JPH08259996A - 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤 - Google Patents

共沸及び共沸様組成物と洗浄剤

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JPH08259996A
JPH08259996A JP24881093A JP24881093A JPH08259996A JP H08259996 A JPH08259996 A JP H08259996A JP 24881093 A JP24881093 A JP 24881093A JP 24881093 A JP24881093 A JP 24881093A JP H08259996 A JPH08259996 A JP H08259996A
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JP
Japan
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azeotropic
composition
detergent
octamethylcyclotetrasiloxane
azeotropelike
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Withdrawn
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JP24881093A
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English (en)
Inventor
雅道 ▲ひじ▼野
Masamichi Hijino
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 オゾン層の破壊がなく、大きな洗浄力を有
し、乾燥速度の優れた洗浄剤を提供する。 【構成】 プロピレングリコールメチルエーテルアセテ
ートとオクタメチルシクロテトラシロキサンとからなる
共沸及び共沸様組成物を有効成分とする。いずれもハロ
ゲンを含まず、化学的に安定であり、共沸及び共沸様組
成物のため、乾燥性が良好となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はフロン、トリクロロエタ
ン等の塩素系脱脂洗浄剤の代替剤として使用できると共
に、アルミニウムや鉄などの金属部品、レンズやプリズ
ム等の光学部品さらには電子部品などに対する精密洗浄
に好適に使用することができる共沸及び共沸様組成物
と、その洗浄剤に関する。
【0002】
【従来の技術】光学部品、電子部品等の部品の洗浄用溶
剤としては、従来より1,1,2−トリクロロ−1,
2,2−トリフルオロエタン(フロン113)やトリク
ロロエタンが使用されている。これはフロン113が不
燃性である;生体に対する毒性が低い;プラスチック,
ゴムなどの高分子材料を侵食しないが、油脂等を溶解す
るという選択的溶解性を有する;乾燥速度が早い;等の
優れた特性を有しており、トリクロロエタンも優れた脱
脂洗浄力を有し、不燃性であるためである。
【0003】一方、これらの塩素系溶剤の使用量削減お
よび不燃化、脱脂力の向上のため、種々の混合物や共沸
組成物が開発されている。例えば、特開平1−3180
94号公報には洗浄溶剤としてフロン113とイソプロ
ピルアルコール,メチルエチルケトンとの混合物が記載
されている。また、特開平2−289693号公報には
ジクロロテトラフルオロプロパン(フロン234)とエ
タノール等の脂肪族低級アルコールとの共沸組成物が開
示されている。さらには、IPA,エタノール等の脂肪
族低級アルコール,アセトン等のケトン単体,エーテル
系も検討されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、フロン11
3やトリクロロエタン等の塩素系溶剤は化学的に特に安
定であるため対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏
に達し、ここで太陽光線により分解して発生する塩素ラ
ジカルがオゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊す
ることから、これらの使用の削減が求められている。こ
のため既述のように、フロン113等の塩素系溶剤と、
塩素系溶剤以外の有機溶剤との共沸組成物を開発するこ
とにより、その使用量の削減を図っているが、塩素系溶
剤を必須とするため、その使用量をある程度以上減らす
ことができない問題がある。また、フロン113に比
べ、オゾン層の破壊性が比較的小さいフロン234との
共沸組成物の開発されているがオゾン層の破壊を完全に
無くすことはできない。一方、脂肪族低級アルコール
は、乾燥性に問題があり、ケトン系、エーテル系の溶剤
はプラスチック等の被洗浄物を劣化させるため、実用性
に乏しいものとなっている。
【0005】本発明は、これらの問題点を考慮してなさ
れたものであり、オゾン層の破壊がなく、しかも優れた
洗浄性および乾燥性を有した共沸及び共沸様組成物と、
その洗浄剤を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段および作用】本発明の共沸
及び共沸様組成物は、プロピレングリコールメチルエー
テルアセテート(以下、PMAと記する。)とオクタメ
チルシクロテトラシロキサンとからなる。また本発明の
洗浄剤は、上記構成の共沸及び共沸様組成物を有効成分
としている。
【0007】ここでPMA単独では、その極性が強いと
ころから洗浄剤として優れているが、反面、表面張力が
27dyn/cm(25℃)と大きく、十分な浸透性を
有していない。オクタメチルシクロテトラシロキサンは
化1に示す化学式で構成されており、25℃において
2.3CStの粘度を有している。
【0008】
【化1】
【0009】このオクタメチルシクロテトラシロキサン
は表面張力が17dyn/cm(25℃)と小さく、優
れた浸透性を有しているが、KB価(カウリブタノール
価)が15と小さく洗浄力が弱い。本発明においては、
これらのPMAとオクタメチルシクロテトラシロキサン
とを混合することにより、双方の長所を備えるものであ
る。この場合、洗浄剤として使用するためには、使用時
の液管理が容易で、しかも容易に回収し、再使用できる
ことが必要である。このような要件を満たすためには、
双方を単に混合しただけでは不充分であり、共沸点を有
する状態、すなわち共沸状態の組成とする必要がある。
共沸状態の組成物は、個々の成分の沸点と異なる一定の
沸点(この沸点は成分の個々の沸点よりも低いことが好
ましい。)を有すると共に、揮発速度が向上し、しかも
蒸発しても、その組成物または留出物の割合がほとんど
変化しない特性を有している。
【0010】本発明においては、760mmHg下で、
PMA88〜91wt%、オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン12〜9wt%の組成比において共沸状態とな
り、上記特性を得るためには、この組成比に近い組成が
好ましい。また、本発明では、周囲環境等から混入する
水の影響やPMA,オクタメチルシクロテトラシロキサ
ンに含まれている不純物等の影響を考慮した場合、共沸
様の組成物を用いることも実用的である。この共沸様組
成物としては、PMA95〜75wt%、オクタメチル
シクロテトラシロキサン5〜25wt%の組成比で達成
することができる。
【0011】本発明では、上記組成に加えて、安定剤を
