JPH0827574A - 連続真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空容器（１）内で走行するプラスティッ
ク、金属等の薄帯状の基板（９）に対して真空蒸着、ス
パッタ、イオンプレーティング、イオンボンバード、プ
ラズマ表面処理、真空乾燥等を行なう連続真空処理装置
において、基板（９）の冷却効果を高めるとともに、外
部の空気が基板（９）に伴われて真空処理室（４）内に
入り良好な真空処理を妨げるのを防ぐ。 【構成】 冷却ロール（７）前後の基板（９）の張力を
張力付与ロール（１４ａ），（１４ｂ）の回転数を変え
ることにより調節し、冷却ロール（７）に対する基板
（９）の密着度を向上させる。また、シールロール
（６）に対する基板（９）の密着度を向上させて空気の
挟み込みを抑制したり、大気側減圧室（３）内に浮上ロ
ール（２２）を設けたり、中間減圧室（１９）や真空側
減圧室（２０）を設けたりして、挟み込まれた空気が真
空処理室（４）に入る前にこれを開放・排出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空容器内で走行する
プラスティック、金属等の薄帯状基板に対して真空蒸
着、スパッタ、イオンプレーティング、イオンボンバー
ド、プラズマ表面処理、真空乾燥等を行なう連続真空処
理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図７は従来の連続真空処理装置の一例を
示す縦断面図である。まず真空排気装置（０５）によっ
て、シールバー（０２）で分割された減圧室（０３）を
順次減圧し、また真空処理室（０４）内を真空にする。
その後、薄帯状基板（９）をガイドロール（０８）から
真空チャンバ（０１）内に搬入して、大径シールロール
（０６）および冷却ロール（０７）に巻回し、真空チャ
ンバ（０１）の上方出側からガイドロール（０８）によ
って搬出する。そして、大径シールロール（０６）およ
び冷却ロール（０７）を回転して薄帯状基板（９）を走
行させながら、真空処理室（０４）内で、例えば、るつ
ぼ（１０）内の被蒸着金属（１１）を誘導加熱コイル
（１２）によって加熱して蒸発させ、その蒸気を、冷却
ロール（０７）に巻回されて冷却された薄帯状基板
（９）上に蒸着して金属薄膜を成形する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前記した従来の連続真
空処理装置においては、薄帯状基板（９）が大気中から
ガイドロール（０８）を経て真空チャンバ（０１）内に
導入される際、この薄帯状基板の運動に付随して空気が
装置内に持ち込まれる。こうして持ち込まれた空気のう
ち、ケーシング側の空気は減圧室（０３）を排気する際
に排出されるが、大径シールロール（０６）側の空気は
薄帯状基板（９）と大径シールロール（０６）との間に
挟み込まれる。この空気は、薄帯状基板（９）が大径シ
ールロール（０６）と接触している間は、大部分が大径
シールロール（０６）と薄帯状基板（９）との間に残留
し、薄帯状基板（９）が大径シールロール（０６）から
離れる際に、真空処理室（０４）内に放出されて真空処
理室（０４）の気圧を上昇させる。

【０００４】それでも薄帯状基板（９）の搬入速度が一
定であれば、真空処理室（０４）の気圧は安定するが、
この搬入速度を変更すると、真空処理室（０４）内へ持
込まれる空気の量が変化するので、真空処理室（０４）
の気圧は大きく変化する。したがって、被蒸着金属（１
１）を薄帯状基板（９）に蒸着させる等の処理を安定し
て行なうことが困難になる。

【０００５】また、薄帯状基板（９）が各減圧室（０
３）を通過する際に空気が挟み込まれていると、薄帯状
基板（９）の両面間で圧力差が生じて薄帯状基板（９）
が大径シールロール（０４）の表面から浮き上り、シー
ルバー（０２）に接触して摺りキズが発生する。

【０００６】大径シールロール（０６）や冷却ロール
（０７）に対する薄帯状基板（９）の密着度を高めれ
ば、上記のような空気の挟み込みがなくなって真空チャ
ンバ（０４）内の気圧上昇を防止でき、また冷却ロール
（０７）に巻回された薄帯状基板（９）の冷却も促進さ
れる。ところが前述した従来の連続真空処理装置では、
大径シールロール（０６）と冷却ロール（０７）の周速
は同一にする必要があるので、真空チャンバ（０１）内
における薄帯状基板（９）の走行速度と張力はどこも同
一になる。したがって薄帯状基板（９）の上記密着度を
高めることは困難である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は前記従来の課
題を解決するために、次の１）ないし５）に示された連
続真空処理装置を提案するものである。

