JPH0827591A - 光沢銅−錫合金めっき浴 - Google Patents

光沢銅−錫合金めっき浴

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JPH0827591A
JPH0827591A JP16083794A JP16083794A JPH0827591A JP H0827591 A JPH0827591 A JP H0827591A JP 16083794 A JP16083794 A JP 16083794A JP 16083794 A JP16083794 A JP 16083794A JP H0827591 A JPH0827591 A JP H0827591A
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cyanide
sodium
plating bath
tin alloy
alkali
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JP16083794A
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English (en)
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Yukio Nishihama
幸男 西浜
Shuichi Yoshikawa
修一 吉川
Yoshiyo Kondo
佳代 近藤
Yasuhiro Ito
保裕 伊藤
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Okuno Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Okuno Chemical Industries Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明の主な目的は、広い電流密度範囲におい
て平滑で光沢の優れた銅−錫合金めっき皮膜を形成する
ことのできる工業的に実用化し得る銅−錫合金めっき浴
を提供することである。 【構成】シアン化第一銅、錫酸アルカリ及びシアン化ア
ルカリを必須成分として含有する水溶液に、可溶性酒石
酸塩50〜300g/l、鉛塩0.001〜0.1g/
l、アニオン性界面活性剤0.001〜1.0g/l、
エチレンアミン化合物0.001〜1.0g/l及び硫
黄含有複素環状化合物0.001〜1.0g/lを配合
してなる光沢銅−錫合金めっき浴。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光沢銅−錫合金めっき
浴に関する。
【0002】
【従来の技術及びその課題】従来、銅−錫合金めっき浴
としては、シアン化第一銅、錫酸アルカリ及びシアン化
アルカリを主成分とする水溶液に各種の添加剤を配合し
ためっき浴が知られている。このような添加剤として
は、酒石酸、クエン酸、サリチル酸等の有機酸又はその
塩、エチレングリコール、フェノール、β−ナフトー
ル、ハイドロキノン、8−ハイドロキノリン等のアルコ
ール又はフェノール類、エチレントリアミン、ピリジ
ン、キノリン、トリエタノールアミン等の含窒素化合
物、ポリオキシアルキルフェニルエーテル、ポリエチレ
ングルコール等の界面活性剤、ベンゼンスルホン酸、p
ートルエンスルホン酸、2,7−ナフタレンジスルホン
酸ナトリウム等の芳香族スルホン酸又はその塩、2−メ
ルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミ
ダゾール等の硫黄含有複素環状化合物、チオシアン酸塩
等の硫黄含有化合物、銀、鉛、ビスマス、アンチモン、
セレン、テルル等の金属化合物等が知られており、これ
らの添加剤は、通常、単独又は2種類を組み合わせて用
いられている。しかしながら、これらの添加剤を含有す
る従来の銅−錫合金めっき浴では、半光沢又は無光沢の
合金めっき皮膜が形成されやすく、光沢めっき皮膜が形
成される場合にも、その電流密度範囲が狭いために、工
業的に実用化することは困難である。
【0003】近年、各種の添加剤を組み合わせて配合し
た銅−錫合金めっき浴が提案されており、例えば、添加
剤の組み合わせとしては、チオシアン酸塩及び可溶性酒
石酸塩の組み合わせ(特公昭59−4518号公報)、
有機酸又は有機酸塩、アミン又はその誘導体、及び鉛、
セレン、アンチモン、タリウム、銀等を金属分とする可
