JPH0829318B2 - 水に溶解している物質の水素還元反応方法 - Google Patents
水に溶解している物質の水素還元反応方法Info
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- JPH0829318B2 JPH0829318B2 JP1403789A JP1403789A JPH0829318B2 JP H0829318 B2 JPH0829318 B2 JP H0829318B2 JP 1403789 A JP1403789 A JP 1403789A JP 1403789 A JP1403789 A JP 1403789A JP H0829318 B2 JPH0829318 B2 JP H0829318B2
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Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、水に溶解している物質、たとえばメッキ廃
液中の第2鉄イオンFe3+の還元、溶存酸素の還元除去等
に適した、水に溶解している物質の水素還元反応方法に
関するものである。
液中の第2鉄イオンFe3+の還元、溶存酸素の還元除去等
に適した、水に溶解している物質の水素還元反応方法に
関するものである。
[従来の技術] 水溶液中の無機イオンや溶存酸素を水素で還元する際
には、PdやPtを活性炭、アルミナ、シリカなど、或はイ
オン交換樹脂に担持させた触媒が用いられている。
には、PdやPtを活性炭、アルミナ、シリカなど、或はイ
オン交換樹脂に担持させた触媒が用いられている。
これらの担体は親水性であるため、水中で使用すると
活性点が水で覆われ、水素ガスが活性点に到達しにくい
ために活性が不十分で、反応に長時間を要するなどの欠
点があった。
活性点が水で覆われ、水素ガスが活性点に到達しにくい
ために活性が不十分で、反応に長時間を要するなどの欠
点があった。
この点を改良するために、表面を疎水性にした担体、
あるいは疎水性の高分子を担体とした触媒が提案されて
いる。
あるいは疎水性の高分子を担体とした触媒が提案されて
いる。
例えば、担体として弗素樹脂を用いた例[松田ら:
「触媒」vol.23,No.4,p293(1981)]がありCu2+やNo3 -
の還元に有効なことが示されているが、弗素樹脂が高価
なこと及び疎水性の担体にPdやPtなどの触媒活性成分を
担持させるにはエタノールやアセトンなどの有機溶媒を
用いる必要があるなどの点で問題がある。
「触媒」vol.23,No.4,p293(1981)]がありCu2+やNo3 -
の還元に有効なことが示されているが、弗素樹脂が高価
なこと及び疎水性の担体にPdやPtなどの触媒活性成分を
担持させるにはエタノールやアセトンなどの有機溶媒を
用いる必要があるなどの点で問題がある。
シリカを疎水性シラン化剤で改質したのち活性金属を
担持させる方法も提案されているが、この場合も触媒活
性成分を担持させるにはエタノールやアセトンなどの有
機溶媒を用いる必要があるので、触媒製造の際に用材回
収工程を必要とするため触媒コストが増加し好ましくな
い。
担持させる方法も提案されているが、この場合も触媒活
性成分を担持させるにはエタノールやアセトンなどの有
機溶媒を用いる必要があるので、触媒製造の際に用材回
収工程を必要とするため触媒コストが増加し好ましくな
い。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は、触媒活性成分を水溶液として担持させるこ
とができるので製造が容易で、しかも使用時には疎水性
となるので水中でも優れた活性を示すパラジウム担持触
媒を使用して、水に溶解している物質を水素還元する反
応方法を提供することを目的とする。
とができるので製造が容易で、しかも使用時には疎水性
となるので水中でも優れた活性を示すパラジウム担持触
媒を使用して、水に溶解している物質を水素還元する反
応方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明に関わる水に溶解している物質の水素還元反応
方法は、アミノ基を有するシラン化合物で処理したシリ
カにパラジウム塩の水溶液を含浸・乾燥させた後300〜5
50℃で気相還元したパラジウム触媒の存在下で水素と接
触させることを特徴とする。
方法は、アミノ基を有するシラン化合物で処理したシリ
カにパラジウム塩の水溶液を含浸・乾燥させた後300〜5
50℃で気相還元したパラジウム触媒の存在下で水素と接
触させることを特徴とする。
