JPH0830227B2 - 真空吸引式脱ガス装置 - Google Patents
真空吸引式脱ガス装置Info
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- JPH0830227B2 JPH0830227B2 JP2158324A JP15832490A JPH0830227B2 JP H0830227 B2 JPH0830227 B2 JP H0830227B2 JP 2158324 A JP2158324 A JP 2158324A JP 15832490 A JP15832490 A JP 15832490A JP H0830227 B2 JPH0830227 B2 JP H0830227B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/04—Refining by applying a vacuum
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は多孔質部材を介して、溶融金属、溶融マット
及び溶融スラグ等の融体から、ガス相を生成する溶質成
分を除去し、又は回収する真空吸引式脱ガス装置に関
し、特に融体浴の深さが浅い場合に好適の真空吸引式脱
ガス装置に関する。
及び溶融スラグ等の融体から、ガス相を生成する溶質成
分を除去し、又は回収する真空吸引式脱ガス装置に関
し、特に融体浴の深さが浅い場合に好適の真空吸引式脱
ガス装置に関する。
[従来の技術] 溶融金属、溶融マット及び溶融スラグ等の融体から、
ガス相を生成する溶質成分を除去し、又は回収する技術
として、従来、RH法及びDH法等の脱ガス法がある。この
RH法及びDH法は、真空下又は減圧下において溶湯中に大
量のアルゴンガスを吹き込み、溶湯中のガス成分の分圧
を低下させてこのガス成分を除去している。
ガス相を生成する溶質成分を除去し、又は回収する技術
として、従来、RH法及びDH法等の脱ガス法がある。この
RH法及びDH法は、真空下又は減圧下において溶湯中に大
量のアルゴンガスを吹き込み、溶湯中のガス成分の分圧
を低下させてこのガス成分を除去している。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、この従来のRH法及びDH法による脱ガス
法は、大量のアルゴンガスを使用するため、ランニング
コストが高いという欠点がある。また、大量のアルゴン
ガスを溶湯中に吹き込むので、溶湯からスプラッシュが
発生し易く、装置の壁面等に地金が付着し、その除去作
業が煩雑である。更に、このスプラッシュが発生するた
め、装置を大型にせざるを得ず、装置コストも高い。
法は、大量のアルゴンガスを使用するため、ランニング
コストが高いという欠点がある。また、大量のアルゴン
ガスを溶湯中に吹き込むので、溶湯からスプラッシュが
発生し易く、装置の壁面等に地金が付着し、その除去作
業が煩雑である。更に、このスプラッシュが発生するた
め、装置を大型にせざるを得ず、装置コストも高い。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであっ
て、融体中のガス成分を大量のアルゴンガスを使用する
ことなく、容易に除去することができ、融体の脱ガスを
簡素な装置で低コストで実施することができる真空吸引
式脱ガス装置を提供することを目的とする。
て、融体中のガス成分を大量のアルゴンガスを使用する
ことなく、容易に除去することができ、融体の脱ガスを
簡素な装置で低コストで実施することができる真空吸引
式脱ガス装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明に係る真空吸引式脱ガス装置は、融体を収納し
た収納容器と、融体中の不純物元素と反応してガスを生
じる成分を含有する材料であってガスを透過するが融体
は透過しない多孔質材料により形成されその1部分が前
記収納容器内の前記融体に浸漬された多孔質部材と、前
記融体の湯面上の部分の前記多孔質部材を真空又は減圧
状態におき前記融体中の不純物成分と前記多孔質部材の
成分との反応により生じたガスを前記多孔質部材を介し
て吸引する吸引手段とを有することを特徴とする。
た収納容器と、融体中の不純物元素と反応してガスを生
じる成分を含有する材料であってガスを透過するが融体