溶性金属塩の組み合わせ(特公昭58−9839号公
報)、チオシアン酸塩とポリエチレンイミン又はその誘
導体との組み合わせ(特開昭57−101687号公
報)、チオシアン酸塩、ポリエチレンイミン又はその誘
導体、及びニッケル塩の組み合わせ(特公昭60−12
435号公報)、チオシアン酸塩、ポリエチレンイミン
又はその誘導体、及び鉛塩の組み合わせ(特開昭58−
55587号公報)、チオシアン酸塩とベタイン化合物
との組み合わせ(特開昭58−91181号公報)、可
溶性酒石酸塩、鉛塩及び可溶性チオシアン酸塩の組み合
わせ(特公平4−13434号公報)、ポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル系非イオン界面活性剤、
ベタイン系化合物及びポリアミン化合物の組み合わせ
(特開昭57−60092号公報)等が知られている。
【0004】しかしながら、これらのめっき浴において
も、やはり充分に広い電流密度範囲で光沢めっき皮膜を
形成することはできず、光沢めっき皮膜が形成される電
流密度範囲が狭いか、或いは、高電流密度では粗雑で光
沢のない皮膜が析出し易い等の問題点があり、工業的な
実用化は困難である。また、使用する添加剤の種類によ
っては、めっき浴に濁りが発生することがあり、例え
ば、チオシアン酸塩系添加剤を用いる浴においては、錫
の沈澱物のために濁りが生じて濾過が必要になるために
作業性に問題があり、また、非イオン系界面活性剤を用
いる場合には、作業温度が非イオン系界面活性剤の曇点
を上回ると、濁りが発生して非イオン系界面活性剤が浴
から分離し、添加剤としての効果が期待できなくなると
いう欠点がある。更に、ポリエチレンイミン類、アミノ
アルコール類等の窒素含有化合物やチオシアン酸塩等の
硫黄含有化合物を配合する場合には、光沢皮膜を形成す
るために添加剤を多量に配合する必要があり、経済性が
悪いという問題点もある。
【0005】本発明の主な目的は、広い電流密度範囲に
おいて平滑で光沢の優れた銅−錫合金めっき皮膜を形成
することのできる工業的に実用化し得る銅−錫合金めっ
き浴を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記した如
き目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、シアン化第
一銅、錫酸アルカリ及びシアン化アルカリを主成分とす
る水溶液に、添加剤として、可溶性酒石酸塩、鉛塩、ア
ニオン性界面活性剤、エチレンアミン化合物及び硫黄含
有複素環状化合物という特定の成分を特定配合量の範囲
で組み合わせて添加する場合に、広い電流密度範囲にお
いて平滑で光沢の優れた銅−錫合金めっき皮膜を形成で
きることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】即ち、本発明は、シアン化第一銅、錫酸ア
ルカリ及びシアン化アルカリを必須成分として含有する
水溶液に、可溶性酒石酸塩50〜300g/l、鉛塩
0.001〜0.1g/l、アニオン性界面活性剤0.
001〜1.0g/l、エチレンアミン化合物0.00
1〜1.0g/l及び硫黄含有複素環状化合物0.00
1〜1.0g/lを配合してなる光沢銅−錫合金めっき
浴に係る。
【0008】本発明において、基本として用いるめっき
浴は、シアン化第一銅、錫酸アルカリ及びシアン化アル
カリを必須成分として含有するものである。これらの成
分の内で、錫酸アルカリとしては錫酸ナトリウム、錫酸
カリウム等を用いることができ、特に、錫酸ナトリウム
が好ましい。シアン化アルカリとしてはシアン化ナトリ
ウム、シアン化カリウム等を用いることができ、特に、
シアン化ナトリウムが好ましい。これらの成分を含有す
るめっき浴は、銅−錫合金めっき浴の基本浴として公知
のものであり、各成分の種類、配合量等は、めっき作業
が効率的に行われる範囲において、目的とする合金組成
に応じて、適宜決めればよいが、下記の配合量の範囲と
することが好ましい。
【0009】 シアン化第一銅 : 5〜50g/l 錫酸ナトリウム : 5〜150g/l シアン化ナトリウム(遊離のシアン化ナトリウムとし
て) : 5〜30g/l 本発明めっき浴は、上記したシアン化第一銅、錫酸アル
カリ及びシアン化アルカリを必須成分として含有するめ
っき浴に、添加剤として、可溶性酒石酸塩、鉛塩、アニ
オン性界面活性剤、エチレンアミン化合物及び硫黄含有
複素環状化合物を組み合わせて配合したものである。