【０００８】１）真空容器内の下部に設けられた真空処
理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回し
て回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で薄帯状
基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備した
連続真空処理装置において、上記冷却ロールと上記大径
シールロールとの間の入側および出側の両方に、上記薄
帯状基板を巻回して回転する張力付与ロールおよび張力
検出ロールを備えたことを特徴とする連続真空処理装
置。

【０００９】２）上記１）の要件に加えて、上記大径シ
ールロールの上方の入側および出側の両方に、前記薄帯
状基板を巻回して回転する上部張力付与ロールおよび上
部張力検出ロールを備えたことを特徴とする連続真空処
理装置。

【００１０】３）真空容器内の下部に設けられた真空処
理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回し
て回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で前記薄
帯状基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備
した連続真空処理装置おいて、上記大径シールロールの
外周面に形成された大気側減圧室と、上記冷却ロールと
上記大径シールロールとの間で上記薄帯状基板の入側部
および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の小径シ
ールロールと、それら小径シールロールと上記大径シー
ルロールとの間に形成された中間減圧室と、上記各小径
シールロールの入側および出側にそれぞれ形成された真
空側減圧室とを備えたことを特徴とする連続真空処理装
置。

【００１１】４）薄帯状基板を巻回して回転する大径シ
ールロールの外周に沿って設けられたケーシングに、上
記シールロールと微小間隙をあけて複数のシールバーを
設けて複数の減圧室を形成し、それら減圧室を順次真空
排気するようにした連続真空処理装置において、上記減
圧室のうち少なくとも１室内に、上記大径シールロール
に巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定距離だけ上
記大径シールロールから浮上させて走行させる浮上ロー
ルを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。

【００１２】５）真空容器内の下部に設けられた真空処
理手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回し
て回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で薄帯状
基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備し、
上記大径シールロールの外周に沿って設けられたケーシ
ングに、上記大径シールロールと微小間隙をあけて複数
のシールバーを設けて複数の減圧室を形成し、それら減
圧室を順次真空排気するようにした連続真空処理装置に
おいて、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間
の入側および出側の両方に設けられ、上記薄帯状基板を
巻回して回転する張力付与ロールおよび張力検出ロール
と、上記大径シールロールの外周面に形成された大気側
減圧室と、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの
間で上記薄帯状基板の入側部および出側部をそれぞれ巻
回して回転する複数の小径シールロールと、それら小径
シールロールと上記大径シールロールとの間に形成され
た中間減圧室と、上記各小径シールロールの入側および
出側にそれぞれ形成された真空側減圧室と、上記大気側
減圧室のうち少なくとも一室内に設けられ、上記大径シ
ールロールに巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定
距離だけ上記大径シールロールから浮上して走行させる
浮上ロールとを備えたことを特徴とする連続真空処理装
置。

【００１３】

【作用】前記解決手段１）においては、冷却ロールと大
径シールロールとの間の入側および出側の両方に、薄帯
状基板を巻回して回転する張力付与ロールおよび張力検
出ロールが設けられているので、各張力検出ロールで薄
帯状基板の張力を計測しつつ、入側の張力付与ロールの
周速を冷却ロールの周速よりも低下させるとともに、出
側の張力付与ロールの周速を冷却ロールの周速よりも上
昇させ、入側の張力付与ロールと冷却ロールの入側との
間の薄帯状基板の張力および出側の張力付与ロールと冷
却ロールの出側との間の薄帯状基板の張力を任意に設定
して、冷却ロールに対する薄帯状基板の密着度を向上さ
せ薄帯状基板の冷却効果を高めることができる。

【００１４】次に前記解決手段２）においては、上記に
加えて、大径シールロールの上方の入側および出側の両
方に、前記薄帯状基板を巻回して回転する上部張力付与
ロールおよび上部張力検出ロールが設けられているの
で、各張力検出ロールで薄帯状基板の張力を計測しつ
つ、入側の上部張力付与ロールの周速を大径シールロー
ルの周速よりも低下させるとともに、出側の上部張力付
与ロールの周速を大径シールロールの周速よりも上昇さ
せ、入側の上部張力付与ロールと張力付与ロールとの間
の薄帯状基板の張力および出側の上部張力付与ロールと
張力付与ロールとの間の薄帯状基板の張力を任意に設定
して、大径シールロールに対する薄帯状基板の密着度を
向上させ、薄帯状基板と大径シールロールとの間の空気
の挟み込みを防止することができる。また薄帯状基板と
大径シールロールとの密着度向上により、大気と真空室
との境界における薄帯状基板のバタツキも防止される。