は透過しない多孔質材料により形成されその1部分が前
記収納容器内の前記融体に浸漬された多孔質部材と、前
記融体の湯面上の部分の前記多孔質部材を真空又は減圧
状態におき前記融体中の不純物成分と前記多孔質部材の
成分との反応により生じたガスを前記多孔質部材を介し
て吸引する吸引手段とを有することを特徴とする。
[作用] 第3図は本発明の原理を示す模式図である。多孔質部
材1は、ガスのみを透過し、溶融金属、溶融マット及び
溶融スラグ等の融体は透過しない多孔質材料からなる部
材である。そして、この多孔質部材1の一方の面に前記
融体2を接触させ、他方の面を真空又は減圧雰囲気3に
した場合に、融体2と接触した壁面では融体2の静圧に
無関係に圧力が低下する。
材1は、ガスのみを透過し、溶融金属、溶融マット及び
溶融スラグ等の融体は透過しない多孔質材料からなる部
材である。そして、この多孔質部材1の一方の面に前記
融体2を接触させ、他方の面を真空又は減圧雰囲気3に
した場合に、融体2と接触した壁面では融体2の静圧に
無関係に圧力が低下する。
このため、融体2中の不純物成分又は回収する価値が
ある有価成分であって、ガス相を生成するものは、容易
に多孔質部材1の壁面で核生成し、生成したガス4は多
孔質部材1を透過して融体2から分離される。
ある有価成分であって、ガス相を生成するものは、容易
に多孔質部材1の壁面で核生成し、生成したガス4は多
孔質部材1を透過して融体2から分離される。
本願発明者等はこのような原理に基づいて融体中から
ガス成分を除去できることに想到し、本発明を完成させ
るに至ったものである。
ガス成分を除去できることに想到し、本発明を完成させ
るに至ったものである。
而して、融体中に溶解しているガス生成成分は下記の
反応式により、ガスとなって除去される。N +N→N2 …(1)H +H→H2 …(2)C +O→CO …(3) S+2O→SO2 …(4) また、融体中の不純物が多孔質部材の成分と反応して
ガスとなった後、前記多孔質部材を透過して除去される
こともある。
反応式により、ガスとなって除去される。N +N→N2 …(1)H +H→H2 …(2)C +O→CO …(3) S+2O→SO2 …(4) また、融体中の不純物が多孔質部材の成分と反応して
ガスとなった後、前記多孔質部材を透過して除去される
こともある。
多孔質部材が酸化物(MXOY)の場合には、融体中の炭
素は下記反応式によりガスとなって除去される。
素は下記反応式によりガスとなって除去される。
yC+MXOY(固体)→xM+yCO …(5) また、多孔質部材が炭素で構成されているか、又は炭
素を1成分として含有している場合には、下記反応式に
より融体中の酸素が除去される。O +C(固体)→CO …(6) 更に、融体中の蒸気圧が高い有価成分(M)の分離回
収は下記反応式により前記有価成分をガス化することに
より行なわれる。
素を1成分として含有している場合には、下記反応式に
より融体中の酸素が除去される。O +C(固体)→CO …(6) 更に、融体中の蒸気圧が高い有価成分(M)の分離回
収は下記反応式により前記有価成分をガス化することに
より行なわれる。
xM→MX(ガス) …(7) MOY→MOY(ガス) …(8) MSY→MSY(ガス) …(9) このようにして、融体中のN,H,C,O及びS等の不純物
成分及び有価成分が融体中から除去され、又は回収され
る。
成分及び有価成分が融体中から除去され、又は回収され
る。
本願の第1発明においては、多孔質部材の1部分を収
納容器内の融体中に浸漬し、湯面上の部分の前記多孔質
部材を真空又は減圧状態におく。そうすると、多孔質部
材は融体を透過しないため、この多孔質部材が有してい
る細孔の内部が真空又は減圧状態になる。そして、多孔
質部材の成分と融体との反応により生成したガスは、多
孔質部材の細孔を通過し、融体から分離される。その
後、このガスは前記多孔質部材を介して、吸引手段によ
り吸引される。このようにして、融体中の脱ガス成分を
融体から分離することができる。
納容器内の融体中に浸漬し、湯面上の部分の前記多孔質
部材を真空又は減圧状態におく。そうすると、多孔質部
材は融体を透過しないため、この多孔質部材が有してい
る細孔の内部が真空又は減圧状態になる。そして、多孔
質部材の成分と融体との反応により生成したガスは、多
孔質部材の細孔を通過し、融体から分離される。その