【0010】本発明で使用し得る可溶性酒石酸塩として
は、酒石酸ナトリウム、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリ
ウムカリウム等を例示でき、特に、酒石酸ナトリウムカ
リウムが好ましい。また、鉛塩としては、硝酸鉛、炭酸
鉛、酢酸鉛等を例示できる。
【0011】アニオン性界面活性剤としては、上記基本
浴に溶解するものであればいずれも用いることができる
が、特に、脂肪族直鎖アルキル硫酸ナトリウム、ポリオ
キシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステルナ
トリウム、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸エ
ステルナトリウム、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム、下記式
【0012】
【化2】
【0013】で表わされるアルキルジフェニルエーテル
ジスルホン酸ナトリウム等が好ましく、これらの一種又
は二種以上を用いることができる。
【0014】エチレンアミン化合物としては、エチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
ミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキ
サミン等のエチレンアミン類、これらのエチレンアミン
類の酢酸誘導体であるエチレンジアミン四酢酸、ジエチ
レントリアミン五酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジア
ミン三酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、これらの
酢酸誘導体のナトリウム塩等のアルカリ塩等を用いるこ
とができ、これらを一種単独又は二種以上組み合わせて
用いることができる。
【0015】硫黄含有複素環状化合物としては、上記基
本浴に溶解するものであればいずれも使用可能である
が、特に、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メル
カプトベンゾイミダゾール等のメルカプト化合物;これ
らのメルカプト化合物のナトリウム塩、亜鉛塩等の金属
塩、有機アミン塩等の塩類;これらのメルカプト化合物
の各種誘導体を用いることが好ましく、これらの一種又
は二種以上を用いることができる。これらのメルカプト
化合物の誘導体としては、酢酸、プロピオン酸等のカル
ボン酸誘導体又はそのアルカリ金属塩、ベンゾチアゾリ
ルスルフェンアミド誘導体、ジスルフィド誘導体、アル
キルスルホン酸誘導体又はそのアルカリ金属塩、これら
のメルカプト化合物のアルキル置換体等を挙げることが
できる。上記メルカプト化合物の塩類及びメルカプト化
合物の誘導体の具体例を以下に示す。
【0016】
【化3】
【0017】
【化4】
【0018】本発明のめっき浴では、上記した各添加剤
成分の配合量は、下記の範囲とすることが必要であり、
この様な特定の成分を特定の配合量で組み合わせて用い
ることによって、広い電流密度の範囲において、光沢が
あり平滑性に優れた銅−錫合金めっき皮膜を形成するこ
とが可能となる。
【0019】 可溶性酒石酸塩 :50〜300g/l 鉛 塩 :0.001〜0.1g/l アニオン性界面活性剤 :0.001〜1.0g/l エチレンアミン化合物 :0.001〜1.0g/l 硫黄含有複素環状化合物 :0.001〜1.0g/l 各成分の配合量が上記範囲を下回る場合には、形成され
るめっき皮膜の光沢が劣るものとなり、一方、上記範囲
を上回るとクモリ等の光沢不良が発生しやすいので好ま
しくない。
【0020】本発明のめっき浴は、pH11〜14の範
囲とすることが適当であり、pH12〜13の範囲とす
ることが好ましい。めっき浴のpH調整は、必要に応じ
て、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を添加するこ
とによって行なうことができ、好ましくは水酸化ナトリ
ウムを用いる。
【0021】本発明の光沢銅−錫合金めっき浴は、めっ
き作業条件としては、電流密度0.5〜20A/dm2
程度、浴温30〜70℃程度が適当であり、陽極として
は、不溶性陽極を用いることが好ましい。本発明のめっ
き浴によれば、この様な広い電流密度範囲において、良
