JPH0828408B2 - 半導体ウエハ測定方法 - Google Patents

半導体ウエハ測定方法

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JPH0828408B2
JPH0828408B2 JP2417697A JP41769790A JPH0828408B2 JP H0828408 B2 JPH0828408 B2 JP H0828408B2 JP 2417697 A JP2417697 A JP 2417697A JP 41769790 A JP41769790 A JP 41769790A JP H0828408 B2 JPH0828408 B2 JP H0828408B2
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JP
Japan
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chip
needle
semiconductor wafer
measurement
pad
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JP2417697A
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準一 井上
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Tokyo Electron Ltd
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Tokyo Electron Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体ウエハ測定方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体ウエハ測定装置は、まずウ
エハ内に同一チップが数百個存在しているうちの1個の
チップに対し、オペレーターがチップ内の電極パッドに
プローブカード針を接触させて適正な位置であることを
オペレータが顕微鏡、モニターテレビ等で確認し、その
後、半導体ウエハプロービング装置の機械精度(自動認
識装置の精度も含む)とチップの繰り返し精度のみを信
頼し、該電極パッドにプローブカード針が接触されてい
るという仮定で、プローブカード針と接続されているテ
スターでチップの良否を判定している。
【発明が解決しようとする課題】
【0003】上述の判定作業により当該チップが不良チ
ップであると判定された時点では、該チップが真実不
良であるのか、半導体ウエハプローバ自身の機械精度
が悪くてプローブカード針の接触がパッド面よりずれ、
チップの他の配線部に触れて不良と判定されたのか、
プローブカード針が悪いのか、いずれとも判別すること
が出来ない。
【0004】このような理由により連続的に不良が続い
た場合は、不良チップが続く前のチップに戻し、再度プ
ローブカード針を前に戻したチップに接触させて試験を
やり直している。このように自動式の半導体ウエハプロ
ーバを用いる測定でありながら、より多くの人員を介在
させて試験を行っているのが実情である。
【0005】このような誤った測定は良品と不良品とを
判定するための正確さを期する測定としてはあってはな
らないものである。
【0006】又、半導体ウエハのチップの試験におい
て、特に、高集積度が進む今日、電極パッドが小さくな
り、該電極パッド内にぎりぎりの条件でプローブカード
針が接触して良品として判定されるチップが存在する。
そのうえ、電極パッドの表面には自然酸化膜が形成され
ており、この膜をその都度プローブカード針で破ってコ
ンタクトを取るため、オーバードライブをかけているが
このオーバードライブも最大限にはかけられず高集積度
にされればされる程、このように誤検査が多々発生して
いた。
【0007】このようなチップもウエハ状から個々に切
離してパッケージングすることにより、集積回路(I
C)製品となるが、前述のようにぎりぎりの条件で良品
とされたチップは使用している集積回路製品に良品とし
ての余裕がなく、他の良品で製造された集積回路製品と
比べて早期に故障を起こし実質的に不良品に近く、よっ
て、信頼性の低下につながる欠点があった。
【0008】これを防止するためウエハプローバでウエ
ハ試験終了後は全ウエハのチップ、もしくは、抜き取り
により決められたチップは、オペレータによって顕微
鏡、モニターテレビ等で拡大することによりパッドの針
跡を観測され、その結果、プローブカード針とパッドは
適切な位置で接触されていると判断されると、このウエ
ハは良品のウエハであると決定される。
【0009】しかしながら、かかる作業には大勢の目視
のためのオペレータが必要であり、又、チップの良、否
の判定をオペレータの目に依存しているので、オペレー
タによる目視のバラツキによりこれを正確に行うことが
困難であるという難点があった。
【0010】この発明の目的は上述従来技術に基づく問
題点に対処してなされたものであって、測定時のプロー
ブ針の電極パッドとの接触状況を測定後時に併せて判別
出来るようにした半導体ウエハ測定方法を提供せんとす
るものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明の半導体ウエハ
測定方法は被測定半導体ウエハ内の各チップの電極パッ
ドについてプローブ針を順次接触させて電気的測定を行
う工程と、この工程により測定後の半導体ウエハの中の
チップについて針跡を観察する工程と、この工程により
上記測定中プローブ針、及び、チップの電極パッドが適
切な接触であったかどうか判断する工程とを具備してな
る技術的手段を講じたものである。
【0012】
【作用】この発明の半導体ウエハ測定方法はプローブ針
をチップの電極パッドに接触させて測定し該測定時のチ