後、このガスは前記多孔質部材を介して、吸引手段によ
り吸引される。このようにして、融体中の脱ガス成分を
融体から分離することができる。
また、本願の第2発明においては、筒状の緻密質部材
の下端部に多孔質部材が嵌入されており、この緻密質部
材から露出した部分の多孔質部材が収納容器内の融体中
に浸漬されている。そして、前記緻密質部材の内部を真
空又は減圧状態にすると、多孔質部材の成分と融体との
反応により生成したガスは、多孔質部材の細孔を通過
し、緻密質部材の内部に放出される。その後、このガス
は吸引手段により吸引される。このようにして、融体中
の脱ガス成分を融体から分離することができる。この場
合に、前記多孔質部材は前記緻密質部材から露出した部
分が前記融体中に浸漬されていればよいため、収納容器
内の融体深さが比較的浅くても、融体の脱ガス処理が可
能である。
の下端部に多孔質部材が嵌入されており、この緻密質部
材から露出した部分の多孔質部材が収納容器内の融体中
に浸漬されている。そして、前記緻密質部材の内部を真
空又は減圧状態にすると、多孔質部材の成分と融体との
反応により生成したガスは、多孔質部材の細孔を通過
し、緻密質部材の内部に放出される。その後、このガス
は吸引手段により吸引される。このようにして、融体中
の脱ガス成分を融体から分離することができる。この場
合に、前記多孔質部材は前記緻密質部材から露出した部
分が前記融体中に浸漬されていればよいため、収納容器
内の融体深さが比較的浅くても、融体の脱ガス処理が可
能である。
更に、本願第1及び第2発明においては、対象とする
融体中の不純物又は有価成分に応じて、これらの不純物
又は有価成分と反応する多孔質部材中の成分の濃度を調
整することにより、融体中の不純物又は有価成分と多孔
質部材との反応速度を制御することもできる。
融体中の不純物又は有価成分に応じて、これらの不純物
又は有価成分と反応する多孔質部材中の成分の濃度を調
整することにより、融体中の不純物又は有価成分と多孔
質部材との反応速度を制御することもできる。
なお、雰囲気及び収納容器への放熱による融体の温度
の低下、多孔質部材を融体に浸漬することによる融体の
温度の低下及び多孔質部材の成分と融体との吸熱反応に
よる融体の温度の低下等に起因する不都合の発生を回避
するために、多孔質部材に通電するか、予め多孔質部材
に抵抗線を埋設しこの抵抗線に通電するか又は外部加熱
(例えば、プラズマ加熱)する等の方法により多孔質部
材及び融体を加熱することができる加熱手段を設けてお
いてもよい。
の低下、多孔質部材を融体に浸漬することによる融体の
温度の低下及び多孔質部材の成分と融体との吸熱反応に
よる融体の温度の低下等に起因する不都合の発生を回避
するために、多孔質部材に通電するか、予め多孔質部材
に抵抗線を埋設しこの抵抗線に通電するか又は外部加熱
(例えば、プラズマ加熱)する等の方法により多孔質部
材及び融体を加熱することができる加熱手段を設けてお
いてもよい。
多孔質材料としては、Al2O3、MgO、CaO、SiO2、Fe
2O3、Fe3O4、Cr2O3、BN、Si3N4並びにSiC及びC等の金属
酸化物、金属非酸化物及び炭素並びにこれらの混合物
等、種々のものを使用することができるが、融体の主成
分と反応しないものが好ましい。このように、主成分と
反応しないことにより、融体と接触する多孔質部材の溶
損が防止される。
2O3、Fe3O4、Cr2O3、BN、Si3N4並びにSiC及びC等の金属
酸化物、金属非酸化物及び炭素並びにこれらの混合物
等、種々のものを使用することができるが、融体の主成
分と反応しないものが好ましい。このように、主成分と
反応しないことにより、融体と接触する多孔質部材の溶
損が防止される。
また、ガスのみを透過させ、融体は透過させないよう
にするため、融体に濡れにくい多孔質材料の仕切り部材
を使用する。更に、仕切り部材の気孔率は、40%以下に
することが好ましい。更にまた、仕切り部材の融体への
濡れ性によっても異なるが、仕切り部材の気孔径は約20
0μm以下とすることが好ましい。
にするため、融体に濡れにくい多孔質材料の仕切り部材
を使用する。更に、仕切り部材の気孔率は、40%以下に
することが好ましい。更にまた、仕切り部材の融体への
濡れ性によっても異なるが、仕切り部材の気孔径は約20
0μm以下とすることが好ましい。