添加することができる。この安定剤としては、共沸及び
共沸様組成物を安定化する効果が大きいことが必要であ
るが、蒸留操作により同伴留出されるものや共沸を形成
するものが好ましい。かかる安定剤としては、ニトロメ
タン、ニトロエタン、ニトロプタンなどの脂肪族ニトロ
化合物、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メ
チル−1−ペンチン−3−オールなどのアセチレンアル
コール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテル、
アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテ
ル、1,2−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオキシ
ド、エピクロルヒドリンなどのエポキシド類、ジメトキ
シメタン、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキ
セン、1,3,5−トリオキセンなどのエーテル類、ヘ
キセン、ヘプタン、オクテン、2,4,4−トリメチル
−1−ペンテン、ペンタジエン、オクタジエン、シクロ
ヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素類、ア
リルアルコール、1−ブテン−3−オール、3−メチル
−1−ブテン−3−オールなどのオレフィン系アルコー
ル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチルなどのアクリル酸エステル類、フェノール、ト
リメチルフェノール、シクロヘキシルフェノール、チモ
ール、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノー
ル、ブチルヒドロキシアニソール、イソオイゲノールな
どのフェノール類や、ヘキシルアミン、ベンチルアミ
ン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソ
ブチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
ピリジン、n−メチルモルマリン、シクロへキシルアミ
ン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、N,
N′−ジアリル−p−フェニレンジアミンなどのアミン
類、ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、クロロベ
ンゾトリアゾールなどのトリアゾール類などから選ばれ
る少なくとも1種または2種以上を使用できる。
【0012】このような本発明のオクタメチルシクロテ
トラシロキサンおよびPMAは、生体への毒性が少な
く、化学的にも安定であり、しかも塩素等のハロゲンを
含んでいないためオゾン層への影響もない特性を有す
る。また、洗浄可能の対象物としては、アルミニウム,
鉄などの金属部品,レンズ等の光学部品,プラスチック
部品,電子部品などの広範囲であるばかりでなく、これ
に限定されず、基材へのアタック等がない場合には、そ
の他のものの洗浄も可能となる。
【0013】
【実施例1】市販されているオクタメチルシクロテトラ
シロキサンの純度は、ガスクロマトグラフィーで分析し
た結果98.0%レベルであり、不純物としてオクタメ
チルシクロテトラシロキサンより低分子のシロキサンあ
るいはシラン化合物、オクタメチルシクロテトラシロキ
サンより揮発しにくい炭化水素系化合物、シロキサン等
が含有されている。この内、オクタメチルシクロテトラ
シロキサンより揮発しにくい不純物は被洗浄物上に残渣
となる可能性があり、そのため、オクタメチルシクロテ
トラシロキサンより揮発しにくい成分を蒸留、精留、吸
着剤等の手段により除去した。このオクタメチルシクロ
テトラシロキサンとPMAのそれぞれ100gの混合物
200gを蒸留フラスコにいれ、理論段数30段の精留
塔を用いて常圧下に蒸留を行なった。この蒸留により1
41〜142℃において共沸留分が得られた。この留分
をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、オク
タメチルシクロテトラシロキサンが12〜9wt%でP
MAが88〜91wt%の組成であった。表1はオクタ
メチルシクロテトラシロキサン,PMA,実施例1の組
成物の表面張力(25℃),KB価を示す。
【0014】
【表1】
【0015】
【実施例2】硝子レンズ、アルミニウムを被洗浄物と
し、汚れとして硝子レンズには芯取り油、アルミニウム
には切削油を塗布し以下の手順により洗浄した。実施例
1で得られた組成物を第1槽に充填し、超音波を加えな
がら被洗浄物を脱脂した後、第2槽にも実施例1で得ら
れた組成物を充填し、超音波を加えながら再度脱脂し
た。更に、第3槽に実施例1で得られた組成物を充填
し、超音波を加えた後、冷風ブローを行い乾燥した。洗
浄後の仕上がり状態を観察するため汚れ塗布前と洗浄後
の接触角を測定した。また比較例としてトリクロロエタ
ンを用い同様な手順で洗浄・乾燥を行い、その洗浄物と
の比較も行なった。結果を表2に示す。
【0016】
【表2】
【0017】
【発明の効果】以上のとおり本発明の共沸及び共沸様組
成物はオゾン層を破壊することがなく、蒸発による組成
変化がなく、しかも乾燥速度に優れたものであり、この
組成物は洗浄剤として有用に使用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C23G 5/032 C23G 5/032

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プロピレングリコールメチルエーテルア
    セテートとオクタメチルシクロテトラシロキサンとから
    なることを特徴とする共沸及び共沸様組成物。
  2. 【請求項2】 プロピレングリコールメチルエーテルア
    セテートとオクタメチルシクロテトラシロキサンとから
    なる共沸及び共沸様組成物を有効成分とすることを特徴
    とする洗浄剤。
JP24881093A 1992-09-11 1993-09-09 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤 Withdrawn JPH08259996A (ja)

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JP26949092 1992-09-11
JP5-116386 1993-04-19
JP4-269490 1993-04-19
JP11638693 1993-04-19
JP24881093A JPH08259996A (ja) 1992-09-11 1993-09-09 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006160865A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 液切り乾燥用組成物およびそれを用いた液切り乾燥方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006160865A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 液切り乾燥用組成物およびそれを用いた液切り乾燥方法

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