JPH0827153A - アザクロマン誘導体及びその用途 - Google Patents
アザクロマン誘導体及びその用途Info
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】本発明は、例えば式[1A]
【化1】
で示されるアザクロマン誘導体及びその用途に関する。
【効果】本発明化合物はカリウムイオンチャンネル開口
作用を、又その中のいくつかの化合物はNOによる作用
も併せ持っており、新たな狭心症治療剤、心不全治療
剤、脳循環改善剤、降圧剤等の循環系薬剤、抗喘息剤、
子宮の平滑筋収縮に伴う障害の治療剤、膀胱、又は尿路
の平滑筋収縮に伴う障害による疾患、例えば頻尿、尿失
禁、排尿困難症等の治療剤、及びてんかん等の抗痙攣
剤、育毛剤等として期待される。
作用を、又その中のいくつかの化合物はNOによる作用
も併せ持っており、新たな狭心症治療剤、心不全治療
剤、脳循環改善剤、降圧剤等の循環系薬剤、抗喘息剤、
子宮の平滑筋収縮に伴う障害の治療剤、膀胱、又は尿路
の平滑筋収縮に伴う障害による疾患、例えば頻尿、尿失
禁、排尿困難症等の治療剤、及びてんかん等の抗痙攣
剤、育毛剤等として期待される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規アザクロマン誘導体
及びその用途に関する。本発明化合物は平滑筋弛緩剤と
して有用であり、新たな狭心症治療剤、心不全治療薬、
脳循環改善剤、降圧剤等の循環系薬剤、抗喘息剤、子宮
の平滑筋収縮に伴う障害の治療剤、膀胱、又は尿路の平
滑筋収縮に伴う障害による疾患、例えば頻尿、尿失禁、
排尿困難症等の治療剤、及びてんかん等の抗痙攣剤、育
毛剤等として有用である。
及びその用途に関する。本発明化合物は平滑筋弛緩剤と
して有用であり、新たな狭心症治療剤、心不全治療薬、
脳循環改善剤、降圧剤等の循環系薬剤、抗喘息剤、子宮
の平滑筋収縮に伴う障害の治療剤、膀胱、又は尿路の平
滑筋収縮に伴う障害による疾患、例えば頻尿、尿失禁、
排尿困難症等の治療剤、及びてんかん等の抗痙攣剤、育
毛剤等として有用である。
【0002】
【従来の技術】カリウムイオンチャンネルオープナー
(PCO)作用による降圧薬、喘息治療薬として期待さ
れる下記式[2]
(PCO)作用による降圧薬、喘息治療薬として期待さ
れる下記式[2]
【0003】
【化2】
【0004】で示される化合物が知られている(特開昭
58−67683号;Br.J.Pharmac.(1
986),88,103−111;Br.J.Phar
mac.(1986),89,395−405)。しか
し、この化合物は効果や持続性、バイオアベイラビリテ
ィー、副作用等の点で必ずしも十分なものではない。
58−67683号;Br.J.Pharmac.(1
986),88,103−111;Br.J.Phar
mac.(1986),89,395−405)。しか
し、この化合物は効果や持続性、バイオアベイラビリテ
ィー、副作用等の点で必ずしも十分なものではない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明はPCO作用、
又はPCO作用とNO作用の両作用を有する新規クロマ
ン誘導体の創製を目的とする。
又はPCO作用とNO作用の両作用を有する新規クロマ
ン誘導体の創製を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は(1)一般式
[1]
[1]
【0007】
【化3】
【0008】[式中、R1 はX基(ここでXはハロゲン
を示す)、又は−OA基(ここでAは水素原子、ニトロ
基、炭素数1〜6個の低級アシル基、アリールアシル
基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、炭素数1〜6個の低級アルキル基、
アリール基、アリールアルキル基、テトラヒドロピラニ
ル基、炭素数1〜6個の低級アルコキシカルボニル基、
アリールアルコキシカルボニル基、又はシリル基を示
す)、R2 は水素原子を示すか或いは、R1 とR2 が一
緒になって1つの結合を形成する。R3 はW基(ここで
Wは直鎖、又は分枝鎖状の炭素数2〜6個の低級アルケ
ニル基を示す)、−Y−Vn基(ここでYは炭素数1〜
6個の(ポリ)メチレン基(但し、炭素数1〜3個の低
級アルキル基で置換されていてもよい)、又は炭素数2
〜6個の低級アルケニレン基を示す。VはX基又は−O
A基を示し、nは1〜3の整数であり、V基はY基のど
の炭素原子に結合してもよい。又、X、Aは前記と同じ
意味を示すが、nが2以上の場合には、各々のV基は同
一か、或いはお互いに異なった基であってもよい。)、
又は−CO−Z基(ここでZは水素原子、炭素数1〜6
個の低級アルキル基、アリール基、水酸基又は炭素数1
〜6個の低級アルコキシ基を示す。)を示す。]で表わ
されるアザクロマン誘導体、又はその製薬上許容し得る
酸付加塩、に関する。
を示す)、又は−OA基(ここでAは水素原子、ニトロ
基、炭素数1〜6個の低級アシル基、アリールアシル
基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、炭素数1〜6個の低級アルキル基、
アリール基、アリールアルキル基、テトラヒドロピラニ
ル基、炭素数1〜6個の低級アルコキシカルボニル基、
アリールアルコキシカルボニル基、又はシリル基を示
す)、R2 は水素原子を示すか或いは、R1 とR2 が一
緒になって1つの結合を形成する。R3 はW基(ここで
Wは直鎖、又は分枝鎖状の炭素数2〜6個の低級アルケ
ニル基を示す)、−Y−Vn基(ここでYは炭素数1〜
6個の(ポリ)メチレン基(但し、炭素数1〜3個の低
級アルキル基で置換されていてもよい)、又は炭素数2
〜6個の低級アルケニレン基を示す。VはX基又は−O
A基を示し、nは1〜3の整数であり、V基はY基のど
の炭素原子に結合してもよい。又、X、Aは前記と同じ
意味を示すが、nが2以上の場合には、各々のV基は同
一か、或いはお互いに異なった基であってもよい。)、
又は−CO−Z基(ここでZは水素原子、炭素数1〜6
個の低級アルキル基、アリール基、水酸基又は炭素数1
〜6個の低級アルコキシ基を示す。)を示す。]で表わ
されるアザクロマン誘導体、又はその製薬上許容し得る
酸付加塩、に関する。
【0009】更に具体的には、(2)R1 がX基(ここ
でXはハロゲンを示す)、又は−OA基(ここでAは水
素原子、ニトロ基、炭素数1〜6個の低級アシル基、ア
リールアシル基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、又はシリル基を示
す)、R2 が水素原子を示すか或いは、R1 とR2 が一
緒になって1つの結合を形成し、R3 がW基(ここでW
は直鎖、又は分枝鎖状の炭素数2〜6個の低級アルケニ
ル基を示す)、−Y−Vn基(ここでYは炭素数1〜6
個の(ポリ)メチレン基(但し、炭素数1〜3個の低級
アルキル基で置換されていてもよい)、又は炭素数2〜
6個の低級アルケニレン基を示す。VはX基又は−OA
基を示し、nは1〜3の整数であり、V基はY基のどの
炭素原子に結合してもよい。又、X、Aは前記と同じ意
味を示すが、nが2以上の場合には、各々のV基は同一
か、或いはお互いに異なった基であってもよい。)又は
−CO−Z基(ここでZは水素原子、炭素数1〜6個の
低級アルキル基、アリール基、水酸基又は炭素数1〜6
個の低級アルコキシ基を示す。)である請求項1のアザ
クロマン誘導体、又はその製薬上許容し得る酸付加塩、
(3)R1 が−OA基(ここでAは水素原子、ニトロ
基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、又は
アリールスルホニル基を示す)、R2 が水素原子を示す
か或いは、R1 とR2 が一緒になって1つの結合を形成
し、R3 が−Y−Vn基(ここでYが炭素数1〜6個の
(ポリ)メチレン基(但し、炭素数1〜3個の低級アル
キル基で置換されていてもよい)、又は炭素数2〜6個
の低級アルケニレン基を示す。VがX基又は−OA基を
示し、nは1〜3の整数であり、V基はY基のどの炭素
原子に結合してもよい。又、Xはハロゲンを示し、Aは
前記と同じ意味を示すが、nが2以上の場合には、各々
のV基は同一か、或いはお互いに異なった基であっても
よい。)である請求項1のアザクロマン誘導体、又はそ
の製薬上許容し得る酸付加塩、(4)R1 が水酸基、R
2 が水素原子を示すか或いは、R1 とR2 が一緒になっ
て1つの結合を形成し、R3 が−Y−Vn基(ここでY
がメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレ
ン基、ブチレン基、ペンチレン基、又はヘキシレン基を
示す。Vが−OA基を示し、nは1〜3の整数であり、
V基はY基のどの炭素原子に結合してもよい。又、Aが
水素原子、又はニトロ基を示すが、nが1の場合にはA
はニトロ基を示し、nが2以上の場合には、各々のV基
は同一か、或いはお互いに異なった基であってもよい
が、少なくとも1つ以上のV基においてAはニトロ基で
ある)である請求項1のアザクロマン誘導体、又はその
製薬上許容し得る酸付加塩、に関する。
でXはハロゲンを示す)、又は−OA基(ここでAは水
素原子、ニトロ基、炭素数1〜6個の低級アシル基、ア
リールアシル基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、又はシリル基を示
す)、R2 が水素原子を示すか或いは、R1 とR2 が一
緒になって1つの結合を形成し、R3 がW基(ここでW
は直鎖、又は分枝鎖状の炭素数2〜6個の低級アルケニ
ル基を示す)、−Y−Vn基(ここでYは炭素数1〜6
個の(ポリ)メチレン基(但し、炭素数1〜3個の低級
アルキル基で置換されていてもよい)、又は炭素数2〜
6個の低級アルケニレン基を示す。VはX基又は−OA
基を示し、nは1〜3の整数であり、V基はY基のどの
炭素原子に結合してもよい。又、X、Aは前記と同じ意
味を示すが、nが2以上の場合には、各々のV基は同一
か、或いはお互いに異なった基であってもよい。)又は
−CO−Z基(ここでZは水素原子、炭素数1〜6個の
低級アルキル基、アリール基、水酸基又は炭素数1〜6
個の低級アルコキシ基を示す。)である請求項1のアザ
クロマン誘導体、又はその製薬上許容し得る酸付加塩、
(3)R1 が−OA基(ここでAは水素原子、ニトロ
基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、又は
アリールスルホニル基を示す)、R2 が水素原子を示す
か或いは、R1 とR2 が一緒になって1つの結合を形成
し、R3 が−Y−Vn基(ここでYが炭素数1〜6個の
(ポリ)メチレン基(但し、炭素数1〜3個の低級アル
キル基で置換されていてもよい)、又は炭素数2〜6個
の低級アルケニレン基を示す。VがX基又は−OA基を
示し、nは1〜3の整数であり、V基はY基のどの炭素
原子に結合してもよい。又、Xはハロゲンを示し、Aは
前記と同じ意味を示すが、nが2以上の場合には、各々
のV基は同一か、或いはお互いに異なった基であっても
よい。)である請求項1のアザクロマン誘導体、又はそ
の製薬上許容し得る酸付加塩、(4)R1 が水酸基、R
2 が水素原子を示すか或いは、R1 とR2 が一緒になっ
て1つの結合を形成し、R3 が−Y−Vn基(ここでY
がメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレ
ン基、ブチレン基、ペンチレン基、又はヘキシレン基を
示す。Vが−OA基を示し、nは1〜3の整数であり、
V基はY基のどの炭素原子に結合してもよい。又、Aが
水素原子、又はニトロ基を示すが、nが1の場合にはA
はニトロ基を示し、nが2以上の場合には、各々のV基
は同一か、或いはお互いに異なった基であってもよい
が、少なくとも1つ以上のV基においてAはニトロ基で
ある)である請求項1のアザクロマン誘導体、又はその
製薬上許容し得る酸付加塩、に関する。
【0010】更に本発明は、上記アザクロマン誘導体又
はその製薬上許容し得る酸付加塩を含む平滑筋弛緩剤に
関する。
はその製薬上許容し得る酸付加塩を含む平滑筋弛緩剤に
関する。
【0011】本発明のアザクロマン誘導体又はその製薬
上許容し得る酸付加塩の具体的な化合物名を挙げると、
2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−
ピラノ[3,2−c]ピリジン又はその製薬上許容し得
る酸付加塩、2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−
ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン又
はその製薬上許容し得る酸付加塩、2,2−ジメチル−
4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ニト
ロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン又はその製薬上許容し得る酸付
加塩、等である。
上許容し得る酸付加塩の具体的な化合物名を挙げると、
2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−
ピラノ[3,2−c]ピリジン又はその製薬上許容し得
る酸付加塩、2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−
ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン又
はその製薬上許容し得る酸付加塩、2,2−ジメチル−
4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ニト
ロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン又はその製薬上許容し得る酸付
加塩、等である。
【0012】上記一般式[1]において、炭素数1〜6
個の低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、n−ヘ
キシル基等が挙げられる。アリール基としては、、例え
ばフェニル、o、m又はp−トリル、o、m又はp−メ
トキシフェニル基等の置換基を有していてもよいフェニ
ル基、1又は2−ナフチル基等が挙げられる。炭素数1
〜6個の低級アシル基としては、例えばアセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロ
イル基等のアルキルカルボニル基等が挙げられる。アリ
ールアシル基としては、例えばベンゾイル、o、m又は
p−クロロベンゾイル基等の置換基を有していてもよい
ベンゾイル基等が挙げられる。炭素数1〜6個の低級ア
ルキルスルホニル基としては、例えばメタンスルホニ
ル、エタンスルホニル、2−ブタンスルホニル基等が挙
げられる。アリールスルホニル基としては、例えばベン
ゼンスルホニル、o、m又はp−トルエンスルホニル基
等の置換基を有していてもよいベンゼンスルホニル基等
が挙げられる。アリールアルキル基としては、例えばベ
ンジル、o、m又はp−メチルベンジル、o、m又はp
−メトキシベンジル、o−クロロベンジル、2,4−ジ
クロロベンジル基等の置換基を有していてもよいベンジ
ル基等が挙げられる。シリル基としては、例えばトリメ
チルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシ
リル、t−ブチルジフェニルシリル、ジエチルイソプロ
ピルシリル基等の各種置換シリル誘導体等が挙げられ
る。炭素数1〜6個の(ポリ)メチレン基としては、メ
チレン、エチレン、トリメチレン、ブチレン、ペンチレ
ン、ヘキシレン基等が挙げられ、又、例えばプロピレ
ン、1又は2−メチルプロピレン等の炭素数1〜3個の
低級アルキル置換の(ポリ)メチレン基等も挙げられ
る。ここで言う炭素数1〜3個の低級アルキル基として
は、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル基等が挙げられる。炭素数2〜6個の低級アルケニル
基としては、ビニル、アリル、ホモアリル基等が挙げら
れる。ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素が
挙げられる。炭素数1〜6個の低級アルコキシカルボニ
ル基としては、例えばエチルオキシカルボニル、イソプ
ロピルオキシカルボニル、アミルオキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。アリールアル
コキシカルボニル基としては、例えばベンジルオキシカ
ルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、o
−クロロベンジルオキシカルボニル、2,4−ジクロロ
ベンジルオキシカルボニル基等の置換基を有していても
よいベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。炭素
数1〜6個の低級アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブ
トキシ、s−ブトキシ、t−ブトキシ基等が挙げられ
る。
個の低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、s−ブチ
ル、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、n−ヘ
キシル基等が挙げられる。アリール基としては、、例え
ばフェニル、o、m又はp−トリル、o、m又はp−メ
トキシフェニル基等の置換基を有していてもよいフェニ
ル基、1又は2−ナフチル基等が挙げられる。炭素数1
〜6個の低級アシル基としては、例えばアセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロ
イル基等のアルキルカルボニル基等が挙げられる。アリ
ールアシル基としては、例えばベンゾイル、o、m又は
p−クロロベンゾイル基等の置換基を有していてもよい
ベンゾイル基等が挙げられる。炭素数1〜6個の低級ア
ルキルスルホニル基としては、例えばメタンスルホニ
ル、エタンスルホニル、2−ブタンスルホニル基等が挙
げられる。アリールスルホニル基としては、例えばベン
ゼンスルホニル、o、m又はp−トルエンスルホニル基
等の置換基を有していてもよいベンゼンスルホニル基等
が挙げられる。アリールアルキル基としては、例えばベ
ンジル、o、m又はp−メチルベンジル、o、m又はp
−メトキシベンジル、o−クロロベンジル、2,4−ジ
クロロベンジル基等の置換基を有していてもよいベンジ
ル基等が挙げられる。シリル基としては、例えばトリメ
チルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシ
リル、t−ブチルジフェニルシリル、ジエチルイソプロ
ピルシリル基等の各種置換シリル誘導体等が挙げられ
る。炭素数1〜6個の(ポリ)メチレン基としては、メ
チレン、エチレン、トリメチレン、ブチレン、ペンチレ
ン、ヘキシレン基等が挙げられ、又、例えばプロピレ
ン、1又は2−メチルプロピレン等の炭素数1〜3個の
低級アルキル置換の(ポリ)メチレン基等も挙げられ
る。ここで言う炭素数1〜3個の低級アルキル基として
は、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル基等が挙げられる。炭素数2〜6個の低級アルケニル
基としては、ビニル、アリル、ホモアリル基等が挙げら
れる。ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素が
挙げられる。炭素数1〜6個の低級アルコキシカルボニ
ル基としては、例えばエチルオキシカルボニル、イソプ
ロピルオキシカルボニル、アミルオキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。アリールアル
コキシカルボニル基としては、例えばベンジルオキシカ
ルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、o
−クロロベンジルオキシカルボニル、2,4−ジクロロ
ベンジルオキシカルボニル基等の置換基を有していても
よいベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。炭素
数1〜6個の低級アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブ
トキシ、s−ブトキシ、t−ブトキシ基等が挙げられ
る。
【0013】炭素数2〜6個の低級アルケニレン基は、
不飽和二重結合を有する炭素数が2〜6個の脂肪族炭化
水素中の2個の水素原子を除いた基であり、例えば、−
CH2 −CH=CH−CH2 −、−CH2 −CH2 −C
H=CH−、−CH2 −CH=CH−等が挙げられる。
不飽和二重結合を有する炭素数が2〜6個の脂肪族炭化
水素中の2個の水素原子を除いた基であり、例えば、−
CH2 −CH=CH−CH2 −、−CH2 −CH2 −C
H=CH−、−CH2 −CH=CH−等が挙げられる。
【0014】上記の置換基のうち好ましいものとして
は、例えばR1 としてはOA基(ここでAは水素原子又
はニトロ基を示す)が、R2 としては水素原子を示すか
或いは、R1 とR2 が一緒になって形成された1つの結
合が、R3 としては−Y−Vn基が挙げられる。ここで
Yは炭素数1〜6個、好ましくは1〜3個の(ポリ)メ
チレン基(但し、炭素数1〜3個の低級アルキル基で置
換されていてもよい)、又は炭素数2〜6個の低級アル
ケニレン基、VはX基又は−OA基を、Xはハロゲン
を、Aは水素原子、又はニトロ基を、nの数は1〜3を
示す場合が好ましい。
は、例えばR1 としてはOA基(ここでAは水素原子又
はニトロ基を示す)が、R2 としては水素原子を示すか
或いは、R1 とR2 が一緒になって形成された1つの結
合が、R3 としては−Y−Vn基が挙げられる。ここで
Yは炭素数1〜6個、好ましくは1〜3個の(ポリ)メ
チレン基(但し、炭素数1〜3個の低級アルキル基で置
換されていてもよい)、又は炭素数2〜6個の低級アル
ケニレン基、VはX基又は−OA基を、Xはハロゲン
を、Aは水素原子、又はニトロ基を、nの数は1〜3を
示す場合が好ましい。
【0015】本発明の代表的な化合物としては、例えば
表1〜5に示した化合物1〜391等が挙げられる。な
お、表中の番号は化合物の番号を示す。
表1〜5に示した化合物1〜391等が挙げられる。な
お、表中の番号は化合物の番号を示す。
【0016】
【表1】
【0017】
【表2】
【0018】
【表3】
【0019】
【表4】
【0020】
【表5】
【0021】表中、Msはメタンスルホニルを、Bzは
ベンゾイルを、Acはアセチルを、TBSはt−ブチル
ジメチルシリルを示す。これらの化合物のうち好ましい
ものとしては、例えば化合物1〜391が、更に好まし
いものとしては、例えば化合物1〜20、93〜11
2、185〜199、254〜268、323〜337
が、特に好ましいものとしては、例えば化合物1〜4、
17〜20、93〜96、109〜112、185〜1
87、197〜199、254〜256、266〜26
8、323〜325、335〜337が挙げられる。
ベンゾイルを、Acはアセチルを、TBSはt−ブチル
ジメチルシリルを示す。これらの化合物のうち好ましい
ものとしては、例えば化合物1〜391が、更に好まし
いものとしては、例えば化合物1〜20、93〜11
2、185〜199、254〜268、323〜337
が、特に好ましいものとしては、例えば化合物1〜4、
17〜20、93〜96、109〜112、185〜1
87、197〜199、254〜256、266〜26
8、323〜325、335〜337が挙げられる。
