JPH08294663A - 塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁性層を有するハロゲン化銀写真感光材料の
磁性層塗布の開始時に過剰な塗布液の除去を、未乾燥に
よる工程の汚染を防止しながら簡単に行う方法を提供す
る。 【構成】 塗布開始時に発生する過剰厚塗り部分を外周
がステンレス線で、ランダムに巻き付けられた吸収ロー
ラを当接することにより、正常厚みの１．２〜２倍の厚
みにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料の製造方法に関し、更に詳しくは磁性層を含む新規
なハロゲン化銀写真感光材料における磁性層の塗布方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】スライドホッパー塗布装置は塗布操作を
行う前に計量を行う、いわゆるプリメータリング方式で
あり、ディップ法、ダブルロール法、エアーナイフ法等
の後計量方式と異なり、塗布液の液物性の経時変化がな
く、ロングラン製造安定性を有し、塗布速度の上限も高
く、効率的な塗布方法といえる。このようにスライドホ
ッパー法は多くの長所を持つため、写真感光材料、磁気
記録材料、感熱紙、感圧紙など多くの分野で利用されて
いる塗布方式である。スライドホッパー法については、
米国特許２６８１２９４号、同２７６１４１９号、同２
７６１７９１号に開示されている。

【０００３】スライドホッパー法は、前記記載の如く、
安定的且つ効率的に塗布するのに有効であるが、技術的
対策が必要な課題があり、特にポピュラーな問題として
塗布初期区間の過剰膜厚パターンがある。前記厚塗り部
分は、製品にとってロス部分であり得率ダウンとなる。
さらに未乾燥による反転ローラ汚れ等工程汚染防止のた
めのエネルギーコストおよび時間を考えた場合、生産性
低下は明らかである。

【０００４】このような問題に対し、従来種々の検討が
された。塗布条件面からは、米国特許３２２０８７７号
に開示されているように、スライドホッパー式塗布にお
いて塗布開始前から減圧チャンバーの減圧度を高めてス
ライド面上に溜った余剰塗布液を空圧で掻き落し、過剰
膜厚パターンを防ぐものである。しかし、減圧度を高め
ると塗布開始の安定性を欠いたり、塗布筋の発生があり
満足のいく面状は得られ難い。さらに磁性層塗布液のよ
うな高粘度液では減圧度を高めても空圧での掻き落し量
に限界があり、未乾燥を防ぐ膜厚にはなり難い。

【０００５】また、ポピュラーな方法としてワイヤーバ
ーを用いて塗布開始時の過剰塗布液を平滑化させる方法
があるが、１度ないし数度使用するとワイヤーが目詰ま
りし、掻きとり効果がなくなってしまう。

【０００６】また、特公平６−８５９０７号に過剰塗布
部分に削り取りローラ（リムーバ）を当接させ、余剰液
を除去する方法が開示されているが、高粘度液などで発
生するかなり過剰な膜厚パターンの時はフラットローラ
では除去効果は少ない。除去効果を高めるために表面加
工を施したローラでは、再生あるいは連続使用のための
該ローラ表面に付着した液の掻き落し部材（クリーナ
ー）の効果が薄れてしまう。仮に有機溶剤塗布で前記ク
リーナーを使用するとしたら、静電気発生防止の観点か
らプラスチックなどは使用できず、金属に頼らざるを得
ない。リムーバとクリーナーが両方金属の場合、金属の
摩耗や着火源となる火花発生の懸念がある。さらには、
スライドホッパー型塗布では多くみられる塗布後の水平
あるいはアーチ状乾燥ゾーンでは、ウェブの上面に塗布
液があり、不良塗布部分が過ぎて正常膜厚部分になった
時に当接していた削り取りロールをウェブから離脱する
場合、離脱時に除去した液がウェブに落下して工程汚染
や面状不良部分になってしまう。

【０００７】このような状況の中、乾燥ゾーンを増設あ
るいは能力増強させることなく、生産性も低下させるこ
ともなく、塗布過剰部分除去するコンパクトで安価なロ
スの少ない方法が望まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ハロゲン化
銀感光材料中の磁性層塗布において、塗布開始時の余剰
塗布液除去で、生産性を低下させることなく、未乾燥に
よる工程汚染を防止しながら、簡便で安価な方法により
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】塗布過剰部分を除去する
ために鋭意検討した結果、本発明の上記目的は、磁性層
を有するハロゲン化銀感光材料中の磁性層塗布方法にお
いて、塗布開始時に発生する過剰厚塗り部分を過剰塗布
液吸収ローラを当接することにより、正常厚みの１．２
倍〜２倍の厚みにすることを特徴とする塗布方法、によ
って達成される。

