JPH0829320A - 微粒子センサに於けるレーザーの漂遊光を低減させる方法及び装置 - Google Patents
微粒子センサに於けるレーザーの漂遊光を低減させる方法及び装置Info
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- JPH0829320A JPH0829320A JP7186354A JP18635495A JPH0829320A JP H0829320 A JPH0829320 A JP H0829320A JP 7186354 A JP7186354 A JP 7186354A JP 18635495 A JP18635495 A JP 18635495A JP H0829320 A JPH0829320 A JP H0829320A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、暗視野微粒子モニタに於ける、
漂遊光による微粒子数カウントのエラーを低減する方法
及び装置を提供する。 【構成】 本発明の、微粒子モニタ内の漂遊光による
微粒子数カウントのエラーを低減する暗視野微粒子モニ
タは、微粒子を検知するためのレーザービーム上にその
焦点を有する光学素子と、優先位の入射方向で入射した
光を選択するためのフィルタとを有する。実施例の１つ
に於いては、前記フィルタには、レーザービームの波長
の光に対して最も高い透過性を有する狭帯域フィルタを
用いる。
漂遊光による微粒子数カウントのエラーを低減する方法
及び装置を提供する。 【構成】 本発明の、微粒子モニタ内の漂遊光による
微粒子数カウントのエラーを低減する暗視野微粒子モニ
タは、微粒子を検知するためのレーザービーム上にその
焦点を有する光学素子と、優先位の入射方向で入射した
光を選択するためのフィルタとを有する。実施例の１つ
に於いては、前記フィルタには、レーザービームの波長
の光に対して最も高い透過性を有する狭帯域フィルタを
用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は微粒子モニタに関する。
特に、本発明は生産工程で用いられる暗視野微粒子モニ
タに関する。
特に、本発明は生産工程で用いられる暗視野微粒子モニ
タに関する。
【０００２】
【従来の技術】暗視野微粒子モニタ若しくはセンサは半
導体プロセッシング装置に於いて微粒子のレベルをモニ
タするのにしばしば使用されるが、この微粒子のレベル
は工程の歩留まりに大きな影響力を持つ。暗視野微粒子
モニタ若しくはセンサに於いて、微粒子が集光されたレ
ーザービームを通過するときレーザー光を散乱させてレ
ーザービームの方向の外側に位置する光検知器に送られ
る。このような微粒子センサの例としては、Ｐ．Ｂｏｒ
ｄｅｎ他に１９９３年１１月３０日に付与された米国特
許第５，２６６，７９８号に「高感度、高検出範囲の排
気装置に用いられる微粒子センサ（High Sensitivity,
Large Detection Area Particle Sensor for Vacuum Ap
plications）」という名称で記載されたものがある。
導体プロセッシング装置に於いて微粒子のレベルをモニ
タするのにしばしば使用されるが、この微粒子のレベル
は工程の歩留まりに大きな影響力を持つ。暗視野微粒子
モニタ若しくはセンサに於いて、微粒子が集光されたレ
ーザービームを通過するときレーザー光を散乱させてレ
ーザービームの方向の外側に位置する光検知器に送られ
る。このような微粒子センサの例としては、Ｐ．Ｂｏｒ
ｄｅｎ他に１９９３年１１月３０日に付与された米国特
許第５，２６６，７９８号に「高感度、高検出範囲の排
気装置に用いられる微粒子センサ（High Sensitivity,
Large Detection Area Particle Sensor for Vacuum Ap
plications）」という名称で記載されたものがある。
【０００３】暗視野センサの性能は、漂遊光（stray li
ght）若しくはＤＣ光として知られる現象によって限界
を与えられる。漂遊光は、よく起こることであるが、セ
ンサのレーザービームが通過する光学インタフェース上
に、汚れの被覆若しくは膜が蓄積されることによって発
生する。当然この汚れの膜はレーザービームからの光を
散乱させる（漂遊光）。レーザービームの強度が高いの
で、漂遊光の強度もかなり高くなりうる。このような漂
遊光はしばしばセンサ内部をも照らし、漂遊光の一部が
微粒子モニタの光検出器に向かうこともありうる。