【0022】尚、本発明化合物の中には、クロマン環の
3位及び4位(場合により更に2−オキソ−1−ピリジ
ニル基上の置換基中に)に不斉炭素を有しているものが
あり、その場合には複数の異性体が存在する。本発明の
化合物は、純粋に単離された各光学活性体および、それ
らのラセミ体を包含する。又、3位および4位の立体配
座に基づくシス、又はトランス異性体も包含するが、好
ましい配位はトランス異性体である。
3位及び4位(場合により更に2−オキソ−1−ピリジ
ニル基上の置換基中に)に不斉炭素を有しているものが
あり、その場合には複数の異性体が存在する。本発明の
化合物は、純粋に単離された各光学活性体および、それ
らのラセミ体を包含する。又、3位および4位の立体配
座に基づくシス、又はトランス異性体も包含するが、好
ましい配位はトランス異性体である。
【0023】更に、本発明の一般式[1]の化合物の塩
酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸等との無機酸塩や
酢酸、プロピオン酸、コハク酸、グリコール酸、乳酸、
リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、マレイン酸、フマル酸、
メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、アスコル
ビン酸等との有機酸塩等の製薬上許容しうる酸付加塩、
更に水和物、又は各種の溶媒和物も本発明に包含され
る。
酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸等との無機酸塩や
酢酸、プロピオン酸、コハク酸、グリコール酸、乳酸、
リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、マレイン酸、フマル酸、
メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、アスコル
ビン酸等との有機酸塩等の製薬上許容しうる酸付加塩、
更に水和物、又は各種の溶媒和物も本発明に包含され
る。
【0024】本発明化合物は下記製造方法1〜6のいず
れかの方法によって製造することができるが、必ずしも
これらの製造方法のみに限定されるものではない。
れかの方法によって製造することができるが、必ずしも
これらの製造方法のみに限定されるものではない。
【0025】製造方法1
【0026】
【化4】
【0027】(ここでR1 、R2 、R3 は前記と同じ意
味を示す。) 一般式[1]で表される本発明化合物は、エポキシアザ
クロマン[3]と4−置換−2−オキソピリジン誘導体
[4]を反応させることにより製造される。ここで使用
するエポキシアザクロマン[3]と4−置換−2−オキ
ソピリジン誘導体[4]は公知の方法によって得られ
る。
味を示す。) 一般式[1]で表される本発明化合物は、エポキシアザ
クロマン[3]と4−置換−2−オキソピリジン誘導体
[4]を反応させることにより製造される。ここで使用
するエポキシアザクロマン[3]と4−置換−2−オキ
ソピリジン誘導体[4]は公知の方法によって得られ
る。
【0028】エポキシアザクロマン[3]に対して4−
置換−2−オキソピリジン誘導体[4]を0.5〜10
倍モル程度使用し、より好ましくは1〜3倍モル程度を
使用する。必要に応じて触媒を使用することが出来、触
媒を用いることにより良い結果を与える。触媒は塩基触
媒又は酸触媒のいずれでもよいが、塩基触媒を用いる方
が好ましい。塩基触媒としては、例えば水素化ナトリウ
ム、水素化リチウム等のアルカリ金属水素化物、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアル
カリ金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の
アルカリ金属炭酸塩等の無機塩基、ナトリウムメチラー
ト、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シド、3級アミン、好ましくは、トリエチルアミン等の
3級(炭素数1〜6)アルキルアミン、ピリジン、4−
ジメチルアミノピリジン等の置換されていてもよいピリ
ジン誘導体等の有機塩基等が使用されるが、水素化ナト
リウム、水素化リチウム等のアルカリ金属水素化物が好
ましい。触媒は6−置換エポキシ誘導体[3]に対して
0.01〜100倍モル程度使用し、より好ましくは
0.1〜10倍モル程度を使用する。反応は通常、有機
溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれるが、有機溶媒中
で行なう方が好ましい。有機溶媒としては、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム等のハロゲン系炭化水素、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プ
ロトン性溶媒等が使用されるが、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の極性非プロトン性溶媒が
好ましい。反応温度は、特に限定されず、冷却、常温、
又は加熱下いずれでもよいが、好ましくは5〜40度C
がよい。反応は0.5〜100時間で行われ、より好ま
しくは1〜48時間で行なわれる。
置換−2−オキソピリジン誘導体[4]を0.5〜10
倍モル程度使用し、より好ましくは1〜3倍モル程度を
使用する。必要に応じて触媒を使用することが出来、触
媒を用いることにより良い結果を与える。触媒は塩基触
媒又は酸触媒のいずれでもよいが、塩基触媒を用いる方
が好ましい。塩基触媒としては、例えば水素化ナトリウ
ム、水素化リチウム等のアルカリ金属水素化物、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアル
カリ金属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の
アルカリ金属炭酸塩等の無機塩基、ナトリウムメチラー
ト、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シド、3級アミン、好ましくは、トリエチルアミン等の
3級(炭素数1〜6)アルキルアミン、ピリジン、4−
ジメチルアミノピリジン等の置換されていてもよいピリ
ジン誘導体等の有機塩基等が使用されるが、水素化ナト
リウム、水素化リチウム等のアルカリ金属水素化物が好
ましい。触媒は6−置換エポキシ誘導体[3]に対して
0.01〜100倍モル程度使用し、より好ましくは
0.1〜10倍モル程度を使用する。反応は通常、有機
溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれるが、有機溶媒中
で行なう方が好ましい。有機溶媒としては、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム等のハロゲン系炭化水素、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プ
ロトン性溶媒等が使用されるが、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の極性非プロトン性溶媒が
好ましい。反応温度は、特に限定されず、冷却、常温、
又は加熱下いずれでもよいが、好ましくは5〜40度C
がよい。反応は0.5〜100時間で行われ、より好ま
しくは1〜48時間で行なわれる。
【0029】一般式[1]で表される本発明化合物は、
抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常の単
離方法によって単離される。この反応の反応収率は、出
発物質、反応条件等によって異なるが、一般に10〜1
00%の範囲である。この方法による製造例としては実
施例1、11等が挙げられる。この方法によって製造さ
れる化合物としては、例えば化合物1〜391等が挙げ
られる。
抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常の単
離方法によって単離される。この反応の反応収率は、出
発物質、反応条件等によって異なるが、一般に10〜1
00%の範囲である。この方法による製造例としては実
施例1、11等が挙げられる。この方法によって製造さ
れる化合物としては、例えば化合物1〜391等が挙げ
られる。
【0030】製造方法2
【0031】
【化5】
【0032】(ここでR1 、R2 は前記と同じ意味を示
す。R31はW基(ここでWは前記と同じ意味を示す)、
−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ意味を示し、
VはX基、又は−OA基を示し、V基はY基のどの炭素
原子に結合してもよい。又、Xは前記と同じ意味を示
し、Aは水素原子、ニトロ基、炭素数1〜6個の低級ア
シル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1〜
6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキル
基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニル
基、又はシリル基を示すが、nが2以上の場合には、各
々のV基は同一か、或いはお互いに異なった基であって
もよい)、又は−CO−Z基(ここでZは炭素数1〜6
個の低級アルコキシ基を示す)。R32は水素原子、又は
−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ意味を示し、
VはX基、又は−OA基を示し、V基はY基のどの炭素
原子に結合してもよい。又、Xは前記と同じ意味を示
し、Aは水素原子、ニトロ基、炭素数1〜6個の低級ア
シル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1〜
6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキル
基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニル
基、又はシリル基を示すが、nが1の場合にはAは水素
原子を示し、nが2以上の場合には、各々のV基は同一
か、或いはお互いに異なった基であってもよいが、少な
くとも1つ以上のV基におけるAは水素原子である)、
又は−CO−Z基(ここでZは水酸基を示す)を示
す。)
す。R31はW基(ここでWは前記と同じ意味を示す)、
−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ意味を示し、
VはX基、又は−OA基を示し、V基はY基のどの炭素
原子に結合してもよい。又、Xは前記と同じ意味を示
し、Aは水素原子、ニトロ基、炭素数1〜6個の低級ア
シル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1〜
6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキル
基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニル
基、又はシリル基を示すが、nが2以上の場合には、各
々のV基は同一か、或いはお互いに異なった基であって
もよい)、又は−CO−Z基(ここでZは炭素数1〜6
個の低級アルコキシ基を示す)。R32は水素原子、又は
−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ意味を示し、
VはX基、又は−OA基を示し、V基はY基のどの炭素
原子に結合してもよい。又、Xは前記と同じ意味を示
し、Aは水素原子、ニトロ基、炭素数1〜6個の低級ア
シル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1〜
6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキル
基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニル
基、又はシリル基を示すが、nが1の場合にはAは水素
原子を示し、nが2以上の場合には、各々のV基は同一
か、或いはお互いに異なった基であってもよいが、少な
くとも1つ以上のV基におけるAは水素原子である)、
又は−CO−Z基(ここでZは水酸基を示す)を示
す。)
【0033】一般式[1]で表される本発明化合物のう
ち、一般式[6]で表される化合物は、製造方法1で得
られた一般式[1]で表される化合物のうちR3 がR31
に該当する一般式[5]で表される化合物、後記の製造
方法3で得られた一般式[8]で表される化合物のうち
R3 がR31に該当する一般式[5]で表される化合物、
後記の製造方法4で得られた一般式[10]で表される
化合物のうちR34がR31に該当する一般式[5]で表さ
れる化合物、又は製造方法6で得られた一般式[12]
で表される化合物のうちR36がR31に該当する一般式
[5]で表される化合物から、保護基を除去することに
より製造される。
ち、一般式[6]で表される化合物は、製造方法1で得
られた一般式[1]で表される化合物のうちR3 がR31
に該当する一般式[5]で表される化合物、後記の製造
方法3で得られた一般式[8]で表される化合物のうち
R3 がR31に該当する一般式[5]で表される化合物、
後記の製造方法4で得られた一般式[10]で表される
化合物のうちR34がR31に該当する一般式[5]で表さ
れる化合物、又は製造方法6で得られた一般式[12]
で表される化合物のうちR36がR31に該当する一般式
[5]で表される化合物から、保護基を除去することに
より製造される。
【0034】一般式[5]で表される化合物の脱保護反
応は酸触媒、又は塩基触媒、或いは4級アンモニウ塩等
によって行う。酸触媒としては、例えば硫酸、塩酸、酢
酸、臭化水素酸、フッ化水素等の無機酸、p−トルエン
スルホン酸、カンファースルホン酸等の有機酸もしくは
スルホン酸基等の結合した酸性型樹脂等が使用される
が、塩酸が好ましい。これらの酸触媒は、一般式[5]
で表される化合物に対して0.01〜100倍モル程度
使用し、より好ましくは0.1〜10倍モル程度を使用
する。塩基触媒としては、例えば水素化ナトリウム、水
素化リチウム等のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカ
リ金属炭酸塩等の無機塩基、ナトリウムメチラート、カ
リウムt−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、
3級アミン、好ましくは、トリエチルアミン等の3級
(炭素数1〜6)アルキルアミン、ピリジン、4−ジメ
チルアミノピリジン等の置換されていてもよいピリジン
誘導体等の有機塩基等が使用されるが、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩が好ましい。こ
れらの塩基触媒は、一般式[5]で表される化合物に対
して0.01〜100倍モル程度使用し、より好ましく
は0.1〜10倍モル程度を使用する。4級アンモニウ
ム塩としては、例えばフッ化アンモニウム、フッ化テト
ラ−n−ブチルアンモニウム等が挙げられる。これらの
4級アンモニウム塩は、一般式[5]で表される化合物
に対して0.01〜100倍モル程度使用し、より好ま
しくは0.1〜10倍モル程度を使用する。反応は通
常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれるが、有
機溶媒中で行なう方が好ましい。有機溶媒としては、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
の極性非プロトン性溶媒等が挙げられ、これらの中から
試薬に応じて適宜選択して使用される。反応温度は、特
に限定されず、冷却、常温、又は加熱下いずれでもよい
が、好ましくは−5〜40度Cがよい。反応は0.5〜
100時間で行われ、より好ましくは1〜48時間で行
なわれる。
応は酸触媒、又は塩基触媒、或いは4級アンモニウ塩等
によって行う。酸触媒としては、例えば硫酸、塩酸、酢
酸、臭化水素酸、フッ化水素等の無機酸、p−トルエン
スルホン酸、カンファースルホン酸等の有機酸もしくは
スルホン酸基等の結合した酸性型樹脂等が使用される
が、塩酸が好ましい。これらの酸触媒は、一般式[5]
で表される化合物に対して0.01〜100倍モル程度
使用し、より好ましくは0.1〜10倍モル程度を使用
する。塩基触媒としては、例えば水素化ナトリウム、水
素化リチウム等のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカ
リ金属炭酸塩等の無機塩基、ナトリウムメチラート、カ
リウムt−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、
3級アミン、好ましくは、トリエチルアミン等の3級
(炭素数1〜6)アルキルアミン、ピリジン、4−ジメ
チルアミノピリジン等の置換されていてもよいピリジン
誘導体等の有機塩基等が使用されるが、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩が好ましい。こ
れらの塩基触媒は、一般式[5]で表される化合物に対
して0.01〜100倍モル程度使用し、より好ましく
は0.1〜10倍モル程度を使用する。4級アンモニウ
ム塩としては、例えばフッ化アンモニウム、フッ化テト
ラ−n−ブチルアンモニウム等が挙げられる。これらの
4級アンモニウム塩は、一般式[5]で表される化合物
に対して0.01〜100倍モル程度使用し、より好ま
しくは0.1〜10倍モル程度を使用する。反応は通
常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれるが、有
機溶媒中で行なう方が好ましい。有機溶媒としては、例
えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
の極性非プロトン性溶媒等が挙げられ、これらの中から
試薬に応じて適宜選択して使用される。反応温度は、特
に限定されず、冷却、常温、又は加熱下いずれでもよい
が、好ましくは−5〜40度Cがよい。反応は0.5〜
100時間で行われ、より好ましくは1〜48時間で行
なわれる。
【0035】又、一般式[5]で表される化合物の脱保
護反応は還元反応によっても行うことができる。還元反
応は、金属水素化物を用いるか、又は水素ガスを用いた
接触還元で行われる。金属水素化物としては、例えば水
素化ほう素リチウム、水素化ほう素ナトリウム、水素化
アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウ
ム等が挙げられる。これらの金属水素化物は、一般式
[5]で表される化合物に対して0.01〜100倍モ
ル程度使用し、より好ましくは0.1〜10倍モル程度
を使用する。接触還元は触媒として、例えばパラジウム
炭素、ラネーニッケル等を一般式[5]で表される化合
物に対して0.01〜3倍モル程度使用し、水素雰囲気
下、常圧、又は加圧下で行われる。反応は通常、有機溶
媒中、水中或いは無溶媒で行なわれるが、有機溶媒中で
行なう方が好ましい。有機溶媒としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルム等のハロゲン系炭化水素、アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プロ
トン性溶媒等が挙げられ、これらの中から試薬に応じて
適宜選択して使用される。反応温度は、特に限定され
ず、冷却、常温、又は加熱下いずれでもよいが、好まし
くは−5〜40度Cがよい。反応は0.5〜100時間
で行われ、より好ましくは1〜48時間で行なわれる。
護反応は還元反応によっても行うことができる。還元反
応は、金属水素化物を用いるか、又は水素ガスを用いた
接触還元で行われる。金属水素化物としては、例えば水
素化ほう素リチウム、水素化ほう素ナトリウム、水素化
アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウ
ム等が挙げられる。これらの金属水素化物は、一般式
[5]で表される化合物に対して0.01〜100倍モ
ル程度使用し、より好ましくは0.1〜10倍モル程度
を使用する。接触還元は触媒として、例えばパラジウム
炭素、ラネーニッケル等を一般式[5]で表される化合
物に対して0.01〜3倍モル程度使用し、水素雰囲気
下、常圧、又は加圧下で行われる。反応は通常、有機溶
媒中、水中或いは無溶媒で行なわれるが、有機溶媒中で
行なう方が好ましい。有機溶媒としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルム等のハロゲン系炭化水素、アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プロ
トン性溶媒等が挙げられ、これらの中から試薬に応じて
適宜選択して使用される。反応温度は、特に限定され
ず、冷却、常温、又は加熱下いずれでもよいが、好まし
くは−5〜40度Cがよい。反応は0.5〜100時間
で行われ、より好ましくは1〜48時間で行なわれる。
【0036】一般式[6]で表される本発明化合物は、
抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常の単
離方法によって単離される。この反応の反応収率は、出
発物質、反応条件等によって異なるが、一般に10〜1
00%の範囲である。この方法による製造例としては実
施例2、5、12、15等が挙げられる。この方法によ
って製造される化合物としては、例えば化合物21〜3
2、113〜124、200〜208、269〜27
7、338〜346等が挙げられる。
抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常の単
離方法によって単離される。この反応の反応収率は、出
発物質、反応条件等によって異なるが、一般に10〜1
00%の範囲である。この方法による製造例としては実
施例2、5、12、15等が挙げられる。この方法によ
って製造される化合物としては、例えば化合物21〜3
2、113〜124、200〜208、269〜27
7、338〜346等が挙げられる。
【0037】製造方法3
【0038】
【化6】
【0039】(ここでR3 は前記と同じ意味を示す。R
11はX基、又はOA基(ここでAは水素原子、ニトロ
基、炭素数1〜6個の低級アシル基、アリールアシル
基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、炭素数1〜6個の低級アルコキシカ
ルボニル基、又はアリールアルコキシカルボニル基を示
す)、R21は水素原子を示す。)
11はX基、又はOA基(ここでAは水素原子、ニトロ
基、炭素数1〜6個の低級アシル基、アリールアシル
基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、炭素数1〜6個の低級アルコキシカ
ルボニル基、又はアリールアルコキシカルボニル基を示
す)、R21は水素原子を示す。)
【0040】一般式[1]で表される本発明化合物のう
ち、一般式[8]で表される化合物は、製造方法1で得
られた一般式[1]で表される化合物のうちR1 が
R11、R2 がR21である一般式[7]で表される化合
物、製造方法2で得られた一般式[6]で表される化合
物のうちR1 がR11、R2 がR21であり、R32がR3 に
該当する一般式[7]で表される化合物、後記の製造方
法4で得られた一般式[10]で表される化合物のうち
