトン反応性ポリマー（ARP）(MEK中34.75％)： 294.06g （米国特許第5,235,015号、欄10、50〜70行目に 開示(その記載をここに挿入する)） ３．CAB-500-5、酢酪酸セルロース(MEK中10％) 3.75g ４．MEK 2046.82g ５．p-MOSTOL（米国特許第4,476,215号、欄６、２行目に開示） 15.0g ６．ロイコ化合物（構造を以下に示した） 4.69g ７．イルガノックス(Irganox)1010ヒンダードフェノール 2.25g （チバガイギー(Ciba-Geigy)から市販） ８．o-フタル酸 5.63g ９．FC-430フルオロケミカル界面活性剤(MEK中１％) 2.5g （３Ｍ社から市販） 10．シアンミルベース(Cyan Millbase)(32.8％) 50.3g (1/1 顔料/バインダー)
有する以下の感光性ポリマー組成物を調製した。 １．ECHO-345トリメタクリレート化ノボラックエポキシド： 75g (MEK中50％) ２．アズラクトン反応性ポリマー（ARP）(MEK中34.75％)： 294.06g （米国特許第5,235,015号、欄10、50〜70行目に 開示(その記載をここに挿入する)） ３．CAB-500-5、酢酪酸セルロース(MEK中10％) 3.75g ４．MEK 2046.82g ５．p-MOSTOL（米国特許第4,476,215号、欄６、２行目に開示） 15.0g ６．ロイコ化合物（構造を以下に示した） 4.69g ７．イルガノックス(Irganox)1010ヒンダードフェノール 2.25g （チバガイギー(Ciba-Geigy)から市販） ８．o-フタル酸 5.63g ９．FC-430フルオロケミカル界面活性剤(MEK中１％) 2.5g （３Ｍ社から市販） 10．シアンミルベース(Cyan Millbase)(32.8％) 50.3g (1/1 顔料/バインダー)
【００４１】配合物(B)：o-フタル酸3.75g(固形分２％)
の代わりにフタル酸5.63gを含有する溶液を用いた以外
は、配合物(A)と同様に感光性系を調製した。
の代わりにフタル酸5.63gを含有する溶液を用いた以外
は、配合物(A)と同様に感光性系を調製した。
【００４２】配合物(C)：フタル酸または如何なる種類
の酸も含まない以外は、配合物(A)と同様に感光性系を
調製した。
の酸も含まない以外は、配合物(A)と同様に感光性系を
調製した。
【００４３】配合物(A)〜(C)に用いたロイコ化合物の構
造を以下に示した。この化合物を、トリアリールメタン
ロイコ化合物の合成用の公知の合成方法を用いる、p-ジ
メチルアミノベンズアルデヒドおよびＮ,Ｎ-ジメチル-m
-トルイジンの縮合反応により調製した。
造を以下に示した。この化合物を、トリアリールメタン
ロイコ化合物の合成用の公知の合成方法を用いる、p-ジ
メチルアミノベンズアルデヒドおよびＮ,Ｎ-ジメチル-m
-トルイジンの縮合反応により調製した。
【化１３】
【表１】
【００４４】注釈：実施例１〜３、露光23ユニット(約2
3秒)、装置処理；実施例４〜６、露光45ユニット(約45
秒)、手動処理 PA=フタル酸、(d)=140°Fでの日数 EVI(露光可視画像)は、適当なカラーフィルターを有す
る濃度計により測定した露光領域の画像濃度を表した。
3秒)、装置処理；実施例４〜６、露光45ユニット(約45
秒)、手動処理 PA=フタル酸、(d)=140°Fでの日数 EVI(露光可視画像)は、適当なカラーフィルターを有す
る濃度計により測定した露光領域の画像濃度を表した。
【００４５】表１に示した結果から、有機酸の添加によ
り印刷版の有効寿命をかなり改善することが明らかとな
った。その印刷版を140°Fで７日間エージングし、続い
て手動で処理した（実施例４および５）場合に、最も大
きな改善が見られた。フタル酸３％を有する印刷版（実
施例１および４）の平均損失がたったの35.5％であった
のに比較して、酸を含有しない印刷版（実施例３および
６）に関するEVI(露光可視画像)の平均損失が76％であ
った。同様に、酸を加えない印刷版（実施例３および
６）は、写真速度の低下から140°Fで７日間後の（処理
による）画像の全損失までの範囲の結果を示した。とこ
ろが、フタル酸３％を含有する印刷版（実施例１および
４）は、140°Fで７日間後の写真速度の損失は示さなか
った。
り印刷版の有効寿命をかなり改善することが明らかとな
った。その印刷版を140°Fで７日間エージングし、続い
て手動で処理した（実施例４および５）場合に、最も大
きな改善が見られた。フタル酸３％を有する印刷版（実
施例１および４）の平均損失がたったの35.5％であった
のに比較して、酸を含有しない印刷版（実施例３および
６）に関するEVI(露光可視画像)の平均損失が76％であ
った。同様に、酸を加えない印刷版（実施例３および
６）は、写真速度の低下から140°Fで７日間後の（処理
による）画像の全損失までの範囲の結果を示した。とこ
ろが、フタル酸３％を含有する印刷版（実施例１および
４）は、140°Fで７日間後の写真速度の損失は示さなか
った。
【００４６】本発明の意図または範囲から逸脱すること
なく、妥当な変形および修正が前記の開示から可能であ
る。
なく、妥当な変形および修正が前記の開示から可能であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/029 Ｇ０３Ｆ 7/029 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｒ
Claims (3)
- 【請求項１】 (a)式： 【化１】 （式中、Ｒ1は独立して水素またはメチルであり；Ｒ
2は： 【化２】 (式中、ｎは０または１であり；Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ
8は独立して、炭素原子１〜12個を有するアルキル基ま
たは炭素原子５〜12個を有するシクロアルキル基、炭素
原子６〜12個を有するアリールまたはアラルキル基また
は、Ｒ5およびＲ6、並びにＲ7およびＲ8の少なくとも１
組が、炭素原子と共に５員または６員炭素環式環を形成
してもよく、ｎが１の場合、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8の
いずれかはＨであってよい)により表され；Ｗは、-ＮＨ
-、ＮＲ20、-Ｓ-または-Ｏ-であり、ここでＲ20は炭素
原子１〜12個を有するアルキルであり；およびＺは： 【化３】 (式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびｎは上記と同様であ
る)を表し；Ｒ3は、(i) 【化４】 (式中、Ｒ9は炭素原子１〜12個を有するアルキレン基、
炭素原子６〜12個を有するアリーレン基、オキシアルキ
レン基が炭素原子２〜４個を有し、かつ酸素原子数が４
以下の整数であるオキシアルキレン基またはポリ(オキ