ght）若しくはＤＣ光として知られる現象によって限界
を与えられる。漂遊光は、よく起こることであるが、セ
ンサのレーザービームが通過する光学インタフェース上
に、汚れの被覆若しくは膜が蓄積されることによって発
生する。当然この汚れの膜はレーザービームからの光を
散乱させる（漂遊光）。レーザービームの強度が高いの
で、漂遊光の強度もかなり高くなりうる。このような漂
遊光はしばしばセンサ内部をも照らし、漂遊光の一部が
微粒子モニタの光検出器に向かうこともありうる。
【０００４】漂遊光は多くの点で微粒子モニタの性能に
限界を与える。第１に、漂遊光はレーザーのノイズを変
調させるが、この結果強力な漂遊光は光検出回路にレー
ザーノイズを導入し、それによって不正確な微粒子数の
カウントを引き起こす。
限界を与える。第１に、漂遊光はレーザーのノイズを変
調させるが、この結果強力な漂遊光は光検出回路にレー
ザーノイズを導入し、それによって不正確な微粒子数の
カウントを引き起こす。
【０００５】第２に、漂遊光の強度は普通は比較的一定
であり、このため漂遊光のＤＣ部分（即ち、変化の少な
い部分）の強度は、微粒子モニタによって検出されるレ
ーザーの強度から差し引くことができるが、微粒子検出
器の振動が漂遊光の強度に於けるＡＣ成分（即ち、変化
の大きい部分）を発生させる。このＡＣ成分は微粒子モ
ニタ内の振動する要素から反射される漂遊光によって生
じるである。微粒子モニタは高感度であるため、そのよ
うなＡＣ成分は微粒子数のカウントのエラーを引き起こ
す。
であり、このため漂遊光のＤＣ部分（即ち、変化の少な
い部分）の強度は、微粒子モニタによって検出されるレ
ーザーの強度から差し引くことができるが、微粒子検出
器の振動が漂遊光の強度に於けるＡＣ成分（即ち、変化
の大きい部分）を発生させる。このＡＣ成分は微粒子モ
ニタ内の振動する要素から反射される漂遊光によって生
じるである。微粒子モニタは高感度であるため、そのよ
うなＡＣ成分は微粒子数のカウントのエラーを引き起こ
す。
【０００６】第３に、漂遊光は微粒子モニタの光検出器
に於けるショットノイズ（shot noise）を引き起こす。
ショットノイズは、光子の到達速度の統計的な変化によ
って引き起こされる。電流Ｉnoise、即ち光検出器に於
ける漂遊光によって引き起こされるノイズ電流Ｉnoise
は、
に於けるショットノイズ（shot noise）を引き起こす。
ショットノイズは、光子の到達速度の統計的な変化によ
って引き起こされる。電流Ｉnoise、即ち光検出器に於
ける漂遊光によって引き起こされるノイズ電流Ｉnoise
は、
【０００７】
【数１】
【０００８】によって与えられ、ここでｑは電子の持つ
電荷であり、Ｂは光検出器の帯域であり、Ｐstrayは入
射する漂遊光の強度であり、Ａは光検出器の変換効率で
ある。電流Ｉnoiseは光検出器のＳＮ比に限界を与え、
それによって微粒子の中でも小さいものに対する光検出
器の感度に限界を与える。
電荷であり、Ｂは光検出器の帯域であり、Ｐstrayは入
射する漂遊光の強度であり、Ａは光検出器の変換効率で
ある。電流Ｉnoiseは光検出器のＳＮ比に限界を与え、
それによって微粒子の中でも小さいものに対する光検出
器の感度に限界を与える。
【０００９】以上の理由によって、微粒子モニタに入射
する漂遊光の強度を低下させることが大いに望まれてい
るのである。
する漂遊光の強度を低下させることが大いに望まれてい
るのである。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明に従った微粒子
モニタの形態及びそのモニタ方法は、暗視野微粒子モニ
タに於ける漂遊光による微粒子数のカウントのエラーを
低減する目的で提供される。
モニタの形態及びそのモニタ方法は、暗視野微粒子モニ
タに於ける漂遊光による微粒子数のカウントのエラーを
低減する目的で提供される。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、レーザービームから散乱した光が、その
ような散乱の発生するレーザービーム上に焦点を有する
レンズによって、平行光線として送られるという事実を
利用している。即ち、本発明は、(1)微粒子がモニタさ
れる領域を通過するレーザービームと、(2)微粒子によ
って散乱させられる光を集光するべく設けられ、焦点が
レーザービーム上にあるように配置されたレンズと、
(3)優先位（preferential）の入射角の平行光線を透過
