JPH08302041A - ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリプロピレンの表面硬度を高める方法およびその方法により製造した材料 - Google Patents
ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリプロピレンの表面硬度を高める方法およびその方法により製造した材料Info
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 特定のイオン種および条件でイオンを注入し
て、ＰＡ、ＰＣ、ＰＰに高い表面硬度を付与する。 【構成】 ＰＡ、ＰＣ、ＰＰに、ほぼ２５ｋｅＶ〜ほぼ
１Ｍｅｖで、シリコン、ボロン、アルゴンのうちいずれ
かのイオンをほぼ１×１０14〜ほぼ１×１０15ｉｏｎｓ
／ｃｍ2 で注入する。
て、ＰＡ、ＰＣ、ＰＰに高い表面硬度を付与する。 【構成】 ＰＡ、ＰＣ、ＰＰに、ほぼ２５ｋｅＶ〜ほぼ
１Ｍｅｖで、シリコン、ボロン、アルゴンのうちいずれ
かのイオンをほぼ１×１０14〜ほぼ１×１０15ｉｏｎｓ
／ｃｍ2 で注入する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ポリアミド（Ｐ
Ａ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（Ｐ
Ｐ）の表面硬度を高め耐磨耗性等の機械的特性を向上さ
せる方法およびその方法により製造した材料に関するも
のである。
Ａ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（Ｐ
Ｐ）の表面硬度を高め耐磨耗性等の機械的特性を向上さ
せる方法およびその方法により製造した材料に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術および課題】最近プラスチックは、他の素
材に比べ易成形性、耐衝撃性、防錆性および軽量性など
優れた性質を有しており、金属や木材などの材料の代わ
りに幅広い分野で使われているが、表面硬度が低くて傷
がつきやすいために用途によっては利用できない分野が
ある。
材に比べ易成形性、耐衝撃性、防錆性および軽量性など
優れた性質を有しており、金属や木材などの材料の代わ
りに幅広い分野で使われているが、表面硬度が低くて傷
がつきやすいために用途によっては利用できない分野が
ある。
【０００３】この発明は、特定のイオン種および条件で
ＰＡ、ＰＣ、ＰＰに高い表面硬度を付与することを目的
とする。
ＰＡ、ＰＣ、ＰＰに高い表面硬度を付与することを目的
とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】ＰＡ、ＰＣ、ＰＰに、２
５ｋｅＶ〜１ＭｅＶで、好ましくはほぼ２５ｋｅＶ〜ほ
ぼ１ＭｅＶで、、シリコン、ボロン、アルゴンのうちい
ずれかのイオンを１×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 〜１×１
０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 、好ましくはほぼ１×１０14ｉｏ
ｎｓ／ｃｍ2 〜ほぼ１×１０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 、で注
入し、表面を改質して表面硬度を高める。
５ｋｅＶ〜１ＭｅＶで、好ましくはほぼ２５ｋｅＶ〜ほ
ぼ１ＭｅＶで、、シリコン、ボロン、アルゴンのうちい
ずれかのイオンを１×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 〜１×１
０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 、好ましくはほぼ１×１０14ｉｏ
ｎｓ／ｃｍ2 〜ほぼ１×１０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 、で注
入し、表面を改質して表面硬度を高める。
【０００５】
【実験】 注入用基材 注入に用いたプラスチック基材は、ＰＰ、ＰＡ、ＰＣ、
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＩ（ポリイ
ミド）である。
ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＩ（ポリイ