好な光沢を有する銅−錫合金めっき皮膜を形成でき、従
来と比べて高電流密度でめっき作業を行なうことが可能
となり、作業効率が向上する。
【0022】本発明のめっき浴では、浴中の組成、特
に、シアン化銅と錫酸アルカリの含有量を変動させるこ
とにより、析出物の合金比、色調等を変えることができ
る。即ち、シアン化銅の配合割合を増加させることによ
って、析出物の銅含有割合を増加させることができる。
また、浴温を変化させることにより析出物の合金比、色
調を変化させることも可能である。
【0023】
【発明の効果】本発明の光沢銅−錫合金めっき浴によれ
ば、広い電流密度範囲において、光沢があり、平滑性に
優れ、しかも均一電着性に優れた銅−錫合金めっき皮膜
を形成できる。よって、本発明の光沢銅−錫合金めっき
浴は、工業的な利用に適するものである。
【0024】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
をするが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【0025】実施例1 シアン化第一銅30g/l、錫酸ナトリウム100g/
l、シアン化ナトリウム40g/l、酒石酸ナトリウム
カリウム150g/l、酢酸鉛0.02g/l、アニオ
ン性界面活性剤(アルキルジフェニルエーテルジスルホ
ン酸ナトリウム)(商標:サンデットBL、三洋化成工
業(株)製)0.1g/l、ジエチレントリアミン0.
05g/l、及び2−メルカプトベンゾイミダゾール
0.005g/lを含有するpH12.3のめっき浴中
で、浴温55℃で、カーボン陽極を用いて陰極電流密度
20A/dm2 でめっきを行った。その結果、全面光沢
の析出皮膜が得られ、析出皮膜の組成は、銅が56%、
錫が44%であった。
【0026】実施例2 シアン化第一銅15g/l、錫酸ナトリウム30g/
l、シアン化ナトリウム50g/l、水酸化ナトリウム
15g/l、酒石酸ナトリウムカリウム250g/l、
硝酸鉛0.05g/l、アニオン性界面活性剤(ポリオ
キシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステルナ
トリウム)(商標:ノニポールS−40、三洋化成工業
(株)製)0.05g/l、ペンタエチレンヘキサミン
0.1g/l、及び2−メルカプトベンゾチアゾールナ
トリウム塩0.05g/lを含有するpH12.7のめ
っき浴中で、浴温45℃で、カーボン陽極を用いて陰極
電流密度10A/dm2 でめっきを行った。その結果、
全面光沢の析出皮膜が得られ、析出皮膜の組成は、銅が
63%、錫が37%であった。
【0027】実施例3 シアン化第一銅20g/l、錫酸ナトリウム40g/
l、シアン化ナトリウム40g/l、酒石酸ナトリウム
カリウム150g/l、酢酸鉛0.02g/l、アニオ
ン性界面活性剤(アルキル硫酸エステルナトリウム)
(商標:サンデットONA、三洋化成工業(株)製)
0.01g/l、トリエチレンテトラミン0.05g/
l、2−メルカプトベンゾチアゾール0.05g/l、
及び2−メルカプトベンゾイミダゾール0.05g/l
を含有するpH12.5のめっき浴中で、浴温50℃
で、カーボン陽極を用いて、陰極電流密度0.5A/d
2 でめっきを行った。その結果、全面光沢の析出皮膜
が得られ、析出皮膜の組成は、銅が72%、錫が28%
であった。
【0028】比較例1 シアン化第一銅15g/l、錫酸ナトリウム100g/
l、シアン化ナトリウム30g/l、水酸化ナトリウム
15g/l、ポリエチレンイミン0.05g/l、チオ
シアン酸カリウム20g/l、及び酢酸鉛0.01g/
lを含有するめっき浴中で、浴温50℃で、カーボン陽
極を用いて、陰極電流密度5A/dm2でめっきを行っ
た。その結果、錫塩の沈澱が発生して浴に濁りが生じ、
形成されためっき皮膜は半光沢の外観であった。
【0029】比較例2 シアン化第一銅15g/l、錫酸ナトリウム100g/
l、シアン化ナトリウム30g/l、水酸化ナトリウム
10g/l、酒石酸ナトリウムカリウム100g/l、
及びチオシアン酸カリウム50g/lを含有するめっき
浴中で、浴温60℃で、カーボン陽極を用いて、陰極電
流密度10A/dm2 でめっきを行った。その結果、得
られためっき皮膜は、半光沢で条痕を有するものとな
り、均一な外観とならなかった。
【0030】比較例3 シアン化第一銅20g/l、錫酸ナトリウム100g/
l、シアン化ナトリウム45g/l、水酸化ナトリウム