させるフィルタと、(4)フィルタリングされた平行光線
を受ける検出器とを有する暗視野微粒子モニタを提供す
る。
め、本発明は、レーザービームから散乱した光が、その
ような散乱の発生するレーザービーム上に焦点を有する
レンズによって、平行光線として送られるという事実を
利用している。即ち、本発明は、(1)微粒子がモニタさ
れる領域を通過するレーザービームと、(2)微粒子によ
って散乱させられる光を集光するべく設けられ、焦点が
レーザービーム上にあるように配置されたレンズと、
(3)優先位（preferential）の入射角の平行光線を透過
させるフィルタと、(4)フィルタリングされた平行光線
を受ける検出器とを有する暗視野微粒子モニタを提供す
る。
【００１２】実施例の１つに於いて、本発明の微粒子モ
ニタは、レーザービームの波長で光の透過性が最大とな
る狭帯域フィルタを有する。この実施例に於いて、狭帯
域フィルタは、ガラスの基盤上に交互に積み重ねられた
形のセレンと二酸化シリコンの層を有し、各交互に積み
重ねられた形のセレンと二酸化炭素の層は、概ねレーザ
ービームの波長をその層の屈折率で除した大きさの厚み
を有する。
ニタは、レーザービームの波長で光の透過性が最大とな
る狭帯域フィルタを有する。この実施例に於いて、狭帯
域フィルタは、ガラスの基盤上に交互に積み重ねられた
形のセレンと二酸化シリコンの層を有し、各交互に積み
重ねられた形のセレンと二酸化炭素の層は、概ねレーザ
ービームの波長をその層の屈折率で除した大きさの厚み
を有する。
【００１３】本発明のもとでは、レーザービームからの
放射によらない漂遊光はフィルタに優先位の入射角で到
達せず、実質的には微粒子モニタの検出器に送られな
い。このため、そのような漂遊光が微粒子のカウントへ
与える影響は、実質的に排除される。更に、狭帯域フィ
ルタを使用することによって、レーザービームと同じ波
長を持たない漂遊光によってもたらされるエラーも、実
質的に排除されるのである。
放射によらない漂遊光はフィルタに優先位の入射角で到
達せず、実質的には微粒子モニタの検出器に送られな
い。このため、そのような漂遊光が微粒子のカウントへ
与える影響は、実質的に排除される。更に、狭帯域フィ
ルタを使用することによって、レーザービームと同じ波
長を持たない漂遊光によってもたらされるエラーも、実
質的に排除されるのである。
【００１４】
【実施例】本発明は、微粒子モニタに使用されるレーザ
ービームの独特な性質を利用している。詳述すると、そ
のようなレーザービームは非常に単色性の高いもので、
問題の微粒子による散乱が発生する領域は比較的限られ
ている。このため、適当に光学フィルタを用いることに
よって、微粒子による散乱光を検出し、漂遊光を原因と
するエラーを最小にすることができるのである。
ービームの独特な性質を利用している。詳述すると、そ
のようなレーザービームは非常に単色性の高いもので、
問題の微粒子による散乱が発生する領域は比較的限られ
ている。このため、適当に光学フィルタを用いることに
よって、微粒子による散乱光を検出し、漂遊光を原因と
するエラーを最小にすることができるのである。
【００１５】図１に示すのは、本発明の、暗視野微粒子
モニタ１００の光学システムである。図１に示すよう
に、微粒子モニタ１００のレーザーダイオード１０１は
レーザー光を発し、コリメータレンズ１０２がそれを焦
点に集めてレーザービーム１０５を生成する。レーザー
ダイオード１０１には、東京のソニー社製のＳＯＮＹ３
０１Ｖのようなレーザーダイオードを用いることができ
る。このような構成に於いて、追加的なシリンドリカル
レンズ（図示せず）をコリメータレンズ１０２の後段に
挿入し、更にレーザービーム１０５の集中度を高めて、
検出領域１１０またはその周辺に於けるビームの強度を
一層高めるようにしてもよい。検出領域１１０は、図１
に示すように窓１０３及び１０４によって画定されてお
り、微粒子がビーム１０５を通過する部分のことをい
う。
モニタ１００の光学システムである。図１に示すよう
に、微粒子モニタ１００のレーザーダイオード１０１は
レーザー光を発し、コリメータレンズ１０２がそれを焦
点に集めてレーザービーム１０５を生成する。レーザー
ダイオード１０１には、東京のソニー社製のＳＯＮＹ３
０１Ｖのようなレーザーダイオードを用いることができ
る。このような構成に於いて、追加的なシリンドリカル
レンズ（図示せず）をコリメータレンズ１０２の後段に
挿入し、更にレーザービーム１０５の集中度を高めて、
検出領域１１０またはその周辺に於けるビームの強度を