ミド）である。
【０００６】試料作製 いずれの基材もエチルアルコールによる超音波洗浄を行
った後イオン注入処理に供した。イオン注入処理はイオ
ン工学センターの２００ｋｅＶ（Ａ）および８ＭｅＶイ
オン注入装置を利用して行った。注入したイオン種は、
２００ｋｅＶイオン注入装置の場合はＡｒ+ 、Ｂ+ 、Ｓ
ｉ+ の３種類である。注入エネルギーは２５、５０、１
００、２００ｋｅＶの４種類である。注入イオンのイオ
ン電流密度は０．３μＡ／ｃｍ2 以下である。注入量は
１×１０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 とした。注入量の条件を１
×１０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 にしたのは、テフロンの接着
性に関する研究において、注入効果が現れ始める注入量
が１×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 であったこと及び３種類
のイオン種による注入処理を行うため、できるだけ短時
間で効果のある処理をすませることが装置の利用時間が
限られているので必要だったことによる。８ＭｅＶイオ
ン注入装置の場合は、イオン種はＢ+ およびＳｉ+ の２
種類、注入エネルギーは１、２、４ＭｅＶの３種類、注
入イオン電流密度は試料温度の上昇を抑えるため０．１
μＡ／ｃｍ2 以下とし、注入量は１×１０14ｉｏｎｓ／
ｃｍ2 、５×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 および１×１０15
ｉｏｎｓ／ｃｍ2 とした。なお、４ＭｅＶ注入実験の
時、サーモラベルを２枚のＰＩではさんでイオン注入に
よる温度上昇をモニターしたところ、８０℃を越えては
いなかった。
った後イオン注入処理に供した。イオン注入処理はイオ
ン工学センターの２００ｋｅＶ（Ａ）および８ＭｅＶイ
オン注入装置を利用して行った。注入したイオン種は、
２００ｋｅＶイオン注入装置の場合はＡｒ+ 、Ｂ+ 、Ｓ
ｉ+ の３種類である。注入エネルギーは２５、５０、１
００、２００ｋｅＶの４種類である。注入イオンのイオ
ン電流密度は０．３μＡ／ｃｍ2 以下である。注入量は
１×１０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 とした。注入量の条件を１
×１０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 にしたのは、テフロンの接着
性に関する研究において、注入効果が現れ始める注入量
が１×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 であったこと及び３種類
のイオン種による注入処理を行うため、できるだけ短時
間で効果のある処理をすませることが装置の利用時間が
限られているので必要だったことによる。８ＭｅＶイオ
ン注入装置の場合は、イオン種はＢ+ およびＳｉ+ の２
種類、注入エネルギーは１、２、４ＭｅＶの３種類、注
入イオン電流密度は試料温度の上昇を抑えるため０．１
μＡ／ｃｍ2 以下とし、注入量は１×１０14ｉｏｎｓ／
ｃｍ2 、５×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 および１×１０15
ｉｏｎｓ／ｃｍ2 とした。なお、４ＭｅＶ注入実験の
時、サーモラベルを２枚のＰＩではさんでイオン注入に
よる温度上昇をモニターしたところ、８０℃を越えては
いなかった。
【０００７】 イオン注入装置 イオン工学センターの２００ｋｅＶ（Ａ）および８Ｍｅ
Ｖイオン注入装置を用いた。２００ｋｅＶイオン注入装
置では、均一にイオン注入するため直径１ｍのディスク
をメカニカルスキャン（スピンと左右方向の並進運動に
よる）する方式となっており、規格サイズ（板厚２ｍｍ
以下で、４〜６インチの円板または３００ｍｍ□板）外
の試料の場合、注入しようとする試料はこのディスクの
上になんらかの方法で固定しなければならない。今回は
試料をディスクに直接ポリイミド接着テープにより固定
し、注入した。８ＭｅＶの場合は静電スキャン方式であ
るが、イオンのエネルギーが高いので、６インチの円盤
型治具にネジにより試料を固定したのち枚葉式ディスク
にセットし、注入を行った。
Ｖイオン注入装置を用いた。２００ｋｅＶイオン注入装
置では、均一にイオン注入するため直径１ｍのディスク