更にまた、多孔質浸漬管へ融体が侵入しても、真空系
へ融体が入るのを防止するため、圧力損失が小さいフィ
ルタを多孔質浸漬管上部に設置し、侵入した融体をこの
フィルタで凝固させ、トラップするようにすることが好
ましい。
へ融体が入るのを防止するため、圧力損失が小さいフィ
ルタを多孔質浸漬管上部に設置し、侵入した融体をこの
フィルタで凝固させ、トラップするようにすることが好
ましい。
次に、本発明を融体からのガス生成成分の除去回収に
適用した用途例について説明する。
適用した用途例について説明する。
先ず、本発明を、溶鉄から炭素、窒素又は水素を除
去する脱炭素、脱窒素及び脱水素の工程に使用すること
ができる。
去する脱炭素、脱窒素及び脱水素の工程に使用すること
ができる。
溶鉄中の炭素の除去に本法を使用する場合、前記仕切
り部材の主成分はAl2O3又はMgO等とし、溶鉄中の炭素の
主酸化剤としてFe2O3,Fe3O4,MnO,SiO2等を配合する。こ
れらの主酸化剤の配合割合を高くすることにより、溶鉄
中の炭素の除去速度を増加させることができる。しか
し、主酸化剤の配合割合をあまり高くすると、仕切り部
材の融点の低下又は機械的強度の低下等を招き、また特
に溶鉄中の炭素濃度が低い場合には溶鉄中の酸素濃度が
増加するため、目的に応じて主酸化剤の配合割合を既に
確立されている状態図を参考にして決定する。
り部材の主成分はAl2O3又はMgO等とし、溶鉄中の炭素の
主酸化剤としてFe2O3,Fe3O4,MnO,SiO2等を配合する。こ
れらの主酸化剤の配合割合を高くすることにより、溶鉄
中の炭素の除去速度を増加させることができる。しか
し、主酸化剤の配合割合をあまり高くすると、仕切り部
材の融点の低下又は機械的強度の低下等を招き、また特
に溶鉄中の炭素濃度が低い場合には溶鉄中の酸素濃度が
増加するため、目的に応じて主酸化剤の配合割合を既に
確立されている状態図を参考にして決定する。
一方、溶鉄中の窒素の除去に本法を使用する場合、前
記仕切り部材には、安定な酸化物、例えばCaO,Al2O3,Mg
O等を使用する。
記仕切り部材には、安定な酸化物、例えばCaO,Al2O3,Mg
O等を使用する。
また、溶鉄中の炭素及び窒素を同時に除去するために
本法を使用する場合、溶鉄中の炭素及び窒素の目標濃度
に応じて前記主酸化剤の配合割合を変化させる。
本法を使用する場合、溶鉄中の炭素及び窒素の目標濃度
に応じて前記主酸化剤の配合割合を変化させる。
また、本発明を、溶銅中から酸素を除去する脱酸工
程にも適用することができる。
程にも適用することができる。
更に、本発明は溶融アルミニウム中から水素を除去
する脱水素工程にも適用することができる。
する脱水素工程にも適用することができる。
更にまた、本発明を、溶融シリコンの脱炭素、脱窒
素及び脱水素に適用することができる。
素及び脱水素に適用することができる。
一方、本発明により、溶融鉛中の亜鉛を回収するこ
とができる。
とができる。
溶融銅マットから硫黄及び酸素を除去する脱硫黄・
脱酸素の工程に本発明を適用することもできる。
脱酸素の工程に本発明を適用することもできる。
そして、溶融銅マット又はニッケルマット中の有価
金属(As,Sb,Bi,Se,Te,Pb,Cd等)の回収にも本発明を適
用することができる。
金属(As,Sb,Bi,Se,Te,Pb,Cd等)の回収にも本発明を適
用することができる。
更に、溶融スラグ中から有価金属(As,Sb,Bi,Se,T
e,Pb,Cd,Zn等)を回収する場合にも、本発明を適用する
ことができる。
e,Pb,Cd,Zn等)を回収する場合にも、本発明を適用する
ことができる。
[実施例] 次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して
説明する。
説明する。
第1図は本願の第1発明の実施例に係る真空吸引式脱
ガス装置を示す模式的断面図である。
ガス装置を示す模式的断面図である。
融体2は収納容器5に収納されており、この融体2内
に多孔質部材6の下半部が浸漬されている。この多孔質
部材8は棒状体であり、この多孔質部材6はガスは透過
するが、溶融金属、溶融スラグ及び溶融マット等の融体
2は侵入できないような細孔を有していて、この融体2
は透過しない多孔質の材料で成形されている。
に多孔質部材6の下半部が浸漬されている。この多孔質