一層高めるようにしてもよい。検出領域１１０は、図１
に示すように窓１０３及び１０４によって画定されてお
り、微粒子がビーム１０５を通過する部分のことをい
う。
【００１６】この実施例に於いては、窓１０３及び１０
４はサファイア製で、真空ポンプラインの端口に設けら
れる。この構成が示すように、微粒子モニタ１００は、
プラズマエッチャー（plasma etcher）のような真空処
理システムの、排気流に於ける微粒子のレベルを測定す
るのに用いられる。レーザービーム１０５は、ビームス
トップ（beam stop）１０９に衝当させられるが、この
ビームストップはレーザービーム１０５を完全に吸収し
て、レーザー光が散乱して微粒子モニタ１００に戻り、
真空ポンプラインに於ける微粒子によるレーザー光散乱
の検出を妨害することのないようにする。
４はサファイア製で、真空ポンプラインの端口に設けら
れる。この構成が示すように、微粒子モニタ１００は、
プラズマエッチャー（plasma etcher）のような真空処
理システムの、排気流に於ける微粒子のレベルを測定す
るのに用いられる。レーザービーム１０５は、ビームス
トップ（beam stop）１０９に衝当させられるが、この
ビームストップはレーザービーム１０５を完全に吸収し
て、レーザー光が散乱して微粒子モニタ１００に戻り、
真空ポンプラインに於ける微粒子によるレーザー光散乱
の検出を妨害することのないようにする。
【００１７】この構成に於いては、生産工程の空気は領
域１１０でレーザービームを通過するが、この空気の流
れはレーザービーム１０５の方向に対して直交する向き
に流れる。空気に連行された微粒子は、レーザービーム
１０５のレーザー光を散乱させる。散乱光の一部は、集
光レンズ１０６によって集光される。集光レンズ１０６
は、その焦点がレーザービーム上にあって、このためこ
のレンズから出てくる散乱光の光線はほぼ平行な光線と
なるように設けられている。この実施例に於いて、狭帯
域フィルタ１５０は、集光レンズ１０６から出てくる散
乱光をフィルタリング（filter）する。フィルタリング
された光は、次にレンズ１０７によって光検出器１０８
上に集光される。
域１１０でレーザービームを通過するが、この空気の流
れはレーザービーム１０５の方向に対して直交する向き
に流れる。空気に連行された微粒子は、レーザービーム
１０５のレーザー光を散乱させる。散乱光の一部は、集
光レンズ１０６によって集光される。集光レンズ１０６
は、その焦点がレーザービーム上にあって、このためこ
のレンズから出てくる散乱光の光線はほぼ平行な光線と
なるように設けられている。この実施例に於いて、狭帯
域フィルタ１５０は、集光レンズ１０６から出てくる散
乱光をフィルタリング（filter）する。フィルタリング
された光は、次にレンズ１０７によって光検出器１０８
上に集光される。
【００１８】狭帯域フィルタ１５０は、レーザービーム
１０５の波長で最大の透過性を持つように設計されてい
る。標準的な入射光に対する、標準化された狭帯域フィ
ルタの透過特性が図２に示されている。図２に示すよう
に、実質的に完全透過（即ち１．０の値をとる）となる
のは、波長が８００nmに於いてである。７７５ｎｍから
８２５ｎｍの範囲の外側では、透過性は１０％を下回る
ところまで急激に低下する。狭帯域フィルタ１５０の透
過特性は、ガラスの基盤上に層をなす絶縁物、即ち交互
に積み重ねられた形のセレン化亜鉛及び二酸化シリコン
の層によって作られるもので、セレン化亜鉛の層（Ｈ
層）の屈折率は２．３５、二酸化シリコンの層（Ｌ層）
の屈折率は１．４６である。セレン化亜鉛または二酸化
シリコンの各層の厚みは、レーザーの波長を屈折率で除
した値の４分の１に等しい。また、ガラスの基盤は１．
５の屈折率を有する。
１０５の波長で最大の透過性を持つように設計されてい
る。標準的な入射光に対する、標準化された狭帯域フィ
ルタの透過特性が図２に示されている。図２に示すよう
に、実質的に完全透過（即ち１．０の値をとる）となる
のは、波長が８００nmに於いてである。７７５ｎｍから
８２５ｎｍの範囲の外側では、透過性は１０％を下回る
ところまで急激に低下する。狭帯域フィルタ１５０の透
過特性は、ガラスの基盤上に層をなす絶縁物、即ち交互
に積み重ねられた形のセレン化亜鉛及び二酸化シリコン
の層によって作られるもので、セレン化亜鉛の層（Ｈ
層）の屈折率は２．３５、二酸化シリコンの層（Ｌ層）
の屈折率は１．４６である。セレン化亜鉛または二酸化
シリコンの各層の厚みは、レーザーの波長を屈折率で除