R1 がR11、R2 がR21であり、R34がR3 に該当する
一般式[7]で表される化合物、又は後記の製造方法5
で得られた一般式[12]で表される化合物のうちR1
がR11、R2 がR21であり、R36がR3 に該当する一般
式[7]で表される化合物より製造される。
ち、一般式[8]で表される化合物は、製造方法1で得
られた一般式[1]で表される化合物のうちR1 が
R11、R2 がR21である一般式[7]で表される化合
物、製造方法2で得られた一般式[6]で表される化合
物のうちR1 がR11、R2 がR21であり、R32がR3 に
該当する一般式[7]で表される化合物、後記の製造方
法4で得られた一般式[10]で表される化合物のうち
R1 がR11、R2 がR21であり、R34がR3 に該当する
一般式[7]で表される化合物、又は後記の製造方法5
で得られた一般式[12]で表される化合物のうちR1
がR11、R2 がR21であり、R36がR3 に該当する一般
式[7]で表される化合物より製造される。
【0041】即ち、一般式[7]で表される化合物の脱
離反応は、R11のX基又はOA基をR21の水素原子と共
に脱離させることにより行う。反応は酸触媒或いは塩基
触媒によって行う。酸触媒としては、例えば硫酸、塩
酸、酢酸、臭化水素酸等の無機酸、p−トルエンスルホ
ン酸、カンファースルホン酸等の有機酸、もしくはスル
ホン酸基等の結合した酸性型樹脂等が使用されるが、p
−トルエンスルホン酸等の有機酸が好ましい。塩基触媒
としては、例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム等
のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩等
の無機塩基、ナトリウムメチラート、カリウムt−ブト
キシド等のアルカリ金属アルコキシド、3級アミン、好
ましくは、トリエチルアミン等の3級(炭素数1〜6)
アルキルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン等の置換されていてもよいピリジン誘導体、1,8−
ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,
5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等の環
状アミジン等の有機塩基等が使用されるが、水素化ナト
リウム、水素化リチウム等のアルカリ金属水素化物、又
は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデ
セン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノ
ネン等の環状アミジンが好ましい。これらの触媒は化合
物[7]に対して0.01〜100倍モル程度使用し、
より好ましくは0.1〜10倍モル程度を使用する。反
応は通常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれる
が、有機溶媒中で行なう方が好ましい。有機溶媒として
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メ
チレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の極性非プロトン性溶媒等が挙げられ、これらの中
から試薬に応じて適宜選択して使用される。反応温度
は、特に限定されず、冷却、常温、又は加熱下いずれで
もよいが、好ましくは5〜150度Cがよい。反応は
0.5〜100時間で行われ、より好ましくは1〜48
時間で行なわれる。
離反応は、R11のX基又はOA基をR21の水素原子と共
に脱離させることにより行う。反応は酸触媒或いは塩基
触媒によって行う。酸触媒としては、例えば硫酸、塩
酸、酢酸、臭化水素酸等の無機酸、p−トルエンスルホ
ン酸、カンファースルホン酸等の有機酸、もしくはスル
ホン酸基等の結合した酸性型樹脂等が使用されるが、p
−トルエンスルホン酸等の有機酸が好ましい。塩基触媒
としては、例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム等
のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩等
の無機塩基、ナトリウムメチラート、カリウムt−ブト
キシド等のアルカリ金属アルコキシド、3級アミン、好
ましくは、トリエチルアミン等の3級(炭素数1〜6)
アルキルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン等の置換されていてもよいピリジン誘導体、1,8−
ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,
5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等の環
状アミジン等の有機塩基等が使用されるが、水素化ナト
リウム、水素化リチウム等のアルカリ金属水素化物、又
は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデ
セン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノ
ネン等の環状アミジンが好ましい。これらの触媒は化合
物[7]に対して0.01〜100倍モル程度使用し、
より好ましくは0.1〜10倍モル程度を使用する。反
応は通常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれる
が、有機溶媒中で行なう方が好ましい。有機溶媒として
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メ
チレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の極性非プロトン性溶媒等が挙げられ、これらの中
から試薬に応じて適宜選択して使用される。反応温度
は、特に限定されず、冷却、常温、又は加熱下いずれで
もよいが、好ましくは5〜150度Cがよい。反応は
0.5〜100時間で行われ、より好ましくは1〜48
時間で行なわれる。
【0042】又、一般式[7]で表される化合物のR11
がX基である化合物、又はOA基がスルホン酸エステル
である化合物は、一般式[1]で表される化合物のうち
R1が水酸基である化合物のR1 をハロゲン化又はスル
ホン酸エステル化することによっても製造できる。スル
ホニル化の反応試薬としては、例えばメタンスルホン酸
無水物、p−トルエンスルホン酸無水物、トリフルオロ
メタンスルホン酸無水物等のスルホン酸無水物、塩化メ
タンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化p−ト
ルエンスルホニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル
等のハロゲン化スルホニル等が挙げられる。ハロゲン化
の反応試薬としては、例えばフッ化セシウム、塩化リチ
ウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、臭化リチウム、
臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨ
ウ化カリウム等の金属ハロゲン化物、塩化メタンスルホ
ニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル、塩化アセチ
ル、塩化チオニル、塩化オキザリル等の酸ハロゲン化
物、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、四塩化炭素、四
臭化炭素等のハロゲン化アルキル、N−クロロコハク酸
イミド、N−ブロモコハク酸イミド、塩化アンモニウム
等のハロゲン化物、三塩化リン、三臭化リン、塩化リ
ン、臭化リン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン、ジ
オキサン−臭素錯体、臭化ピリジニウム過臭化物等のハ
ロゲン錯体等が挙げられる。これらの反応試薬は一般式
[1]で表される化合物に対して0.1〜10倍モル程
度使用し、より好ましくは0.5〜3倍モル程度を使用
する。必要に応じて塩基触媒を使用することができ、塩
基触媒を用いることにより良い結果を与える。塩基触媒
としては、例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム等
のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩等
の無機塩基、ナトリウムメチラート、カリウムt−ブト
キシド等のアルカリ金属アルコキシド、3級アミン、好
ましくは、トリエチルアミン等の3級(炭素数1〜6)
アルキルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン等の置換されていてもよいピリジン誘導体等の有機塩
基等が使用されるが、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、又は有
機塩基が好ましい。塩基触媒は一般式[1]で表される
化合物に対して0.01〜100倍モル程度使用し、よ
り好ましくは0.1〜10倍モル程度を使用する。反応
は通常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれる
が、有機溶媒中で行なう方が好ましい。有機溶媒として
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メ
チレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の極性非プロトン性溶媒等が挙げられ、これらの中
から試薬に応じて適宜選択して使用される。反応温度
は、特に限定されず、冷却、常温、又は加熱下いずれで
もよいが、好ましくは−5〜150度Cがよい。反応は
0.5〜100時間で行われ、より好ましくは1〜48
時間で行なわれる。
がX基である化合物、又はOA基がスルホン酸エステル
である化合物は、一般式[1]で表される化合物のうち
R1が水酸基である化合物のR1 をハロゲン化又はスル
ホン酸エステル化することによっても製造できる。スル
ホニル化の反応試薬としては、例えばメタンスルホン酸
無水物、p−トルエンスルホン酸無水物、トリフルオロ
メタンスルホン酸無水物等のスルホン酸無水物、塩化メ
タンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化p−ト
ルエンスルホニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル
等のハロゲン化スルホニル等が挙げられる。ハロゲン化
の反応試薬としては、例えばフッ化セシウム、塩化リチ
ウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、臭化リチウム、
臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨ
ウ化カリウム等の金属ハロゲン化物、塩化メタンスルホ
ニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル、塩化アセチ
ル、塩化チオニル、塩化オキザリル等の酸ハロゲン化
物、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、四塩化炭素、四
臭化炭素等のハロゲン化アルキル、N−クロロコハク酸
イミド、N−ブロモコハク酸イミド、塩化アンモニウム
等のハロゲン化物、三塩化リン、三臭化リン、塩化リ
ン、臭化リン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン、ジ
オキサン−臭素錯体、臭化ピリジニウム過臭化物等のハ
ロゲン錯体等が挙げられる。これらの反応試薬は一般式
[1]で表される化合物に対して0.1〜10倍モル程
度使用し、より好ましくは0.5〜3倍モル程度を使用
する。必要に応じて塩基触媒を使用することができ、塩
基触媒を用いることにより良い結果を与える。塩基触媒
としては、例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム等
のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩等
の無機塩基、ナトリウムメチラート、カリウムt−ブト
キシド等のアルカリ金属アルコキシド、3級アミン、好
ましくは、トリエチルアミン等の3級(炭素数1〜6)
アルキルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジ
ン等の置換されていてもよいピリジン誘導体等の有機塩
基等が使用されるが、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、又は有
機塩基が好ましい。塩基触媒は一般式[1]で表される
化合物に対して0.01〜100倍モル程度使用し、よ
り好ましくは0.1〜10倍モル程度を使用する。反応
は通常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれる
が、有機溶媒中で行なう方が好ましい。有機溶媒として
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メ
チレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の極性非プロトン性溶媒等が挙げられ、これらの中
から試薬に応じて適宜選択して使用される。反応温度
は、特に限定されず、冷却、常温、又は加熱下いずれで
もよいが、好ましくは−5〜150度Cがよい。反応は
0.5〜100時間で行われ、より好ましくは1〜48
時間で行なわれる。
【0043】一般式[8]で表される本発明化合物は、
抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常の単
離方法によって単離される。この反応の反応収率は、出
発物質、反応条件等によって異なるが、一般に10〜1
00%の範囲である。この方法による製造例としては実
施例3、4、13、14等が挙げられる。この方法によ
って製造される化合物としては、例えば化合物17〜2
0、29〜32、41〜44、53〜56、61〜6
4、77〜80、89〜92、109〜112、121
〜124、133〜136、145〜148、157〜
160、169〜172、181〜184、197〜1
99、206〜208、215〜217、224〜22
6、233〜235、242〜244、251〜25
3、266〜268、275〜277、284〜28
6、293〜295、302〜304、311〜31
3、320〜322、335〜337、344〜34
6、353〜355、362〜364、371〜37
3、380〜382、389〜391等が挙げられる。
抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常の単
離方法によって単離される。この反応の反応収率は、出
発物質、反応条件等によって異なるが、一般に10〜1
00%の範囲である。この方法による製造例としては実
施例3、4、13、14等が挙げられる。この方法によ
って製造される化合物としては、例えば化合物17〜2
0、29〜32、41〜44、53〜56、61〜6
4、77〜80、89〜92、109〜112、121
〜124、133〜136、145〜148、157〜
160、169〜172、181〜184、197〜1
99、206〜208、215〜217、224〜22
6、233〜235、242〜244、251〜25
3、266〜268、275〜277、284〜28
6、293〜295、302〜304、311〜31
3、320〜322、335〜337、344〜34
6、353〜355、362〜364、371〜37
3、380〜382、389〜391等が挙げられる。
【0044】製造方法4
【0045】
【化7】
【0046】(ここでR1 、R2 は前記と同じ意味を示
す。R33はW基(ここでWは前記と同じ意味を示す)、
又は−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ意味を示
し、VはX基、又は−OA基を示し、V基はY基のどの
炭素原子に結合してもよい。又、Xは前記と同じ意味を
示し、Aは水素原子、ニトロ基、炭素数1〜6個の低級
アシル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1
〜6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキ
ル基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級
アルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニ
ル基、又はシリル基を示すが、nが1の場合にはAは水
素原子を示し、nが2以上の場合には、各々のV基は同
一か、或いはお互いに異なった基であってもよいが、少
なくとも1つ以上のV基におけるAは水素原子であ
る)、R34は−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ
意味を示し、VはX基、又は−OA基を示し、V基はY
基のどの炭素原子に結合してもよい。又、Xは前記と同
じ意味を示し、Aは水素原子、炭素数1〜6個の低級ア
シル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1〜
6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキル
基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニル
基、又はシリル基を示すが、nが1の場合にはAは水素
原子以外の基を示し、nが2以上の場合には、各々のV
基は同一(但しA、が水素原子の場合を除く)か、或い
はお互いに異なった基であってもよい)を示す。)
す。R33はW基(ここでWは前記と同じ意味を示す)、
又は−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ意味を示
し、VはX基、又は−OA基を示し、V基はY基のどの
炭素原子に結合してもよい。又、Xは前記と同じ意味を
示し、Aは水素原子、ニトロ基、炭素数1〜6個の低級
アシル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1
〜6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキ
ル基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級
アルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニ
ル基、又はシリル基を示すが、nが1の場合にはAは水
素原子を示し、nが2以上の場合には、各々のV基は同
一か、或いはお互いに異なった基であってもよいが、少
なくとも1つ以上のV基におけるAは水素原子であ
る)、R34は−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ
意味を示し、VはX基、又は−OA基を示し、V基はY
基のどの炭素原子に結合してもよい。又、Xは前記と同
じ意味を示し、Aは水素原子、炭素数1〜6個の低級ア
シル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1〜
6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキル
基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニル
基、又はシリル基を示すが、nが1の場合にはAは水素
原子以外の基を示し、nが2以上の場合には、各々のV
基は同一(但しA、が水素原子の場合を除く)か、或い
はお互いに異なった基であってもよい)を示す。)
【0047】一般式[1]で表される本発明化合物のう
ち、一般式[10]で表される化合物は、製造方法1で
得られた一般式[1]で表される化合物のうちR3 がR
33に該当する一般式[9]で表される化合物、製造方法
2で得られた一般式[6]で表される化合物のうちR32
がR33に該当する一般式[9]で表される化合物、製造
方法3で得られた一般式[8]で表される化合物のうち
R3 がR33に該当する一般式[9]で表される化合物、
又は後記の製造方法5で得られた一般式[12]で表さ
れる化合物のうちR36がR33に該当する一般式[9]で
表される化合物より製造される。
ち、一般式[10]で表される化合物は、製造方法1で
得られた一般式[1]で表される化合物のうちR3 がR
33に該当する一般式[9]で表される化合物、製造方法
2で得られた一般式[6]で表される化合物のうちR32
がR33に該当する一般式[9]で表される化合物、製造
方法3で得られた一般式[8]で表される化合物のうち
R3 がR33に該当する一般式[9]で表される化合物、
又は後記の製造方法5で得られた一般式[12]で表さ
れる化合物のうちR36がR33に該当する一般式[9]で
表される化合物より製造される。
【0048】一般式[9]で表される化合物は、必要に
応じて、以下に示す試薬を用いることによって一般式
[10]で表される種々の誘導体に導くことができる。
アルケンの酸化的開裂に用いられる反応試薬としては四
酸化オスミウム、過マンガン酸カリウム、オゾン等の酸
化剤等が挙げられる。エポキシ化の反応試薬としては、
例えば過酸化水素、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、t−
ブチルヒドロペルオキシド、過安息香酸、m−クロロ過
安息香酸、N−ブロモコハク酸イミド、酢酸−過酸化水
素、トリフルオロ酢酸−過酸化水素等が挙げられる。ス
ルホニル化の反応試薬としては、例えばメタンスルホン
酸無水物、p−トルエンスルホン酸無水物、トリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物等の酸無水物、塩化メタンス
ルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化p−トルエン
スルホニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル等のハ
ロゲン化スルホン等が挙げられる。ハロゲン化の反応試
薬としては、例えばフッ化セシウム、塩化リチウム、塩
化ナトリウム、塩化カリウム、臭化リチウム、臭化ナト
リウム、臭化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリ
ウム等の金属ハロゲン化物、塩化メタンスルホニル、塩
化トリフルオロメタンスルホニル、塩化アセチル、塩化
チオニル、塩化オキザリル等の酸ハロゲン化物、塩素、
臭素、ヨウ素等のハロゲン、四塩化炭素、四臭化炭素等
のハロゲン化アルキル、N−クロロコハク酸イミド、N
−ブロモコハク酸イミド、塩化アンモニウム等のハロゲ
ン化物、三塩化リン、三臭化リン、塩化リン、臭化リ
ン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン、ジオキサン−
臭素錯体、臭化ピリジニウム過臭化物等のハロゲン錯体
等が挙げられる。アシル化の反応試薬としては、例えば
無水酢酸、無水プロピオン酸等の酸無水物及び塩化アセ
チル、塩化プロピオニル等の酸ハロゲン化物等が挙げら