担体として使用するシリカは細孔径が大きいほど活性
が高いので好ましく、特に平均細孔径が400Å以上のシ
リカを使用することが望ましい。
が高いので好ましく、特に平均細孔径が400Å以上のシ
リカを使用することが望ましい。
アミノ基を有するシラン化合物としては、3−アミノ
プロピルトリアルコキシシラン、N−(2−アミノエチ
ル)−3−アミノプロピルトリアルコキシシランなどが
挙げられる。
プロピルトリアルコキシシラン、N−(2−アミノエチ
ル)−3−アミノプロピルトリアルコキシシランなどが
挙げられる。
シリカ担体とこれらのアミノ基を有するシラン化合物
を水その他の任意の溶媒中で接触させるか、又はシリカ
担体にアミノ基を有するシラン化合物を含浸すると、シ
リカのシラノール基とアミノ基を有するシラン化合物は
反応してシリカ担体は改質される。
を水その他の任意の溶媒中で接触させるか、又はシリカ
担体にアミノ基を有するシラン化合物を含浸すると、シ
リカのシラノール基とアミノ基を有するシラン化合物は
反応してシリカ担体は改質される。
この改質シリカにおける有機アミノ基量は、アミノ基
を有するシラン化合物の仕込量によりコントロールす
る。
を有するシラン化合物の仕込量によりコントロールす
る。
改質シリカの有機アミノ基量は、目標とするパラジウ
ムの担持量に応じて定めればよいが、0.1〜10重量%の
パラジウムを担持するのに必要な改質シリカ1gあたりの
アミノ基量は0.1〜2.0ミリモル程度である。
ムの担持量に応じて定めればよいが、0.1〜10重量%の
パラジウムを担持するのに必要な改質シリカ1gあたりの
アミノ基量は0.1〜2.0ミリモル程度である。
ついでパラジウム塩の水溶液と上記改質シリカを接触
させると、パラジウムイオンがイオン交換され有機アミ
ノ基との間で錯体を形成しシリカ担体上に固定される。
このためパラジウムの分散性は良く、また溶液中の大部
分のパラジウムイオンが固定化されるためパラジウムの
ロスを低減できる。
させると、パラジウムイオンがイオン交換され有機アミ
ノ基との間で錯体を形成しシリカ担体上に固定される。
このためパラジウムの分散性は良く、また溶液中の大部
分のパラジウムイオンが固定化されるためパラジウムの
ロスを低減できる。
この時点でのパラジウム担持シリカは親水性である
が、これを乾燥させた後300〜550℃で気相還元するとア
ミノ基が分解しシリカは疎水性となる。
が、これを乾燥させた後300〜550℃で気相還元するとア
ミノ基が分解しシリカは疎水性となる。
気相還元はH2、COなどの気流中で行う通常の方法で行
うことができる。但し300℃〜550℃の温度範囲で行うこ
とが必要で、300℃未満の温度では十分な還元が行われ
ない。また550℃を越える温度ではパラジウムの分散が
著しく悪くなる。
うことができる。但し300℃〜550℃の温度範囲で行うこ
とが必要で、300℃未満の温度では十分な還元が行われ
ない。また550℃を越える温度ではパラジウムの分散が
著しく悪くなる。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
[実施例1] 平均細孔径40,000Åの担体用シリカ(触媒化成工業
(株)製)200gを、有機アミノ基量が0.3ミリモル/gシ
リカとなる量の3−アミノプロピルトリエトキシシラン
を純水に溶解したものに加えて室温で4時間攪拌してシ
ラン化した。ついで濾過水洗し、110℃で5時間乾燥し
てシラン改質シリカを得た。
(株)製)200gを、有機アミノ基量が0.3ミリモル/gシ
リカとなる量の3−アミノプロピルトリエトキシシラン
を純水に溶解したものに加えて室温で4時間攪拌してシ
ラン化した。ついで濾過水洗し、110℃で5時間乾燥し
てシラン改質シリカを得た。
このシラン改質シリカ50gに対してパラジウム含有量
が0.5重量%になる量の塩化パラジウム水溶液を加え塩
化パラジウムと有機アミノ基との錯体をシリカ担体上に
形成させ、溶液を濾過したのち110℃で乾燥した。これ
を400℃、500℃又は550℃で水素気流中で気相還元して
水素還元反応用触媒を得た。
が0.5重量%になる量の塩化パラジウム水溶液を加え塩
化パラジウムと有機アミノ基との錯体をシリカ担体上に
形成させ、溶液を濾過したのち110℃で乾燥した。これ
を400℃、500℃又は550℃で水素気流中で気相還元して
水素還元反応用触媒を得た。
200mlのフラスコFe3+濃度4.5g/の硫酸第2鉄水溶液
70mlを入れ、100メッシュ以下に粉砕した上記触媒をPd
として3.5mg分加えて、水素初期圧力900Torr、温度25±