した値の４分の１に等しい。また、ガラスの基盤は１．
５の屈折率を有する。
【００１９】この実施例に於ける交互に積み重ねられた
形の絶縁物の層のパターンは、（ＨＬＨＬＨＬＨＬ）Ｈ
Ｈ（ＬＨＬＨＬＨＬＨ）である。レーザービーム１０５
の波長に於ける透過性は概ね１．０なので、微粒子モニ
タ１００の性能が、狭帯域フィルタ１５０に吸収される
ことによって影響を受けることはない。
形の絶縁物の層のパターンは、（ＨＬＨＬＨＬＨＬ）Ｈ
Ｈ（ＬＨＬＨＬＨＬＨ）である。レーザービーム１０５
の波長に於ける透過性は概ね１．０なので、微粒子モニ
タ１００の性能が、狭帯域フィルタ１５０に吸収される
ことによって影響を受けることはない。
【００２０】狭帯域フィルタ１５０の、標準的ではない
入射光に関する透過特性を知ることは、本発明にとって
有用である。図３は、１５°の角度で狭帯域フィルタ１
５０に入射する光線の、図２に示したものと同じ波長の
範囲に於ける狭帯域フィルタ１５０の透過特性を示した
ものである。図３に示すように、そのような入射角での
入射に対して、波長８００ｎｍ（即ちレーザービーム１
０５の波長）に於ける透過特性は、標準的な入射の場合
と比較して約９０％低下する。このように、図２、図３
に示した透過特性から、狭帯域フィルタ１５０が標準的
な入射光に対して高い透過性をもつことは明らかであ
る。
入射光に関する透過特性を知ることは、本発明にとって
有用である。図３は、１５°の角度で狭帯域フィルタ１
５０に入射する光線の、図２に示したものと同じ波長の
範囲に於ける狭帯域フィルタ１５０の透過特性を示した
ものである。図３に示すように、そのような入射角での
入射に対して、波長８００ｎｍ（即ちレーザービーム１
０５の波長）に於ける透過特性は、標準的な入射の場合
と比較して約９０％低下する。このように、図２、図３
に示した透過特性から、狭帯域フィルタ１５０が標準的
な入射光に対して高い透過性をもつことは明らかであ
る。
【００２１】漂遊光は、微粒子モニタ１００の内部に設
けられたものから散乱して領域１１０に入ってくるのが
一般的で、つまり、このような漂遊光の大半は集光レン
ズ１０６から発せられたものではない。結果的に、その
ような漂遊光は集光レンズ１０６から平行に出てくるこ
とはなく、狭帯域フィルタ１５０に標準的な入射をしな
いことになる。この結果、大半の漂遊光は狭帯域フィル
タ１５０を透過しないことになるのである。このように
して、狭帯域フィルタ１５０は、光検出器１０８に到達
する漂遊光のレベルを低下させるのに効果をあげている
のである。図１に示した構成の微粒子センサ（即ち狭帯
域フィルタ１５０が含まれている場合）を用いた実験に
よれば、光検出器１０８に於ける漂遊光が７５％のオー
ダーで低下することが示される。
けられたものから散乱して領域１１０に入ってくるのが
一般的で、つまり、このような漂遊光の大半は集光レン
ズ１０６から発せられたものではない。結果的に、その
ような漂遊光は集光レンズ１０６から平行に出てくるこ
とはなく、狭帯域フィルタ１５０に標準的な入射をしな
いことになる。この結果、大半の漂遊光は狭帯域フィル
タ１５０を透過しないことになるのである。このように
して、狭帯域フィルタ１５０は、光検出器１０８に到達
する漂遊光のレベルを低下させるのに効果をあげている
のである。図１に示した構成の微粒子センサ（即ち狭帯
域フィルタ１５０が含まれている場合）を用いた実験に
よれば、光検出器１０８に於ける漂遊光が７５％のオー
ダーで低下することが示される。
【００２２】本発明の特定の実施例について詳細に説明
してきたが、本発明の実施態様はこれに限られるもので
はない。本発明の範囲を逸脱することなく様々な改変が
可能である。
してきたが、本発明の実施態様はこれに限られるもので
はない。本発明の範囲を逸脱することなく様々な改変が
可能である。
【００２３】
【発明の効果】本発明によって、暗視野微粒子モニタに
於ける漂遊光による微粒子数のカウントのエラーを低減
することが可能となった。
於ける漂遊光による微粒子数のカウントのエラーを低減
することが可能となった。
【図１】本発明の、漂遊光フィルタ１５０を有する暗視
野微粒子モニタ１００の光学システムを示した図であ
る。
野微粒子モニタ１００の光学システムを示した図であ
る。
【図２】狭帯域漂遊光フィルタの、標準的な入射光に対
する透過特性を示したグラフである。
する透過特性を示したグラフである。
【図３】図２の狭帯域漂遊光フィルタの、１５°の角度
で入射する入射光に対する透過特性を示したグラフであ