れる。アルキル化の反応試薬としては、例えばよう化メ
チル、臭化エチル等のハロゲン化アルキル、塩化ベンジ
ル、臭化ベンジル、臭化−p−メトキシベンジル等のハ
ロゲン化アリールアルキル、ジメチル硫酸、ジブチル硫
酸等のアルキル化剤等が挙げられる。テトラヒドロピラ
ニル化の反応試薬としては、例えばジヒドロピラン等が
挙げられる。アルコキシカルボニル化の反応試薬として
は、例えばジ−t−ブチルジカルボネート、カルボベン
ゾキシクロライド等が挙げられる。シリル化の反応試薬
としては、例えばヘキサメチルジシラザン、塩化トリメ
チルシリル、塩化t−ブチルジメチルシリル、塩化t−
ブチルジフェニルシリル、塩化ジエチルイソプロピルシ
リル等のシリル化剤等が挙げられる。これらの反応にお
いて、必要に応じて酸触媒又は塩基触媒を使用すると良
い結果を与える。酸触媒としては、例えば硫酸、塩酸、
酢酸、臭化水素酸等の無機酸、p−トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸等の有機酸、もしくはスルホ
ン酸基等の結合した酸性型樹脂等が使用される。塩基触
媒としては、例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム
等のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩
等の無機塩基、ナトリウムメチラート、カリウムt−ブ
トキシド等のアルカリ金属アルコキシド、3級アミン、
好ましくは、トリエチルアミン等の3級(炭素数1〜
6)アルキルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピ
リジン等の置換されていてもよいピリジン誘導体、1,
8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、
1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等
の環状アミジン等の有機塩基等が使用されが、水酸化リ
チウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカ
リ金属水酸化物、又は有機塩基が好ましい。これらの反
応試薬は一般式[9]で表される化合物に対して0.0
1〜100倍モル程度使用し、より好ましくは0.1〜
10倍モル程度を使用する。又、触媒は一般式[9]で
表される化合物に対して0.01〜100倍モル程度使
用し、より好ましくは0.1〜10倍モル程度を使用す
る。反応は通常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で行な
われるが、有機溶媒中で行なう方が好ましい。有機溶媒
としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、メタノール、エタノール等のアルコール
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の極性非プロトン性溶媒等が挙げられ、これ
らの中から試薬に応じて適宜選択して使用される。反応
温度は、特に限定されず、冷却、常温、又は加熱下いず
れでもよいが、好ましくは−5〜150度Cがよい。反
応は0.5〜100時間で行われ、より好ましくは1〜
48時間で行なわれる。
応じて、以下に示す試薬を用いることによって一般式
[10]で表される種々の誘導体に導くことができる。
アルケンの酸化的開裂に用いられる反応試薬としては四
酸化オスミウム、過マンガン酸カリウム、オゾン等の酸
化剤等が挙げられる。エポキシ化の反応試薬としては、
例えば過酸化水素、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、t−
ブチルヒドロペルオキシド、過安息香酸、m−クロロ過
安息香酸、N−ブロモコハク酸イミド、酢酸−過酸化水
素、トリフルオロ酢酸−過酸化水素等が挙げられる。ス
ルホニル化の反応試薬としては、例えばメタンスルホン
酸無水物、p−トルエンスルホン酸無水物、トリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物等の酸無水物、塩化メタンス
ルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化p−トルエン
スルホニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル等のハ
ロゲン化スルホン等が挙げられる。ハロゲン化の反応試
薬としては、例えばフッ化セシウム、塩化リチウム、塩
化ナトリウム、塩化カリウム、臭化リチウム、臭化ナト
リウム、臭化カリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリ
ウム等の金属ハロゲン化物、塩化メタンスルホニル、塩
化トリフルオロメタンスルホニル、塩化アセチル、塩化
チオニル、塩化オキザリル等の酸ハロゲン化物、塩素、
臭素、ヨウ素等のハロゲン、四塩化炭素、四臭化炭素等
のハロゲン化アルキル、N−クロロコハク酸イミド、N
−ブロモコハク酸イミド、塩化アンモニウム等のハロゲ
ン化物、三塩化リン、三臭化リン、塩化リン、臭化リ
ン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン、ジオキサン−
臭素錯体、臭化ピリジニウム過臭化物等のハロゲン錯体
等が挙げられる。アシル化の反応試薬としては、例えば
無水酢酸、無水プロピオン酸等の酸無水物及び塩化アセ
チル、塩化プロピオニル等の酸ハロゲン化物等が挙げら
れる。アルキル化の反応試薬としては、例えばよう化メ
チル、臭化エチル等のハロゲン化アルキル、塩化ベンジ
ル、臭化ベンジル、臭化−p−メトキシベンジル等のハ
ロゲン化アリールアルキル、ジメチル硫酸、ジブチル硫
酸等のアルキル化剤等が挙げられる。テトラヒドロピラ
ニル化の反応試薬としては、例えばジヒドロピラン等が
挙げられる。アルコキシカルボニル化の反応試薬として
は、例えばジ−t−ブチルジカルボネート、カルボベン
ゾキシクロライド等が挙げられる。シリル化の反応試薬
としては、例えばヘキサメチルジシラザン、塩化トリメ
チルシリル、塩化t−ブチルジメチルシリル、塩化t−
ブチルジフェニルシリル、塩化ジエチルイソプロピルシ
リル等のシリル化剤等が挙げられる。これらの反応にお
いて、必要に応じて酸触媒又は塩基触媒を使用すると良
い結果を与える。酸触媒としては、例えば硫酸、塩酸、
酢酸、臭化水素酸等の無機酸、p−トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸等の有機酸、もしくはスルホ
ン酸基等の結合した酸性型樹脂等が使用される。塩基触
媒としては、例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム
等のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩
等の無機塩基、ナトリウムメチラート、カリウムt−ブ
トキシド等のアルカリ金属アルコキシド、3級アミン、
好ましくは、トリエチルアミン等の3級(炭素数1〜
6)アルキルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピ
リジン等の置換されていてもよいピリジン誘導体、1,
8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、
1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等
の環状アミジン等の有機塩基等が使用されが、水酸化リ
チウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカ
リ金属水酸化物、又は有機塩基が好ましい。これらの反
応試薬は一般式[9]で表される化合物に対して0.0
1〜100倍モル程度使用し、より好ましくは0.1〜
10倍モル程度を使用する。又、触媒は一般式[9]で
表される化合物に対して0.01〜100倍モル程度使
用し、より好ましくは0.1〜10倍モル程度を使用す
る。反応は通常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で行な
われるが、有機溶媒中で行なう方が好ましい。有機溶媒
としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素、メタノール、エタノール等のアルコール
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水素、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の極性非プロトン性溶媒等が挙げられ、これ
らの中から試薬に応じて適宜選択して使用される。反応
温度は、特に限定されず、冷却、常温、又は加熱下いず
れでもよいが、好ましくは−5〜150度Cがよい。反
応は0.5〜100時間で行われ、より好ましくは1〜
48時間で行なわれる。
【0049】一般式[10]で表される本発明化合物
は、抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常
の単離方法によって単離される。この反応の反応収率
は、出発物質、反応条件等によって異なるが、一般に1
0〜100%の範囲である。この方法による製造例とし
ては実施例3、6、8、9、13、16、17等が挙げ
られる。この方法によって製造される化合物としては、
例えば化合物13〜16、25〜28、33〜92、1
05〜108、117〜120、125〜184、19
4〜196、203〜205、209〜253、263
〜265、272〜274、278〜322、332〜
334、341〜343、347〜391等が挙げられ
る。
は、抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常
の単離方法によって単離される。この反応の反応収率
は、出発物質、反応条件等によって異なるが、一般に1
0〜100%の範囲である。この方法による製造例とし
ては実施例3、6、8、9、13、16、17等が挙げ
られる。この方法によって製造される化合物としては、
例えば化合物13〜16、25〜28、33〜92、1
05〜108、117〜120、125〜184、19
4〜196、203〜205、209〜253、263
〜265、272〜274、278〜322、332〜
334、341〜343、347〜391等が挙げられ
る。
【0050】製造方法5
【0051】
【化8】
【0052】(ここでR1 、R2 、は前記と同じ意味を
示す。R35は−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ
意味を示し、VはX基、又は−OA基を示し、V基はY
基のどの炭素原子に結合してもよい。又、Xは前記と同
じ意味を示し、Aは水素原子、炭素数1〜6個の低級ア
シル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1〜
6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキル
基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニル
基、又はシリル基を示すが、nが1の場合にはXがハロ
ゲンを示すか、或いはAが水素原子、炭素数1〜6個の
低級アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基
のいずれかを示し、nが2以上の場合には、各々のV基
は同一か、或いはお互いに異なった基であつてもよい
が、少なくとも1つ以上のV基におけるXがハロゲンを
示すか、或いはAが水素原子、炭素数1〜6個の低級ア
ルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基のいず
れかを示す)を示す。R36は−Y−Vn基(ここでY、
nは前記と同じ意味を示し、VはX基、又は−OA基を
示し、V基はY基のどの炭素原子に結合してもよい。
又、Xは前記と同じ意味を示し、Aは水素原子、ニトロ
基、炭素数1〜6個の低級アシル基、アリールアシル
基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、炭素数1〜6個の低級アルキル基、
アリール基、アリールアルキル基、テトラヒドロピラニ
ル基、炭素数1〜6個の低級アルコキシカルボニル基、
アリールアルコキシカルボニル基、又はシリル基を示す
が、nが1の場合にはAはニトロ基を示し、nが2以上
の場合には、各々のV基は同一か、或いはお互いに異な
った基であってもよいが、少なくとも1つ以上のV基に
おけるAはニトロ基である)を示す。)
示す。R35は−Y−Vn基(ここでY、nは前記と同じ
意味を示し、VはX基、又は−OA基を示し、V基はY
基のどの炭素原子に結合してもよい。又、Xは前記と同
じ意味を示し、Aは水素原子、炭素数1〜6個の低級ア
シル基、アリールアシル基、炭素数1〜6個の低級アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数1〜
6個の低級アルキル基、アリール基、アリールアルキル
基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1〜6個の低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールアルコキシカルボニル
基、又はシリル基を示すが、nが1の場合にはXがハロ
ゲンを示すか、或いはAが水素原子、炭素数1〜6個の
低級アルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基
のいずれかを示し、nが2以上の場合には、各々のV基
は同一か、或いはお互いに異なった基であつてもよい
が、少なくとも1つ以上のV基におけるXがハロゲンを
示すか、或いはAが水素原子、炭素数1〜6個の低級ア
ルキルスルホニル基、又はアリールスルホニル基のいず
れかを示す)を示す。R36は−Y−Vn基(ここでY、
nは前記と同じ意味を示し、VはX基、又は−OA基を
示し、V基はY基のどの炭素原子に結合してもよい。
又、Xは前記と同じ意味を示し、Aは水素原子、ニトロ
基、炭素数1〜6個の低級アシル基、アリールアシル
基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、炭素数1〜6個の低級アルキル基、
アリール基、アリールアルキル基、テトラヒドロピラニ
ル基、炭素数1〜6個の低級アルコキシカルボニル基、
アリールアルコキシカルボニル基、又はシリル基を示す
が、nが1の場合にはAはニトロ基を示し、nが2以上
の場合には、各々のV基は同一か、或いはお互いに異な
った基であってもよいが、少なくとも1つ以上のV基に
おけるAはニトロ基である)を示す。)
【0053】一般式[1]で表される本発明化合物のう
ち、一般式[12]で表される化合物は、製造方法1で
得られた一般式[1]で表される化合物のうちR3 がR
35に該当する一般式[11]で表される化合物、製造方
法2で得られた一般式[6]で表される化合物のうちR
32がR35に該当する一般式[11]で表される化合物、
製造方法3で得られた一般式[8]で表される化合物の
うちR3 がR35に該当する一般式[11]で表される化
合物、又は製造方法4で得られた一般式[10]で表さ
れる化合物のうちR34がR35に該当する一般式[11]
で表される化合物より製造される。
ち、一般式[12]で表される化合物は、製造方法1で
得られた一般式[1]で表される化合物のうちR3 がR
35に該当する一般式[11]で表される化合物、製造方
法2で得られた一般式[6]で表される化合物のうちR
32がR35に該当する一般式[11]で表される化合物、
製造方法3で得られた一般式[8]で表される化合物の
うちR3 がR35に該当する一般式[11]で表される化
合物、又は製造方法4で得られた一般式[10]で表さ
れる化合物のうちR34がR35に該当する一般式[11]
で表される化合物より製造される。
【0054】一般式[11]で表される化合物は、必要
に応じて、以下に示す試薬を用いることによって一般式
[12]で表される種々の誘導体に導くことができる。
硝酸エステル化の反応試薬としては、例えば硫酸−硝酸
混合物、酢酸−硝酸混合物、スルホン酸−硝酸混合物等
の硝酸と他の酸の混合物、テトラフルオロほう酸ニトロ
ニウム等のニトロ化剤、硝酸テトラメチルアンモニウ
ム、硝酸テトラエチルアンモニウム、硝酸テトラn−ブ
チルアンモニウム、硝酸テトラベンジルアンモニウム等
の硝酸テトラアルキルアンモニウム、硝酸銀、硝酸ナト
リウム、硝酸銅等の硝酸の金属塩等が挙げられる。ヒド
ロキシル化の反応試薬としては、例えば水酸化銀等が挙
げられる。アシル化の反応試薬としては、例えば酢酸
銀、安息香酸銀等が挙げられる。スルホニル化の反応試
薬としては、例えばメタンスルホン酸銀、ベンゼンスル
ホン酸銀等が挙げられる。これらの反応試薬は一般式
[11]で表される化合物に対して0.1〜10倍モル
程度使用し、より好ましくは0.5〜3倍モル程度を使
用する。反応は通常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で
行なわれるが、有機溶媒中で行なう方が好ましい。有機
溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水
素、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等の極性非プロトン性溶媒等が使用される
が、アセトニトリル等の極性非プロトン性溶媒が好まし
い。反応温度は、特に限定されず、冷却、常温、又は加
熱下いずれでもよいが、好ましくは−5〜150度Cが
よい。反応は0.5〜100時間で行われ、より好まし
くは1〜48時間で行なわれる。
に応じて、以下に示す試薬を用いることによって一般式
[12]で表される種々の誘導体に導くことができる。
硝酸エステル化の反応試薬としては、例えば硫酸−硝酸
混合物、酢酸−硝酸混合物、スルホン酸−硝酸混合物等
の硝酸と他の酸の混合物、テトラフルオロほう酸ニトロ
ニウム等のニトロ化剤、硝酸テトラメチルアンモニウ
ム、硝酸テトラエチルアンモニウム、硝酸テトラn−ブ
チルアンモニウム、硝酸テトラベンジルアンモニウム等
の硝酸テトラアルキルアンモニウム、硝酸銀、硝酸ナト
リウム、硝酸銅等の硝酸の金属塩等が挙げられる。ヒド
ロキシル化の反応試薬としては、例えば水酸化銀等が挙
げられる。アシル化の反応試薬としては、例えば酢酸
銀、安息香酸銀等が挙げられる。スルホニル化の反応試
薬としては、例えばメタンスルホン酸銀、ベンゼンスル
ホン酸銀等が挙げられる。これらの反応試薬は一般式
[11]で表される化合物に対して0.1〜10倍モル
程度使用し、より好ましくは0.5〜3倍モル程度を使
用する。反応は通常、有機溶媒中、水中或いは無溶媒で
行なわれるが、有機溶媒中で行なう方が好ましい。有機
溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系炭化水
素、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等の極性非プロトン性溶媒等が使用される
が、アセトニトリル等の極性非プロトン性溶媒が好まし
い。反応温度は、特に限定されず、冷却、常温、又は加
熱下いずれでもよいが、好ましくは−5〜150度Cが
よい。反応は0.5〜100時間で行われ、より好まし
くは1〜48時間で行なわれる。
【0055】一般式[12]で表される本発明化合物
は、抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常
の単離方法によって単離される。この反応の反応収率
は、出発物質、反応条件等によって異なるが、一般に1
0〜100%の範囲である。この方法による製造例とし
ては実施例7、10、18等が挙げられる。この方法に
よって製造される化合物としては、例えば化合物1〜2
0、93〜112、185〜199、254〜268、
323〜337等が挙げられる。
は、抽出、再結晶、或いはクロマトグラフィー等の通常
の単離方法によって単離される。この反応の反応収率
は、出発物質、反応条件等によって異なるが、一般に1
0〜100%の範囲である。この方法による製造例とし
ては実施例7、10、18等が挙げられる。この方法に
よって製造される化合物としては、例えば化合物1〜2
0、93〜112、185〜199、254〜268、
323〜337等が挙げられる。
【0056】製造方法6 一般式[1]で表される本発明化合物の、製薬上許容し
得る酸付加塩は、製造方法1〜5で得られた一般式
[1]で表される化合物を酸で処理することにより製造
される。酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、
リン酸、硝酸等の無機酸、酢酸、プロピオン酸、コハク
酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン
酸、マレイン酸、フマル酸、メタンスルホン酸、p−ト
ルエンスルホン酸、アスコルビン酸等の有機酸等が挙げ
られる。これらの酸は、一般式[1]で表される化合物
に対して0.5〜20倍モル程度使用し、より好ましく
は1〜10倍モル程度を使用する。酸処理は通常、有機
溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれるが、有機溶媒中
で行なう方が好ましい。有機溶媒としては、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム等のハロゲン系炭化水素、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プ
ロトン性溶媒等が使用されるが、メタノール、エタノー
ル等のアルコール類が好ましい。反応温度は、特に限定
されず、冷却、常温、又は加熱下いずれでもよいが、好
ましくは−5〜40度Cがよい。反応は0.5〜100
時間で行われ、より好ましくは1〜48時間で行なわれ
る。
得る酸付加塩は、製造方法1〜5で得られた一般式
[1]で表される化合物を酸で処理することにより製造
される。酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、
リン酸、硝酸等の無機酸、酢酸、プロピオン酸、コハク
酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン
酸、マレイン酸、フマル酸、メタンスルホン酸、p−ト
ルエンスルホン酸、アスコルビン酸等の有機酸等が挙げ
られる。これらの酸は、一般式[1]で表される化合物
に対して0.5〜20倍モル程度使用し、より好ましく
は1〜10倍モル程度を使用する。酸処理は通常、有機
溶媒中、水中或いは無溶媒で行なわれるが、有機溶媒中
で行なう方が好ましい。有機溶媒としては、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム等のハロゲン系炭化水素、アセトニトリル、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性非プ
ロトン性溶媒等が使用されるが、メタノール、エタノー
ル等のアルコール類が好ましい。反応温度は、特に限定
されず、冷却、常温、又は加熱下いずれでもよいが、好
ましくは−5〜40度Cがよい。反応は0.5〜100
時間で行われ、より好ましくは1〜48時間で行なわれ
る。
【0057】一般式[1]で表される本発明化合物の、
製薬上許容し得る酸付加塩は、抽出、再結晶、或いはク