をメカニカルスキャン（スピンと左右方向の並進運動に
よる）する方式となっており、規格サイズ（板厚２ｍｍ
以下で、４〜６インチの円板または３００ｍｍ□板）外
の試料の場合、注入しようとする試料はこのディスクの
上になんらかの方法で固定しなければならない。今回は
試料をディスクに直接ポリイミド接着テープにより固定
し、注入した。８ＭｅＶの場合は静電スキャン方式であ
るが、イオンのエネルギーが高いので、６インチの円盤
型治具にネジにより試料を固定したのち枚葉式ディスク
にセットし、注入を行った。
【０００８】 表面硬度評価法 プラスチック材料の表面硬度は、圧子の押し込み深さを
測定することにより試料極表面の固さを評価する方法の
島津ダイナミック超微少硬度計ＤＵＨ−２００型（島津
製作所）により測定した。圧子には１１５度三角すい圧
子を用い、圧子への測定荷重は２００ｍｇとした。試料
の表面硬さは次式により定義されるダイナミック硬さ
（ＤＨ）により表すことにした。 ＤＨ115 ＝３．８５８Ｐ／ｈ2 但し、ｈ：押し込み深さ Ｐ：圧子への負荷（ｍＮ）
測定することにより試料極表面の固さを評価する方法の
島津ダイナミック超微少硬度計ＤＵＨ−２００型（島津
製作所）により測定した。圧子には１１５度三角すい圧
子を用い、圧子への測定荷重は２００ｍｇとした。試料
の表面硬さは次式により定義されるダイナミック硬さ
（ＤＨ）により表すことにした。 ＤＨ115 ＝３．８５８Ｐ／ｈ2 但し、ｈ：押し込み深さ Ｐ：圧子への負荷（ｍＮ）
【０００９】実験結果 図１乃至図３は、それぞれ２００ｋｅＶイオン注入装置
を用いてＢ+ 、Ｓｉ+およびＡｒ+ をイオン注入したプ
ラスチック材料の注入面の表面硬さと注入イオンエネル
ギーの間の関係を示したものである。
を用いてＢ+ 、Ｓｉ+およびＡｒ+ をイオン注入したプ
ラスチック材料の注入面の表面硬さと注入イオンエネル
ギーの間の関係を示したものである。
【００１０】注入量は、いずれも１×１０15ｉｏｎｓ／
ｃｍ2 である。図に示した硬度はダイナミック硬度とし
て定義されている数値である。図から分かるように、Ｐ
Ｐ、ＰＡおよびＰＣは、注入エネルギーの増加とともに
表面硬さは増加する。この傾向はイオン種によらない。
未注入試料の中で最も硬いのはＰＣであるが、イオン注
入処理試料の中で最も高い硬度を示す試料もＰＣであ
る。最高値を示す２００ｋｅＶのＢ+ イオン注入ＰＣの
硬度は、未注入ＰＣ試料の約１．８倍であり、また、２
００ｋｅＶのＳｉ+ イオン注入ＰＣの硬度は未注入ＰＣ
試料の約１．７倍である。他方、イオン注入による表面
硬さの増加の割合が最も高いのはＰＡ試料である。２０
０ｋｅＶのＡｒ+ イオン注入ＰＡ試料の硬度は、未注入
ＰＡ試料に比べ約２．３倍、２００ｋｅＶのＳｉ+ イオ
ン注入では約１．９倍となる。
ｃｍ2 である。図に示した硬度はダイナミック硬度とし
て定義されている数値である。図から分かるように、Ｐ
Ｐ、ＰＡおよびＰＣは、注入エネルギーの増加とともに
表面硬さは増加する。この傾向はイオン種によらない。
未注入試料の中で最も硬いのはＰＣであるが、イオン注
入処理試料の中で最も高い硬度を示す試料もＰＣであ
る。最高値を示す２００ｋｅＶのＢ+ イオン注入ＰＣの
硬度は、未注入ＰＣ試料の約１．８倍であり、また、２
００ｋｅＶのＳｉ+ イオン注入ＰＣの硬度は未注入ＰＣ
試料の約１．７倍である。他方、イオン注入による表面
硬さの増加の割合が最も高いのはＰＡ試料である。２０
０ｋｅＶのＡｒ+ イオン注入ＰＡ試料の硬度は、未注入
ＰＡ試料に比べ約２．３倍、２００ｋｅＶのＳｉ+ イオ
ン注入では約１．９倍となる。
【００１１】図４および図５は、それぞれ８ＭｅＶイオ
ン注入装置を用いて１ＭｅＶのＢ+およびＳｉ+ イオン
を注入したプラスチック材料の表面硬さと注入イオン量
の関係を示したものである。
ン注入装置を用いて１ＭｅＶのＢ+およびＳｉ+ イオン
を注入したプラスチック材料の表面硬さと注入イオン量
の関係を示したものである。
【００１２】図４に示すＢ+ イオン注入の結果から、Ｐ
Ｐ、ＰＡおよびＰＣの表面硬さは注入量の増加と共に増
加するといえる。また、イオン注入によりそれぞれの材
料で得られたる硬度の最高値は、それぞれの未注入試料
の値に対し、ＰＰで約１０倍、ＰＡでは約７．２倍、Ｐ
Ｃでは約７．９倍である。また、表面硬さの最高の値
は、ＰＣへの１ＭｅＶイオン注入により得られ、硬度は
約１００である。
Ｐ、ＰＡおよびＰＣの表面硬さは注入量の増加と共に増
加するといえる。また、イオン注入によりそれぞれの材