る。
で入射する入射光に対する透過特性を示したグラフであ
る。
１００ 暗視野微粒子モニタ １０１ レーザーダイオード １０２ コリメータレンズ １０３、１０４ 窓 １０５ レーザービーム １０６ 集光レンズ １０７ レンズ １０８ 光検出器 １０９ ビームストップ １１０ 検出領域 １５０ 狭帯域（漂遊光）フィルタ
Claims (8)
- 【請求項１】 微粒子によって散乱させられたレーザ
ービームの散乱光を検出する微粒子モニタに於ける、漂
遊光によるエラーを低減する方法であって、 前記レーザービームの前記散乱光を集光するべくレンズ
を配置する過程であって、前記レンズを、その焦点が前
記レーザービーム上にあり、前記レーザービームの散乱
光が前記レンズから平行光線となって出てくるように配
置する、該過程と、 優先位の入射角で前記平行光線をフィルタリングするべ
く、前記優先位で最大の透過性を有するフィルタを配置
する過程と、 前記フィルタリングされた平行光線を受け取る検出器を
配置する過程とを有することを特徴とする、微粒子モニ
タに於ける漂遊光によるエラーを低減する方法。 - 【請求項２】 前記フィルタを配置する過程が、前記
レーザービームの波長の光に対して最大の透過性を有す
る狭帯域フィルタを配置する過程であることを特徴とす
る請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記フィルタリングされた平行光線を
集光するべく、前記フィルタと前記検出器との間に第２
レンズを配置する過程を更に有することを特徴とする請
求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 微粒子がモニタされる領域を通過する
レーザービームと、 前記微粒子によって散乱させられたレーザービームの散
乱光を集光するべく設けられた第１レンズであって、そ
の焦点が前記レーザービーム上にあり、前記レーザービ
ームの散乱光が前記第１レンズから平行光線となって出
てくるように配置された、該第１レンズと、 優先位の入射角で前記平行光線をフィルタリングする、
前記優先位で最大の透過性を有するフィルタと、 前記フィルタリングされた平行光線を受け取る検出器と
を有することを特徴とする微粒子モニタ。 - 【請求項５】 前記フィルタが、前記レーザービーム
の波長の光に対して最大の透過性を有する狭帯域フィル
タを含むことを特徴とする請求項４に記載の微粒子モニ
タ。 - 【請求項６】 前記狭帯域フィルタが、ガラスの基盤
上に交互に積み重ねられた形で設けられたセレン化亜鉛
の層及び二酸化シリコンの層からなることを特徴とする
請求項５に記載の微粒子モニタ。 - 【請求項７】 前記交互に層をなすセレン化亜鉛及び
二酸化シリコンの各層が、概ね前記レーザービームの波
長を前記層の屈折率で除した大きさの厚みを有すること
を特徴とする請求項６に記載の微粒子モニタ。 - 【請求項８】 前記フィルタと前記検出器との間に設
けられた、前記フィルタリングされた平行光線を集光す
る第２レンズを更に有することを特徴とする請求項４に
記載の微粒子モニタ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/271,311 US6072187A (en) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | Apparatus and method for reducing stray laser light in particle sensors using a narrow band filter |
| US08/271,311 | 1994-07-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0829320A true JPH0829320A (ja) | 1996-02-02 |
Family
ID=23035051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7186354A Pending JPH0829320A (ja) | 1994-07-06 | 1995-06-29 | 微粒子センサに於けるレーザーの漂遊光を低減させる方法及び装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6072187A (ja) |