ロマトグラフィー等の通常の単離方法によって単離され
る。この反応の反応収率は、出発物質、反応条件等によ
って異なるが、一般に10〜100%の範囲である。こ
の方法による製造例としては実施例7、10、18等が
挙げられる。この方法によって製造される化合物として
は、例えば化合物1〜391等の塩酸塩、メタンスルホ
ン酸塩等が挙げられる。
製薬上許容し得る酸付加塩は、抽出、再結晶、或いはク
ロマトグラフィー等の通常の単離方法によって単離され
る。この反応の反応収率は、出発物質、反応条件等によ
って異なるが、一般に10〜100%の範囲である。こ
の方法による製造例としては実施例7、10、18等が
挙げられる。この方法によって製造される化合物として
は、例えば化合物1〜391等の塩酸塩、メタンスルホ
ン酸塩等が挙げられる。
【0058】本発明化合物を医薬品として用いる場合
は、通常、担体、賦形剤、希釈剤、溶解補助剤等の製薬
上許容し得る添加剤と混合し、錠剤(糖衣錠、フィルム
コート錠を含む)、カプセル剤、散剤、顆粒、注射剤、
点滴剤、坐剤、ハップ剤等の製剤形態で経口、又は非経
口に安全に哺乳動物に投与し得る。製剤中の本発明化合
物の割合は、0.01−99%であることが好ましい。
投与量は投与法により異なるが、通常0.001−20
mg/kg/day程度である。
は、通常、担体、賦形剤、希釈剤、溶解補助剤等の製薬
上許容し得る添加剤と混合し、錠剤(糖衣錠、フィルム
コート錠を含む)、カプセル剤、散剤、顆粒、注射剤、
点滴剤、坐剤、ハップ剤等の製剤形態で経口、又は非経
口に安全に哺乳動物に投与し得る。製剤中の本発明化合
物の割合は、0.01−99%であることが好ましい。
投与量は投与法により異なるが、通常0.001−20
mg/kg/day程度である。
【0059】
【作用】次に本発明化合物の作用について説明する。 実験例 <方法>雄性SD系ラットの胸部大動脈を摘出し幅3m
mのリング標本を作成した。標本は内皮細胞を擦過にて
除去し、Krebs−Henseleit液を満たした
10mlのorgan bath中に1.0gの静止張
力をかけ懸垂した。栄養液は37℃に保持し、95%O
2 −5%CO2 で通気した。筋の等尺性張力はFDピッ
クアップで測定し、記録計で記録した。約1時間の平衡
時間の後、10-6Mフェニレフリンで惹起した持続的収
縮に対して、本発明化合物を累積的に投与し、その収縮
寛解作用を調べた(コントロール群)。又、グアニル酸
シクラーゼ阻害剤であるメチレンブルー(10-5M)
(メチレンブルー群)又はATP感受性カリウムチャン
ネル阻害剤であるグリベンクラミド(10-5M)(グリ
ベンクラミド群)で20分間前処置した後、10-6Mフ
ェニレフリンで収縮を惹起し、同様の実験を行った。本
発明化合物の収縮寛解作用は塩酸パパベリン10-4Mで
得られた最大弛緩を100%として弛緩率で示した。本
発明化合物の効力はpD2 値(50%弛緩濃度のネガテ
ィブロガリズム)として表した。又、メチレンブルー群
及びグリベンクラミド群のコントロール群に対するpD
2 値の差を求め、その差の比(メチレンブルー群の差/
グリベンクラミド群の差)を本発明化合物のNO作用と
カリウムチャンネル開口作用(PCO作用)の比として
表した。NO作用及びカリウムチャンネル開口作用の陽
性対照化合物としてそれぞれニトログリセリン及びクロ
マカリムを用い、同様の実験を行った。結果を表6に示
す。
mのリング標本を作成した。標本は内皮細胞を擦過にて
除去し、Krebs−Henseleit液を満たした
10mlのorgan bath中に1.0gの静止張
力をかけ懸垂した。栄養液は37℃に保持し、95%O
2 −5%CO2 で通気した。筋の等尺性張力はFDピッ
クアップで測定し、記録計で記録した。約1時間の平衡
時間の後、10-6Mフェニレフリンで惹起した持続的収
縮に対して、本発明化合物を累積的に投与し、その収縮
寛解作用を調べた(コントロール群)。又、グアニル酸
シクラーゼ阻害剤であるメチレンブルー(10-5M)
(メチレンブルー群)又はATP感受性カリウムチャン
ネル阻害剤であるグリベンクラミド(10-5M)(グリ
ベンクラミド群)で20分間前処置した後、10-6Mフ
ェニレフリンで収縮を惹起し、同様の実験を行った。本
発明化合物の収縮寛解作用は塩酸パパベリン10-4Mで
得られた最大弛緩を100%として弛緩率で示した。本
発明化合物の効力はpD2 値(50%弛緩濃度のネガテ
ィブロガリズム)として表した。又、メチレンブルー群
及びグリベンクラミド群のコントロール群に対するpD
2 値の差を求め、その差の比(メチレンブルー群の差/
グリベンクラミド群の差)を本発明化合物のNO作用と
カリウムチャンネル開口作用(PCO作用)の比として
表した。NO作用及びカリウムチャンネル開口作用の陽
性対照化合物としてそれぞれニトログリセリン及びクロ
マカリムを用い、同様の実験を行った。結果を表6に示
す。
【0060】
【表6】
【0061】即ち、本発明化合物の血管平滑筋に対する
収縮寛解作用はコントロール群で4.34〜6.20の
pD2 値を示した。又、クロマカリム及びニトログリセ
リンの血管平滑筋に対する収縮寛解作用はコントロール
群で平均値がそれぞれ6.46及び7.59のpD2 値
を示し、pD2 値の差の比はそれぞれ0及び20であっ
た。このことから本実験条件下においてpD2 値の差の
比が0に近い値を示す化合物はカリウムチャンネル開口
作用が主作用、20に近い値を示す化合物はNO作用が
主作用と考えられる。化合物No.17又は19はメチ
レンブルー処置及びグリベンクラミド処置でpD2 値が
共に減少した。このpD2 値の差の比はそれぞれ1.0
及び3.6であり、その値が0と20の間にあることか
ら、化合物No.17又は19の作用機序にはカリウム
チャンネル開口作用とNO作用が関与していると考えら
れる。一方、化合物No.111はpD2 値がメチレン
ブルー処置ではほとんど減少しなかったが、グリベンク
ラミド処置では減少した。化合物No.111のpD2
値の差の比は0.05であり、その値が0に近いことか
ら化合物No.111の作用機序には主にカリウムチャ
ンネル開口作用が関与していると考えられる。更に、一
般に従来のNO作用を示す化合物は特別な製剤工夫をし
ない化合物そのもので経口投与した場合、有効なものは
少なく、その機能を発揮することは難しい。例えば、ニ
トログリセリンはそのものを経口投与すると、肝臓等で
直ちに分解・代謝されるため、持続性に乏しいことは衆
知のことである。そのことより、ニトログリセリンは、
経口投与できず、舌下錠、貼付剤、注射剤などの製剤工
夫で使用されているが、経口剤で有効なNO作用を示す
ものが渇望されている。本発明者らは、このような状況
を鑑みて経口投与でもNO作用を示す、とりわけNOと
PCO作用の両方を示す化合物を見いだすために鋭意検
討した結果、本発明化合物は経口投与した場合でも有効
な血中濃度を示すことを見い出した。
収縮寛解作用はコントロール群で4.34〜6.20の
pD2 値を示した。又、クロマカリム及びニトログリセ
リンの血管平滑筋に対する収縮寛解作用はコントロール
群で平均値がそれぞれ6.46及び7.59のpD2 値
を示し、pD2 値の差の比はそれぞれ0及び20であっ
た。このことから本実験条件下においてpD2 値の差の
比が0に近い値を示す化合物はカリウムチャンネル開口
作用が主作用、20に近い値を示す化合物はNO作用が
主作用と考えられる。化合物No.17又は19はメチ
レンブルー処置及びグリベンクラミド処置でpD2 値が
共に減少した。このpD2 値の差の比はそれぞれ1.0
及び3.6であり、その値が0と20の間にあることか
ら、化合物No.17又は19の作用機序にはカリウム
チャンネル開口作用とNO作用が関与していると考えら
れる。一方、化合物No.111はpD2 値がメチレン
ブルー処置ではほとんど減少しなかったが、グリベンク
ラミド処置では減少した。化合物No.111のpD2
値の差の比は0.05であり、その値が0に近いことか
ら化合物No.111の作用機序には主にカリウムチャ
ンネル開口作用が関与していると考えられる。更に、一
般に従来のNO作用を示す化合物は特別な製剤工夫をし
ない化合物そのもので経口投与した場合、有効なものは
少なく、その機能を発揮することは難しい。例えば、ニ
トログリセリンはそのものを経口投与すると、肝臓等で
直ちに分解・代謝されるため、持続性に乏しいことは衆
知のことである。そのことより、ニトログリセリンは、
経口投与できず、舌下錠、貼付剤、注射剤などの製剤工
夫で使用されているが、経口剤で有効なNO作用を示す
ものが渇望されている。本発明者らは、このような状況
を鑑みて経口投与でもNO作用を示す、とりわけNOと
PCO作用の両方を示す化合物を見いだすために鋭意検
討した結果、本発明化合物は経口投与した場合でも有効
な血中濃度を示すことを見い出した。
【0062】以上から明らかなように本発明化合物はカ
リウムチャンネル開口作用を、又その中のいくつかの化
合物はNOによる作用も併せ持っており、平滑筋弛緩剤
として有用であり、新たな狭心症治療剤、心不全治療
剤、脳循環改善剤、降圧剤等の循環系薬剤、抗喘息剤、
子宮の平滑筋収縮に伴う障害の治療剤、膀胱、又は尿路
の平滑筋収縮に伴う障害による疾患、例えば頻尿、尿失
禁、排尿困難症等の治療剤、及びてんかん等の抗痙攣
剤、育毛剤等として有用である。
リウムチャンネル開口作用を、又その中のいくつかの化
合物はNOによる作用も併せ持っており、平滑筋弛緩剤
として有用であり、新たな狭心症治療剤、心不全治療
剤、脳循環改善剤、降圧剤等の循環系薬剤、抗喘息剤、
子宮の平滑筋収縮に伴う障害の治療剤、膀胱、又は尿路
の平滑筋収縮に伴う障害による疾患、例えば頻尿、尿失
禁、排尿困難症等の治療剤、及びてんかん等の抗痙攣
剤、育毛剤等として有用である。
【0063】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。
に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。
【0064】実施例1(化合物No.81) トランス−3−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2
−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−1−ピリジ
ニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 3,4−エポキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチ
ル−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン10.28g
と1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシメチル−1H−ピリジン20.83g
の混合物に室温でエタノール87mlとピリジン3.5
2mlを加え、還流下5時間反応させる。反応液を減圧
下濃縮した後、この得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/メタノール
=50/1)で単離精製し、トランス−3−ヒドロキシ
−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2
−ジヒドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン9.46gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.12(s,6H),0.95(s,9H),1.3
7(s,3H),1.55(s,3H),1.84(b
r,1H),3.84(d,1H),4.57(s,2
H),6.18(dd,1H),6.36(d,1
H),6.69(s,1H),6.81(d,1H),
6.91(d,1H),7.99(s,1H),8.3
4(d,1H)
−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−1−ピリジ
ニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 3,4−エポキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチ
ル−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン10.28g
と1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシメチル−1H−ピリジン20.83g
の混合物に室温でエタノール87mlとピリジン3.5
2mlを加え、還流下5時間反応させる。反応液を減圧
下濃縮した後、この得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/メタノール
=50/1)で単離精製し、トランス−3−ヒドロキシ
−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2
−ジヒドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン9.46gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.12(s,6H),0.95(s,9H),1.3
7(s,3H),1.55(s,3H),1.84(b
r,1H),3.84(d,1H),4.57(s,2
H),6.18(dd,1H),6.36(d,1
H),6.69(s,1H),6.81(d,1H),
6.91(d,1H),7.99(s,1H),8.3
4(d,1H)
【0065】実施例2(化合物No.21) トランス−3−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2
−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−ヒドロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジンの製造 実施例1で得たトランス−3−ヒドロキシ−3,4−ジ
ヒドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−
2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピ
リジン4.17gをメタノール40mlに溶解する。次
いで、この溶液に室温で4N塩酸−ジオキサン溶液10
mlを加え、5時間反応させる。反応液を減圧下濃縮
し、残渣にエーテル及び水を加え、2N塩酸で抽出を行
い、得られた水層を水酸化ナトリウム水溶液で中和す
る。更にクロロホルムと2−プロパノールの混合溶媒
(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮す
る。この得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=10/
1)で単離精製し、トランス−3−ヒドロキシ−3,4
−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−ヒドロキシメチル−1−ピリジニ
ル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン2.56g
を得る。 IR (KBr) cm-1:3130,1650,15
60,1270,930ms−FAB:positiv
e:m/z;303[M+H]+ ,285[M+H−H
2 O]+
−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−ヒドロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジンの製造 実施例1で得たトランス−3−ヒドロキシ−3,4−ジ
ヒドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−
2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピ
リジン4.17gをメタノール40mlに溶解する。次
いで、この溶液に室温で4N塩酸−ジオキサン溶液10
mlを加え、5時間反応させる。反応液を減圧下濃縮
し、残渣にエーテル及び水を加え、2N塩酸で抽出を行
い、得られた水層を水酸化ナトリウム水溶液で中和す
る。更にクロロホルムと2−プロパノールの混合溶媒
(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮す
る。この得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=10/
1)で単離精製し、トランス−3−ヒドロキシ−3,4
−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−ヒドロキシメチル−1−ピリジニ
ル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン2.56g
を得る。 IR (KBr) cm-1:3130,1650,15
60,1270,930ms−FAB:positiv
e:m/z;303[M+H]+ ,285[M+H−H
2 O]+
【0066】実施例3(化合物No.85) トランス−3−メタンスルホニルオキシ−3,4−ジヒ
ドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2
−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリ
ジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例1で得たトランス−3−ヒド
ロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−
(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピ
ラノ[3,2−c]ピリジン5.42gを塩化メチレン
26mlに溶解し、トリエチルアミン2.79mlを加
える。次いで、この溶液に0℃で塩化メタンスルホニル
1.55mlを滴下し、0℃で30分間反応させる。反
応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停
止した後、酢酸エチルで抽出を行い、この有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。そ
の後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮し、粗生成物
の結晶としてトランス−3−メタンスルホニルオキシ−
3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2−
ジヒドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリル
オキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,
2−c]ピリジン6.62gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.11(s,6H),0.94(s,9H),1.4
4(s,3H),1.63(s,3H),2.88
(s,3H),4.56(d,2H),4.95(d,
1H),6.15(dd,1H),6.68(s,1
H),6.70(d,1H),6.84(d,1H),
6.90(d,1H),8.00(s,1H),8.3
7(d,1H)
ドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2
−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリ
ジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例1で得たトランス−3−ヒド
ロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−
(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピ
ラノ[3,2−c]ピリジン5.42gを塩化メチレン
26mlに溶解し、トリエチルアミン2.79mlを加
える。次いで、この溶液に0℃で塩化メタンスルホニル
1.55mlを滴下し、0℃で30分間反応させる。反
応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停
止した後、酢酸エチルで抽出を行い、この有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。そ
の後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮し、粗生成物
の結晶としてトランス−3−メタンスルホニルオキシ−
3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−(1,2−
ジヒドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリル
オキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,
2−c]ピリジン6.62gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.11(s,6H),0.94(s,9H),1.4
4(s,3H),1.63(s,3H),2.88
(s,3H),4.56(d,2H),4.95(d,
1H),6.15(dd,1H),6.68(s,1
H),6.70(d,1H),6.84(d,1H),
6.90(d,1H),8.00(s,1H),8.3
7(d,1H)
【0067】実施例4(化合物No.89) 2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−1−
ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの
製造 アルゴン雰囲気下、実施例3で得た粗トランス−3−メ
タンスルホニルオキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジ
メチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−t
−ブチルジメチルシリルオキシメチル−1−ピリジニ
ル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン6.62g
をトルエン52mlに懸濁する。この溶液に室温で1,
8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン
3.89mlを加え、50℃で3時間、60℃で1時間
反応させる。反応液に水を加えて反応を停止した後、酢
酸エチルで抽出を行い、この有機層を水、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。その
後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:エーテル/メタノール=1/0〜9/1)で単離
精製し、2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−
2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピ
リジン4.90gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.13(s,6H),0.96(s,9H),1.5
6(s,3H),1.62(s,3H),4.60
(d,2H),5.73(s,1H),6.18(d
d,1H),6.64(d,1H),6.75(d,1
H),7.12(d,1H),7.86(s,1H),
8.30(d,1H)
ソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−1−
ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの
製造 アルゴン雰囲気下、実施例3で得た粗トランス−3−メ
タンスルホニルオキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジ
メチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−t
−ブチルジメチルシリルオキシメチル−1−ピリジニ
ル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン6.62g
をトルエン52mlに懸濁する。この溶液に室温で1,
8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン
3.89mlを加え、50℃で3時間、60℃で1時間
反応させる。反応液に水を加えて反応を停止した後、酢
酸エチルで抽出を行い、この有機層を水、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。その
後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:エーテル/メタノール=1/0〜9/1)で単離
精製し、2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−
2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピ
リジン4.90gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.13(s,6H),0.96(s,9H),1.5
6(s,3H),1.62(s,3H),4.60
(d,2H),5.73(s,1H),6.18(d
d,1H),6.64(d,1H),6.75(d,1
H),7.12(d,1H),7.86(s,1H),
8.30(d,1H)
【0068】実施例5(化合物No.29) 2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−ヒドロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−
ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 実施例4で得た2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−
c]ピリジン3.26gをメタノール32mlに溶解す
る。次いで、この溶液に0℃で4N塩酸−ジオキサン溶
液8mlを加え、室温で13時間反応させる。反応液を
減圧下濃縮し、残渣にエーテル及び水を加え、2N塩酸
で抽出を行い、得られた水層を水酸化ナトリウム水溶液
で中和する。更にクロロホルムと2−プロパノールの混
合溶媒(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃
縮する。この得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1
0/1)で単離精製し、2,2−ジメチル−4−(1,
2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ヒドロキシメチル−1
−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン
2.27gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.64(s,3H),1.8
0(br,1H),4.53(s,2H),5.76
(s,1H),6.27(dd,1H),6.62
(d,1H),6.77(d,1H),7.14(d,
1H),7.73(s,1H),8.27(d,1H)
ソ−4−ヒドロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−
ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 実施例4で得た2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−t−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−
c]ピリジン3.26gをメタノール32mlに溶解す
る。次いで、この溶液に0℃で4N塩酸−ジオキサン溶
液8mlを加え、室温で13時間反応させる。反応液を
減圧下濃縮し、残渣にエーテル及び水を加え、2N塩酸
で抽出を行い、得られた水層を水酸化ナトリウム水溶液
で中和する。更にクロロホルムと2−プロパノールの混
合溶媒(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃
縮する。この得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1
0/1)で単離精製し、2,2−ジメチル−4−(1,
2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ヒドロキシメチル−1
−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン
2.27gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.64(s,3H),1.8
0(br,1H),4.53(s,2H),5.76
(s,1H),6.27(dd,1H),6.62
(d,1H),6.77(d,1H),7.14(d,
1H),7.73(s,1H),8.27(d,1H)
【0069】実施例6(化合物No.53) 2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−メタンスルホニルオキシメチル−1−ピリジニ
ル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例5で得た2,2−ジメチル−
4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ヒドロキシ
メチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−
c]ピリジン2.84gを塩化メチレン50mlに溶解
し、トリエチルアミン2.79mlを加える。次いで、
この溶液に0℃で塩化メタンスルホニル1.16mlを
滴下し、0℃で1時間反応させる。反応液に5%炭酸水
素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止した後、塩化メ
チレンで抽出を行い、この有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。その後、無機物
をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩化
メチレン/メタノール=10/1)で単離精製し、2,
2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−
4−メタンスルホニルオキシメチル−1−ピリジニル)
−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン1.03gを得
る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),3.1
3(s,3H),5.11(d,2H),5.74
(s,1H),6.27(dd,1H),6.65
(d,1H),6.76(d,1H),7.23(d,
1H),7.85(s,1H),8.31(d,1H)
ソ−4−メタンスルホニルオキシメチル−1−ピリジニ
ル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例5で得た2,2−ジメチル−
4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ヒドロキシ
メチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−
c]ピリジン2.84gを塩化メチレン50mlに溶解
し、トリエチルアミン2.79mlを加える。次いで、
この溶液に0℃で塩化メタンスルホニル1.16mlを
滴下し、0℃で1時間反応させる。反応液に5%炭酸水
素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止した後、塩化メ
チレンで抽出を行い、この有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。その後、無機物
をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:塩化
メチレン/メタノール=10/1)で単離精製し、2,
2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−
4−メタンスルホニルオキシメチル−1−ピリジニル)
−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン1.03gを得
る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),3.1
3(s,3H),5.11(d,2H),5.74
(s,1H),6.27(dd,1H),6.65
(d,1H),6.76(d,1H),7.23(d,
1H),7.85(s,1H),8.31(d,1H)
【0070】実施例7(化合物No.17) 2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−
ピラノ[3,2−c]ピリジン及びその塩酸塩の製造 アルゴン雰囲気下、実施例5で得た2,2−ジメチル−
4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ヒドロキシ
メチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−
c]ピリジン569mgを塩化メチレン10mlに溶解
し、ニトロニウムテトラフルオロボレート(85%)4
13mgを加え、室温で2時間反応させる。反応液に5
%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止した
後、酢酸エチルで抽出を行い、この有機層を飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。その後、
無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒:塩化メチレン/メタノール=20/1)で単離精製
し、2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−
オキソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリジニル)−2
H−ピラノ[3,2−c]ピリジン210mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),5.3
1(s,2H),5.74(s,1H),6.24(d
d,1H),6.65(d,1H),6.76(d,1
H),7.24(d,1H),7.85(s,1H),
8.31(d,1H) 上記の反応で得た2,2−ジメチル−4−(1,2−ジ
ヒドロ−2−オキソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリ
ジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン210
mgをメタノール5mlに溶解し、室温で4N塩酸−ジ
オキサン溶液0.19mlを加え、室温で30分間反応
させる。反応液を減圧下濃縮し、白色結晶として2,2
−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−ニトロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン塩酸塩206mgを得る。
ソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−
ピラノ[3,2−c]ピリジン及びその塩酸塩の製造 アルゴン雰囲気下、実施例5で得た2,2−ジメチル−
4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ヒドロキシ
メチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−
c]ピリジン569mgを塩化メチレン10mlに溶解
し、ニトロニウムテトラフルオロボレート(85%)4
13mgを加え、室温で2時間反応させる。反応液に5
%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停止した
後、酢酸エチルで抽出を行い、この有機層を飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。その後、
無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒:塩化メチレン/メタノール=20/1)で単離精製
し、2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−
オキソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリジニル)−2
H−ピラノ[3,2−c]ピリジン210mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),5.3
1(s,2H),5.74(s,1H),6.24(d
d,1H),6.65(d,1H),6.76(d,1
H),7.24(d,1H),7.85(s,1H),
8.31(d,1H) 上記の反応で得た2,2−ジメチル−4−(1,2−ジ
ヒドロ−2−オキソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリ
ジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン210
mgをメタノール5mlに溶解し、室温で4N塩酸−ジ
オキサン溶液0.19mlを加え、室温で30分間反応
させる。反応液を減圧下濃縮し、白色結晶として2,2
−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−ニトロキシメチル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン塩酸塩206mgを得る。
【0071】実施例8 2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−ホルミル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジンの製造 実施例5で得た2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−ヒドロキシメチル−1−ピリジ
ニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン1.14
gを塩化メチレン114mlに溶解し、活性二酸化マン
ガン11.4gを加え、室温で1.5時間反応させる。
その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=10/1)で
単離精製し、2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−ホルミル−1−ピリジニル)−2
H−ピラノ[3,2−c]ピリジン0.40gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.58(s,3H),1.63(s,3H),5.7
7(s,1H),6.67(dd,1H),6.78
(d,1H),7.10(d,1H),7.32(d,
1H),7.85(s,1H),8.32(d,1
H),9.95(s,1H)
ソ−4−ホルミル−1−ピリジニル)−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジンの製造 実施例5で得た2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−ヒドロキシメチル−1−ピリジ
ニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン1.14
gを塩化メチレン114mlに溶解し、活性二酸化マン
ガン11.4gを加え、室温で1.5時間反応させる。
その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=10/1)で
単離精製し、2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−ホルミル−1−ピリジニル)−2
H−ピラノ[3,2−c]ピリジン0.40gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.58(s,3H),1.63(s,3H),5.7
7(s,1H),6.67(dd,1H),6.78
(d,1H),7.10(d,1H),7.32(d,
1H),7.85(s,1H),8.32(d,1
H),9.95(s,1H)
【0072】実施例9(化合物No.123) 2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(1−ヒドロキシエチル)−1−ピリジニル}
−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例8で得た2,2−ジメチル−
4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ホルミル−
1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジ
ン395mgをテトラヒドロフラン7mlに溶解し、こ
の溶液に0℃で0.99Mメチルマグネシムブロマイド
テトラヒドフラン溶液2.12mlを加え、0℃で30
分、室温で1.5時間反応させる。反応液に飽和食塩水
を加えて反応を停止した後、クロロホルムと2−プロパ
ノールの混合溶媒(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液
を減圧下濃縮する。この得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/メタノ
ール=10/1)で単離精製し、2,2−ジメチル−4
−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(1−ニトロ
キシエチル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,
2−c]ピリジン331mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.44(d,3H),1.56(s,3H),1.6
3(s,3H),1.70(br,1H),4.69
(qd,1H),5.76(d,1H),6.34(d
dd,1H),6.58(d,1H),6.76(d,
1H),7.15(dd,1H),7.73(s,1
H),8.26(d,1H)
ソ−4−(1−ヒドロキシエチル)−1−ピリジニル}
−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例8で得た2,2−ジメチル−
4−(1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−ホルミル−
1−ピリジニル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジ
ン395mgをテトラヒドロフラン7mlに溶解し、こ
の溶液に0℃で0.99Mメチルマグネシムブロマイド
テトラヒドフラン溶液2.12mlを加え、0℃で30
分、室温で1.5時間反応させる。反応液に飽和食塩水
を加えて反応を停止した後、クロロホルムと2−プロパ
ノールの混合溶媒(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液
を減圧下濃縮する。この得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/メタノ
ール=10/1)で単離精製し、2,2−ジメチル−4
−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(1−ニトロ
キシエチル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,
2−c]ピリジン331mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.44(d,3H),1.56(s,3H),1.6
3(s,3H),1.70(br,1H),4.69
(qd,1H),5.76(d,1H),6.34(d
dd,1H),6.58(d,1H),6.76(d,
1H),7.15(dd,1H),7.73(s,1
H),8.26(d,1H)
【0073】実施例10(化合物No.111) 2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−ピリジニル}
−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン及びその塩酸塩
の製造 アルゴン雰囲気下、実施例9で得た2,2−ジメチル−
4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン239mgを塩化メチレン4m
lに溶解し、ニトロニウムテトラフルオロボレート(8
5%)280mgを加え、室温で3時間反応させる。反
応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停
止した後、酢酸エチルで抽出を行い、この有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。そ
の後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒:塩化メチレン/メタノール=20/1)で単離
精製し、2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−
2−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−ピリ
ジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン78m
gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),1.6
3(d,3H),5.74(q,1H),5.75
(s,1H),6.24(d,1H),6.63(s,
1H),6.76(d,1H),7.24(d,1
H),7.86(s,1H),8.31(d,1H) 上記の反応で得た2,2−ジメチル−4−{1,2−ジ
ヒドロ−2−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−
1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジ
ン77mgをメタノール0.27mlに溶解し、室温で
4N塩酸−ジオキサン溶液0.07mlを加え、室温で
30分間反応させる。反応液を減圧下濃縮し、白色結晶
として2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2
−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−ピリジ
ニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン塩酸塩8
8mgを得る。
ソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−ピリジニル}
−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン及びその塩酸塩
の製造 アルゴン雰囲気下、実施例9で得た2,2−ジメチル−
4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン239mgを塩化メチレン4m
lに溶解し、ニトロニウムテトラフルオロボレート(8
5%)280mgを加え、室温で3時間反応させる。反
応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停
止した後、酢酸エチルで抽出を行い、この有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。そ
の後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒:塩化メチレン/メタノール=20/1)で単離
精製し、2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−
2−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−ピリ
ジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン78m
gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),1.6
3(d,3H),5.74(q,1H),5.75
(s,1H),6.24(d,1H),6.63(s,
1H),6.76(d,1H),7.24(d,1
H),7.86(s,1H),8.31(d,1H) 上記の反応で得た2,2−ジメチル−4−{1,2−ジ
ヒドロ−2−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−
1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジ
ン77mgをメタノール0.27mlに溶解し、室温で
4N塩酸−ジオキサン溶液0.07mlを加え、室温で
30分間反応させる。反応液を減圧下濃縮し、白色結晶
として2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2
−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−ピリジ
ニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン塩酸塩8
8mgを得る。
【0074】実施例11(化合物No.83) トランス−3−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2
−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−(3−t−ブチルジメチルシリルオキシプロピル)−
1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジ
ンの製造 3,4−エポキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチ
ル−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン10.28g
と1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシプロピル)−1H−ピリジン2
3.27gの混合物に室温でエタノール87mlとピリ
ジン3.52mlを加え、還流下5時間反応させる。反
応液を減圧下濃縮した後、この得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/
メタノール=50/1)で単離精製し、トランス−3−
ヒドロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4
−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブ
チルジメチルシリルオキシプロピル)−1−ピリジニ
ル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン10.42
gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.06(s,6H),0.90(s,9H),1.3
7(s,3H),1.55(s,3H),1.70−
1.88(m,3H),2.56(t,2H),3.6
5(t,2H),3.83(d,1H),6.13(d
d,1H),6.35(d,1H),6.51(s,1
H),6.82(d,1H),6.87(d,1H),
8.00(s,1H),8.34(d,1H)
−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−(3−t−ブチルジメチルシリルオキシプロピル)−
1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジ
ンの製造 3,4−エポキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチ
ル−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン10.28g
と1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシプロピル)−1H−ピリジン2
3.27gの混合物に室温でエタノール87mlとピリ
ジン3.52mlを加え、還流下5時間反応させる。反
応液を減圧下濃縮した後、この得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/
メタノール=50/1)で単離精製し、トランス−3−
ヒドロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4
−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブ
チルジメチルシリルオキシプロピル)−1−ピリジニ
ル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン10.42
gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.06(s,6H),0.90(s,9H),1.3
7(s,3H),1.55(s,3H),1.70−
1.88(m,3H),2.56(t,2H),3.6
5(t,2H),3.83(d,1H),6.13(d
d,1H),6.35(d,1H),6.51(s,1
H),6.82(d,1H),6.87(d,1H),
8.00(s,1H),8.34(d,1H)
【0075】実施例12(化合物No.23) トランス−3−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2
−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−(3−ヒドロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2
H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 実施例11で得たトランス−3−ヒドロキシ−3,4−
ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ
−2−オキソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリルオ
キシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン4.45gをメタノール40m
lに溶解する。次いで、この溶液に室温で4N塩酸−ジ
オキサン溶液10mlを加え、5時間反応させる。反応
液を減圧下濃縮し、残渣にエーテル及び水を加え、2N
塩酸で抽出を行い、得られた水層を水酸化ナトリウム水
溶液で中和する。更にクロロホルムと2−プロパノール
の混合溶媒(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧
下濃縮する。この得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール
=10/1)で単離精製し、トランス−3−ヒドロキシ
−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−{1,2
−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]
ピリジン2.78gを得る。 IR (KBr) cm-1:3260,1650,15
70,1290,930ms−FAB:positiv
e:m/z;331[M+H]+ ,313[M+H−H
2 O]+
−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−(3−ヒドロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2
H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 実施例11で得たトランス−3−ヒドロキシ−3,4−
ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ
−2−オキソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリルオ
キシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン4.45gをメタノール40m
lに溶解する。次いで、この溶液に室温で4N塩酸−ジ
オキサン溶液10mlを加え、5時間反応させる。反応
液を減圧下濃縮し、残渣にエーテル及び水を加え、2N
塩酸で抽出を行い、得られた水層を水酸化ナトリウム水
溶液で中和する。更にクロロホルムと2−プロパノール
の混合溶媒(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧
下濃縮する。この得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール
=10/1)で単離精製し、トランス−3−ヒドロキシ
−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−{1,2
−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ヒドロキシプロピ
ル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]
ピリジン2.78gを得る。 IR (KBr) cm-1:3260,1650,15
70,1290,930ms−FAB:positiv
e:m/z;331[M+H]+ ,313[M+H−H
2 O]+
【0076】実施例13(化合物No.87) トランス−3−メタンスルホニルオキシ−3,4−ジヒ
ドロ−2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2
−オキソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリルオキシ
プロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2
−c]ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例11で得たトランス−3−ヒ
ドロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−
{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシプロピル)−1−ピリジニル}
−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン5.78gを塩
化メチレン26mlに溶解し、トリエチルアミン2.7
9mlを加える。次いで、この溶液に0℃で塩化メタン
スルホニル1.55mlを滴下し、0℃で30分間反応
させる。反応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
て反応を停止した後、酢酸エチルで抽出を行い、この有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮
し、粗生成物の結晶としてトランス−3−メタンスルホ
ニルオキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4
−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブ
チルジメチルシリルオキシプロピル)−1−ピリジニ
ル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン7.04g
を得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.06(s,6H),0.90(s,9H),1.4
4(s,3H),1.63(s,3H),1.70−
1.88(m,2H),2.55(t,2H),2.8
7(s,3H),3.64(t,2H),4.94
(d,1H),6.13(dd,1H),6.48
(s,1H),6.70(d,1H),6.83(d,
1H),6.87(d,1H),8.00(s,1
H),8.37(d,1H)
ドロ−2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2
−オキソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリルオキシ
プロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2
−c]ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例11で得たトランス−3−ヒ
ドロキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4−
{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシプロピル)−1−ピリジニル}
−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン5.78gを塩
化メチレン26mlに溶解し、トリエチルアミン2.7
9mlを加える。次いで、この溶液に0℃で塩化メタン
スルホニル1.55mlを滴下し、0℃で30分間反応
させる。反応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
て反応を停止した後、酢酸エチルで抽出を行い、この有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮
し、粗生成物の結晶としてトランス−3−メタンスルホ
ニルオキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−ジメチル−4
−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブ
チルジメチルシリルオキシプロピル)−1−ピリジニ
ル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン7.04g
を得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.06(s,6H),0.90(s,9H),1.4
4(s,3H),1.63(s,3H),1.70−
1.88(m,2H),2.55(t,2H),2.8
7(s,3H),3.64(t,2H),4.94
(d,1H),6.13(dd,1H),6.48
(s,1H),6.70(d,1H),6.83(d,
1H),6.87(d,1H),8.00(s,1
H),8.37(d,1H)
【0077】実施例14(化合物No.91) 2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリルオキシプロピ
ル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]
ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例13で得た粗トランス−3−
メタンスルホニルオキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−
ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−
(3−t−ブチルジメチルシリルオキシプロピル)−1
−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン
7.04gをトルエン52mlに懸濁する。この溶液に
室温で1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウ
ンデセン3.89mlを加え、60℃で4時間反応させ
る。反応液に水を加えて反応を停止した後、酢酸エチル
で抽出を行い、この有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。その後、無機物
をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:エー
テル/メタノール=1/0〜9/1)で単離精製し、
2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリルオキシプロピ
ル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]
ピリジン5.32gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.07(s,6H),0.91(s,9H),1.5
6(s,3H),1.62(s,3H),1.78−
1.91(m,2H),2.58(t,2H),3.6
8(t,2H),5.72(s,1H),6.13(d
d,1H),6.47(d,1H),6.75(d,1
H),7.08(d,1H),7.88(s,1H),
8.29(d,1H)
ソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリルオキシプロピ
ル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]
ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例13で得た粗トランス−3−
メタンスルホニルオキシ−3,4−ジヒドロ−2,2−
ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−
(3−t−ブチルジメチルシリルオキシプロピル)−1
−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン
7.04gをトルエン52mlに懸濁する。この溶液に
室温で1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウ
ンデセン3.89mlを加え、60℃で4時間反応させ
る。反応液に水を加えて反応を停止した後、酢酸エチル
で抽出を行い、この有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。その後、無機物
をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:エー
テル/メタノール=1/0〜9/1)で単離精製し、
2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリルオキシプロピ
ル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]
ピリジン5.32gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
0.07(s,6H),0.91(s,9H),1.5
6(s,3H),1.62(s,3H),1.78−
1.91(m,2H),2.58(t,2H),3.6
8(t,2H),5.72(s,1H),6.13(d
d,1H),6.47(d,1H),6.75(d,1
H),7.08(d,1H),7.88(s,1H),
8.29(d,1H)
【0078】実施例15(化合物No.31) 2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(3−ヒドロキシプロピル)−1−ピリジニ
ル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 実施例4で得た2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン5.32gをメタノール50m
lに溶解する。次いで、この溶液に室温で4N塩酸−ジ
オキサン溶液12.5mlを加え、5時間反応させる。
反応液を減圧下濃縮し、残渣にエーテル及び水を加え、
2N塩酸で抽出を行い、得られた水層を水酸化ナトリウ
ム水溶液で中和する。更にクロロホルムと2−プロパノ
ールの混合溶媒(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液を
減圧下濃縮する。この得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン/メタノ
ール=10/1)で単離精製し、2,2−ジメチル−4
−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ヒドロ
キシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン3.62gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.56(s,3H),1.62(s,3H),1.8
