JPH08283536A - エポキシ樹脂組成物、その硬化物およびそれを用いた半導体装置 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物、その硬化物およびそれを用いた半導体装置

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JPH08283536A
JPH08283536A JP9257495A JP9257495A JPH08283536A JP H08283536 A JPH08283536 A JP H08283536A JP 9257495 A JP9257495 A JP 9257495A JP 9257495 A JP9257495 A JP 9257495A JP H08283536 A JPH08283536 A JP H08283536A
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epoxy resin
phenol
resin
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resin composition
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JP9257495A
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English (en)
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Tatsunobu Uragami
達宣 浦上
Tsutomu Ishida
努 石田
Hirosuke Takuma
啓輔 詫摩
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Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 フェノール化合物とビスハロゲノメチル化合
物とを無触媒にて反応させて得られるフェノールアラル
キル樹脂を用いるエポキシ樹脂組成物、その硬化物およ
びそれを利用した半導体装置。 【効果】 酸性物質やイオン性不純物の極端に少ないフ
ェノールアラルキル樹脂をエポキシ樹脂硬化剤として用
いることにより、耐熱性、耐湿性、機械的強度、耐酸化
安定性等に優れた上、電気的な面においても、信頼性の
高い最終的な製品を与えるエポキシ樹脂組成物を提供す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フェノールアラルキル
樹脂を硬化剤として用いたエポキシ樹脂組成物、その硬
化物、およびそれを用いた半導体装置に関するものであ
る。さらに詳細には、酸性物質やイオン性不純物の極端
に少ないフェノールアラルキル樹脂を硬化剤として用い
ることにより、耐熱性、耐湿性、機械的強度、耐酸化安
定性等に優れた上、電気的な面においても、信頼度の高
い最終的な製品を与えるエポキシ樹脂組成物、硬化物、
およびそれを用いた半導体装置に関するものである。ま
た、本発明のエポキシ樹脂組成物は、成形、注型、積
層、接着等の分野においても有用なものである。
【0002】
【従来の技術】従来、フェノール成分と連結基成分との
交互共重合体からなるフェノール樹脂の最も一般的なも
のとしては、古くから知られ、製造されてきたフェノー
ルとアルデヒドから得られる樹脂があり、中でもフェノ
ールとホルムアルデヒドとを鉱酸や有機酸等の酸性触媒
下において反応せしめて製造されるノボラックがその典
型である。このノボラック樹脂は現在も先に挙げたよう
な分野において多く用いられており、特に半導体集積回
路(IC)の封止材料として重要なものである。しかし
ながら、これら種々の産業分野における利用に際し、そ
の性能に対しては必ずしも満足のいく材料といえるもの
ではなく、コスト面およびそれに替わるフェノール樹脂
がないことから用いられているに過ぎない。近年、各産
業分野における技術の進歩に伴い、更なる物性の向上が
図られた樹脂への要求は非常に強いものがある。ノボラ
ック樹脂を例として具体的に述べれば、IC封止材とし
て用いた場合、ガラス転移点(Tg)等により表される
短期的な耐熱性においては非常に高い性能を示すもの
の、吸水性においては求められる水準に対して大きく劣
っている。この原因としては、フェノール成分に対する
連結基成分が非常に小さなメチレン基であることから官
能基密度が高いことに起因するものであり、硬化密度が
高くなるが故にガラス転移点等の短期的な耐熱性に優れ
るものの、極性の高い官能基密度が高いことにより吸水
性もまた高くなるものといえる。近年のかかる産業分野
におけるマトリックス樹脂に対する要求性能の特徴とし
て、耐熱性の向上よりも吸水性が低いことが要求される
傾向にあり、ノボラック樹脂は既に物性的な能力として
限界にあるといえる。また、ノボラック樹脂にはフェノ
ールの連結基としてメチレン基が導入されているが、こ
のメチレン基は高温に曝されたとき、メチレン基の酸化
が速やかに進行することから耐酸化性に劣り、その機械
的強度が著しく低下することはよく知られている。この
ことは、最終的な製品の製造工程において高温に曝さ
れ、また発熱することが避けられないICの封止材料と
して大きな欠点となるものであり、先の吸水性と併せて
改良されることが強く求められている。
【0003】この様な問題点を解決するものとして、フ
ェノール−アラルキル樹脂が提案されている(特公昭4
7−15111、特公昭47−13782、特公昭52
−14280)。これらの樹脂は、一般式(VIII) 、ま
たは一般式(IX)で表されるアラルキル化合物(化3)と
フェノール化合物とを、硫酸、p−トルエンスルホン
酸、ジエチル硫酸や塩化第二錫、塩化亜鉛、塩化第二鉄
等のいわゆるフリーデルクラフツ型触媒等の様な酸性触
媒の存在下において反応させて得られるものである。
【0004】
【化3】 (式中、R9 、R11はフェニレン基等の芳香族残基、R
10は低級アルキル基、aは2または3、Xはハロゲン原
子を示す。)この時、前記一般式(VIII) の代表的な化
合物としてα,α’−ジメトキシ−p−キシレンが、ま
た前記一般式(IX)の代表的な化合物としてはα,α’−
ジクロロ−p−キシレンが挙げられる。この様にして得