【００１５】また前記解決手段３）においては、大径シ
ールロールの外周面に形成された大気側減圧室と、冷却
ロールと上記大径シールロールとの間で薄帯状基板の入
側部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の小
径シールロールと、それら小径シールロールと上記大径
シールロールとの間に形成された中間減圧室と、上記各
小径シールロールの入側および出側にそれぞれ形成され
た真空側減圧室とを有するので、真空容器の上方入側に
搬入される薄帯状基板と大径シールロールとの間に挟み
込まれた空気は、薄帯状基板が大径シールロールと離れ
たときに中間減圧室に持込まれて排出され、さらに真空
側減圧室で減圧される。したがって、薄帯状基板の搬入
速度を変更して空気の持ち込み量が変化しても、真空処
理室内の気圧は変化しなくなる。

【００１６】更に前記解決手段４）においては、減圧室
のうち少なくとも１室内に、大径シールロールに巻回さ
れて走行する薄帯状基板を所定距離だけ上記大径シール
ロールから浮上させて走行させる浮上ロールが設けられ
ているので、大気中からケーシング内に導入され、大径
シールロールに巻回されて走行する薄帯状基板は、減圧
室に設けられた浮上ロールを通過する際に、大径シール
ロール面から浮上して正常に走行する。したがって、薄
帯状基板に付随して持ち込まれた大径シールロールとの
間の残留空気はその減圧室の雰囲気圧力に開放されて、
薄帯状基板両面間の圧力差が非常に小さくなり、その圧
力差に基づいて薄帯状基板が大径シールロール面から浮
上ることがなくなる。また、最終段まで持ち込まれる残
留空気はごく僅かとなり、この残留空気を開放しても最
終段（処理室）圧力に変動は生じない。

【００１７】そして前記解決手段５）においては、冷却
ロールと大径シールロールとの間の入側および出側の両
方に設けられ、薄帯状基板を巻回して回転する張力付与
ロールおよび張力検出ロールと、上記大径シールロール
の外周面に形成された大気側減圧室と、上記冷却ロール
と上記大径シールロールとの間で上記薄帯状基板の入側
部および出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の小径
シールロールと、それら小径シールロールと上記大径シ
ールロールとの間に形成された中間減圧室と、上記各小
径シールロールの入側および出側にそれぞれ形成された
真空側減圧室と、上記大気側減圧室のうち少なくとも一
室内に設けられ、上記大径シールロールに巻回されて走
行する上記薄帯状基板を所定距離だけ上記大径シールロ
ールから浮上して走行させる浮上ロールとを備えている
ので、前記解決手段１），３），４）の作用がすべて生
じる。

【００１８】

【第１実施例】図１は本発明の第１実施例の連続真空蒸
着装置を示す縦断面図である。この図において、（１）
は真空チャンバであり、その内部の上部には大径シール
ロール（６）が、下部には冷却ロール（７）がそれぞれ
設けられている。冷却ロール（７）の更に下方にはるつ
ぼ（１０）および誘導加熱コイル（１２）が置かれてい
る。大径シールロール（６）と冷却ロール（７）との間
には、張力検出ロール（１３ａ），（１３ｂ）と回転速
度を調節できる入側張力付与ロール（１４ａ）、出側張
力付与ロール（１４ｂ）が設けられている。真空チャン
バ（１）の上部内面にはシールバー（２）が大径シール
ロール（６）の外周面および図示しない両側面と対向し
て設けられ、真空チャンバ（１）と各シールバー（２）
と大径シールロール（６）の入側、出側および図示しな
い両側面とによって、複数の減圧室（３）が形成されて
いる。これらの減圧室（３）は、真空排気装置（５）に
連結されている。（８），（１５）はガイドロールであ
る。

【００１９】薄帯状基板（９）をガイドロール（８）か
ら真空チャンバ（１）の上部入側に搬入し、大径シール
ロール（６）の入側、入側張力付与ロール（１４ａ）、
冷却ロール（７）、出側張力付与ロール（１４ｂ）およ
び大径シールロール（６）の出側に巻回す。そしてこれ
らのロール（６），（７），（１４ａ），（１４ｂ）を
回転して薄帯状基板（９）を走行させながら、るつぼ
（１０）内の被蒸着金属（１１）を誘導加熱コイル（１
２）によって加熱して蒸発させ、その蒸気を冷却ロール
（７）に巻回されて冷却された薄帯状基板（９）上に蒸
着して金属薄膜を成形し、真空チャンバ（１）の上部出
側からガイドロール（８）によって搬出する。このと
き、入側張力付与ロール（１４ａ）および出側張力付与
ロール（１４ｂ）と大径シールロール（６）との間の薄
帯状基板（９）の張力を張力検出ロール（１３ａ），
（１３ｂ）によって検出しながら、入側張力付与ロール
（１４ａ）の周速を冷却ロール（７）の周速よりも低下
させるとともに、出側張力付与ロール（１４ｂ）の周速
を冷却ロール（７）の周速よりも上昇させ、薄帯状基板
（９）の入側張力付与ロール（１４ａ）と冷却ロール
（７）との間の張力および出側張力付与ロール（１４
ｂ）と冷却ロール（７）との間の張力を任意に設定し
て、冷却ロール（７）に対する薄帯状基板（９）の密着
度を向上させ、薄帯状基板（９）の冷却効果を高める。