1℃で反応させ、触媒の初期活性を求めた結果を第1図
に○印で示す。第1図において横軸は触媒の還元温度
(℃)、縦軸は触媒の初期活性[(H2mol/g−Pd・min)
×102]を表わす。
70mlを入れ、100メッシュ以下に粉砕した上記触媒をPd
として3.5mg分加えて、水素初期圧力900Torr、温度25±
1℃で反応させ、触媒の初期活性を求めた結果を第1図
に○印で示す。第1図において横軸は触媒の還元温度
(℃)、縦軸は触媒の初期活性[(H2mol/g−Pd・min)
×102]を表わす。
[実施例2] 平均細孔径400Åの担体用シリカ(富士デビソン
(株)製:商品名CARIACT)200gを、有機アミノ基量が
0.3ミリモル/gシリカとなる量の3−アミノプロピルト
リエトキシシランを純水に溶解したものに加えて室温で
4時間攪拌してシラン化した。ついで濾過水洗し、110
℃で5時間乾燥してシラン改質シリカを得た。
(株)製:商品名CARIACT)200gを、有機アミノ基量が
0.3ミリモル/gシリカとなる量の3−アミノプロピルト
リエトキシシランを純水に溶解したものに加えて室温で
4時間攪拌してシラン化した。ついで濾過水洗し、110
℃で5時間乾燥してシラン改質シリカを得た。
このシラン改質シリカ50gに対してパラジウム含有量
が0.5重量%になる量の塩化パラジウム水溶液を加え塩
化パラジウムと有機アミノ基との錯体をシリカ担体上に
形成させ、溶液を濾過したのち110℃で乾燥した。これ
を300℃、400℃、500℃又は550℃で水素気流中で気相還
元して水素還元反応用触媒を得た。
が0.5重量%になる量の塩化パラジウム水溶液を加え塩
化パラジウムと有機アミノ基との錯体をシリカ担体上に
形成させ、溶液を濾過したのち110℃で乾燥した。これ
を300℃、400℃、500℃又は550℃で水素気流中で気相還
元して水素還元反応用触媒を得た。
200mlのフラスコにFe3+濃度4.5g/の硫酸第2鉄水溶
液70mlを入れ、100メッシュ以下に粉砕した上記触媒をP
dとして3.5mg分加えて、水素初期圧力900Torr、温度25
±1℃で反応させ、触媒の初期活性を求めた結果を第1
図に△印で示す。
液70mlを入れ、100メッシュ以下に粉砕した上記触媒をP
dとして3.5mg分加えて、水素初期圧力900Torr、温度25
±1℃で反応させ、触媒の初期活性を求めた結果を第1
図に△印で示す。
[比較例1] 実施例2で使用した平均細孔径400Åの担体用シリカ
にパラジウム含有量が0.5重量%になる量の塩化パラジ
ウム水溶液を含浸担持させ、110℃で乾燥したのち300
℃、400℃又は500℃で水素気流中で気相還元して水素還
元反応用触媒を得た。
にパラジウム含有量が0.5重量%になる量の塩化パラジ
ウム水溶液を含浸担持させ、110℃で乾燥したのち300
℃、400℃又は500℃で水素気流中で気相還元して水素還
元反応用触媒を得た。
200mlのフラスコにFe3+濃度4.5g/の硫酸第2鉄水溶
液70mlを入れ、100メッシュ以下に粉砕した上記触媒をP
dとして3.5mg分加えて、水素初期圧力900Torr、温度25
±1℃で反応させ、触媒の初期活性を求めた結果を第1
図に◇印で示す。
液70mlを入れ、100メッシュ以下に粉砕した上記触媒をP
dとして3.5mg分加えて、水素初期圧力900Torr、温度25
±1℃で反応させ、触媒の初期活性を求めた結果を第1
図に◇印で示す。
第1図に示されるように、アミノ基を有するシラン化
合物で改質したシリカに担持させたパラジウム触媒を使
用した実施例1及び実施例2の場合は、改質処理をして
いないシリカに担持させたパラジウム触媒を使用した比
較例1の場合に比べて高い初期活性が得られることがわ
かる。
合物で改質したシリカに担持させたパラジウム触媒を使
用した実施例1及び実施例2の場合は、改質処理をして
いないシリカに担持させたパラジウム触媒を使用した比
較例1の場合に比べて高い初期活性が得られることがわ
かる。
また実施例の触媒自体の還元処理温度は300〜550℃、
特に400〜500℃の範囲が好ましいことがわかる。これに
対し比較例1の触媒では触媒自体の還元処理温度が400
度以上になると初期活性の低下傾向を示している。
特に400〜500℃の範囲が好ましいことがわかる。これに
対し比較例1の触媒では触媒自体の還元処理温度が400
度以上になると初期活性の低下傾向を示している。
[実施例3及び比較例2,3] 200mlのフラスコにFe3+濃度4.5g/の硫酸第2鉄水溶
液70mlを入れ、400℃で還元処理し100メッシュ以下に
粉砕した、実施例2で使用したものと同じ触媒をPdとし