られるフェノールアラルキル樹脂は、その連結基がキシ
リレン基に代表されるように芳香族残基であり、ノボラ
ックと比較して官能基密度が減少しているため吸水率が
低下し、また、耐酸化性についても向上し、高温時の機
械的強度の保持率も高いものとなっている。しかしなが
ら、このフェノールアラルキル樹脂の製造に関しては、
前述のように酸性触媒が必要とされ、その結果、高純度
の樹脂を得ることは不可能であるか、もしくは一旦得ら
れた樹脂を精製する工程を必要とし、コスト的に産業へ
の利用は難しいものであった。この酸性触媒は、IC封
止材等の電気、電子分野への展開に関して、酸性物質
として配線部分の金属を腐食するイオン性不純物とし
て本来絶縁体であるべき封止材料の抵抗値を小さくし、
電気的な短絡を引き起こす等の最終的な製品の信頼性を
大きく低下させてしまうといった問題を抱えており、改
良が求められている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、酸性
触媒由来の酸性物質、イオン性不純物の極端に少ないエ
ポキシ樹脂組成物を提供することにある。さらにはその
ようなエポキシ樹脂組成物を提供することによりかかる
産業分野において、電気的信頼性の高い製品を提供する
ことにあり、特に半導体封止材料分野において産業の発
達に寄与することにある。
【0006】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を鑑み鋭意検討した結果、酸性触媒由来の酸性物質、イ
オン性不純物が極端に少ないフェノールアラルキル樹脂
をエポキシ樹脂に対する硬化剤として用いることで、製
品信頼性、特にICの封止材として用いた時の電気的な
特性や酸性物質によるICの金属部分の腐食がないこと
による品質の大幅な向上に寄与できることを見いだし、
本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、樹脂
成分として、A)一分子中に2個以上のエポキシ基を有
するエポキシ樹脂、および、B)一般式(I)(化4)
で表されるフェノール化合物と一般式(II)(化4)で
表されるビスハロゲノメチル化合物とを無触媒で反応さ
せて得られるフェノールアラルキル樹脂、を含有するエ
ポキシ樹脂組成物、その硬化物、およびそれを用いた半
導体装置に関するものである。さらに詳細には、酸性物
質やイオン性不純物の極端に少ないフェノールアラルキ
ル樹脂を硬化剤として用いることにより、耐熱性、耐湿
性、機械的強度、耐酸化安定性等に優れた上、電気的な
面においても、最終的な製品として信頼性の高いエポキ
シ樹脂組成物、硬化物、およびそれを用いた半導体装置
を提供するものである。
【0007】
【化4】 (式中、R1 、R2 は、各々独立に水素原子、炭素数1
〜9の低級アルキル基、炭素数1〜4までの低級アルコ
キシ基、フェニル基、ハロゲン原子、水酸基を示し、互
いに異なっていても同一であっても良く、また環を形成
していても良い。R3 はフェニレン基、アルキル置換フ
ェニレン基、ビフェニレン基、二価のジフェニルエーテ
ル残基、又はナフチレン基を示し、Xはハロゲン原子を
示す。) 本発明のエポキシ樹脂組成物とは、樹脂成分として、
A)一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ
樹脂、および、B)一般式(I)で表されるフェノール
化合物と、一般式(II)で表されるビスハロゲノメチル
化合物とを無触媒で反応させて得られるフェノールアラ
ルキル樹脂、を含有するものである。
【0008】本発明に用いられるフェノールアラルキル
樹脂の製造に関しては、特開平6−100667に記載
されているとおりであるが、一般式(I)で表されるフ
ェノール化合物と、一般式(II)で表されるビスハロゲ
ノメチル化合物とを、無触媒にて、全原料を一括して装
入し、昇温する、または、攪拌されているフェノール化
合物中にビスハロゲノメチル化合物を添加することによ
り反応させた後、未反応フェノール化合物を蒸留、抽出
等任意の方法で留去することで得ることができる。反応
によりハロゲン化水素ガスが副生するが、そのガスは、
反応中窒素等の不活性ガスを通気させて系外へ排除す
る、又は減圧下において除去する、等の任意の方法で排
除する。また、反応に関して不活性なトルエン、クロロ
ベンゼン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等
の溶媒を使用することも何ら差し支えなく、また溶媒の
使用量は任意の量でよい。反応温度は50〜200℃の
範囲で行われ、反応時間は反応温度にも左右されるが、
実質的には副生するハロゲン化水素の発生が認められな
くなるまでであり、一般には1〜15時間の範囲であ
る。
【0009】使用されるフェノール化合物としては、具
体的に例を挙げるならば、フェノール、o−クレゾー
ル、m−クレゾール、p−クレゾール、o−エチルフェ
ノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノー
ル、p−イソプロピルフェノール、p−n−プロピルフ
ェノール、p−sec−ブチルフェノール、o−sec
−ブチルフェノール、p−tert−ブチルフェノー
ル、o−tert−ブチルフェノール、p−tert−
アミルフェノール、p−tert−オクチルフェノー
ル、ノニルフェノール、p−シクロヘキシルフェノー
ル、o−フェニルフェノール、p−フェニルフェノー
ル、p−クミルフェノール、p−α−メチルベンジルフ
ェノール、p−クロロフェノール、p−ブロモフェノー
ル、α−ナフトール、β−ナフトール、レゾルシン、カ
テコール、ハイドロキノン、ピロガロール、フロログリ
シノール等が挙げられ、好ましくは、フェノール、o−
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、α−ナ
フトール、β−ナフトール、o−フェニルフェノール、
p−フェニルフェノールである。これらのフェノール化
合物は単独、あるいは2種類以上混合して用いることが
可能であり、2種類以上混合して用いる場合には、各々
の成分は、フェノール化合物全体の5〜95重量%であ
る。また、ビスハロゲノメチル化合物としては、α,
α’−ジクロロ−o−キシレン、α,α’−ジクロロ−
m−キシレン、α,α’−ジクロロ−p−キシレン、