料で得られたる硬度の最高値は、それぞれの未注入試料
の値に対し、ＰＰで約１０倍、ＰＡでは約７．２倍、Ｐ
Ｃでは約７．９倍である。また、表面硬さの最高の値
は、ＰＣへの１ＭｅＶイオン注入により得られ、硬度は
約１００である。
【００１３】次に図５に示すＳｉ+ イオンの場合である
が、Ｂ+ イオンの場合より硬度増加は少ない。また、注
入量の増加と共に硬度は増加するといってよい。それぞ
れの材料で得られた硬度の最高値は、それぞれの未イオ
ン注入試料の値に対し、ＰＰでは約５．５倍、ＰＡでは
５．４倍、ＰＣでは５．２倍そしてＰＥＴでは約５．１
倍である。また、表面硬さの最高値は、ＰＣへの１Ｍｅ
Ｖイオン注入により得られ、硬度は約６５である。
が、Ｂ+ イオンの場合より硬度増加は少ない。また、注
入量の増加と共に硬度は増加するといってよい。それぞ
れの材料で得られた硬度の最高値は、それぞれの未イオ
ン注入試料の値に対し、ＰＰでは約５．５倍、ＰＡでは
５．４倍、ＰＣでは５．２倍そしてＰＥＴでは約５．１
倍である。また、表面硬さの最高値は、ＰＣへの１Ｍｅ
Ｖイオン注入により得られ、硬度は約６５である。
【００１４】以上より、ＰＩを除けば、高エネルギーの
イオン注入は、プラスチック材料の表面硬さの向上に非
常に有効であり、特にＰＡ、ＰＣおよびＰＰは期待を持
てると結論できる。なお、実験データーは、２５、５
０、１００、２００ｋｅＶおよび１ＭｅＶの注入エネル
ギーのものを記載しているが、それらデーダーにより、
それら注入エネルギーの中間および前後近辺の注入エネ
ルギーの場合の趨勢が判る。また、実験データーは、１
×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 および１×１０15ｉｏｎｓ／
ｃｍ2 のイオン注入量のものを記載したが、それらデー
ダーにより、それら注入量の中間および前後近辺の注入
量の場合の趨勢が判る。
イオン注入は、プラスチック材料の表面硬さの向上に非
常に有効であり、特にＰＡ、ＰＣおよびＰＰは期待を持
てると結論できる。なお、実験データーは、２５、５
０、１００、２００ｋｅＶおよび１ＭｅＶの注入エネル
ギーのものを記載しているが、それらデーダーにより、
それら注入エネルギーの中間および前後近辺の注入エネ
ルギーの場合の趨勢が判る。また、実験データーは、１
×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 および１×１０15ｉｏｎｓ／
ｃｍ2 のイオン注入量のものを記載したが、それらデー
ダーにより、それら注入量の中間および前後近辺の注入
量の場合の趨勢が判る。
【００１５】
【作用および効果】この発明による方法によれば、Ｐ
Ａ、ＰＣおよびＰＰの表面にコーティングすることな
く、また化学処理することなく、直接シリコン、ボロン
またはアルゴンのイオンが注入され、表面が改質して硬
度が高まる。この発明による方法により上記イオンを注
入されたＰＡ、ＰＣおよびＰＰ材料は、表面硬度が高
く、表面が傷つきにくく、耐磨耗性等機械的特性に優
れ、広く機械的分野で使用することができる。
Ａ、ＰＣおよびＰＰの表面にコーティングすることな
く、また化学処理することなく、直接シリコン、ボロン
またはアルゴンのイオンが注入され、表面が改質して硬
度が高まる。この発明による方法により上記イオンを注
入されたＰＡ、ＰＣおよびＰＰ材料は、表面硬度が高
く、表面が傷つきにくく、耐磨耗性等機械的特性に優
れ、広く機械的分野で使用することができる。
【図１】ボロンイオンを２５〜２００ｋｅＶで注入した
プラスチックの硬度対比の図である。
プラスチックの硬度対比の図である。
【図２】シリコンイオンを２５〜２００ｋｅＶで注入し
たプラスチックの硬度対比の図である。
たプラスチックの硬度対比の図である。
【図３】アルゴンイオンを２５〜２００ｋｅＶで注入し
たプラスチックの硬度対比の図である。
たプラスチックの硬度対比の図である。
【図４】ボロンイオンを１ＭｅＶで注入したプラスチッ
クの硬度対比の図である。
クの硬度対比の図である。
【図５】シリコンイオンを１ＭｅＶで注入したプラスチ
ックの硬度対比の図である。
ックの硬度対比の図である。
Claims (2)
- 【請求項１】 ポリアミド、ポリカーボネートおよびポ
リプロピレンのいずれかに、ほぼ２５ｋｅＶ〜ほぼ１Ｍ
ｅＶで、シリコン、ボロン、アルゴンのうちいずれかの
イオンをほぼ１×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 〜ほぼ１×１