部材8は棒状体であり、この多孔質部材6はガスは透過
するが、溶融金属、溶融スラグ及び溶融マット等の融体
2は侵入できないような細孔を有していて、この融体2
は透過しない多孔質の材料で成形されている。
この収納容器5は減圧容器(図示せず)内に載置され
ており、この減圧容器内は真空ポンプにより真空吸引さ
れて、真空又は減圧状態になっている。
ており、この減圧容器内は真空ポンプにより真空吸引さ
れて、真空又は減圧状態になっている。
このように構成された真空吸引式脱ガス装置において
は、融体2は多孔質部材6に浸透しないが、多孔質部材
6の細孔に含まれているガスは減圧容器内に放出される
ため、多孔質部材6の細孔内は真空又は減圧状態にな
る。これにより、融体2中のガス又は多孔質部材の成分
と融体との反応により生成したガスは多孔質部材6の細
孔を通過し、減圧容器内の真空又は減圧雰囲気中に放出
される。そして、このガスは前記真空ポンプに吸引され
て、減圧容器内から除去される。
は、融体2は多孔質部材6に浸透しないが、多孔質部材
6の細孔に含まれているガスは減圧容器内に放出される
ため、多孔質部材6の細孔内は真空又は減圧状態にな
る。これにより、融体2中のガス又は多孔質部材の成分
と融体との反応により生成したガスは多孔質部材6の細
孔を通過し、減圧容器内の真空又は減圧雰囲気中に放出
される。そして、このガスは前記真空ポンプに吸引され
て、減圧容器内から除去される。
第2図は本願の第2発明の実施例に係る真空吸引式脱
ガス装置を示す模式的断面図である。
ガス装置を示す模式的断面図である。
融体2は収納容器5に収納されている。多孔質部材6a
は棒状体であり、筒状の緻密質部材8の下端部に液密的
に嵌入されている。多孔質部材6aはガスは透過するが、
溶融金属、溶融スラグ及び溶融マット等の融体2は侵入
できないような細孔を有していて、この融体2は透過し
ない多孔質の材料で成形されている。また、緻密質部材
8はガスを透過しない緻密質の部材により成形されてお
り、適宜の真空ポンプ(図示せず)に接続されている。
は棒状体であり、筒状の緻密質部材8の下端部に液密的
に嵌入されている。多孔質部材6aはガスは透過するが、
溶融金属、溶融スラグ及び溶融マット等の融体2は侵入
できないような細孔を有していて、この融体2は透過し
ない多孔質の材料で成形されている。また、緻密質部材
8はガスを透過しない緻密質の部材により成形されてお
り、適宜の真空ポンプ(図示せず)に接続されている。
このように構成された真空吸引式脱ガス装置において
は、緻密質部材8の内部を真空又は減圧状態にすると、
多孔質部材6aの細孔内は真空又は減圧状態になる。これ
により、融体2中のガス生成成分は多孔質部材6aの細孔
を通過して緻密質部材8内に排出される。そして、この
ガス生成成分は前記真空ポンプに吸引されて、回収又は
排気される。
は、緻密質部材8の内部を真空又は減圧状態にすると、
多孔質部材6aの細孔内は真空又は減圧状態になる。これ
により、融体2中のガス生成成分は多孔質部材6aの細孔
を通過して緻密質部材8内に排出される。そして、この
ガス生成成分は前記真空ポンプに吸引されて、回収又は
排気される。
本実施例においても、緻密質部材8から露出した部分
の多孔質部材6aが融体2中に浸漬されていればよく、融
体浴の深さが浅い場合も、融体の脱ガス処理が可能であ
る。
の多孔質部材6aが融体2中に浸漬されていればよく、融
体浴の深さが浅い場合も、融体の脱ガス処理が可能であ
る。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、ガスを透過する
が融体は透過しない多孔質材料により成形された多孔質
部材の1部分を融体中に浸漬し、湯面上の部分の前記多
孔質部材を真空又は減圧下において、前記融体と前記多
孔質部材との反応により生じたガスを前記多孔質部材を
介して吸引手段により吸引するか、又はその下端部に多
孔質部材が嵌入された筒状の緻密質部材の下端部を融体
中に浸漬すると共に前記緻密質部材の内部を真空又は減
圧状態にし、前記融体と前記多孔質部材との反応により
生じたガスを前記多孔質部材を介して吸引手段により吸
引するから、ガス相を生成する融体中の溶質成分を容易
に真空又は減圧雰囲気中に移動させることができる。
が融体は透過しない多孔質材料により成形された多孔質
部材の1部分を融体中に浸漬し、湯面上の部分の前記多