α,α’−ジブロモ−o−キシレン、α,α’−ジブロ
モ−p−キシレン,α,α’−ジフルオロ−m−キシレ
ン、α,α’−ジフルオロ−p−キシレン等が挙げられ
る。これらのビスハロゲノメチル化合物もまた単独、あ
るいは2種類以上混合して用いることが可能である。
【0010】フェノール化合物の使用量は、ビスハロゲ
ノメチル化合物1モルに対して、1.3〜15モル、好
ましくは1.3〜10モルとなる量である。1.3モル
以下では生成物の軟化点、溶融粘度が高く実用的ではな
くなり、極限的にはゲル化によりフェノール樹脂とは異
なるものとなる。また、この様な反応においては、通常
フェノール化合物の使用量が増せば得られる樹脂の分子
量が低下し、軟化点、溶融粘度が下がるが、15モル以
上では顕著な変化はみられなくなり、効率および経済的
な面から好ましくない。本発明において用いられるフェ
ノールアラルキル樹脂は、先に述べたように触媒を用い
ずに製造されるため、酸性触媒由来の酸性物質、イオン
性不純物が極端に少なく、より具体的には樹脂30gを
300mlの純水で20時間煮沸抽出した時、抽出水の
pHは4.5〜7、塩素イオンは0.1μs/cm以
下、電気電導度が15μs/cm以下である。
【0011】本発明に用いられるエポキシ樹脂とは、一
分子中に2個以上のエポキシ基を有するものであり、例
えば、一般式(III)(化5)で表されるビスフェノール
から誘導されるエポキシ樹脂、一般式(IV)(化5)で
表されるスピロビインダンビスフェノールから誘導され
るエポキシ樹脂、一般式(V)(化5)で表されるビス
フェノールから誘導されるエポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック、もしくはo−クレゾールノボラックから誘導
されるエポキシ樹脂、一般式(VI) (化5)で表される
フェノールアラルキル樹脂から誘導されるエポキシ樹
脂、一般式(VII)(化5)で表されるフェノール−ジシ
クロペンタジエン交互共縮合樹脂から誘導されるエポキ
シ樹脂、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン(ビスフェノールA)、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン(ビスフェノールF)、ビス(4−アミノ
フェニル)メタン、2−(4−アミノフェニル)−2−
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、アニリン/ホル
マリン樹脂、アニリン/アラルキル樹脂、等が挙げられ
る。
【0012】
【化5】 (式中、R4 、R5 は水素原子もしくはメチル基を示
す。R6 、R7 は、各々独立に水素原子、炭素数1〜9
の低級アルキル基、炭素数1〜4までの低級アルコキシ
基、フェニル基、ハロゲン原子、水酸基を示し、互いに
異なっていても同一であっても良く、また環を形成して
いても良い。また、R8 は水素原子、メチル基、又はハ
ロゲン原子を示す。mは0〜20、nは0〜15の整数
を示す。)この中でも好ましくは、一般式(III)で表さ
れるビスフェノールから誘導されるエポキシ樹脂、一般
式(IV) で表されるスピロビインダンビスフェノールか
ら誘導されるエポキシ樹脂、一般式(V)で表されるビ
スフェノールから誘導されるエポキシ樹脂、フェノール
ノボラック、もしくはo−クレゾールノボラックから誘
導されるエポキシ樹脂、一般式(VI) で表されるフェノ
ールアラルキル樹脂から誘導されるエポキシ樹脂、一般
式(VII)で表されるフェノール−ジシクロペンタジエン
交互共縮合樹脂から誘導されるエポキシ樹脂である。こ
れらは単独あるいは2種類以上を用いることが可能であ
り、これらの好ましいエポキシ樹脂を用いる場合は、該
エポキシ樹脂は、全エポキシ樹脂成分の20重量%以上
であればよい。
【0013】本発明において、エポキシ樹脂とフェノー
ルアラルキル樹脂の使用量は、エポキシ樹脂中のエポキ
シ基とフェノールアラルキル樹脂中の活性水素がほぼ等
しくなる量であり、具体的にはエポキシ基1モルに対
し、フェノールアラルキル樹脂中の活性水素が0.75
〜1.25モルの範囲である。現実の使用に際しては、
予め最適配合量を求めておくことが望ましい。
【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて無機および/または有機充填剤を配合することが
可能であり、半導体封止材料として用いるときは通常充
填剤が配合される。また、機械的強度、耐熱性の向上等
を図る目的で各種の添加剤を配合することは何等問題な
く、例えば、樹脂成分と充填剤成分との接着性を向上さ
せるためにカップリング剤を用いることは何の制約も受
けるものではない。充填剤としてはシリカ、アルミナ、
窒化珪素、炭化珪素、タルク、ケイ酸カルシウム、炭酸
カルシウム、マイカ、クレー、チタンホワイト、ガラス
繊維、カーボン繊維、さらにはアラミド繊維、ボロン繊
維、紙などが挙げられ、使用目的、要求性能等に応じて
使い分けられる。例えば、半導体封止材料として用いら
れる場合には、機械的強度、熱膨張率、熱電導率等の点
から、結晶シリカおよび/または溶融シリカが多く用い
られ、特に成形時の流動性が勘案され、その形状は球
形、または球形と不定型の混合物がより好ましいとされ
る。また、充填剤の配合量は、全樹脂成分に対し100
〜950重量%の範囲である。
【0015】カップリング剤としては、シラン系、チタ
ネート系、アルミネート系、ジルコアルミネート系等の
カップリング剤が挙げられ、中でも、特にエポキシ樹脂
と反応する基を有するシラン系カップリング剤が最も好
ましい。シラン系カップリング剤を具体的に例示すれ
ば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、N−(2−アミノメチル)−3−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、3−アニリノプロピルトリ
メトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシラン、3−メタクロキシプロピルトリ
メトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン等を挙げることができる。これらのカップリング