ップを検出し、このチップのパッドに対するプローブ針
の針跡からプローブ針の電極パッドに対する電気的接触
状況を測定して、この検査結果から検査の可否を決定す
るため、不良検査時間を減少させると共に半導体ウエハ
検査結果の信頼性が向上するばかりでなく、良品を不良
品と判定する誤検査を減少させ歩留りを向上させるよう
にする。
【0013】
【実施例】以下に、この発明の半導体ウエハ測定装置を
図1乃至図7を用いて説明する。
【0014】図6の制御部10の制御により測定機構1
1の載置台3をX軸、Y軸、Z軸、及び、Z軸芯におけ
る周方向に駆動機構(系)12で移動(X軸方向にL、
Y軸方向にS)させ、ウエハ1を位置決めした後、図2
に示す載置台3に被測定半導体ウエハ1を真空吸着して
仮固定する。次に、図6に示す制御部10の制御でプロ
ーブカード針2をチップ4のパッド5上に接触させ、当
該チップ4の電気的な特性をテスタ15で測定する。こ
の時、図4に示す様に、プローブカード針2が該チップ
4上に接触して電極パッド5に針跡Rを付与する。この
ようにして当該半導体ウエハ1の全チップ4につき測定
する。次に、測定が終了したウエハ1についてこの針跡
Rが付加されたチップ4を図6に示した認識装置13で
認識する位置Pに図1に示す様に移動する。この移動は
制御部(系)10の指示により駆動機構12、即ち、載
置台3を動かす図示しないX軸、Y軸用モータにより指
定された位置まで移動させる。
【0015】このような操作により図6で示す既に記憶
(メモリ)部14に記憶されている指定面積(条件)Q
の読み出し情報と、図4に示した現実に上記手段により
付加された針跡を位置Pで認識装置13により認識する
ことにより得られ、付加されたプローブ針2の針跡Rの
面積とを比較する。その際、図4に示す様に指定面積Q
内に針跡Rがあり、この針跡Rの面積が予め定められた
許容範囲内である場合には、プローブカード針2と電極
パッド5との接触は適切であると認識装置13で判断す
る。この結果を記憶部14に記憶する。判断の情報が
「適切な接触」の場合は上記測定結果を検査結果として
判断する。
【0016】同様にして図5に示す様に、既に記憶部1
4に設定してある指定面積(条件)Q内に現実に付加し
た針跡Rが位置していないと認識装置13で判断された
場合にはプローブカード針2とパッド5とは「不適切な
接触」であると認識装置13で判断する。
【0017】このような工程を図7のフローチャートに
よって説明すると、まず測定機構の載置台3にウエハを
セットし、該載置台3を移動させて各チップ毎にプロー
ブ針を接触させる(a)。その際、各チップの電極パッ
ド5に針跡が付加される(b)。
【0018】次いで、各チップ毎にテスタ15を介して
通常の電気的測定を行った後(c)、針跡を付加したチ
ップ4をチェックする(d)。そして、上記載置台3を
移動させてチップ4を認識装置13上に位置させて不良
チップを所定個数以上検出する(e)。そして、プロー
ブカード針2と電極パッド5との各チップ4毎の接触状
態により上記接触が適切か不適切かを判断する。
【0019】
【発明の効果】この発明の半導体ウエハ測定方法は半導
体ウエハに形成されている全半導体チップの電気的測定
に併せてチップのパッドに対する針跡から測定時のプロ
ーブ針と電極パッドとの接触状況を確認するので数百個
に亘って全てのチップのパッドに針跡を付加した後、従
来ならオペレータによって顕微鏡、モニターテレビ等で
拡大した当該チップ内のパッドの針跡を目視検査する無
駄があったが、この発明ではこのような無駄を除去出
来、したがって、針跡の検査を折込みながら試験するこ
とにより、半導体ウエハプローバの信頼性の向上は図り
知れないものがあり、接触不良による測定ミスが検査不
良につながるのを防ぐことが出来、検査の信頼性が大幅
に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の1実施例の模式概略図である。
【図2】載置台とウエハとプローブ針の模式取り合い断
面図である。
【図3】パッドのチップの指定面積の模式平面図であ
る。
【図4】同、チップに於けるプローブ針跡の適切な場合
の模式平面図である。
【図5】同、不適切な場合の模式平面図である。
【図6】同、機構図である。
【図7】同、フローチャート図である。
【符号の説明】
1 半導体ウエハ 2 プローブカード針 3 載置台 4 チップ 5 パッド 10 制御部 11 測定機構 12 駆動機構 13 認識装置 14 記憶部 15 テスタ Q 指定面積 R 針跡

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被測定半導体ウエハ内の各チップの電極パ
    ッドについてプローブ針を順次接触させて電気的測定を
    行う工程と、この工程により測定後の半導体ウエハの中
    のチップについてパッドに対するプローブ針の針跡の面
    積が予め設定された面積の許容範囲に在るか否かを観察
    する工程と、この工程により上記測定中プローブ針、及
    び、チップの電極パッドが適切な接触であったかどうか
    判断する工程とを具備してなることを特徴とする半導体
    ウエハ測定方法。
JP2417697A 1990-12-15 1990-12-15 半導体ウエハ測定方法 Expired - Lifetime JPH0828408B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS58121638A (ja) * 1982-01-12 1983-07-20 Nec Home Electronics Ltd ウエ−ハプロ−バ用検針のチエツク方法
JPS6024030A (ja) * 1983-07-19 1985-02-06 Telmec Co Ltd 半導体ウエハ測定方法

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