シアルキレン)であってもよく；Ｒ10は水素、シアノ、
カルボキシル基、または-Ｃ(=Ｏ)ＮＨ2基であり；Ｒ11
は水素、炭素原子１〜12個を有するアルキル基、または
フェニレン基またはナフチル基である)；または(ii)-Ｒ
9-Ｗ-Ｔ（式中、Ｒ9は(i)と同様であり、Ｗは上記と同
様であり、Ｔはアクリロイル、メタクリロイル、シンナ
モイル、マレオイル、フマロイル、イタコノイルおよび
クロトノイルから成る群から選択されるエチレン系不飽
和基）から選択される重合性、エチレン系不飽和基であ
り；a、b、cおよびdは独立して整数であり、aおよびbは
少なくとも１であり、a+b+c+dの総数は数平均分子量2,0
00〜1,000,000を有するポリマーを提供するのに十分な
数であり；Ｇは-Ｒ9-Ｎ+Ｒ12Ｒ13Ｒ14Ｘ-（式中、Ｒ9は
上記と同様であり、Ｒ12〜Ｒ14は独立して炭素原子１〜
20個を有するアルキル基または炭素原子５〜12個を有す
るシクロアルキル基、炭素原子６〜12個を有するアリー
ルまたはアラルキル基または窒素を介して共にＲ12〜Ｒ
14の内の２つまたは全３つが５員〜８員複素環式環を形
成し得、Ｘ-はポリマー骨格または側鎖の他の位置にあ
る非妨害アニオンを表す）により表され；Ｒは炭素原子
６〜30個を有するアリール基、シアノ、-ＣＯ2Ｈ、炭素
原子２〜40個を有するカルボアルコキシ基、または、炭
素原子２〜40個を有するモノまたはジアルキルカルバモ
イル基を表し；およびＲ4は水素、または可溶化カチオ
ンまたは-Ｅ-Ａ(式中、ＥはＣ、Ｎ、Ｓおよび非ペルオ
キシＯ原子の総数約18以下を有する有機２価結合基を表
し、Ａはカルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸から選択
される酸およびそれらの塩である))を表す；）を有する
エネルギー感応性ポリマー； (b)波長約330〜500nmを有する電磁線を用いる励起によ
りフリーラジカルを生じ得るビニル-ハロメチル-s-トリ
アジン； (c)pKa約1.8〜5.5を有する有機酸； (d)ロイコ染料；および (e)バインダーから成る感光性ポリマー含有系。 - 【請求項２】 該有機酸がpKa約2.0〜5.0を有する請求
項１記載の感光性系。 - 【請求項３】 請求項１記載の乾燥、被覆感光性ポリマ
ー含有系を含む基材。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US373575 | 1982-04-30 | ||
| US08/373,575 US5576146A (en) | 1995-01-17 | 1995-01-17 | Photosensitive polymer-containing systems with increased shelf-lives |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08240910A true JPH08240910A (ja) | 1996-09-17 |
Family
ID=23472987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8002204A Pending JPH08240910A (ja) | 1995-01-17 | 1996-01-10 | 改良された保存寿命を有する感光性ポリマー含有系 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5576146A (ja) |
| EP (1) | EP0723202A1 (ja) |
| JP (1) | JPH08240910A (ja) |
| BR (1) | BR9600057A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990062754A (ko) * | 1997-12-04 | 1999-07-26 | 마티네즈 길러모 | 신규한 염료를 포함하는 방사선 감수성 조성물 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK0854783T3 (da) * | 1995-09-09 | 2003-02-24 | Vantico Ltd | Fremgangsmåde til fremstilling af polymerlag med selektivt farvede arealer |
| KR100263195B1 (ko) * | 1996-09-16 | 2000-08-01 | 윤종용 | 광도파로 소자의 제작 방법 |
| EP1209527A1 (en) * | 2000-11-28 | 2002-05-29 | Shipley Company LLC | Photoresist composition |
| US8152902B2 (en) * | 2009-09-30 | 2012-04-10 | Cellresin Technologies, Llc | Packaging material such as film, fiber, woven and nonwoven fabric with adsorbancy |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3448089A (en) * | 1966-03-14 | 1969-06-03 | Du Pont | Photopolymerizable polymers containing free acid or acid anhydride groups reacted with glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate |
| DE1745348A1 (de) * | 1967-12-01 | 1971-09-09 | Roehm Gmbh | Azlactongruppen enthaltende Mischpolymerisate |
| US3598790A (en) * | 1966-07-01 | 1971-08-10 | Roehm & Haas Gmbh | Azlactone copolymers |
| US3954475A (en) * | 1971-09-03 | 1976-05-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive elements containing chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines |
| AU494547B2 (en) * | 1972-07-10 | 1977-10-20 | Johnson & Johnson | Hydrophilic random interpolymer compositions and method for making same |