剤は単独、あるいは2種以上を併用して用いることがで
きるが、使用に際しては、予め充填剤の表面に吸着ある
いは反応により固定化されていることが好ましい。ま
た、本発明のエポキシ樹脂組成物を実際に使用する際に
は、その他の添加剤、例えば、脂肪酸、脂肪酸塩、ワッ
クス等の離型剤、ブロム化合物、アンチモン、リン等の
難燃剤、カーボンブラック等の着色剤、さらには硬化物
の内部応力の低減を目的としたシリコーン化合物、等を
使用することを妨げるものではない。本発明のエポキシ
樹脂組成物の硬化物は、硬化促進剤を触媒とし、例え
ば、注型加工することにより得ることができる。硬化促
進剤としては公知のものは全て使用可能であるが、具体
的に例示すれば、2−メチルイミダゾール、2−メチル
−4−エチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾ
ール等のイミダゾール類、トリエタノールアミン、トリ
エチレンジアミン、N−メチルモルホリン等のアミン
類、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、
トリトリルホスフィン等の有機ホスフィン類、テトラフ
ェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリエチ
ルアンモニウムテトラフェニルボレート等のテトラフェ
ニルボロン類、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,
0)ウンデセン−7およびその誘導体等が挙げられる。
これらの硬化促進剤は単独、あるいは2種類以上を併用
して用いられる。その使用量は、一般にエポキシ樹脂組
成物中の全樹脂成分に対して0.01〜10重量部の範
囲であり、実際の使用に際しては予め最適使用量を求め
ておくことが望ましい。
【0016】本発明においては、前記の硬化物を用いて
半導体素子の封止を行う。その際には、通常のトランス
ファー成型等の公知のモールド方法により行うことがで
きるが、その方法は特に限定されるものではない。この
ようにして得られる本発明の半導体装置は、半田浸漬時
における対クラック性等に優れた性能を発揮するばかり
でなく、樹脂成分中に酸性物質、イオン性不純物を含ま
ないため、半導体素子部分の金属に対する腐食性が小さ
く、また電気特性などにおいて非常に優れるため、製品
としての品質、信頼性に優れるものである。
【0017】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に何ら制限されるもの
ではない。 合成例1 撹拌器、温度計、窒素導入管及び還流冷却器を備えたガ
ラス製反応容器に、フェノール;188g(2mo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン;175g
(1mol)を装入し、攪拌を行いながら90〜100
℃において4時間反応させた後、さらに1時間で150
℃まで昇温した。この後、150〜160℃で2時間熟
成および脱気、脱塩酸を行った。この反応の間、反応液
中に挿入された窒素導入管より窒素を通気し、バブリン
グを行った。尚、発生した塩酸は系外の集気瓶中でアル
カリ水溶液でトラップした。反応終了後、未反応のフェ
ノールは最高170℃、2mmHgの条件下で減圧留去
し、残渣として得られた目的の式(X)(化6)で表さ
れるフェノールアラルキル樹脂を受器に排出した。
【0018】
【化6】 (mは0〜20の整数を示す。)得られた樹脂は極微黄
色固体であり、収量は190gであった。この樹脂の軟
化点は76℃、ICI溶融粘度は1.9ポイズ(150
℃)であり、高速液体クロマトグラフィー(GPC)に
よる分析の結果、平均分子量(ポリスチレン換算)はM
N(数平均分子量)=1087、MW(重量平均分子
量)=2423、MW/MN=2.23の組成を持つ樹
脂であった。この樹脂の水酸基当量は176g/eqで
あった。また、その組成(Area%)は以下の通りで
あった。 m=0 17.2% m=1 13.3% m=2 10.5% m=3 8.6% m=4 7.1% m=5 5.9% m≧6 37.4% この樹脂30gを300mlの純水で20時間煮沸抽出
(95±5℃)した時の抽出水を試料検体として分析し
たところ、pH=5.5、EC(電気伝導度)=2μs
/cm、Cl-=0.02μs/cmであった。なお、
樹脂の加水分解塩素を測定したところ検出されず、元素
分析による全塩素は30ppmであった。
【0019】合成例2 撹拌器、温度計、窒素導入管及び還流冷却器を備えたガ
ラス製反応容器に、フェノール;141g(1.5mo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン;175g
(1mol)を装入し、合成例1と同様にして目的のフ
ェノールアラルキル樹脂を得た。得られた樹脂は極微黄
色固体であり、収量は194gであった。この樹脂の軟
化点は94℃、ICI溶融粘度は92ポイズ(150
℃)であり、高速液体クロマトグラフィー(GPC)に
よる分析の結果、平均分子量(ポリスチレン換算)はM
N=1949、MW=12928、MW/MN=6.6
3の組成を持つ樹脂であった。この樹脂の水酸基当量は
179g/eqであった。また、その組成(Area
%)は以下の通りであった。 m=0 8.4% m=1 6.8% m=2 5.6% m=3 4.7% m=4 3.9% m=5 3.4% m≧6 67.2% この樹脂30gを300mlの純水で20時間煮沸抽出
(95±5℃)した時の抽出水を試料検体として分析し
たところ、pH=5.5、EC(電気伝導度)=2μs
/cm、Cl-=0.02μs/cmであった。なお、
樹脂の加水分解性塩素を測定したところ検出されず、元
素分析による全塩素は30ppmであった。
【0020】合成例3 撹拌器、温度計、窒素導入管及び還流冷却器を備えたガ
ラス製反応容器に、フェノール;235g(2.5mo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン;175g
(1mol)を装入し、合成例1と同様にして目的のフ
ェノールアラルキル樹脂を得た。得られた樹脂は極微黄
色固体であり、収量は186gであった。この樹脂の軟
化点は59.5℃、ICI溶融粘度は0.8ポイズ(1