【００２０】上記のように本実施例においては、冷却ロ
ール（７）と大径シールロール（６）との間の入側およ
び出側に薄帯状基板（９）を巻回して回転する張力付与
ロール（１４ａ），（１４ｂ）を設け、入側の張力付与
ロール（１４ａ）の周速を冷却ロール（７）の周速より
も低下させるとともに、出側に張力付与ロール（１４
ｂ）の周速を冷却ロール（７）の周速よりも上昇させる
ことにより、薄帯状基板（９）の他の部分の張力を変化
させることなく、入側の張力付与ロール（１４ａ）およ
び出側の張力付与ロール（１４ｂ）と冷却ロール（７）
との間の張力を任意に設定して、冷却ロール（７）に対
する薄帯状基板（９）の密着度を向上することができ
る。したがって、薄帯状基板（９）の蒸着部の冷却効果
を高めることができるので、被蒸着物（１１）の蒸着効
率を向上させることができる。

【００２１】

【第２実施例】図２は本発明の第２実施例の連続真空蒸
着装置を示す縦断面図である。この実施例では、前記第
１実施例における真空チャンバ（１）の上方外部のガイ
ドロール（８）の代わりに上部入側張力付与ロール（１
７ａ）、上部出側張力付与ロール（１７ｂ）および張力
検出ロール（１６ａ），（１６ｂ）が配設されている。
被蒸着金属（１１）を薄帯状基板（９）に真空蒸着する
に際しては、上部入側張力付与ロール（１７ａ）と入側
張力付与ロール（１４ａ）との間の薄帯状基板（９）の
張力および上部出側張力付与ロール（１７ｂ）と出側張
力付与ロール（１４ｂ）との間の薄帯状基板（９）の張
力を張力検出ロール（１６ａ），（１６ｂ）によって検
出しながら、上部入側張力付与ロール（１７ａ）の周速
を大径シールロール（６）の周速よりも低下させるとと
もに、上部出側張力付与ロール（１７ｂ）の周速を大径
シールロール（６）の周速よりも上昇させる。こうして
上部入側張力付与ロール（１７ａ）と入側張力付与ロー
ル（１４ａ）との間および上部出側張力付与ロール（１
７ｂ）と出側張力付与ロール（１４ｂ）との間の薄帯状
基板（９）の張力を任意に設定して、大径シールロール
（６）に対する薄帯状基板（９）の密着度を向上させ、
薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）との間に空
気が挟み込まれるのを防止する。

【００２２】上記のとおり本実施例においては、大径シ
ールロール（６）の上方の入側および出側に薄帯状基板
（９）を巻回して回転する上部張力付与ロール（１７
ａ），（１７ｂ）を設け、入側の上部張力付与ロール
（１７ａ）の周速を大径シールロール（６）の周速より
も低下させるとともに、出側の上部張力付与ロール（１
７ｂ）の周速を大径シールロール（６）の周速よりも上
昇させることにより、前記第１実施例の効果に加え、薄
帯状基板（９）の真空チャンバ（１）外の張力を変化さ
せることなく、入側の上部張力付与ロール（１７ａ）と
張力付与ロール（１４ａ）との間の張力および出側の上
部張力付与ロール（１７ｂ）と張力付与ロール（１４
ｂ）との間の張力を任意に設定して、大径シールロール
（６）に対する薄帯状基板（９）の密着度を向上させる
ことができる。したがって、薄帯状基板（９）と大径シ
ールロール（６）との間に空気が挟み込まれて真空チャ
ンバ（１）内の気圧が上昇するのを防止することができ
る。また薄帯状基板（９）と大径シールロール（６）と
の密着度が高いと、大気と真空室との境界で生じやすい
薄帯状基板（９）のバタツキも防止される。