孔質部材を真空又は減圧下において、前記融体と前記多
孔質部材との反応により生じたガスを前記多孔質部材を
介して吸引手段により吸引するか、又はその下端部に多
孔質部材が嵌入された筒状の緻密質部材の下端部を融体
中に浸漬すると共に前記緻密質部材の内部を真空又は減
圧状態にし、前記融体と前記多孔質部材との反応により
生じたガスを前記多孔質部材を介して吸引手段により吸
引するから、ガス相を生成する融体中の溶質成分を容易
に真空又は減圧雰囲気中に移動させることができる。
そして、大量のアルゴンガスを吹き込む従来の脱ガス
法と異なり、本発明はアルゴンガスを吹き込まないか、
又は溶湯攪拌用に少量のアルゴンガスを吹き込めば足
り、アルゴンガスの使用原単位を著しく低減することが
できる。また、アルゴンガスの使用量が極めて少ないこ
とから、スプラッシュの発生が抑制され、装置の壁面へ
の地金の付着を低減することができる。従って、本発明
により、装置の小型化により装置コストを低減すること
ができると共に、装置のランニングコストの著しい低減
を実現することができる。
法と異なり、本発明はアルゴンガスを吹き込まないか、
又は溶湯攪拌用に少量のアルゴンガスを吹き込めば足
り、アルゴンガスの使用原単位を著しく低減することが
できる。また、アルゴンガスの使用量が極めて少ないこ
とから、スプラッシュの発生が抑制され、装置の壁面へ
の地金の付着を低減することができる。従って、本発明
により、装置の小型化により装置コストを低減すること
ができると共に、装置のランニングコストの著しい低減
を実現することができる。
第1図は本願の第1発明の実施例に係る真空吸引式脱ガ
ス装置を示す模式的断面図、第2図は本願の第2発明の
実施例に係る真空吸引式脱ガス装置を示す模式的断面
図、第3図は本発明の原理を示す模式図である。 1,6,6a;多孔質部材、2;融体、3;真空又は減圧雰囲気、
4;ガス、5;収納容器、8;緻密質部材
ス装置を示す模式的断面図、第2図は本願の第2発明の
実施例に係る真空吸引式脱ガス装置を示す模式的断面
図、第3図は本発明の原理を示す模式図である。 1,6,6a;多孔質部材、2;融体、3;真空又は減圧雰囲気、
4;ガス、5;収納容器、8;緻密質部材
フロントページの続き (72)発明者 山本 君二 岐阜県多治見市旭ケ丘10―2―127 (56)参考文献 特開 昭52−78602(JP,A)
Claims (3)
- 【請求項1】融体を収納した収納容器と、融体中の不純
物元素と反応してガスを生じる成分を含有する材料であ
ってガスを透過するが融体は透過しない多孔質材料によ
り形成されその1部分が前記収納容器内の前記融体に浸
漬された多孔質部材と、前記融体の湯面上の部分の前記
多孔質部材を真空又は減圧状態におき前記融体中の不純
物成分と前記多孔質部材の成分との反応により生じたガ
スを前記多孔質部材を介して吸引する吸引手段とを有す
ることを特徴とする真空吸引式脱ガス装置。 - 【請求項2】融体を収納した収納容器と、筒状の緻密質
部材と、融体中の不純物元素と反応してガスを生じる成
分を含有する材料であってガスを透過するが融体は透過
しない多孔質材料により形成され前記緻密質部材の下端
部に嵌入されて前記収納容器内の前記融体中に浸漬され
る多孔質部材と、前記緻密質部材の内側を真空又は減圧
状態にし前記融体中の不純物成分と前記多孔質部材の成
分との反応により生じたガスを前記多孔質部材を介して
吸引する吸引手段とを有することを特徴とする真空吸引
式脱ガス装置。 - 【請求項3】前記多孔質部材を電気的に加熱する加熱手
段を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の真
空吸引式脱ガス装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2158324A JPH0830227B2 (ja) | 1990-06-16 | 1990-06-16 | 真空吸引式脱ガス装置 |
| CA 2044725 CA2044725A1 (en) | 1990-06-16 | 1991-06-17 | Vacuum-suction degassing apparatus |
| EP91109888A EP0462537A1 (en) | 1990-06-16 | 1991-06-17 | Vacuum-suction degassing apparatus |