50℃)であり、高速液体クロマトグラフィー(GP
C)による分析の結果、平均分子量(ポリスチレン換
算)はMN=840、MW=1446、MW/MN=
1.72の組成を持つ樹脂であった。この樹脂の水酸基
当量は168g/eqであった。また、その組成(Ar
ea%)は以下の通りであった。 m=0 25.2% m=1 18.3% m=2 13.4% m=3 10.0% m=4 7.6% m≧5 25.5% この樹脂30gを300mlの純水で20時間煮沸抽出
(95±5℃)した時の抽出水を試料検体として分析し
たところ、pH=5.5、EC(電気伝導度)=2μs
/cm、Cl-=0.02μs/cmであった。なお、
樹脂の加水分解性塩素を測定したところ検出されず、元
素分析による全塩素は30ppmであった。
【0021】合成例4 撹拌器、温度計、窒素導入管及び還流冷却器を備えたガ
ラス製反応容器に、o−クレゾール;216g(2mo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン;175g
(1mol)を装入し、合成例1と同様にして目的の式
(XI)(化7)で表されるo−クレゾールアラルキル樹
脂を得た。
【0022】
【化7】 (mは0〜20の整数を示す。) 得られた樹脂は極微黄色固体であり、収量は203gで
あった。この樹脂の軟化点は49℃、ICI溶融粘度は
0.3ポイズ(150℃)であり、高速液体クロマトグ
ラフィー(GPC)による分析の結果、平均分子量(ポ
リスチレン換算)はMN=847、MW=1369、M
W/MN=1.62の組成を持つ樹脂であった。この樹
脂の水酸基当量は190g/eqであった。また、その
組成(Area%)は以下の通りであった。 m=0 23.6% m=1 19.8% m=2 15.0% m=3 11.2% m=4 8.3% m≧5 22.0% この樹脂30gを300mlの純水で20時間煮沸抽出
(95±5℃)した時の抽出水を試料検体として分析し
たところ、pH=5.5、EC(電気伝導度)=2μs
/cm、Cl-=0.02μs/cmであった。なお、
樹脂の加水分解性塩素を測定したところ検出されず、元
素分析による全塩素は30ppmであった。
【0023】合成例5 撹拌器、温度計、窒素導入管及び還流冷却器を備えたガ
ラス製反応容器に、フェノール;131.6g(1.4
mol)、o−クレゾール;64.8g(0.6mo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン;175g
(1mol)を装入し、合成例1と同様にして目的の式
(XII)(化8)で表されるフェノール/o−クレゾール
アラルキル樹脂を得た。
【0024】
【化8】 (Rは水素原子、またはメチル基を示す。mは0〜20
の整数を示す。) HPLCにおける分析の結果、樹脂中のフェノール/o
−クレゾールのモル比は、66.5/33.5であっ
た。得られた樹脂は極微黄色固体であり、収量は203
gであった。この樹脂の軟化点は68℃、ICI溶融粘
度は1.5ポイズ(150℃)であり、高速液体クロマ
トグラフィー(GPC)による分析の結果、平均分子量
(ポリスチレン換算)はMN=847、MW=136
9、MW/MN=1.62の組成を持つ樹脂であった。
この樹脂の水酸基当量は180g/eqであった。ま
た、その組成(Area%)は以下の通りであった。 m=0 18.3% m=1 15.0% m=2 11.9% m=3 9.5% m=4 7.7% m=5 6.4% m≧6 31.1% この樹脂30gを300mlの純水で20時間煮沸抽出
(95±5℃)した時の抽出水を試料検体として分析し
たところ、pH=5.5、EC(電気伝導度)=2μs
/cm、Cl-=0.02μs/cmであった。なお、
樹脂の加水分解性塩素を測定したところ検出されず、元
素分析による全塩素は30ppmであった。
【0025】合成例6 合成例1におけるフェノール;188g(2mol)を
α−ナフトール;288g(2mol)に替え、同様に
して得られる下記式(XIII)(化9)で表されるα−ナ
フトールアラルキル樹脂の抽出水を分析した。結果を表
−1(表1)に示す。
【0026】
【化9】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 16.3% m=1 13.5% m=2 9.2% m=3 7.5% m=4 6.6% m=5 5.2% m≧6 41.7%
【0027】合成例7 合成例1におけるフェノール188g;(2mol)を
β−ナフトール;288g(2mol)に替え、同様に
して得られる下記式(XIV)(化10)で表されるβ−ナ
フトールアラルキル樹脂の抽出水を分析した。結果を表
−1に示す。
【0028】
【化10】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 16.6% m=1 13.4% m=2 8.9% m=3 7.3% m=4 6.4% m=5 5.0% m≧6 42.4%
【0029】合成例8 合成例1におけるフェノール188g;(2mol)を
o−フェニルフェノール;340g(2mol)に替
え、同様にして得られる下記式(XV) (化11)で表さ
れるo−フェニルフェノールアラルキル樹脂の抽出水を
分析した。結果を表−1に示す。
【0030】
【化11】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 20.4% m=1 18.8% m=2 13.8% m=3 10.5% m=4 7.1% m=5 5.5% m≧6 23.9%
【0031】合成例9 合成例1におけるフェノール188g;(2mol)を
p−フェニルフェノール340g;(2mol)に替
え、同様にして得られる下記式(XVI)(化12)で表さ
れるp−フェニルフェノールアラルキル樹脂の抽出水を
分析した。結果を表−1に示す。
【0032】
【化12】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 19.8% m=1 17.5% m=2 14.2% m=3 10.8% m=4 6.3% m=5 4.9% m≧6 26.5%
【0033】合成例10 合成例1におけるフェノール188g;(2mol)を
m−クレゾール;216g(2mol)に替え、同様に