| JPS6029103B2 (ja) * | 1976-12-10 | 1985-07-09 | 富士写真フイルム株式会社 | カラ−拡散転写法用写真要素 |
| US4304923A (en) * | 1979-02-27 | 1981-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable oligomer |
| US4378411A (en) * | 1980-01-02 | 1983-03-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable polymers |
| US4304705A (en) * | 1980-01-02 | 1981-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable polymers containing pendant unsaturated peptide groups derived from azlactone polymers |
| US4288523A (en) * | 1980-03-14 | 1981-09-08 | Polaroid Corporation | Diffusion control layers in diffusion transfer photographic products |
| US4451619A (en) * | 1982-09-30 | 1984-05-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of hydrophilizing or hydrophobizing polymers |
| US4547449A (en) * | 1983-02-11 | 1985-10-15 | Eastman Kodak Company | Liquid electrographic developers containing quaternary ammonium charge-control polymers having acidic monomers |
| US4889932A (en) * | 1984-10-01 | 1989-12-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilized leuco phenazine dyes and their use in an imaging system |
| US4647525A (en) * | 1984-10-01 | 1987-03-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilized leuco phenazine dyes and their use in an imaging system |
| DE3606155A1 (de) * | 1986-02-26 | 1987-08-27 | Basf Ag | Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes lichtempfindliches aufzeichnungselement sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckform mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungselements |
| US4737560A (en) * | 1987-03-13 | 1988-04-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymer beads |
| US4914165A (en) * | 1988-02-03 | 1990-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation crosslinkable compositions |
| DE3831782A1 (de) * | 1988-09-19 | 1990-03-29 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
| CA2015894A1 (en) * | 1989-05-30 | 1990-11-30 | Mohammad Z. Ali | High sensitivity photopolymerizable compositions containing hydrogen donating mercaptans |
| US5077178A (en) * | 1990-07-19 | 1991-12-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Full color photothermographic imaging system |
| US5235015A (en) * | 1991-02-21 | 1993-08-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | High speed aqueous solvent developable photopolymer compositions |
-
1995
- 1995-01-17 US US08/373,575 patent/US5576146A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-01-10 JP JP8002204A patent/JPH08240910A/ja active Pending
- 1996-01-11 BR BR9600057A patent/BR9600057A/pt not_active Application Discontinuation
- 1996-01-16 EP EP96100550A patent/EP0723202A1/en not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990062754A (ko) * | 1997-12-04 | 1999-07-26 | 마티네즈 길러모 | 신규한 염료를 포함하는 방사선 감수성 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0723202A1 (en) | 1996-07-24 |
| BR9600057A (pt) | 1998-01-21 |
| US5576146A (en) | 1996-11-19 |
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