０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 で注入することを特徴とするポリ
アミド、ポリカーボネートおよびポリプロピレンの表面
硬度を高める方法。 - 【請求項２】 ポリアミド、ポリカーボネートおよびポ
リプロピレンのいずれかに、ほぼ２５ｋｅＶ〜ほぼ１Ｍ
ｅＶで、シリコン、ボロン、アルゴンのうちいずれかの
イオンをほぼ１×１０14ｉｏｎｓ／ｃｍ2 〜ほぼ１×１
０15ｉｏｎｓ／ｃｍ2 で注入することにより表面硬度を
高めてなるポリアミド、ポリカーボネートおよびポリプ
ロピレンの材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13281395A JPH08302041A (ja) | 1995-05-02 | 1995-05-02 | ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリプロピレンの表面硬度を高める方法およびその方法により製造した材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13281395A JPH08302041A (ja) | 1995-05-02 | 1995-05-02 | ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリプロピレンの表面硬度を高める方法およびその方法により製造した材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08302041A true JPH08302041A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=15090182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13281395A Pending JPH08302041A (ja) | 1995-05-02 | 1995-05-02 | ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリプロピレンの表面硬度を高める方法およびその方法により製造した材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08302041A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100350227B1 (ko) * | 2000-03-03 | 2002-08-27 | 한국전력공사 | 이온 주입에 의한 투명 고분자 막의 표면 내구성 향상 및광 투과도 조절 방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5730139A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-18 | Victor Co Of Japan Ltd | Guide rail device |
| JPH0222099A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 鉛筆削り機 |
-
1995
- 1995-05-02 JP JP13281395A patent/JPH08302041A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5730139A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-18 | Victor Co Of Japan Ltd | Guide rail device |
| JPH0222099A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 鉛筆削り機 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100350227B1 (ko) * | 2000-03-03 | 2002-08-27 | 한국전력공사 | 이온 주입에 의한 투명 고분자 막의 표면 내구성 향상 및광 투과도 조절 방법 |
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