して得られる下記式(XVII) (化13)で表されるm−
クレゾールアラルキル樹脂の抽出水を分析した。結果を
表−1に示す。
【0034】
【化13】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 15.8% m=1 13.1% m=2 11.4% m=3 8.9% m=4 7.0% m=5 5.2% m≧6 38.6%
【0035】合成例11 合成例1におけるフェノール;188g(2mol)を
p−クレゾール;216g(2mol)に替え、同様に
して得られる下記式(XVIII)(化14)で表されるp−
クレゾールアラルキル樹脂の抽出水を分析した。結果を
表−1に示す。
【0036】
【化14】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 22.9% m=1 19.4% m=2 15.7% m=3 11.5% m=4 8.8% m≧5 21.7%
【0037】合成例12 合成例1におけるフェノール;188g(2mol)を
ノニルフェノール;440g(2mol)に替え、同様
にして得られる下記式(XIX)(化15)で表されるノニ
ルフェノールアラルキル樹脂の抽出水を分析した。結果
を表−1に示す。
【0038】
【化15】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 23.5% m=1 19.8% m=2 15.1% m=3 11.0% m=4 8.5% m≧5 22.1%
【0039】合成例13 合成例1におけるフェノール;188g(2mol)を
レゾルシン;220g(2mol)に替え、同様にして
得られる下記式(XX) (化16)で表されるレゾルシン
アラルキル樹脂の抽出水を分析した。結果を表−1に示
す。
【0040】
【化16】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 16.2% m=1 13.8% m=2 11.7% m=3 8.4% m=4 5.2% m≧5 44.7%
【0041】合成例14 合成例1におけるフェノール;188g(2mol)を
p−クロロフェノール;257g(2mol)に替え、
同様にして得られる下記式(XXI)(化17)で表される
p−クロロフェノールアラルキル樹脂の抽出水を分析し
た。結果を表−1に示す。
【0042】
【化17】 また、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分
析の結果、この樹脂の組成(Area%)は以下の通り
であった。 m=0 24.8% m=1 20.6% m=2 16.0% m=3 12.1% m=4 9.3% m≧5 17.2%
【0043】
【表1】
【0044】合成例15 撹拌器、温度計、および還流冷却器を備えたガラス製反
応容器に、6,6’−ジヒドロキシ−3,3,3’,
3’−テトラメチル−1,1’−スピロビインダン;1
54g(0.5mol)、エピクロルヒドリン;46
2.5g(5mol)およびテトラメチルアンモニウム
クロライド;0.55g(0.005mol)を装入
し、攪拌を行いながら115℃において5時間反応させ
た。その後、エピクロルヒドリンを減圧留去し、残渣に
トルエン150gを装入して完全に溶解させた。この溶
液を90℃とした後、同温度を保ちながら30%水酸化
ナトリウム水溶液;194g(1.45mol)を一時
間かけて滴下した。さらに90〜95℃を維持しながら
撹拌を行い、閉環反応を進行させた。反応を5時間行っ
た後、静置・分液により水層を除いた。さらに、200
gの水を加え、有機層を洗浄した。この操作は水層に水
酸化ナトリウムおよび食塩が抽出されなくなるまで行っ
た。最後に水を分液したのち、トルエンを減圧留去し、
褐色樹脂状のエポキシ樹脂;188gを得た。この樹脂
の軟化点65℃(JIS−K−2548)であり、エポ
キシ当量は220g/eqであった。
【0045】合成例16 撹拌器、温度計、ディーン・スターク水分離器および還
流冷却器を備えたガラス製反応容器に、合成例4におい
て製造されたo−クレゾールアラルキル樹脂(水酸基当
量190g/eq);100g(0.526mol)、
エピクロルヒドリン;243.4g(2.63mol)
を装入し、115℃まで昇温した。内温を105〜12
0℃に保ちながら、40%水酸化ナトリウム水溶液;5
8g(0.58mol)を1.5時間で滴下した。反応
中、共沸してくる水はディーン・スターク水分離器によ
り系外にトラップし、エピクロルヒドリンは系内に還元
した。滴下終了後、実質的に水の留出が認められなくな
った後、同温度で30分間熟成し、冷却後生成した無機
塩を濾別した。濾液からエピクロルヒドリンを最高15
0℃までの温度において減圧留去し、粗エポキシ樹脂を
得た。この粗エポキシ樹脂に、メチルイソブチルケトン
(MIBK)250gを加えて均一な溶液とした。この
溶液を70℃に加熱し、5%水酸化ナトリウム水溶液;
50gを加え、同温度を保ちながら2時間撹拌行って後
閉環を行った。反応終了後、静置・分液により水層を除
いた。この後、200gの水を加え、有機層を洗浄し
た。この操作は水層に水酸化ナトリウムおよび食塩が抽
出されなくなるまで行った。最後に水を分液したのち、
MIBKを減圧留去し、微黄色透明の精エポキシ樹脂;
118gを得た。この樹脂は半固形であり、エポキシ当
量は245g/eqであった。
【0046】合成例17 撹拌器、温度計、窒素導入管及び還流冷却器を備えたガ
ラス製反応容器撹に、フェノール;470g(5mo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン;175g
(1mol)を装入し、合成例1と同様にしてフェノー
ルアラルキル樹脂を得た。この樹脂中のn=0成分の含
有量は、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による
分析の結果、55.2Area%であった。この樹脂か
ら、最高315℃/1mmHgの条件下においてn=0
成分(ビスフェノール体)を蒸留により分離した。主留
分の純度はGPCによる分析により97.5Area%
であり、2.5%のn=1成分を含むものであった。収
量は115gであった。得られたビスフェノール体;1
08.8gをエピクロルヒドリン;346.9g(3.