5g/l、酒石酸ナトリウムカリウム150g/l、酢
酸鉛0.05g/l、及びチオシアン酸カリウム3g/
lを含有するめっき浴中で、浴温60℃で、カーボン陽
極を用いて、陰極電流密度5A/dm2でめっきを行っ
た。その結果、得られためっき皮膜は、半光沢で条痕を
有するものとなり、均一な外観とならなかった。
【0031】比較例4 シアン化第一銅20g/l、錫酸ナトリウム100g/
l、シアン化ナトリウム50g/l、水酸化ナトリウム
5g/l、酒石酸ナトリウムカリウム100g/l、酢
酸鉛0.01g/l及びジエタノールアミン40g/l
を含有するめっき浴中で、浴温60℃で、カーボン陽極
を用いて、陰極電流密度5A/dm2 でめっきを行っ
た。その結果、得られためっき皮膜は、半光沢で条痕を
有するものとなり、均一な外観とならなかった。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】シアン化第一銅、錫酸アルカリ及びシアン
    化アルカリを必須成分として含有する水溶液に、可溶性
    酒石酸塩50〜300g/l、鉛塩0.001〜0.1
    g/l、アニオン性界面活性剤0.001〜1.0g/
    l、エチレンアミン化合物0.001〜1.0g/l及
    び硫黄含有複素環状化合物0.001〜1.0g/lを
    配合してなる光沢銅−錫合金めっき浴。
  2. 【請求項2】アニオン性界面活性剤が、脂肪族直鎖アル
    キル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェ
    ニルエーテル硫酸エステルナトリウム、ポリオキシエチ
    レンナフチルエーテル硫酸エステルナトリウム、アルキ
    ルベンゼンスルホン酸ナトリウム、下記式 【化1】 で表わされるアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
    ナトリウムから選ばれる少なくとも一種の化合物である
    請求項1に記載の光沢銅−錫合金めっき浴。
  3. 【請求項3】エチレンアミン化合物が、エチレンジアミ
    ン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
    テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミ
    ン、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五
    酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、トリ
    エチレンテトラミン六酢酸、及びこれらのエチレンアミ
    ン類の酢酸誘導体の塩から選ばれる少なくとも一種の化
    合物である請求項1に記載の光沢銅−錫合金めっき浴。
  4. 【請求項4】硫黄含有複素環状化合物が、2−メルカプ
    トベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾー
    ル、これらの塩、及びこれらの誘導体から選ばれる少な
    くとも一種の化合物である請求項1に記載の光沢銅−錫
    合金めっき浴。
JP16083794A 1994-07-13 1994-07-13 光沢銅−錫合金めっき浴 Pending JPH0827591A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164396A (ja) * 1999-09-27 2001-06-19 Ishihara Chem Co Ltd スズ−銅含有合金メッキ浴、スズ−銅含有合金メッキ方法及びスズ−銅含有合金メッキ皮膜が形成された物品
US6372117B1 (en) 1999-12-22 2002-04-16 Nippon Macdermid Co., Ltd. Bright tin-copper alloy electroplating solution

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164396A (ja) * 1999-09-27 2001-06-19 Ishihara Chem Co Ltd スズ−銅含有合金メッキ浴、スズ−銅含有合金メッキ方法及びスズ−銅含有合金メッキ皮膜が形成された物品
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