て3.5mg分加えたもの、400℃で還元処理し100メッシ
ュ以下に粉砕した、比較例1で使用したものと同じ触媒
をPdとして3.5mg分加えたもの及び活性炭(二村化学
(株)製)にパラジウム含有量が0.5重量%になる量の
塩化パラジウム水溶液を含浸担持させ、110℃で乾燥し
たのち400℃で水素気流中で気相還元して100メッシュ以
下に粉砕した触媒をPdとして3.5mg分加えたもののそれ
ぞれについて、水素初期圧力900Torr、温度25±1℃で
反応させ、10分後、20分後、30分後及び40分後の水素消
費量(積算値:mモル)を測定した結果を第1表に示す。
液70mlを入れ、400℃で還元処理し100メッシュ以下に
粉砕した、実施例2で使用したものと同じ触媒をPdとし
て3.5mg分加えたもの、400℃で還元処理し100メッシ
ュ以下に粉砕した、比較例1で使用したものと同じ触媒
をPdとして3.5mg分加えたもの及び活性炭(二村化学
(株)製)にパラジウム含有量が0.5重量%になる量の
塩化パラジウム水溶液を含浸担持させ、110℃で乾燥し
たのち400℃で水素気流中で気相還元して100メッシュ以
下に粉砕した触媒をPdとして3.5mg分加えたもののそれ
ぞれについて、水素初期圧力900Torr、温度25±1℃で
反応させ、10分後、20分後、30分後及び40分後の水素消
費量(積算値:mモル)を測定した結果を第1表に示す。
実施例の場合は水素消費量が急速に増加して飽和値に
達すること、すなわち反応が急速であることがわかる。
達すること、すなわち反応が急速であることがわかる。
[実施例4] 平均細孔径の異なるシリカを用いて、実施例1記載の
方法で調製し400℃で還元処理した触媒を使用して、実
施例1記載の方法で水溶液中のFe3+還元を行った時の水
素消費量(積算値:mモル)を測定した結果を第2表に示
す。
方法で調製し400℃で還元処理した触媒を使用して、実
施例1記載の方法で水溶液中のFe3+還元を行った時の水
素消費量(積算値:mモル)を測定した結果を第2表に示
す。
第2表より担体シリカの細孔径が大きいほど活性が高
く、平均細孔径が400Å以上のシリカを担体として使用
したパラジウム触媒を使用することが好ましいことがわ
かる。
く、平均細孔径が400Å以上のシリカを担体として使用
したパラジウム触媒を使用することが好ましいことがわ
かる。
[実施例5及び比較例4,5] 32〜48メッシュに整粒した以外は実施例3で使用し
たものと同じ触媒0.5g、32〜48メッシュに整粒した以
外は比較例2で使用したものと同じ触媒0.5g、及び32
〜48メッシュに整粒した以外は比較例3で使用したもの
と同じ触媒0.5gをそれぞれ内径5mmのガラス管に充填
し、これに室温で溶存酸素5ppmを含むpH7.2の純水をSV
=120h-で、5ml/分の大過剰の水素と共に流し、出口液
の溶存酸素濃度を測定して活性を比較した。
たものと同じ触媒0.5g、32〜48メッシュに整粒した以
外は比較例2で使用したものと同じ触媒0.5g、及び32
〜48メッシュに整粒した以外は比較例3で使用したもの
と同じ触媒0.5gをそれぞれ内径5mmのガラス管に充填
し、これに室温で溶存酸素5ppmを含むpH7.2の純水をSV
=120h-で、5ml/分の大過剰の水素と共に流し、出口液
の溶存酸素濃度を測定して活性を比較した。
反応開始後数分で出口濃度は安定したので、10分後の
測定値を第3表に示した。
測定値を第3表に示した。
実施例の場合は出口酸素濃度が最も低いことが示され
ている。
ている。
[実施例6及び比較例6,7] 200mlのフラスコに濃度0.1モル/の硫酸第2銅水溶
液50mlを入れ、実施例3で使用したものと同じ触媒を
Pdとして2.5mg分加えたもの、比較例2で使用したも
のと同じ触媒をPdとして2.5mg分加えたもの、及び比
較例3で使用したものと同じ触媒をPdとして2.5mg分加
えたもののそれぞれについて、水素初期圧力900Torr、
温度25±1℃で反応させ、10分後、20分後、30分後及び
40分後の水素消費量(積算値:mモル)を測定した結果を
第4表に示す。
液50mlを入れ、実施例3で使用したものと同じ触媒を
Pdとして2.5mg分加えたもの、比較例2で使用したも
のと同じ触媒をPdとして2.5mg分加えたもの、及び比
較例3で使用したものと同じ触媒をPdとして2.5mg分加
えたもののそれぞれについて、水素初期圧力900Torr、
温度25±1℃で反応させ、10分後、20分後、30分後及び
40分後の水素消費量(積算値:mモル)を測定した結果を
第4表に示す。