75mol)に溶解し、合成例17と同様にして対応す
るエポキシ樹脂を145gの収量で得た。この樹脂のエ
ポキシ当量は209g/eqであった。
【0047】合成例18 撹拌器、温度計、ディーン・スターク水分離器および還
流冷却器を備えたガラス製反応容器に、フェノール−ジ
シクロペンタジエン共縮合樹脂である、DPR#500
0(三井東圧化学(株)製;水酸基当量165g/e
q);165g、エピクロルヒドリン462.5g(5
mol)を装入し、合成例17と同様にして精エポキシ
樹脂210gを得た。この樹脂のエポキシ当量は230
g/eqであった。
【0048】合成例19 撹拌器、温度計、窒素道入管、還流冷却器を備えたガラ
ス製反応容器に、フェノール;188g(2mol)、
α,α’−ジメトキシ−p−キシレン;166g(1m
ol)、触媒としてジエチル硫酸;0.7gを装入し、
攪拌を行いながら徐々に昇温した。30分後、内温が1
30℃に達し、メタノールの発生が認められた。このま
ま温度を維持しながら反応を続け、2時間後にメタノー
ルの発生がほぼみられなくなった後に、温度を150℃
とし、さらに一時間熟成を行って反応を終了とした。反
応は窒素気流下において行われ、発生したメタノールは
速やかに系外へと除去された。引続き、未反応フェノー
ルが最高170℃の条件下において減圧留去され、残渣
として目的の式(X)で表される赤褐色のフェノールア
ラルキル樹脂;186gを得た。この樹脂の軟化点は7
5℃、ICI溶融粘度は1.6ポイズ(150℃)であ
り、高速液体クロマトグラフィー(GPC)による分析
の結果、平均分子量(ポリスチレン換算)はMN=10
10、MW=2023、MW/MN=2.00の組成を
持つ樹脂であった。この樹脂の水酸基当量は175g/
eqであった。また、その組成(Area%)は以下の
通りであった。 m=0 17.0% m=1 13.3% m=2 10.6% m=3 8.6% m=4 7.2% m=5 5.9% m≧6 37.4% この樹脂30gを300mlの純水で20時間煮沸抽出
(95±5℃)した時の抽出水を試料検体として分析し
たところ、pH=4.4、EC(電気伝導度)=28μ
s/cm、Cl-=0.02μs/cmであった。
【0049】実施例1 合成例1において製造されたフェノールアラルキル樹脂
を、テトラメチルビフェノール型エポキシ樹脂(商品
名:YX−4000、エポキシ当量184g/eq、油
化シェルエポキシ社製)の硬化剤として用い、さらに充
填剤、各種添加剤を、表−2(表2)に示す割合(重合
部)で配合し、100℃において3分間ロール混練して
エポキシ樹脂組成物を得た。さらにこのエポキシ樹脂組
成物を注型加工して硬化物を得、その物性を測定した。
尚、物性測定用の試験片はエポキシ樹脂組成物を180
℃、30Kg/cm2、3minの条件でトランスファ
ー成型により得た。また、フラットパッケージ型半導体
装置用リードフレームの素子登載部に試験用素子(10
mm×10mm角)を登載した後、この樹脂組成物を用
いてトランスファー成型により物性測定用半導体装置を
得、半田浴テスト(クラック発生テスト)を行った。結
果は表−2(表2)に示すとおりである。
【0050】実施例2〜6 実施例1におけるエポキシ樹脂を、以下に示すエポキシ
樹脂に替え、同様にして得られる硬化物の物性および半
導体装置のクラック発生テストを行った。結果は表−2
に示すとおりである。 実施例2 o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(商品名;EOCN102S、エポキシ当量193g/
eq、日本化薬製) 実施例3 合成例15において製造された6,6’−
ジヒドロキシ−3,33’,3’,−テトラメチル−
1,1’−スピロビインダンのエポキシ樹脂(エポキシ
当量220g/eq) 実施例4 合成例16において製造されたo−クレゾ
ールアラルキル樹脂のエポキシ樹脂(エポキシ当量24
5g/eq) 実施例5 合成例17において製造されたビスフェノ
ールのエポキシ樹脂(エポキシ当量209g/eq) 実施例6 合成例18において製造されたフェノール
−ジシクロペンタジエン共縮合樹脂のエポキシ樹脂(エ
ポキシ当量230g/eq)
【0051】
【表2】
【0052】実施例7〜12 実施例1におけるフェノールアラルキル樹脂を、以下に
示すフェノールアラルキル樹脂に替え、同様にして得ら
れる硬化物の物性および半導体装置のクラック発生テス
トを行った。結果は表−3(表3)に示すとおりであ
る。 実施例7 合成例4において製造されたo−クレゾー
ルアラルキル樹脂(水酸基当量190g/eq) 実施例8 合成例5において製造されたフェノール/
o−クレゾール混合アラルキル樹脂(水酸基当量180
g/eq) 実施例9 合成例7において製造されたβ−ナフトー
ルアラルキル樹脂(水酸基当量227g/eq) 実施例10 合成例8において製造されたo−フェニル
フェノールアラルキル樹脂(水酸基当量243g/e
q) 実施例11 合成例11において製造されたp−クレゾ
ールアラルキル樹脂(水酸基当量188g/eq) 実施例12 合成例12において製造されたノニルフェ
ノールアラルキル樹脂(水酸基当量243g/eq)
【0053】比較例1〜6 実施例1〜6における硬化剤を、合成例19において製
造されたフェノールアラルキル樹脂に替え、同様にして
得られる硬化物の物性および半導体装置のクラック発生
テストを行った。結果は表−4(表4)に示すとおりで
ある。
【0054】
【表3】
【0055】
【表4】
【0056】表−1に示されるように、合成例1〜14
において、無触媒にて製造されたフェノールアラルキル
樹脂は、酸性触媒を必要とする合成例19の、α,α’
−ジメトキシ−p−キシレンを原料とした樹脂と比較し
て、その抽出水のpHが7に近いことから、酸性物質の
混入がないことがわかる。また、同様に電気伝導度が約
1/15であり実質的に無視できる範囲である。さら
に、以上の結果は、反応に関して副生する塩酸の樹脂へ
の混入も無いことを示している。このことは抽出水中の
塩素イオンの量、および、元素分析からも支持されてい