【００２３】

【第３実施例】図３は本発明の第３実施例に係る連続真
空蒸着処理装置を示す縦断面図である。この実施例にお
いても、前記第１および第２実施例と同様、真空チャン
バ（１）内の上部に大径シールロール（６）が、下部に
冷却ロール（７）がそれぞれ設けられ、冷却ロール
（７）の更に下方の真空処理室（４）内にるつぼ（１
０）および誘導加熱コイル（１２）が設けられている。
また真空チャンバ（１）の上部内面には、大径シールロ
ール（６）の外周面および図示しない両側面と対向して
シールバー（２）が設けられ、真空チャンバ（１）と各
シールバー（２）と大径シールロール（６）の外周面お
よび図示しない両側面とによって複数の大気側減圧室
（３）が形成されている。

【００２４】本実施例では、大径シールロール（６）と
冷却ロール（７）との間に、複数組の小径シールロール
（２１ａ），（２１ｂ）が取付けられている。また真空
チャンバ（１）の中間部内面には、小径シールロール
（２１ａ），（２１ｂ）の外周面と対向してシールバー
（１８）が設けられ、中間減圧室（１９）と真空側減圧
室（２０）が形成されている。これらの大気側減圧室
（３）、中間減圧室（１９）および真空側減圧室（２
０）は、真空排気装置（５）に連結されている。
（８），（１５）はガイドロールである。

【００２５】薄帯状基板（９）をガイドロール（８）か
ら真空チャンバ（１）の上部入側に搬入し、大径シール
ロール（６）の入側、入側の小径シールロール（２１
ａ）、ガイドロール（１５）、冷却ロール（７）、ガイ
ドロール（１５）、出側の小径シールロール（２１
ｂ）、大径シールロール（６）の出側に巻回し、ガイド
ロール（８）から真空チャンバ（１）の上方出側に搬出
する。そしてこれらのロール（６），（２１ａ），
（７），（２１ｂ）を回転して薄帯状基板（９）を走行
させながら、真空処理室（４）のるつぼ（１０）内の被
蒸着金属（１１）を誘導加熱コイル（１２）によって加
熱して蒸発させ、その蒸気を、冷却ロール（７）に巻回
されて冷却された薄帯状基板（９）上に蒸着して金属薄
膜を成形する。このとき、真空チャンバ（１）の上方入
側に搬入される薄帯状基板（９）と大径シールロール
（６）との間には空気が挟み込まれるが、この空気は薄
帯状基板（９）が大径シールロール（６）から離れたと
きに中間減圧室（１９）に持込まれ、真空排気装置
（５）によって排出される。更に真空側減圧室（２０）
も減圧されるので、薄帯状基板（９）の搬入速度の変更
により空気の持ち込み量が変化しても、真空処理室
（４）の気圧は変化しない。

【００２６】上記のとおり本実施例では、冷却ロール
（６）と大径シールロール（７）との間に複数の小径シ
ールロール（２１ａ），（２１ｂ）を設け、大気側減圧
室（３）の下方に中間減圧室（１９）と真空側減圧室
（２０）を設けたことにより、薄帯状基板（９）を大径
シールロール（６）に巻回して真空容器（１）内に搬入
する際にこの薄帯状基板（９）と大径シールロール
（６）との間に挟み込まれた空気が、薄帯状基板（９）
が大径シールロール（６）から離れる時に中間減圧室
（１９）に持込まれて排出され、更に真空側減圧室（２
０）でも減圧されるので、薄帯状基板（９）の搬入速度
が変更されて空気の持ち込み量が変化しても、真空処理
室（４）の気圧を一定に保持することができる。したが
って、薄帯状基板（９）に対して真空蒸着等の真空処理
を安定して行なうことができ、真空処理による製品の精
度と品質を向上させることができる。

【００２７】

【第４実施例】図４は本発明の第４実施例に係る連続真
空処理装置の上部を示す縦断面図である。本実施例で
は、真空チャンバ（１）のケーシングとシールバー
（２）と大径シールロール（６）の入側と図示しない両
側面とによって形成された複数段（図示例では６段）の
減圧室（３）のうち、特定段（図示例では２段目と５段
目）の減圧室に複数（例えば３組）のロール（２２
ａ），（２２ｂ），（２２ｃ）から成る浮上ロール（２
２）が設けられていて、薄帯状基板（９）をこれらのロ
ール（２２ａ），（２２ｂ），（２２ｃ）を経由して走
行させれば、その区間だけ薄帯状基板（９）が大径シー
ルロール（６）の表面から浮上して走行するようになっ
ている。また、各段の減圧室（３）に真空排気装置
（５）に連通する真空配管が接続されていて、その真空
排気装置（５）を稼動することにより各段の減圧室
（３）を段階的に減圧することができることは、前記第
１ないし第３の実施例と同様である。