| JP (1) | JPH0829320A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007035559A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Kyocera Corp | ステージおよびステージの微粉検出方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE102007046654B4 (de) * | 2007-09-28 | 2012-01-26 | Evonik Carbon Black Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Dichtheit von befüllten Verpackungen |
| USD721750S1 (en) * | 2013-06-24 | 2015-01-27 | Wilcox Industries Corp. | Light-reducing filter for night vision device |
| CN109991778A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-07-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 背光模组及显示设备 |
| CN110823786B (zh) * | 2019-11-19 | 2025-10-21 | 江苏苏净集团有限公司 | 一种液体中微小颗粒的检测装置和方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4679939A (en) * | 1985-12-23 | 1987-07-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Firce | In situ small particle diagnostics |
| JPH01132932A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Omron Tateisi Electron Co | 流れ式粒子分析装置の信号光検出光学系 |
| US4857750A (en) * | 1987-12-17 | 1989-08-15 | Texas Instruments Incorporated | Sensor for determining photoresist developer strength |
| US4939369A (en) * | 1988-10-04 | 1990-07-03 | Loral Fairchild Corporation | Imaging and tracking sensor designed with a sandwich structure |
| US5121988A (en) * | 1989-10-04 | 1992-06-16 | Tsi Incorporated | Single particle detector method and apparatus utilizing light extinction within a sheet of light |
| US5305073A (en) * | 1992-02-12 | 1994-04-19 | Precision Detectors, Inc. | Methods and apparatus for molecular characterization |
-
1994
- 1994-07-06 US US08/271,311 patent/US6072187A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-06-29 JP JP7186354A patent/JPH0829320A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007035559A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Kyocera Corp | ステージおよびステージの微粉検出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6072187A (en) | 2000-06-06 |
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