る。実施例1〜6は合成例1において製造されたフェノ
ールアラルキル樹脂を硬化剤として用いており、絶縁抵
抗が非常に大きくまた吸湿処理(100℃/2HR煮
沸)した後も殆ど変化がみられない。これに対し比較例
1〜6は、それぞれ実施例1〜6と同じエポキシ樹脂に
対する硬化剤として、反応触媒として酸性物質を用いた
合成例19において製造されたフェノールアラルキル樹
脂を用いたものである。基本的な樹脂骨格は同じである
ために、基本的な耐熱性、機械的物性に関しては有意差
は認められないが、絶縁抵抗に明かな差がみられる。即
ち、常態において2桁小さな値となっているほか、吸湿
処理後の抵抗値の低下も顕著になっている。以上の実施
例から、酸性物質、イオン性不純物の極端に少ないフェ
ノールアラルキル樹脂をエポキシ樹脂に対する硬化剤と
して用いることは、電気的な物性の面で製品の品質の向
上につながるものであることがわかる。
【0057】
【発明の効果】酸性物質やイオン性不純物の極端に少な
いフェノールアラルキル樹脂を硬化剤として用いること
により、耐熱性、耐湿性、機械的強度、耐酸化安定性等
に優れた上、電気的な面においても、信頼性の高い最終
的な製品を与えるエポキシ樹脂組成物、硬化物、および
それを用いた半導体装置を提供することが可能となり、
かかる産業分野の発達に大きく寄与する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂成分として、 A)一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ
    樹脂、および B)一般式(I)(化1)で表されるフェノール化合物
    と、一般式(II)(化1)で表されるビスハロゲノメチ
    ル化合物とを、無触媒で反応させて得られるフェノール
    アラルキル樹脂、を含有するエポキシ樹脂組成物。 【化1】 (式中、R1 、R2 は、各々独立に水素原子、炭素数1
    〜9の低級アルキル基、炭素数1〜4までの低級アルコ
    キシ基、フェニル基、ハロゲン原子、水酸基を示し、互
    いに異なっていても同一であっても良く、また環を形成
    していても良い。R3 はフェニレン基、アルキル置換フ
    ェニレン基、ビフェニレン基、二価のジフェニルエーテ
    ル残基、又はナフチレン基を示し、Xはハロゲン原子を
    示す。)
  2. 【請求項2】 樹脂成分に対し、100〜950重量%
    の無機および/また有機充填剤を含有する請求項1記載
    のエポキシ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 フェノールアラルキル樹脂が、樹脂30
    gを300mlの純水で20時間煮沸抽出した時、その
    抽出水のpHが4.5〜7、塩素イオンが0.1μs/
    cm以下、電気伝導度が15μs/cm以下であること
    を特徴とする請求項1または2記載のエポキシ樹脂組成
    物。
  4. 【請求項4】 フェノール化合物が、フェノール、o−
    クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、α−ナ
    フトール、β−ナフトール、o−フェニルフェノール、
    p−フェニルフェノールから選択される少なくとも1種
    である請求項1〜3のいずれかに記載のエポキシ樹脂組
    成物。
  5. 【請求項5】 フェノール化合物が、フェノール、o−
    クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、α−ナ
    フトール、β−ナフトール、o−フェニルフェノール、
    p−フェニルフェノールのから選択される2種類以上の
    混合物であり、各々の成分がフェノール化合物全体の5
    〜95重量%である請求項1〜4のいずれかに記載のエ
    ポキシ樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 エポキシ樹脂が、 a)一般式(III)(化2)で表されるビスフェノールか
    ら誘導されるエポキシ樹脂、 b)一般式(IV)(化2)で表されるスピロビインダン
    ビスフェノールから誘導されるエポキシ樹脂、 c)一般式(V)(化2)で表されるビスフェノールか
    ら誘導されるエポキシ樹脂、 d)フェノールノボラック、もしくはo−クレゾールノ
    ボラックから誘導されるエポキシ樹脂、 e)一般式(VI)(化2)で表されるフェノールアラル
    キル樹脂から誘導されるエポキシ樹脂、 f)一般式(VII )(化2)で表されるフェノール−ジ
    シクロペンタジエン交互共縮合樹脂から誘導されるエポ
    キシ樹脂、から選択される少なくとも一種である請求項
    1〜5のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。 【化2】 (式中、R4 、R5 は水素原子もしくはメチル基を示
    す。R6 、R7 は各々独立に水素原子、炭素数1〜9の
    低級アルキル基、炭素数1〜4までの低級アルコキシ
    基、フェニル基、ハロゲン原子、水酸基を示し、互いに
    異なっていても同一であっても良く、また環を形成して
    いても良い。また、R8 は水素原子、メチル基、ハロゲ
    ン原子を示す。mは0〜20、nは0〜15の整数を示
    す。)
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかに記載のエポキ
    シ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の硬化物を用いて得られる
    半導体装置。
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Cited By (8)

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