【００１０】 〔発明の詳細な説明〕以下、本発明の有用性を説明す
る。本発明の過剰塗布液吸収ローラ（以後吸収ローラと
称す）は、塗布直後から乾燥ゾーンに入るまでの間で、
ウェブの走行方向に対し、垂直に配置し、過剰厚塗り部
分が通過する直前で当接を開始し、正常厚みに戻ったと
きには当接を止めるという制御機構を有する。ウェブに
吸収ローラを当接させる装置としては、油圧や空圧など
を用い、迅速に作動できるものであればよい。吸収ロー
ラをウェブに当接する際は、幅方向に均一に圧すること
が好ましく、その圧接力はウェブとの接触が可能であれ
ば問題ない。当接時のバックアップローラの有無や吸収
ローラの駆動の有無は特に限定しない。

【００１１】吸収ローラは、汎用のパスローラに極細
（通常２０〜１００μｍ）ステンレス線材をランダムに
ワインディングしたもので、ある一定の厚みと空隙率を
持っているため、液を吸収して、さらに保持するという
特徴を持っている。空隙率を変えることによって、液吸
収量のコントロールが可能である。このステンレス線巻
き吸収ローラにより、塗布、搬送条件の異なる様々な過
剰塗布液を吸収量をコントロールさせながら除去するこ
とができる。ステンレス材質であるということでは、請
求項２に記載のような有機溶剤系塗布を扱う防爆場所で
の使用も可能である。

【００１２】通例、塗布装置における乾燥ゾーンの長さ
は、乾燥点より長く、余裕のある設計となっており、多
少の厚塗りは工程汚染の対象とならないのが通例であ
る。吸収ローラは前記のごとく吸収量をコントロールす
ることにより、乾燥上問題にならない程度まで過剰塗膜
から必要最少限の液量をステンレス線間の隙間に吸収さ
せることで、連続使用性を高めることができる。

【００１３】さらに連続使用回数を増やす方法として、
パスローラ表面に孔を空けておき、吸引ポンプ等でロー
ラ内部から吸収した余剰塗布液を吸引する方法も有効で
あるがローラ構造が複雑になりやすく、コストとの兼ね
合いで判断する必要がある。また、吸収ロールは１本で
ある必要はなく、２本以上用意し、バッチで使用すれ
ば、洗浄時間が稼げ、生産性を低下させずに再生使用も
可能である。

【００１４】吸収ローラに吸収した液が保持されない場
合に、液が垂れて面状故障や工程汚染の原因になってし
まうという問題があるが、本発明ではハロゲン化銀感光
材料中の磁性層用塗布液が対象であり、液粘度が比較的
高いため、ステンレス線材間の空隙のみで保持力は十分
である。仮に低粘度液で液垂れの懸念があっても、前記
のごときポンプ吸引方式を採用すれば何等問題はない。
尚、本願実施態様では、本発明による磁性層塗布後に反
対面にハロゲン化銀写真感光材料塗布液を塗布すること
を前提としているが、本願発明は必ずしもこの実施態様
又は、後述の実施例に限定されるものではない。

【００１５】次に図を用いて本発明の実施態様を詳細に
説明する。図１のごとく、吸収ローラ５は塗布部３から
１ｍの位置にあり、乾燥ゾーン６の前に位置している。
乾燥ゾーン長は１０ｍで、アーチ状であり、その後工程
に反転ローラ７がある。磁性層塗布開始時に塗布量過剰
部分が発生するので、吸収ローラ５の当接のタイミング
は塗布量過剰部分が通過する時間だけ当接させればよ
い。実際は前後１〜２秒の余裕をつくっておくが、連続
使用性から考えるとできるだけ少ない方が好ましい。吸
収ローラ５のウェブ１への当接はエアーシリンダーで行
い、図２で示すようにラップ角度は５〜１０°でよい。
吸収ローラの表面にワインディングしてあるステンレス
線材の厚みは、図３のごとく５〜１０ｍｍ程度で、空隙
率は任意に調整したものを使用するが、５０〜７０体積
％が好ましく、さらに好ましくは５５〜６５体積％であ
る。

【００１６】

【実施例】

［実施例１］スライドホッパー塗布機により、厚み９０
μｍの下塗り済ポリエチレンナフタレート支持体に、液
粘度１００ｍＰａ・ｓｅｃのダイアセテートセルロース
（ダイセル化学工業（株）製）の溶解の磁性液（磁性体
は、コバルト被着のγ酸化鉄（戸田工業（株）製）０．
２５重量％含有、溶媒はメチルエチルケトンとシクロヘ
キサノンを１：１（重量比）で混合したもの）を３０ｍ
／分の塗布速度で、ウェット膜厚３０μｍ相当の送液量
で塗布開始した。減圧チャンバーの圧力は−２０ｍｍＨ
2Ｏの微減圧にし、乾燥ゾーン温度は１２０℃とした。
塗布開始に合わせて塗布量過剰部分通過のタイミング
に、ステンレス線の空隙率５５体積％の吸収ローラを当
接させ、正常厚みになり次第当接を解除した。この操作
を５０回繰り返した。