【００２８】本実施例においては、薄帯状基板（９）が
大気中からガイドロール（８）を経て真空チャンバ
（１）内に導入される際に薄帯状基板（１）と大径シー
ルロール（６）との間に挟み込まれた空気は、浮上ロー
ル（２２）が設置された減圧室（図４の２段目と５段
目）（３）を通過する時に、その減圧室（３）の雰囲気
圧力に開放される。したがって、薄帯状基板（９）の両
面間に生ずる圧力差は微小となり、薄帯状基板（９）は
大径シールロール（６）の表面から浮上ることなく、正
常状態で真空処理室へ送り込まれる。また、真空処理室
へ搬入される空気量も減少する。

【００２９】図５は、上記した浮上ロール（２２）の効
果を調査し、従来装置と比較してグラフ化したものであ
る。この図から分るように、浮上ロールのない従来の装
置でも２段目と５段目に浮上ロールを設置した本実施例
の装置でも、減圧室の圧力はほぼ同じ傾向で順次段階的
に下降して最終真空圧に近づいて行く。これに対し、薄
帯状基板（９）と大径シールロール（０６）、（６）の
間の圧力は、従来のものと本実施例とでその傾向が著し
く異っている。

【００３０】すなわち従来の装置では、薄帯状基板
（９）の導入時に持ち込まれた空気が薄帯状基板（９）
と大径シールロール（０６）との間に残留して、その間
の圧力は１段目から６段目に至る間で僅かに減小してい
るだけであった。そのため薄帯状基板−大径シールロー
ル間の圧力と減圧室（０３）圧力との差が次第に大きく
なり、遂には薄帯状基板（９）が大径シールロール（０
６）の表面から浮上する現象が起きていた。また、薄帯
状基板（９）が６段目を過ぎて大径シールロール（０
６）の表面から離れる時に、残留空気が開放されて薄帯
状基板−大径シールロール間の圧力は急降下するが、こ
の時その影響を受けて処理室（０４）内の圧力が大きく
変動している。

【００３１】一方、本実施例の装置では、薄帯状基板
（９）と大径シールロール（６）との間の残留空気が２
段目と５段目の減圧室（３）に設けられた浮上ロール
（２２）を通過する際に減圧室（３）内に開放されるの
で、薄帯状基板（９）の両面間の差圧は全体を通して非
常に小さく、したがってその差圧によって薄帯状基板
（９）が大径シールロール（６）の表面から浮上するこ
とがなくなり、また最終段で薄帯状基板（９）が大径シ
ールロール（６）から離れる時に僅かに残留した空気が
開放されても、処理室（４）内の圧力には変動は生じて
いない。

【００３２】以上のとおり本実施例によれば、大気中か
ら真空チャンバ（１）内に導入され、大径シールロール
（６）に巻回されて走行する薄帯状基板（９）は、特定
の減圧室（３）に設けられた浮上ロール（２２）を通過
する際に、大径シールロール（６）の表面から浮上して
正常走行するので、薄帯状基板（９）に付随して持ち込
まれて大径シールロール（９）との間に残留する空気
は、その減圧室（３）に開放される。したがって薄帯状
基板（９）の両面間の圧力差が非常に小さくなり、この
圧力差によって薄帯状基板が大径シールロールの表面か
ら浮上るようなことが起らず、薄帯状基板（９）の表面
に摺りキズなどが発生しなくなる。また、薄帯状基板
（９）と大径シールロール（６）との間の残留空気は最
終段ではごく僅かであり、最終段でこの残留空気が開放
されても処理室内の圧力に影響を与えることがなくなる
から、所定真空圧の下で良好な真空処理が行なわれるよ
うになる。

【００３３】

【第５実施例】図６は本発明の第５実施例に係る連続真
空蒸着装置を示す縦断面図である。この実施例は、前記
実施例を統合したものである。

【００３４】図６において、真空チャンバ（１）の下部
の真空処理室（４）に被蒸着金属（１１）を入れたるつ
ぼ（１０）と誘導加熱コイル（１２）から成る被蒸着物
蒸発手段が設けられ、その被蒸着物蒸発手段の上方に薄
帯状基板（９）を巻回して回転する冷却ロール（７）、
その冷却ロール（７）の更に上方に薄帯状基板（９）を
巻回して回転する大径シールロール（６）が設けられて
いる。また上記大径シールロール（６）の外周に沿って
設けられたケーシングに、上記大径シールロール（６）
の外周面と微小間隙をあけて複数のシールバー（２）が
設けられて複数段（図示例では入側、出側とも各４段）
の大気側減圧室（３）が形成されている。