実施例の場合は水素消費量が急速に増加して飽和値に
達すること、すなわち反応が急速であることがわかる。
達すること、すなわち反応が急速であることがわかる。
[発明の効果] 水に溶解している物質を効率よく還元することができ
る。
る。
【図面の簡単な説明】 第1図はシリカ担体の処理条件及び還元温度の異なる触
媒を用いてFe3+イオンの水素還元を行った時の初期活性
を示す図で、○印は実施例1の場合、△印は実施例2の
場合、◇印は比較例1の場合を示し、横軸は触媒の還元
温度(℃)、縦軸は触媒の初期活性[(H2mol/g−Pd・m
in)×102]を表わす。
媒を用いてFe3+イオンの水素還元を行った時の初期活性
を示す図で、○印は実施例1の場合、△印は実施例2の
場合、◇印は比較例1の場合を示し、横軸は触媒の還元
温度(℃)、縦軸は触媒の初期活性[(H2mol/g−Pd・m
in)×102]を表わす。
Claims (1)
- 【請求項1】アミノ基を有するシラン化合物で処理した
シリカにパラジウム塩の水溶液を含浸・乾燥させた後30
0〜550℃で気相還元したパラジウム触媒の存在下で水素
と接触させることを特徴とする水に溶解している物質の
水素還元反応方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1403789A JPH0829318B2 (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 水に溶解している物質の水素還元反応方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1403789A JPH0829318B2 (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 水に溶解している物質の水素還元反応方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02194838A JPH02194838A (ja) | 1990-08-01 |
| JPH0829318B2 true JPH0829318B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=11849933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1403789A Expired - Lifetime JPH0829318B2 (ja) | 1989-01-25 | 1989-01-25 | 水に溶解している物質の水素還元反応方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0829318B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101137007B1 (ko) * | 2009-06-02 | 2012-04-19 | 공주대학교 산학협력단 | 후전이금속 담지촉매, 그의 제조방법 및 상기 담지촉매를 사용하는 올레핀 중합방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4565927B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2010-10-20 | 川研ファインケミカル株式会社 | 炭素−炭素結合を生成するHeck反応用パラジウム触媒 |
| JP5058288B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2012-10-24 | 川研ファインケミカル株式会社 | 炭素−炭素結合生成反応用パラジウム触媒を使用するオレフィン基置換芳香族化合物の製造方法 |
-
1989
- 1989-01-25 JP JP1403789A patent/JPH0829318B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101137007B1 (ko) * | 2009-06-02 | 2012-04-19 | 공주대학교 산학협력단 | 후전이금속 담지촉매, 그의 제조방법 및 상기 담지촉매를 사용하는 올레핀 중합방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02194838A (ja) | 1990-08-01 |
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