【００１７】［実施例２］実施例１において、吸収ロー
ラのステンレス線の空隙率を６５体積％にした以外は、
実施例１と同様にした。

【００１８】［比較例１］実施例１において、塗布液中
のダイアセテートセルロースの含有率を下げて、液粘度
１０ｍＰａ・ｓｅｃにし、また、吸収ローラの当接を実
施しない以外は、実施例１と同様にした。

【００１９】［比較例２］実施例１において、塗布液中
のダイアセテートセルロースの含有率を上げて、液粘度
２５０ｍＰａ・ｓｅｃにした以外は、実施例１と同様に
した。

【００２０】［比較例３］実施例１において、吸収ロー
ラのステンレス線の空隙率を７５体積％にした以外は、
実施例１と同様にした。

【００２１】［比較例４］実施例１において、吸収ロー
ラのステンレス線の空隙率を４５体積％にした以外は、
実施例１と同様にした。

【００２２】［比較例５］実施例１において、吸収ロー
ラのステンレス線の空隙率を３０体積％にした以外は、
実施例１と同様にした。

【００２３】実施例１および２、さらに比較例３〜５で
得られた塗布開始直後の吸収ローラを当接させた乾燥膜
厚サンプルを膜厚計で評価した。また、乾燥ゾーンの後
工程の反転ローラの汚れもチェックした。評価結果は表
１の通りで、空隙率はある程度低い方が吸収性がすぐれ
ているが、低すぎると吸収空間がなくなり、除去量が低
下する。空隙率４５体積％が吸収性としては一番すぐれ
ているが、連続使用性の点で５５体積％や６５体積％に
劣り、反転ローラ汚れや正常膜厚部（製品部）への転写
を引き起こした。

【００２４】

【表１】

【００２５】比較例１は、液粘度が低いこともあって、
過剰塗布量が少ないことを予想したため、吸収ローラは
使用しなかった。その結果、乾燥膜厚サンプルを評価し
たところ、過剰厚みが正常厚みの１．９倍であり、吸収
ローラを使う必要がないことがわかった。比較例２は、
液粘度が高すぎて、塗りつけ不良を起こした。従って、
本発明の好ましい実施態様として塗布液は２０〜２００
ｍＰａ・ｓｅｃである。

【００２６】

【発明の効果】実施例および比較例３〜５から明らかな
ように、ある程度高粘度である磁性層用塗布液のスライ
ドホッパー型塗布にありがちな塗布量過剰部分に、本発
明の吸収ローラを適用するこによって、塗布乾燥装置の
形態を変えることなく、簡便に工程汚染を防ぐことがで
きる。特に有機溶剤系の塗布装置の場合には、防爆の観
点から吸収ローラ表面の材質に制限があるため、ステン
レス線の利用はその制限を回避できるものである。ま
た、乾燥ゾーン長を有効に使いながら、過剰塗布量部分
の吸収量を制御し、工程汚染の起きない必要最小限の吸
収量にすることに連続使用回数を増すことで、吸収ロー
ラ洗浄工程の回数減など生産性に寄与する所が大きい。

【００２７】

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、この発明にかかる塗布装置の吸収ロー
ラの前後工程を示した図である。

【図２】図２は、吸収ローラを当接した場合のラップ角
度の定義を示した図である。

【図３】図３は、吸収ローラのワインディングしてある
極細ステンレス線の厚みを表した図である。

【符号の説明】

１：ウェブ ２：コーティングローラ ３：スライドホッパー型コーター ４：減圧チャンバー ５：過剰塗布液吸収ローラ（吸収ローラ） ６：乾燥ゾーン ７：第１反転ローラ ８：ラップ角度

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁性層を有するハロゲン化銀感光材料中
   の磁性層塗布方法において、塗布開始時に発生する過剰
   厚塗り部分を外周がステンレス線でランダムに巻き付け
   られた過剰塗布液吸収ローラを当接することにより、正
   常厚みの１．２〜２倍の厚みにすることを特徴とする塗
   布方法。
2. 【請求項２】 塗布液粘度が２０〜２００ｍＰａ・ｓｅ
   ｃで、溶媒が有機溶剤であることを特徴とする請求項１
   に記載の塗布方法。
3. 【請求項３】 該過剰塗布液吸収ローラの外周にランダ
   ムに巻き付けられているステンレス線の空隙率が５０〜
   ７０体積％であることを特徴とする請求項１に記載の塗
   布方法。