【００３５】本実施例においては、上記冷却ロール
（７）と大径シールロール（６）との間で薄帯状基板
（９）の入側部および出側部をそれぞれ巻回して回転す
る複数の小径シールロール（２１ａ），（２１ｂ）が設
けられ、それら小径シールロール（２１ａ），（２１
ｂ）と上記大径シールロール（６）との間に中間減圧室
（１９）が形成される。また上記各小径シールロール
（２１ａ），（２１ｂ）の入側および出側に真空側減圧
室（２０）がそれぞれ形成される。そして、上記大気側
減圧室（３）、中間減圧室（１９）、真空側減圧室（２
０）、真空処理室（４）を順次、真空排気装置（５）に
より真空排気するようになっている。

【００３６】本実施例ではまた、上記入側の大気側減圧
室のうち少なくとも一室（図示例では２段目の大気側減
圧室）内に複数（図示例では３個）のロール（２２
ａ），（２２ｂ），（２２ｃ）から成る浮上ロール（２
２）が設けられて、大径シールロール（６）に巻回され
て走行する薄帯状基板（９）を所定距離だけ大径シール
ロール（６）から浮上させて走行させるようになってい
る。

【００３７】更に本実施例では、上記冷却ロール（７）
と上記大径シールロール（６）との間の入側および出側
の両方に、薄帯状基板（９）を巻回して回転する張力付
与ロール（１４ａ），（１４ｂ）および張力検出ロール
（１３ａ），（１３ｂ）が設けられる。

【００３８】本実施例においては、入側張力付与ロール
（１４ａ）および出側張力付与ロール（１４ｂ）と大径
シールロール（６）との間の薄帯状基板（９）の張力を
張力検出ロール（１３ａ），（１３ｂ）によって検出し
ながら、入側張力付与ロール（１４ａ）の周速を冷却ロ
ール（７）の周速よりも低下させるとともに、出側張力
付与ロール（１４ｂ）の周速を冷却ロール（７）の周速
よりも上昇させることにより、薄帯状基板（９）の入側
張力付与ロール（１４ａ）と冷却ロール（７）との間の
張力および出側張力付与ロール（１４ｂ）と冷却ロール
（７）との間の張力を任意に設定して、冷却ロール
（７）に対する薄帯状基板（９）の密着度を向上させ、
薄帯状基板（９）の冷却効果を高める。こうして、被蒸
着物の蒸着効率を向上させることができる。

【００３９】更に本実施例においては、薄帯状基板
（９）が大気中からガイドロール（８）を経て真空チャ
ンバ（１）内に導入される際に薄帯状基板（９）と大径
シールロール（６）との間に挟み込まれた空気は、本実
施例で浮上ロール（２２）が設置された大気側減圧室
（図６の２段目）を通過する時に、その大気側減圧室
（３）内に大部分が開放される。したがって、薄帯状基
板（９）の両面の圧力差は微小となり、薄帯状基板
（９）は大径シールロール（６）の表面から浮上ること
なく、正常状態で中間減圧室（１９）へ送られる。

【００４０】ここで薄帯状基板（９）と大径シールロー
ル（６）との間に少量の空気が残留していたとしても、
その空気は薄帯状基板（９）が大径シールロール（６）
から離れる時に中間減圧室（１９）内に開放されて排出
され、更にその後の真空側減圧室（２０）でも減圧排出
される。したがって、薄帯状基板（９）の搬入速度が変
更されて空気の持込み量が変化しても、真空処理室
（４）内の圧力は一定に保持される。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、冷却ロール前後の薄帯
状基板の張力を調節することにより、冷却ロールに対す
る薄帯状基板の密着度を向上させ、薄帯状基板の冷却効
果を高めることができる。

【００４２】また、薄帯状基板が真空容器内に導入され
る際に薄帯状基板と大径シールロールとの間に空気が挟
み込まれるのを抑止し、またたとえ挟み込まれも、その
空気が真空処理室に入る前に、これを開放・排出するこ
とができる。したがって真空処理室内の圧力を常に一定
に保持し、良好な真空処理を安定して行なって、真空処
理製品の品質を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の第１実施例に係る連続真空蒸着
装置を示す縦断面図である。