3−1.97(m,2H),2.03(br,1H),
2.61(t,2H),3.71(t,2H),5.7
3(s,1H),6.15(dd,1H),6.47
(s,1H),6.75(d,1H),7.10(d,
1H),7.86(s,1H),8.29(d,1H)
ソ−4−(3−ヒドロキシプロピル)−1−ピリジニ
ル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 実施例4で得た2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−(3−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン5.32gをメタノール50m
lに溶解する。次いで、この溶液に室温で4N塩酸−ジ
オキサン溶液12.5mlを加え、5時間反応させる。
反応液を減圧下濃縮し、残渣にエーテル及び水を加え、
2N塩酸で抽出を行い、得られた水層を水酸化ナトリウ
ム水溶液で中和する。更にクロロホルムと2−プロパノ
ールの混合溶媒(3/1)で抽出を行い、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。その後、無機物をろ別し、ろ液を
減圧下濃縮する。この得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒:塩化メチレン/メタノ
ール=10/1)で単離精製し、2,2−ジメチル−4
−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ヒドロ
キシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン3.62gを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.56(s,3H),1.62(s,3H),1.8
3−1.97(m,2H),2.03(br,1H),
2.61(t,2H),3.71(t,2H),5.7
3(s,1H),6.15(dd,1H),6.47
(s,1H),6.75(d,1H),7.10(d,
1H),7.86(s,1H),8.29(d,1H)
【0079】実施例16(化合物No.55) 2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(3−メタンスルホニルオキシプロピル)−1
−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン
の製造 アルゴン雰囲気下、実施例15で得た2,2−ジメチル
−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ヒ
ドロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン625mgを塩化メチレン10
mlに溶解し、トリエチルアミン0.56mlを加え
る。次いで、この溶液に0℃で塩化メタンスルホニル
0.23mlを滴下し、0℃で30分間反応させる。反
応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停
止した後、塩化メチレンで抽出を行い、この有機層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮し、粗生成
物の結晶として2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−(3−メタンスルホニルオキシ
プロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2
−c]ピリジン840mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),2.0
4−2.18(m,2H),2.66(t,2H),
3.05(s,3H),4.30(t,2H),5.9
6(s,1H),6.14(dd,1H),6.47
(s,1H),6.76(d,1H),7.14(d,
1H),7.86(s,1H),8.30(d,1H)
ソ−4−(3−メタンスルホニルオキシプロピル)−1
−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン
の製造 アルゴン雰囲気下、実施例15で得た2,2−ジメチル
−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ヒ
ドロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン625mgを塩化メチレン10
mlに溶解し、トリエチルアミン0.56mlを加え
る。次いで、この溶液に0℃で塩化メタンスルホニル
0.23mlを滴下し、0℃で30分間反応させる。反
応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を停
止した後、塩化メチレンで抽出を行い、この有機層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮し、粗生成
物の結晶として2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒ
ドロ−2−オキソ−4−(3−メタンスルホニルオキシ
プロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2
−c]ピリジン840mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),2.0
4−2.18(m,2H),2.66(t,2H),
3.05(s,3H),4.30(t,2H),5.9
6(s,1H),6.14(dd,1H),6.47
(s,1H),6.76(d,1H),7.14(d,
1H),7.86(s,1H),8.30(d,1H)
【0080】実施例17(化合物No.43) 2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(3−ブロモプロピル)−1−ピリジニル}−
2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例16で得た2,2−ジメチル
−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−メ
タンスルホニルオキシプロピル)−1−ピリジニル}−
2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン832mgをテト
ラヒドロフラン20mlに溶解し、無水リチウムブロマ
イド330mgを加え、加熱還流下3時間反応させる。
反応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を
停止した後、酢酸エチルで抽出を行い、この有機層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒:酢酸エチル/メタノール=20/1)で単
離精製し、2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ
−2−オキソ−4−(3−ブロモプロピル)−1−ピリ
ジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン629
mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),2.1
0−2.27(m,2H),2.68(t,2H),
3.46(t,2H),5.73(s,1H),6.1
3(d,1H),6.47(s,1H),6.75
(d,1H),7.12(d,1H),7.86(s,
1H),8.30(d,1H)
ソ−4−(3−ブロモプロピル)−1−ピリジニル}−
2H−ピラノ[3,2−c]ピリジンの製造 アルゴン雰囲気下、実施例16で得た2,2−ジメチル
−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−メ
タンスルホニルオキシプロピル)−1−ピリジニル}−
2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン832mgをテト
ラヒドロフラン20mlに溶解し、無水リチウムブロマ
イド330mgを加え、加熱還流下3時間反応させる。
反応液に5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を
停止した後、酢酸エチルで抽出を行い、この有機層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
その後、無機物をろ別し、ろ液を減圧下濃縮する。この
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒:酢酸エチル/メタノール=20/1)で単
離精製し、2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ
−2−オキソ−4−(3−ブロモプロピル)−1−ピリ
ジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン629
mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),2.1
0−2.27(m,2H),2.68(t,2H),
3.46(t,2H),5.73(s,1H),6.1
3(d,1H),6.47(s,1H),6.75
(d,1H),7.12(d,1H),7.86(s,
1H),8.30(d,1H)
【0081】実施例18(化合物No.19) 2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−4−(3−ニトロキシプロピル)−1−ピリジニ
ル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン及びその塩
酸塩の製造 アルゴン雰囲気下、実施例17で得た2,2−ジメチル
−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ブ
ロモプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン629mgをアセトニトリル1
7mlに溶解し、無水硝酸銀1.08mgを加え、室温
で62時間、次いで60℃で3時間反応させる。反応液
に飽和食塩水を加えて反応を停止した後、酢酸エチルで
抽出を行い、この有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。その後、無機物をろ別し、
ろ液を減圧下濃縮する。この得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒:エーテル/塩化
メチレン=3/1〜0/1)で単離精製し、2,2−ジ
メチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−
(3−ニトロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H
−ピラノ[3,2−c]ピリジン359mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),2.0
0−2.17(m,2H),2.64(t,2H),
4.52(t,2H),5.73(s,1H),6.1
1(d,1H),6.47(s,1H),6.75
(d,1H),7.14(d,1H),7.86(s,
1H),8.30(d,1H)上記の反応で得た2,2
−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−(3−ニトロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2
H−ピラノ[3,2−c]ピリジン349mgをメタノ
ール2.32mlに溶解し、室温で4N塩酸−ジオキサ
ン溶液0.29mlを加え、室温で30分間反応させ
る。反応液を減圧下濃縮し、白色結晶として2,2−ジ
メチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−
(3−ニトロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H
−ピラノ[3,2−c]ピリジン塩酸塩388mgを得
る。
ソ−4−(3−ニトロキシプロピル)−1−ピリジニ
ル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン及びその塩
酸塩の製造 アルゴン雰囲気下、実施例17で得た2,2−ジメチル
−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−(3−ブ
ロモプロピル)−1−ピリジニル}−2H−ピラノ
[3,2−c]ピリジン629mgをアセトニトリル1
7mlに溶解し、無水硝酸銀1.08mgを加え、室温
で62時間、次いで60℃で3時間反応させる。反応液
に飽和食塩水を加えて反応を停止した後、酢酸エチルで
抽出を行い、この有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。その後、無機物をろ別し、
ろ液を減圧下濃縮する。この得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒:エーテル/塩化
メチレン=3/1〜0/1)で単離精製し、2,2−ジ
メチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−
(3−ニトロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H
−ピラノ[3,2−c]ピリジン359mgを得る。1 H−NMR (200MHz,CDCl3 ) δ:
1.57(s,3H),1.62(s,3H),2.0
0−2.17(m,2H),2.64(t,2H),
4.52(t,2H),5.73(s,1H),6.1
1(d,1H),6.47(s,1H),6.75
(d,1H),7.14(d,1H),7.86(s,
1H),8.30(d,1H)上記の反応で得た2,2
−ジメチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4
−(3−ニトロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2
H−ピラノ[3,2−c]ピリジン349mgをメタノ
ール2.32mlに溶解し、室温で4N塩酸−ジオキサ
ン溶液0.29mlを加え、室温で30分間反応させ
る。反応液を減圧下濃縮し、白色結晶として2,2−ジ
メチル−4−{1,2−ジヒドロ−2−オキソ−4−
(3−ニトロキシプロピル)−1−ピリジニル}−2H
−ピラノ[3,2−c]ピリジン塩酸塩388mgを得
る。
【0082】
【発明の効果】本発明の化合物は、PCO作用を有し、
又、そのうちのいくつかはNOによる作用も併せ持って
おり、新たな循環系薬剤、抗痙攣剤等として有用であ
る。
又、そのうちのいくつかはNOによる作用も併せ持って
おり、新たな循環系薬剤、抗痙攣剤等として有用であ
る。
Claims (8)
- 【請求項1】一般式[1] 【化1】 [式中、R1 はX基(ここでXはハロゲンを示す)、又
は−OA基(ここでAは水素原子、ニトロ基、炭素数1
〜6個の低級アシル基、アリールアシル基、炭素数1〜
6個の低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、炭素数1〜6個の低級アルキル基、アリール基、ア
リールアルキル基、テトラヒドロピラニル基、炭素数1
〜6個の低級アルコキシカルボニル基、アリールアルコ
キシカルボニル基、又はシリル基を示す)、R2 は水素
原子を示すか或いは、R1 とR2 が一緒になって1つの
結合を形成する。R3 はW基(ここでWは直鎖、又は分
枝鎖状の炭素数2〜6個の低級アルケニル基を示す)、
−Y−Vn基(ここでYは炭素数1〜6個の(ポリ)メ
チレン基(但し、炭素数1〜3個の低級アルキル基で置
換されていてもよい)、又は炭素数2〜6個の低級アル
ケニレン基を示す。VはX基又は−OA基を示し、nは
1〜3の整数であり、V基はY基のどの炭素原子に結合
してもよい。又、X、Aは前記と同じ意味を示すが、n
が2以上の場合には、各々のV基は同一か、或いはお互
いに異なった基であってもよい。)、又は−CO−Z基
(ここでZは水素原子、炭素数1〜6個の低級アルキル
基、アリール基、水酸基又は炭素数1〜6個の低級アル
コキシ基を示す。)を示す。]で表わされるアザクロマ
ン誘導体、又はその製薬上許容し得る酸付加塩。 - 【請求項2】R1 がX基(ここでXはハロゲンを示
す)、又は−OA基(ここでAは水素原子、ニトロ基、
炭素数1〜6個の低級アシル基、アリールアシル基、炭
素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、又はシリル基を示す)、R2 が水素原子を
示すか或いは、R1 とR2 が一緒になって1つの結合を
形成し、R3 がW基(ここでWは直鎖、又は分枝鎖状の
炭素数2〜6個の低級アルケニル基を示す)、−Y−V
n基(ここでYは炭素数1〜6個の(ポリ)メチレン基
(但し、炭素数1〜3個の低級アルキル基で置換されて
いてもよい)、又は炭素数2〜6個の低級アルケニレン
基を示す。VはX基又は−OA基を示し、nは1〜3の
整数であり、V基はY基のどの炭素原子に結合してもよ
い。又、X、Aは前記と同じ意味を示すが、nが2以上
の場合には、各々のV基は同一か、或いはお互いに異な
った基であってもよい。)又は−CO−Z基(ここでZ
は水素原子、炭素数1〜6個の低級アルキル基、アリー
ル基、水酸基又は炭素数1〜6個の低級アルコキシ基を
示す。)である請求項1のアザクロマン誘導体、又はそ
の製薬上許容し得る酸付加塩。 - 【請求項3】R1 が−OA基(ここでAは水素原子、ニ
トロ基、炭素数1〜6個の低級アルキルスルホニル基、
又はアリールスルホニル基を示す)、R2 が水素原子を
示すか或いは、R1 とR2 が一緒になって1つの結合を
形成し、R3 が−Y−Vn基(ここでYが炭素数1〜6
個の(ポリ)メチレン基(但し、炭素数1〜3個の低級
アルキル基で置換されていてもよい)、又は炭素数2〜
6個の低級アルケニレン基を示す。VがX基又は−OA
基を示し、nは1〜3の整数であり、V基はY基のどの
炭素原子に結合してもよい。又、Xはハロゲンを示し、
Aは前記と同じ意味を示すが、nが2以上の場合には、
各々のV基は同一か、或いはお互いに異なった基であっ
てもよい。)である請求項1のアザクロマン誘導体、又
はその製薬上許容し得る酸付加塩。 - 【請求項4】R1 が水酸基、R2 が水素原子を示すか或
いは、R1 とR2 が一緒になって1つの結合を形成し、
R3 が−Y−Vn基(ここでYがメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基、ペン
チレン基、又はヘキシレン基を示す。Vが−OA基を示
し、nは1〜3の整数であり、V基はY基のどの炭素原
子に結合してもよい。又、Aが水素原子、又はニトロ基
を示すが、nが1の場合にはAはニトロ基を示し、nが
2以上の場合には、各々のV基は同一か、或いはお互い
に異なった基であってもよいが、少なくとも1つ以上の
V基においてAはニトロ基である)である請求項1のア
ザクロマン誘導体、又はその製薬上許容し得る酸付加
塩。 - 【請求項5】2,2−ジメチル−4−(1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−ニトロキシメチル−1−ピリジニ
ル)−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン又はその製
薬上許容し得る酸付加塩。 - 【請求項6】2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−(1−ニトロキシエチル)−1−
ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン又
はその製薬上許容し得る酸付加塩。 - 【請求項7】2,2−ジメチル−4−{1,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−4−(3−ニトロキシプロピル)−1
−ピリジニル}−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン
又はその製薬上許容し得る酸付加塩。 - 【請求項8】請求項1〜7のいずれかに記載のアザクロ
マン誘導体又はその製薬上許容し得る酸付加塩を含む平
滑筋弛緩剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6182015A JPH0827153A (ja) | 1994-07-12 | 1994-07-12 | アザクロマン誘導体及びその用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6182015A JPH0827153A (ja) | 1994-07-12 | 1994-07-12 | アザクロマン誘導体及びその用途 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0827153A true JPH0827153A (ja) | 1996-01-30 |
Family
ID=16110850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6182015A Pending JPH0827153A (ja) | 1994-07-12 | 1994-07-12 | アザクロマン誘導体及びその用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827153A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010525056A (ja) * | 2007-04-23 | 2010-07-22 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | 新規化合物 |
| US8006513B2 (en) | 2004-07-21 | 2011-08-30 | Cool Gear International, Llc | Food storage system |
-
1994
- 1994-07-12 JP JP6182015A patent/JPH0827153A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8006513B2 (en) | 2004-07-21 | 2011-08-30 | Cool Gear International, Llc | Food storage system |
| US9366468B2 (en) | 2004-07-21 | 2016-06-14 | Cool Gear International, Llc | Food storage system |
| JP2010525056A (ja) * | 2007-04-23 | 2010-07-22 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | 新規化合物 |
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