| US08/073,660 US5346185A (en) | 1990-06-16 | 1993-06-08 | Vacuum-suction degassing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2158324A JPH0830227B2 (ja) | 1990-06-16 | 1990-06-16 | 真空吸引式脱ガス装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448025A JPH0448025A (ja) | 1992-02-18 |
| JPH0830227B2 true JPH0830227B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=15669154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2158324A Expired - Lifetime JPH0830227B2 (ja) | 1990-06-16 | 1990-06-16 | 真空吸引式脱ガス装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0462537A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0830227B2 (ja) |
| CA (1) | CA2044725A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007016891A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Noritz Corp | エア抜き弁 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2752233A (en) * | 1948-03-08 | 1956-06-26 | Saint Gobain | Method for extracting simple elements from fusible materials containing them |
| AT188038B (de) * | 1954-09-11 | 1956-12-27 | Roland Dr Mitsche | Verfahren zur Entgasung von Flüssigkeiten, insbesonders von metallischen Schmelzen |
| GB829777A (en) * | 1955-08-09 | 1960-03-09 | Fischer Ag Georg | Improvements in or relating to processes for refining liquid melts by degasification, and to apparatus for carrying such processes into effect |
| JPS5278602A (en) * | 1975-12-25 | 1977-07-02 | Toyota Motor Corp | Vacuum degassing of molten metal |
-
1990
- 1990-06-16 JP JP2158324A patent/JPH0830227B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-06-17 CA CA 2044725 patent/CA2044725A1/en not_active Abandoned
- 1991-06-17 EP EP91109888A patent/EP0462537A1/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2044725A1 (en) | 1991-12-17 |
| EP0462537A1 (en) | 1991-12-27 |
| JPH0448025A (ja) | 1992-02-18 |
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