【図２】図２は本発明の第２実施例に係る連続真空蒸着
装置を示す縦断面図である。

【図３】図３は本発明の第３実施例に係る連続真空蒸着
装置を示す縦断面図である。

【図４】図４は本発明の第４実施例に係る連続真空蒸着
装置の上部を示す縦断面図である。

【図５】図５は上記第４実施例の効果を例示する図であ
る。

【図６】図６は本発明の第５実施例に係る連続真空蒸着
装置を示す縦断面図である。

【図７】図７は従来の連続真空処理装置の一例を示す縦
断面図である。

【符号の説明】 （０１），（１） 真空チャンバ （０２），（２） シールバー （０３），（３） 減圧室（大気側
減圧室） （０４），（４） 真空処理室 （０５），（５） 真空排気装置 （０６），（６） 大径シールロー
ル （０７），（７） 冷却ロール （０８），（８） ガイドロール （９） 薄帯状基板 （１０） るつぼ （１１） 被蒸着金属 （１２） 誘導加熱コイル （１３ａ），（１３ｂ） 張力検出ロール （１４ａ） 入側張力付与ロ
ール （１４ｂ） 出側張力付与ロ
ール （１５） ガイドロール （１６ａ），（１６ｂ） 張力検出ロール （１７ａ） 上部入側張力付
与ロール （１７ｂ） 上部出側張力付
与ロール （１８） シールバー （１９） 中間減圧室 （２０） 真空側減圧室 （２１ａ），（２１ｂ） 小径シールロー
ル （２２） 浮上ロール （２２ａ），（２２ｂ），（２２ｃ） ロール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 守 康孝 広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱 重工業株式会社広島製作所内 (72)発明者 田口 俊夫 広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱 重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 新屋 謙治 広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱 重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 沖田 肇 広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱 重工業株式会社広島研究所内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空容器内の下部に設けられた真空処理
   手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して
   回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で薄帯状基
   板を巻回して回転する大径シールロールとを具備した連
   続真空処理装置において、上記冷却ロールと上記大径シ
   ールロールとの間の入側および出側の両方に、上記薄帯
   状基板を巻回して回転する張力付与ロールおよび張力検
   出ロールを備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
2. 【請求項２】 上記大径シールロールの上方の入側およ
   び出側の両方に、前記薄帯状基板を巻回して回転する上
   部張力付与ロールおよび上部張力検出ロールを備えたこ
   とを特徴とする請求項１記載の連続真空処理装置。
3. 【請求項３】 真空容器内の下部に設けられた真空処理
   手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して
   回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で前記薄帯
   状基板を巻回して回転する大径シールロールとを具備し
   た連続真空処理装置おいて、上記大径シールロールの外
   周面に形成された大気側減圧室と、上記冷却ロールと上
   記大径シールロールとの間で上記薄帯状基板の入側部お
   よび出側部をそれぞれ巻回して回転する複数の小径シー
   ルロールと、それら小径シールロールと上記大径シール
   ロールとの間に形成された中間減圧室と、上記各小径シ
   ールロールの入側および出側にそれぞれ形成された真空
   側減圧室とを備えたことを特徴とする連続真空処理装
   置。
4. 【請求項４】 薄帯状基板を巻回して回転する大径シー
   ルロールの外周に沿って設けられたケーシングに、上記
   シールロールと微小間隙をあけて複数のシールバーを設
   けて複数の減圧室を形成し、それら減圧室を順次真空排
   気するようにした連続真空処理装置において、上記減圧
   室のうち少なくとも１室内に、上記大径シールロールに
   巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定距離だけ上記
   大径シールロールから浮上させて走行させる浮上ロール
   を備えたことを特徴とする連続真空処理装置。
5. 【請求項５】 真空容器内の下部に設けられた真空処理
   手段と、同真空処理手段の上方で薄帯状基板を巻回して
   回転する冷却ロールと、同冷却ロールの上方で薄帯状基
   板を巻回して回転する大径シールロールとを具備し、上
   記大径シールロールの外周に沿って設けられたケーシン
   グに、上記大径シールロールと微小間隙をあけて複数の
   シールバーを設けて複数の減圧室を形成し、それら減圧
   室を順次真空排気するようにした連続真空処理装置にお
   いて、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの間の
   入側および出側の両方に設けられ、上記薄帯状基板を巻
   回して回転する張力付与ロールおよび張力検出ロール
   と、上記大径シールロールの外周面に形成された大気側
   減圧室と、上記冷却ロールと上記大径シールロールとの
   間で上記薄帯状基板の入側部および出側部をそれぞれ巻
   回して回転する複数の小径シールロールと、それら小径
   シールロールと上記大径シールロールとの間に形成され
   た中間減圧室と、上記各小径シールロールの入側および
   出側にそれぞれ形成された真空側減圧室と、上記大気側
   減圧室のうち少なくとも一室内に設けられ、上記大径シ
   ールロールに巻回されて走行する上記薄帯状基板を所定
   距離だけ上記大径シールロールから浮上して走行させる
   浮上ロールとを備えたことを特徴とする連続真空処理装
   置。